JPS6147914A - 反射光学系 - Google Patents
反射光学系Info
- Publication number
- JPS6147914A JPS6147914A JP59169639A JP16963984A JPS6147914A JP S6147914 A JPS6147914 A JP S6147914A JP 59169639 A JP59169639 A JP 59169639A JP 16963984 A JP16963984 A JP 16963984A JP S6147914 A JPS6147914 A JP S6147914A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- optical system
- reflective optical
- systems
- image
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は反射光学系に関し、特Ｋ ＩＣ、ＬＳＩ等の集
積回路を製造するときの投影露光装置Ｋ用いられる反射
光学系に関するものである。
積回路を製造するときの投影露光装置Ｋ用いられる反射
光学系に関するものである。
従来より投影露光装置を用いＸＣ、ＬＳＩ等の集積回路
のパターンをシリコンウニＩ・−に焼付ける為の反射光
学系が飼えば特開昭４８−１２０３９号公報、特開昭５
３−１００２３０号公報等で提案されている。これらの
投影露光装置に用いられている反射光学系は非常に高い
解像力を有している〇 投影像の解像力は使用する波長が短かくなれば々る程良
くなる。この為に、なるべく短波長を放射する光源が用
いられている。
のパターンをシリコンウニＩ・−に焼付ける為の反射光
学系が飼えば特開昭４８−１２０３９号公報、特開昭５
３−１００２３０号公報等で提案されている。これらの
投影露光装置に用いられている反射光学系は非常に高い
解像力を有している〇 投影像の解像力は使用する波長が短かくなれば々る程良
くなる。この為に、なるべく短波長を放射する光源が用
いられている。
そして画面中心に限らず広い画面にわ７ｔり高解像力が
得られろよう略完全に収差補正がなされｔ光学系が用い
られている＠ 通常レンズを用い九結像光学系は色収差を補正する為に
複数のガラス材料を用いて構成されている。短波長側の
光は高解像力を得るには有利であるが短波長側では色分
散が大きい為設計上、色収差を良好に補正するのが困難
である。
得られろよう略完全に収差補正がなされｔ光学系が用い
られている＠ 通常レンズを用い九結像光学系は色収差を補正する為に
複数のガラス材料を用いて構成されている。短波長側の
光は高解像力を得るには有利であるが短波長側では色分
散が大きい為設計上、色収差を良好に補正するのが困難
である。
この為に高解像力が要求されるＩＣパターン等の焼付用
の結像光学系には反射鏡を用い次光学系が適しており、
これは反射光学系に色収差がなく、任意の波長の光を使
用することができ、かつ光学系全体の透過率をレンズ系
を用い几ときに比べて高めることができる等の特徴があ
る為でらる。
の結像光学系には反射鏡を用い次光学系が適しており、
これは反射光学系に色収差がなく、任意の波長の光を使
用することができ、かつ光学系全体の透過率をレンズ系
を用い几ときに比べて高めることができる等の特徴があ
る為でらる。
本発明は反射光学系の特徴を生かした投影露光装置に好
適な高解像力の得られる反射光学系の提供を目的とする
。
適な高解像力の得られる反射光学系の提供を目的とする
。
本発明の目的を達成する為の反射光学系の主九る特徴は
凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡のｊ＠九反射させた後物体
像を所定位置に結像させるようにしｆｔｉラー系ｓｔ実
質的に同一光軸上に位置するように複数個配置し、順次
結像１？縁り返すように構成した反射光学系′Ｃ″らっ
て、前記反射光学系は少なくともｌりの縮少結像のミラ
ー系と少なくとも１つの拡大結像のミラー系を有し、か
つ全てのミラー系による総合の結像倍率が縮少となるよ
うに構成されていることでらる。
凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡のｊ＠九反射させた後物体
像を所定位置に結像させるようにしｆｔｉラー系ｓｔ実
質的に同一光軸上に位置するように複数個配置し、順次
結像１？縁り返すように構成した反射光学系′Ｃ″らっ
て、前記反射光学系は少なくともｌりの縮少結像のミラ
ー系と少なくとも１つの拡大結像のミラー系を有し、か
つ全てのミラー系による総合の結像倍率が縮少となるよ
うに構成されていることでらる。
次に本発明の実施列を各図と共に説明する。
第１図は本発明の一実施列の反射光学系の概略図でらる
。同図の反射光学系は第２図及び第３因に示すような同
一方向−曲率中心を持つ九、３つの反射鏡Ｍ１１Ｍ２１
Ｍ３ より成るミラー系ｓ 、 ｓ’を複数個実質的に
同一光軸上に位置するように、かつ全体の結像倍率が縮
少となるように配置したものでＴｏＤ、これＫよシ高解
像力の反射光学系を達成している。
。同図の反射光学系は第２図及び第３因に示すような同
一方向−曲率中心を持つ九、３つの反射鏡Ｍ１１Ｍ２１
Ｍ３ より成るミラー系ｓ 、 ｓ’を複数個実質的に
同一光軸上に位置するように、かつ全体の結像倍率が縮
少となるように配置したものでＴｏＤ、これＫよシ高解
像力の反射光学系を達成している。
第１図の実施列では反射鏡Ｍ０〜Ｍ３で第１のミラー系
Ｓ１、反射鏡Ｍ４〜Ｍ６で第２のミラー系Ｓ２、反射鏡
Ｍ７〜Ｍ、で第３のミラー系Ｓ３そして反射鏡Ｍ０゜〜
Ｍ□２で第４のミラー系ｓ４を各々構成している〇 そして物点Ｐｌヲ順次ミラー系Ｓ□ 、Ｓ２゜Ｓ３．
Ｓ４で各々結像を繰シ返し、最終的に像点Ｐ５ に結
像倍率局となろように結像させて−る。
Ｓ１、反射鏡Ｍ４〜Ｍ６で第２のミラー系Ｓ２、反射鏡
Ｍ７〜Ｍ、で第３のミラー系Ｓ３そして反射鏡Ｍ０゜〜
Ｍ□２で第４のミラー系ｓ４を各々構成している〇 そして物点Ｐｌヲ順次ミラー系Ｓ□ 、Ｓ２゜Ｓ３．
Ｓ４で各々結像を繰シ返し、最終的に像点Ｐ５ に結
像倍率局となろように結像させて−る。
次に第１図に示す反射光学系を構成しているミラー系の
結像状態を説明する。
結像状態を説明する。
第２図、第３図において３つの反射鏡Ｍｌ。
Ｍ２． Ｍ３は物点Ｐ□からの光束Ｌ□が凹面鏡Ｍエ
、凸面鏡Ｍ２そして凹面＠ Ｍ３の順に反射し友後、像
点Ｐ□′に結像するように配置されている。
、凸面鏡Ｍ２そして凹面＠ Ｍ３の順に反射し友後、像
点Ｐ□′に結像するように配置されている。
第２１ｇＧＣ示すミラー系Ｓは凹面鏡Ｍ３が凸面鏡Ｍ２
と凹面鏡Ｍ０ との間に位置するように又第３図に示す
ミラー系Ｓ′は凹面鏡Ｍ０が凸面鏡Ｍ２ と凹面鏡Ｍ
３ との間に位置するように配置されている。そしてこ
の系で光軸０−ＯＩの軸外で非点収差が零になる様に補
正し几場合、本実施的において物体は第４図に示すよう
な円弧状の一部分Ｑ１を有効面としている。
と凹面鏡Ｍ０ との間に位置するように又第３図に示す
ミラー系Ｓ′は凹面鏡Ｍ０が凸面鏡Ｍ２ と凹面鏡Ｍ
３ との間に位置するように配置されている。そしてこ
の系で光軸０−ＯＩの軸外で非点収差が零になる様に補
正し几場合、本実施的において物体は第４図に示すよう
な円弧状の一部分Ｑ１を有効面としている。
この為に３つの反射鏡Ｍ、 、 Ｍ□ ＊ ｉｄ３の
外形を必ずしも円形とする必要はなく、不要の部分を削
除して、飼えば第３図に示すように凹面鏡Ｍ工の下方部
分を削除し同図に示すような形状としても良い。この結
果凹面鏡Ｍ３を凹面鏡Ｍエ の右方に配置しｆｃ構成を
とることができる。
外形を必ずしも円形とする必要はなく、不要の部分を削
除して、飼えば第３図に示すように凹面鏡Ｍ工の下方部
分を削除し同図に示すような形状としても良い。この結
果凹面鏡Ｍ３を凹面鏡Ｍエ の右方に配置しｆｃ構成を
とることができる。
このように本実施的では物点Ｐからの光束を凹面鏡Ｍ工
、凸面鏡Ｍ２そして凹＠Ｊ蜆Ｍ３よりなるすなわち正、
負そして正の屈折力の反射鏡によ構成るミラー系を複数
個用いることにより１つのミラー系より発生する諸収差
、特にコマ収差、像面湾曲を少なくし全体として良好な
る結像性能を得て（へる。
、凸面鏡Ｍ２そして凹＠Ｊ蜆Ｍ３よりなるすなわち正、
負そして正の屈折力の反射鏡によ構成るミラー系を複数
個用いることにより１つのミラー系より発生する諸収差
、特にコマ収差、像面湾曲を少なくし全体として良好な
る結像性能を得て（へる。
第５因は第１図の一部分の２つのミラー系Ｓ１、Ｓ２の
光路を展開したときの結像光束の説明図である。
光路を展開したときの結像光束の説明図である。
同図において凹面鏡Ｍ１、凸面鏡Ｍ２そして凹面鏡Ｍ３
は第１のミラー系Ｓ工、凹面鏡Ｍ４、凸面鏡Ｍ５そして
凹面ｆ／ＭＭ６は第２のミラー系Ｓ２ を各々構成し
ている。
は第１のミラー系Ｓ工、凹面鏡Ｍ４、凸面鏡Ｍ５そして
凹面ｆ／ＭＭ６は第２のミラー系Ｓ２ を各々構成し
ている。
ミラー系Ｓ工により物点Ｐ工からの光束 Ｌ工を像点Ｐ
Ｉへ、すなわちｉラー系Ｓ２の物点Ｐ２ Ｋそしてミラ
ー系８２により物点Ｐ２からの光束Ｌ を像点Ｐｉに結
像させている。以下図示していないが同様にミラー系Ｓ
、Ｓ４により順次結像を繰り返して行うことＫより物体
像の縮少化を図っている。
Ｉへ、すなわちｉラー系Ｓ２の物点Ｐ２ Ｋそしてミラ
ー系８２により物点Ｐ２からの光束Ｌ を像点Ｐｉに結
像させている。以下図示していないが同様にミラー系Ｓ
、Ｓ４により順次結像を繰り返して行うことＫより物体
像の縮少化を図っている。
このように本実施列では第１図に示すようにミラー系Ｓ
により物点ｐを像点Ｐ工′へ、すなわちミラー系Ｓ
の物点Ｐ２へ、ミラー系Ｓ により物点Ｐを像点Ｐｉへ
すなわちミラ一系Ｓ３の物点Ｐ３へ以下同様にミラー系
Ｓ３そしてミラー系Ｓ４により順次結像を繰り返して
最終的に物点Ｐ１ｔ″像点Ｐ４′へ結像させているＯ 本実施列ではミラー系ｓ、ｓ２，５４を縮少系としミラ
ー系５３を拡大系として構成している。
により物点ｐを像点Ｐ工′へ、すなわちミラー系Ｓ
の物点Ｐ２へ、ミラー系Ｓ により物点Ｐを像点Ｐｉへ
すなわちミラ一系Ｓ３の物点Ｐ３へ以下同様にミラー系
Ｓ３そしてミラー系Ｓ４により順次結像を繰り返して
最終的に物点Ｐ１ｔ″像点Ｐ４′へ結像させているＯ 本実施列ではミラー系ｓ、ｓ２，５４を縮少系としミラ
ー系５３を拡大系として構成している。
具体的に各ミラー系の結像倍率を示すと表−１の如くで
参る。
参る。
懺−１各ミラー系の結像倍率
本実施列では全体として結像倍率冗を達成するのに４つ
のミラー系を表−１に示す結像倍率を有するように構成
すること匝よシ全体的に収差補正ｆ バランス良く行っ
ている。
のミラー系を表−１に示す結像倍率を有するように構成
すること匝よシ全体的に収差補正ｆ バランス良く行っ
ている。
特にミラー系５４を拡大系とすることによシミラー系８
０〜Ｓ３で生じ九コマ収差、像面湾曲及び歪曲収差等を
良好に補正している。
０〜Ｓ３で生じ九コマ収差、像面湾曲及び歪曲収差等を
良好に補正している。
本実施列では複数のミラー系で反射光学系を構成する場
合に生じる光束のクランを第１のミラー系Ｓ と第２の
ミラー系Ｓ２ との７間と、第２のミラー系Ｓ２と第
３のミラー系Ｓ３との間に各々全反射９ＴｌＨ，、Ｒ２
を配置させて防止している。
合に生じる光束のクランを第１のミラー系Ｓ と第２の
ミラー系Ｓ２ との７間と、第２のミラー系Ｓ２と第
３のミラー系Ｓ３との間に各々全反射９ＴｌＨ，、Ｒ２
を配置させて防止している。
本実施列において特に光束のクランを少なくしかつ全体
的に良好なる光学性能を得る為くは４つのミラー系Ｓエ
、 ｓ２． ｓ３． ｓ４の各々を構成する凹面鏡Ｍ
工、凸面鏡Ｍ２そして凹面１１Ｍ３の曲率半径を各々Ｒ
エ 、 Ｒ２，Ｒ３とするとき Ｒ工／Ｒ２≧２ ・・・・・−・・（ｔ
＋Ｒ□／Ｒ３〉１ ・・・・・・・・・
（２）なる諸条件を満足させるのが好ましい。
的に良好なる光学性能を得る為くは４つのミラー系Ｓエ
、 ｓ２． ｓ３． ｓ４の各々を構成する凹面鏡Ｍ
工、凸面鏡Ｍ２そして凹面１１Ｍ３の曲率半径を各々Ｒ
エ 、 Ｒ２，Ｒ３とするとき Ｒ工／Ｒ２≧２ ・・・・・−・・（ｔ
＋Ｒ□／Ｒ３〉１ ・・・・・・・・・
（２）なる諸条件を満足させるのが好ましい。
条件式ｉｌｌ 、 ＋２１は物体の有効画面が第４図に
示すように円弧状の一部分であるとき、軸外収差の発生
を押えつつ、ミラー系全体の小型化を図シかつ物体から
の光束がクランることなく所定位置く結像させる為のも
ので６る。
示すように円弧状の一部分であるとき、軸外収差の発生
を押えつつ、ミラー系全体の小型化を図シかつ物体から
の光束がクランることなく所定位置く結像させる為のも
ので６る。
条件式（１）を外れるとコマフレアーが増大し又光束の
クランが多くなってくる。又条件式（２）ヲ外れると凹
面＠ Ｍ３０曲率半径が凹面鏡Ｍ工に比べ大きくなりす
ぎミラー系全体としての小型化を図りつつ所定の屈折力
を得るのが困難となってくる。
クランが多くなってくる。又条件式（２）ヲ外れると凹
面＠ Ｍ３０曲率半径が凹面鏡Ｍ工に比べ大きくなりす
ぎミラー系全体としての小型化を図りつつ所定の屈折力
を得るのが困難となってくる。
特に本実施列において像面湾曲を少なくし高コントラス
トの物体像を得るには前記曲率半径Ｒ工、Ｒ２，Ｒ３を
更に ＩＲ□ｌ ＞ ｌＲ３１） ｌＲ２１・・・・・−・・
（３）とすることである。
トの物体像を得るには前記曲率半径Ｒ工、Ｒ２，Ｒ３を
更に ＩＲ□ｌ ＞ ｌＲ３１） ｌＲ２１・・・・・−・・
（３）とすることである。
この条件を外れると像面湾曲が犬きくなシ光束のクラン
が大きくなってくると共に複数のミラー系を組み合わせ
た反射光学系において良好なる収差補正を行うのが困難
となる。
が大きくなってくると共に複数のミラー系を組み合わせ
た反射光学系において良好なる収差補正を行うのが困難
となる。
以上の各条件式を満足するようにミラー系全構成すれば
高解像力の反射光学系を容易に達成することが出来るが
更に好ましくはミ２−系Ｓ２． Ｓ３． Ｓ４ の各
々の反射鏡の曲率半径を順にＲ４〜Ｒ□２とするとき １．１８ （Ｒ４／Ｒ５（１，２６・−・・・・・・・
（４）１．０２ （Ｒ，／Ｒ５（１，１７・・・・・・
・・・（５）ＺＯ３（Ｒ７／Ｒ８（２，６５・−・・・
・・−・（６）１．３５ （Ｒ９／Ｒ８（１，４７・・
・・・・・・・（７）Ｚ ０３ ＜ Ｒ１ｏ／Ｒ１、
（Ｚ １５−・−・Ｉ８＋１．１８（Ｒ□２／Ｒ１□（
１，２６・・−・・・・・（９）の如く設定することで
ちる。
高解像力の反射光学系を容易に達成することが出来るが
更に好ましくはミ２−系Ｓ２． Ｓ３． Ｓ４ の各
々の反射鏡の曲率半径を順にＲ４〜Ｒ□２とするとき １．１８ （Ｒ４／Ｒ５（１，２６・−・・・・・・・
（４）１．０２ （Ｒ，／Ｒ５（１，１７・・・・・・
・・・（５）ＺＯ３（Ｒ７／Ｒ８（２，６５・−・・・
・・−・（６）１．３５ （Ｒ９／Ｒ８（１，４７・・
・・・・・・・（７）Ｚ ０３ ＜ Ｒ１ｏ／Ｒ１、
（Ｚ １５−・−・Ｉ８＋１．１８（Ｒ□２／Ｒ１□（
１，２６・・−・・・・・（９）の如く設定することで
ちる。
条件式（４）はコマ収差を良好罠補正する為のもので１
７条件式（４）の上限若しくは下限を外れるとコマフレ
アーが増大してくる。
７条件式（４）の上限若しくは下限を外れるとコマフレ
アーが増大してくる。
条件式（５１、（７＋はサジタル９！面のコントラスト
を高める為のものでｈｐ粂件式（５）、（７）の上限若
しくは下限を越えると像面湾曲が正若しくは負の方向へ
増大してくるので好ましくない。
を高める為のものでｈｐ粂件式（５）、（７）の上限若
しくは下限を越えると像面湾曲が正若しくは負の方向へ
増大してくるので好ましくない。
条件式＋６＋ 、 ｆａｔはメリデイオナル像面のフレ
アー成分を少なくする為でｈｐ条件式＋６） 、 ＋８
）の上限若しくは下限を越えると像面湾曲が正若しくは
負の方向へ増大してくる。
アー成分を少なくする為でｈｐ条件式＋６） 、 ＋８
）の上限若しくは下限を越えると像面湾曲が正若しくは
負の方向へ増大してくる。
条件式（９）は物体が円弧状の有効Ｕｎ面を有するとき
全画面にわたり非点隔差を少なくする為であり条件式（
９）の上限若しくは下限上越えると非点隔差が大きくな
ってくるので好ましくない。
全画面にわたり非点隔差を少なくする為であり条件式（
９）の上限若しくは下限上越えると非点隔差が大きくな
ってくるので好ましくない。
尚本発明において物体像の結像調整をミラー系Ｓ −
８４の少なくとも１つのミラー系を移動させて行うのが
収差補正上及び倍率調整上好ましい。
８４の少なくとも１つのミラー系を移動させて行うのが
収差補正上及び倍率調整上好ましい。
次に第１図に示す実施列の諸政値を示す。
Ｒｉ は物点Ｐ□から数えて第ｉ管目の反射鏡の曲率
半径、Ｄは各反射虜との間隔で元の進行方向に沿って左
方から右方Ｋ １９１３つたと＠を正、その逆を負とし
て示す。
半径、Ｄは各反射虜との間隔で元の進行方向に沿って左
方から右方Ｋ １９１３つたと＠を正、その逆を負とし
て示す。
物体の有効画面はスリット幅で３ｍ、有効Ｆナンバ〜は
Ｚ ８ （ＮＡ−α１８）でめる。物点Ｐ□ の有効画
面幅は光軸からの高さ２０７〜２１０簡の範囲内である
。
Ｚ ８ （ＮＡ−α１８）でめる。物点Ｐ□ の有効画
面幅は光軸からの高さ２０７〜２１０簡の範囲内である
。
ＲＤ
ｌ −６２ａ９ −２８０２
−１３４４ ２２４．８７５３ −
３８巴５ −９９０４ ５７６．５
１８ ３３０５ ４７’Ｚ８６
−２９２３６ ５１ａ９８ ５
４０．１５７ −３６６．９３５ −１１＆４
８ −１４７．４５ １４１．７５９
−２０８ −５７８．３５１０
４３５．９６ ４００１１ ２０
９．２２ −１４＆４９４１２ ２５Ｌ
５１ 以上のように本発明によれば４つのミラー系を適切に組
み合わせることにより、高解像力の反射光学系を達成す
ることができる。
−１３４４ ２２４．８７５３ −
３８巴５ −９９０４ ５７６．５
１８ ３３０５ ４７’Ｚ８６
−２９２３６ ５１ａ９８ ５
４０．１５７ −３６６．９３５ −１１＆４
８ −１４７．４５ １４１．７５９
−２０８ −５７８．３５１０
４３５．９６ ４００１１ ２０
９．２２ −１４＆４９４１２ ２５Ｌ
５１ 以上のように本発明によれば４つのミラー系を適切に組
み合わせることにより、高解像力の反射光学系を達成す
ることができる。
第１図は本発明の一実施例の光学系の概略図、第２図、
第３図、第５図は第１図の一部分の説明図、第４図は本
発明に係る物体の有効画面の説明図、第６図は第１図の
光学系の諸収差図である。 図中Ｙは像高、Ｓ□〜Ｓ４は各々ミラー系、Ｍ工〜Ｍ□
２は各々反射鏡を示す。
第３図、第５図は第１図の一部分の説明図、第４図は本
発明に係る物体の有効画面の説明図、第６図は第１図の
光学系の諸収差図である。 図中Ｙは像高、Ｓ□〜Ｓ４は各々ミラー系、Ｍ工〜Ｍ□
２は各々反射鏡を示す。
Claims (4)
- （１）凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡の順に反射させた後
物体像を所定位置に結像させるようにしたミラー系を実
質的に同一光軸上に位置するように複数個配置し、順次
結像を繰り返すように構成した反射光学系であつて、前
記反射光学系は少なくとも１つの縮少結像のミラー系と
少なくとも１つの拡大結像のミラー系を有し、かつ全て
のミラー系による総合の結像倍率が縮少となるように構
成されていることを特徴とする反射光学系。 - （２）前記ミラー系の凹面鏡Ｍ＿１、凸面鏡Ｍ＿２そし
て凹面鏡Ｍ＿３の曲率半径を各々Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿
３としたとき Ｒ＿１／Ｒ＿２≧２ Ｒ＿１／Ｒ＿３＞１ なる条件を満足することを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の反射光学系。 - （３）前記反射光学系は光の進行方向より順にミラー系
Ｓ＿１、Ｓ＿２、Ｓ＿３、Ｓ＿４の４つのミラー系を有
しており、前記ミラー系Ｓ＿１、Ｓ＿２、Ｓ＿３を縮少
系、前記ミラー系Ｓ＿４を拡大系となるように構成した
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の反射光学
系。 - （４）前記ミラー系Ｓ＿１、Ｓ＿２、Ｓ＿４の３つの反
射鏡は各々前記凹面鏡Ｍ＿３が前記凹面鏡Ｍ＿１と前記
凸面鏡Ｍ＿２の間に位置するように又前記ミラー系Ｓ＿
３の３つの反射鏡は前記凹面鏡Ｍ＿１が前記凹面鏡Ｍ＿
３と前記凸面鏡Ｍ＿２の間に位置するように配置されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の反射
光学系。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59169639A JPS6147914A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 反射光学系 |
| US06/764,001 US4701035A (en) | 1984-08-14 | 1985-08-09 | Reflection optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59169639A JPS6147914A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 反射光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6147914A true JPS6147914A (ja) | 1986-03-08 |
| JPH0525086B2 JPH0525086B2 (ja) | 1993-04-09 |
Family
ID=15890219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59169639A Granted JPS6147914A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 反射光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6147914A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6318626A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-26 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| JPS6362231A (ja) * | 1986-09-02 | 1988-03-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Ｘ線縮小投影露光装置 |
| JPS63311315A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-20 | Canon Inc | 物体・像変換装置 |
| JPH0850246A (ja) * | 1994-05-23 | 1996-02-20 | Hughes Aircraft Co | 補正ミラーを有する軸を外れた３ミラーアナスチグマート装置 |
| US7088382B2 (en) | 2002-01-09 | 2006-08-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Imaging optical system, image forming apparatus having the same, and a method therefor |
| JP2015132853A (ja) * | 2008-03-20 | 2015-07-23 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィのための投影対物系 |
-
1984
- 1984-08-14 JP JP59169639A patent/JPS6147914A/ja active Granted
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS6318626A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-26 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| JPS6362231A (ja) * | 1986-09-02 | 1988-03-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Ｘ線縮小投影露光装置 |
| JPS63311315A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-20 | Canon Inc | 物体・像変換装置 |
| JPH0850246A (ja) * | 1994-05-23 | 1996-02-20 | Hughes Aircraft Co | 補正ミラーを有する軸を外れた３ミラーアナスチグマート装置 |
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| JP2015132853A (ja) * | 2008-03-20 | 2015-07-23 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィのための投影対物系 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0525086B2 (ja) | 1993-04-09 |
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