JPH11109244A - 反射屈折光学系 - Google Patents
反射屈折光学系Info
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- JPH11109244A JPH11109244A JP9290357A JP29035797A JPH11109244A JP H11109244 A JPH11109244 A JP H11109244A JP 9290357 A JP9290357 A JP 9290357A JP 29035797 A JP29035797 A JP 29035797A JP H11109244 A JPH11109244 A JP H11109244A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
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- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
Abstract
とレンズ枚数の削減を実現することができる反射屈折光
学系を提供する。 【解決手段】凹面鏡MCを含む第1結像光学系Aによっ
て第1面Rの中間像を形成し、開口絞りASを含む第2
結像光学系Bによって中間像の再結像を第2面W上に形
成し、第1結像光学系Aからの光束を第2結像光学系B
へ導くように反射面MP1を設けた反射屈折光学系におい
て、第1面R上の光軸z上の点から発すると仮定した最
大開口数の光線が各光学面を通過する高さをhとし、開
口絞りASの絞り半径をφとしたとき、h/φ<0.8
5となる光学面のうちの少なくとも1つの光学面と、
0.85<h/φ<1.2となる光学面のうちの少なく
とも1つの光学面と、をそれぞれ非球面に形成した。
Description
造に用いられるステッパーなどの縮小露光装置の光学系
に関し、特に光学系に反射屈折光学系を用いることによ
り、紫外線波長域でのサブミクロン単位の分解能を有す
る1/4×〜1/5×の走査型反射屈折縮小光学系に関
するものである。
微細化しており、このパターンを焼き付ける露光装置に
はより解像力の高いものが要求されてきている。この要
求を満足するためには、光源の波長を短波長化しかつN
A(光学系の開口数)を大きくしなければならない。し
かしながら、波長が短くなると光の吸収のため実用に耐
える光学ガラスが限られてくる。波長が300nm以下
となると、実用上使える硝材は合成石英と蛍石だけとな
る。しかるに合成石英と蛍石のアッベ数は、色収差を補
正するのに十分なほどは離れていない。したがって波長
が300nm以下の場合には、屈折光学系だけで投影光
学系を構成したのでは色収差補正が極めて困難となる。
また蛍石は温度変化による屈折率の変化、いわゆる温度
特性が悪く、またレンズ研磨の加工上多くの問題を持っ
ているので、多くの部分に使用することはできない。し
たがって必要な解像力を有する投影光学系を屈折系のみ
で構成することは非常に難しいものとなる。
構成することも試みられているが、この場合、投影光学
系が大型化し、かつ反射面の非球面化が必要となる。し
かるに高精度の非球面は製作の面で極めて困難である。
そこで反射系と使用波長に使える光学ガラスからなる屈
折系とを組み合わせたいわゆる反射屈折光学系によっ
て、縮小投影光学系を構成する技術が色々提案されてい
る。その中で、光学系の途中で1回以上の中間結像を行
うタイプは、これまで種々のものが提案されているが、
中間像を1回だけ結像するものに限定すると、特公平5
−25170、特開昭63−163319、特開平4−
234722、USP−4,779,966に開示され
た技術が挙げられる。
け使用しているものは、特開平4−234722とUS
P−4,779,966に開示された光学系である。こ
れらの光学系は、凹面ミラーで構成される往復兼用光学
系において、凹レンズのみが採用されており、凸のパワ
ーの光学系が使われていない。そのため、光束が広がっ
て凹面ミラーに入射するため、凹面ミラーの径が大きく
なりがちであった。また特に特開平4−234722に
開示された往復兼用光学系は完全対称型であり、この光
学系での収差発生を極力抑えて後続の屈折光学系の収差
補正負担を軽くしているが、対称光学系を採用している
ため、第1面付近でのワーキングディスタンスがとりに
くく、またハーフプリズムを使用しなければならなかっ
た。またUSP−4,779,966に開示された光学
系では、中間像よりも後方の2次結像光学系にミラーを
使用している。したがって光学系の必要な明るさを確保
するためには、光束が広がって凹面ミラーに入射するこ
とになり、ミラーの小型化が困難なものであった。
折光学系のレンズ枚数を削減できる可能性があるが、こ
れらのタイプでは以下の問題があった。すなわち、最
近、焦点深度を稼ぎながら解像力を上げるため、マスク
の選択部分の位相をずらす位相シフト法が考え出されて
いるが、さらに、効果を上げるために、照明光学系のN
Aと結像光学系のNAの比σを可変にすることが行われ
る。このとき照明光学系には開口絞りを設置することが
できるが、前記に挙げた反射屈折光学系を対物レンズと
する場合は、有効な絞り設置部分がどこにも採れないこ
とになる。
側の第2面側に採用するタイプの反射屈折光学系では、
縮小倍率の関係から反射ミラーで反射した後ウエハまで
の距離が長く採れないため、この光路中に挿入される対
物レンズのレンズ枚数がそう多く採れず、そのため得ら
れる光学系の明るさは限られたものとならざるを得なか
った。たとえ高NAの光学系が実現できても、限られた
長さに多くの光学部材が挿入されるため、ウエハと対物
レンズの端面との距離、いわゆるワーキングディスタン
スWDが長く採れない光学系となっていた。またこのよ
うな従来の反射屈折光学系においては、光路の光軸を必
ず途中で偏心させる必要があり、そのいわゆる偏心光学
系の偏心部分の調整作業が困難で、なかなか高精度の系
を実現することができなかった。
て第1面の中間像を形成し、第2結像光学系によって中
間像の再結像を第2面上に形成し、第1結像光学系から
の光束を第2結像光学系へ導くように反射面を設け、第
1結像光学系を、凹面鏡と該凹面鏡への入射光と反射光
との双方が透過するレンズ群とからなる往復光学系を有
するように形成した2回結像光学系を提案した。この2
回結像光学系によれば、凹面鏡の径を縮小させることが
でき、位相シフト法のための照明光学系のNAと結像光
学系のNAの比σを可変にすることができるように、有
効な絞り設置部分を採ることができ、さらに光学系の明
るさを十分とりながら、なおウエハと対物レンズの端面
との距離、いわゆるワーキングディスタンスWDを長く
採ることができる光学系を実現することができる。また
いわゆる偏心光学系の偏心部分の調整作業が容易で、高
精度の光学系を実現するものである。
この2回結像光学系は優れた点が多いが、良好な結像性
能を達成しようとすると、光学系が大型化するおそれが
ある。すなわち光学系の配置が対称形から外れているの
で、どうしても歪曲収差が発生するおそれがあり、特に
高次数の歪曲収差は、屈折レンズの曲率や面間隔のみで
は補正が不可能であり、系を大型化せざるを得ないこと
になりかねない。したがって本発明は、良好な結像性能
を維持しながら光学系の小型化とレンズ枚数の削減を実
現することができる反射屈折光学系を提供することを課
題とする。
するためになされたものであり、すなわち、凹面鏡を含
む第1結像光学系によって第1面(物体面)の中間像を
形成し、開口絞りを含む第2結像光学系によって中間像
の再結像を第2面(像面)上に形成し、第1結像光学系
からの光束を第2結像光学系へ導くように反射面を設け
た反射屈折光学系において、第1面上の光軸上の点から
発すると仮定した最大開口数の光線が各光学面を通過す
る高さをhとし、開口絞りの絞り半径をφとしたとき、 h/φ<0.85 ‥‥(1) となる光学面のうちの少なくとも1つの光学面と、 0.85<h/φ<1.2 ‥‥(2) となる光学面のうちの少なくとも1つの光学面と、をそ
れぞれ非球面に形成したことを特徴とする反射屈折光学
系である。
が最適な場所に採用されるから、良好な結像性能を維持
しながら光学系の小型化とレンズ枚数の削減を実現する
ことができる。なお前記の反射面は、凹面鏡に至る往路
の光束と凹面鏡からの復路の光束とを分離するものであ
る。したがってこの反射面によって両光束が分離される
ためには、物体面及び像面での使用領域は一定の光線高
を持った領域となり、物体高及び像高がゼロの領域は使
用領域とはならない。「第1面上の光軸上の点から発す
ると仮定した最大開口数の光線」とは、実際にはそのよ
うな光線は本光学系では使用されない、という意味であ
る。
いうものは、単能的であり、また適用場所の選択も非常
に重要である。つまり、単能的であることから、1種類
の収差の補正には有効であるが、それ以外の収差の補正
にはほとんど役に立たず、また適用する場合、使い方を
誤ったりその適用場所の選択を誤ると、効果が半減した
り逆にかえって障害となることが多い。
収差である歪曲収差の補正については、物体面または像
面付近に、歪曲収差を補正する効果のある非球面を配置
するこで、他の収差、例えば球面収差やコマ収差にはほ
とんど影響を与えずに、歪曲収差だけを補正することが
できる。これは、物体面や像面付近では光束が収斂して
いるために、その付近に非球面を配置しても、球面収差
やコマ収差は非球面の影響を受けにくいことからも言え
ることである。ただし非点収差に関しては、像面からの
ずれに関する収差であるため、歪曲収差ほどではないに
しても、部分的に一部影響を受ける。通常の光学系で
は、物体面および像面の付近には、このような軸外収差
の補正を目的とした非球面を配置することは困難であ
る。そこで軸外収差の補正を目的とした非球面は、でき
うる限り物体面または像面に近く、かつ開口絞り付近か
らは遠い場所に配置されることが多い。しかるに本発明
の反射屈折光学系では、中間像があるために、軸上収差
の補正を目的とした非球面を中間像付近に配置すること
ができる。したがって、非常に効果的に非球面の効果を
引き出すことができるのである。前記の条件式(1)
は、軸外収差の補正を目的とした非球面の最も適切な配
置位置を規定するものである。条件式(1)の上限を越
えると、物体を発する光線の高さと、その光線が非球面
を通過するときの高さとの対応関係が希薄になるから、
軸外の収差だけを良好に補正することが困難になる。
ある球面収差の補正については、開口絞り付近に、球面
収差だけを補正する効果のある形状の非球面を配置する
ことで、他の軸外収差、例えば非点収差や歪曲収差には
ほとんど影響を与えずに、球面収差だけを補正すること
ができる。これは、開口絞り付近では光束の主光線は光
軸付近を通るから、開口絞り付近に非球面を配置して
も、非点収差や歪曲収差は非球面の影響を受けにくいこ
とからも言えることである。ただしコマ収差に関して
は、レンズの開口の大きさに関係する収差であるため、
球面収差ほどではないにしても部分的に一部影響を受け
る。本発明の反射屈折光学系では、開口絞りを第2結像
光学系に配置しているため、開口絞りの付近に軸上収差
の補正を目的とした非球面を置くことができ、非常に効
果的に非球面の効果を引き出すことができる。但し、軸
上収差の補正を目的とした非球面は、第1結像光学系の
凹面鏡付近に配置しても、同じような効果がある。そこ
で、開口絞りなどの機械的制約等により、開口絞り付近
に非球面を置きたくない場合には、第1結像光学系の凹
面鏡付近に、軸上収差の補正を目的とした非球面を配置
しても良い。このように、凹面鏡付近に軸上収差の補正
を目的とした非球面を置く場合には、光束はこの非球面
を往復2回通過するから、非球面の効果はその面形状の
変化に対して2倍の影響を与えることに注意しておかな
ければならない。前記の条件式(2)は、軸上収差の補
正を目的とした非球面の最も適切な配置位置を規定する
ものである。条件式(2)の下限を越えると、物体を発
する光線の角度、すなわち開口数と、その光線が非球面
を通過するときの高さとの対応関係が希薄になるから、
軸上の収差だけを良好に補正することが困難になる。逆
に条件式(2)の上限を越えると、レンズ径が過大に大
きくなるから、本発明の目的に反することとなる。
に合った場所の少なくとも2箇所に、それぞれの目的に
合った形状の非球面を配置することにより、軸外収差の
代表とも言うべき歪曲収差と、軸上収差の代表とも言う
べき球面収差の両者について、同時に補正することがで
きることとなる。しかもそれらの非球面は、通常の非球
面結像光学系にありがちな他の収差への影響を与えず
に、必要な収差のみを補正し、他の収差補正への悪影響
をほとんど及ぼさないのである。その結果、以下の実施
例にも示されるように、レンズ枚数が大幅に削減され、
劇的に小型の光学系を得ることができる。すなわち本発
明によれば、最小の面数の非球面要素を使いながら、最
大の効果を得ることができるのである。
のコマ収差や非点収差のような残存収差を補正すること
も有効である。この場合、既に軸外と軸上に関する主要
な収差が補正されているから、他の収差は比較的簡単に
補正することができる。また、さらに非球面を追加して
使用することにより、さらに小型で、レンズ枚数の少な
い光学系を達成することも可能である。なお、軸外収差
の補正を目的とした非球面と、軸上収差の補正を目的と
した非球面は、独立した1個の非球面レンズや非球面凹
面鏡であっても良く、また付近に配置したプリズムの端
面や反射面、平面鏡の反射面、あるいは平行平面板の面
を非球面に加工したものでも良い。また、非球面の形状
は、回転対称非球面、トーリック非球面、完全非対称非
球面などのいずれでも良い。
て説明する。図1は本発明による反射屈折光学系の概略
の構成を示し、この光学系は、第1面であるレチクルR
上の回路パターンを、第2面である半導体ウエハW上に
縮小転写する投影光学系に本発明を適用したものであ
る。この投影光学系は、レチクルR上のパターンの中間
像を形成する第1結像光学系Aと、中間像の再結像をウ
エハW上に形成する第2結像光学系Bとからなる。第1
結像光学系Aは凹面鏡MCを有し、第2結像光学系Bは
開口絞りASを有する。中間像の近傍には、第1結像光
学系Aからの光束を第2結像光学系Bへ導くように、光
軸zを90°折り曲げる第1の反射面MP1が設けられて
いる。また、第1の反射面MP1と開口絞りASとの間に
は、レチクルR上での光軸zとウエハW上での光軸zが
平行となるように、光軸zを更に90°折り曲げる第2
の反射面MP2が設けられている。但し、第2の反射面M
P2は設けなくとも良い。
と凹面鏡MCからの光束とを第1の反射面MP1によって
分離しており、したがってレチクルR上及びウエハW上
で光軸zを含む領域は使用領域とはならない。すなわ
ち、光軸zを含まないスリット状の領域がレチクルRの
照明領域R0となり、且つウエハWの露光領域W0となっ
ている。そしてスリット状の使用領域をスリットの短手
w方向に走査することにより、走査方向に長い範囲のレ
チクルパターンの像をウエハW上に転写するものであ
る。なお、スリットの形状は、必ずしも長さd、幅wの
長方形である必要はなく、任意の直線又は曲線、例えば
円弧を、走査方向に幅wだけ移動したときに塗りつぶさ
れる領域の形状とすることができる。
2及び第3実施例の反射屈折光学系を示す。各図におい
て、*印が非球面を表す。各実施例とも、第1結像光学
系Aは、7枚のレンズL1〜L7と凹面鏡MCからなり、
レンズL1とレンズL2の間に第1の反射面MP1が設けら
れており、したがってレンズL2〜L7が往復光学系とな
っている。また第2結像光学系Bは、第1実施例と第2
実施例では7枚のレンズL8〜L14からなり、第3実施
例では6枚のレンズL8〜L13からなる。すなわちいず
れの実施例も、使用レンズも枚数が極めて少ない。各実
施例に共通の主要諸元は次の通りである。 最大物体高: 52.8 照明領域: d=45、w=16の矩形 結像倍率: 1/4 像側最大開口数:0.6
するプリズムの入射端面r31と、レンズL9の入射側レ
ンズ面r36が非球面であり、前者r31が軸外収差の補正
を目的とした非球面であり、後者r36が軸上収差の補正
を目的とした非球面である。第2実施例では、レンズL
8の入射側レンズ面r30と、レンズL11の入射側レンズ
面r37が非球面であり、前者r30が軸外収差の補正を目
的とした非球面であり、後者r37が軸上収差の補正を目
的とした非球面である。第3実施例では、レンズL1の
入射側レンズ面r1と、レンズL10の射出側レンズ面r
40が非球面であり、前者r1が軸外収差の補正を目的と
した非球面であり、後者r40が軸上収差の補正を目的と
した非球面である。
実施例の諸元を示す。各表の[光学部材諸元]中、第1
欄NoはレチクルR側からの各光学面の番号、第2欄r
は各光学面の曲率半径、第3欄dは各光学面から次の光
学面までの光軸上の間隔、第4欄は各光学面又は光学部
材の番号を示す。なお第3欄dは、1回反射するたびに
符号を反転して表示している。各実施例とも、すべての
レンズとすべてのプリズムの硝材は合成石英(Si
O2)である。
を示し、非球面についての第2欄rは、頂点曲率半径で
ある。非球面の形状は、 y:光軸からの高さ z:接平面から非球面までの光軸方向の距離 r:頂点曲率半径 κ:円錐係数 A、B、C、D:非球面係数 によって表わしており、[非球面データ]に円錐係数κ
と非球面係数A、B、C、Dを示した。また、各表の
[条件式対応値]に、各実施例について、条件式
(1)、(2)中のパラメータh/φの値を示す。
び歪曲収差を示し、図4に第1実施例の横収差を示す。
同様に図6と図7に第2実施例の諸収差を示し、図9と
図10に第3実施例の諸収差を示す。各収差図において
NAは像側開口数を表し、Yは像高を表す。また非点収
差図中、実線はサジタル像面を表し、点線はメリジオナ
ル像面を表す。各図より明らかなように、各実施例とも
優れた結像性能を有することが分かる。
る光線の高さと、その光線が光学面を通過するときの高
さとの対応関係が比較的高い光学面を非球面としている
から、球面収差等の軸上収差に影響を与えることなく、
歪曲収差等の軸外収差を補正することができる。また、
物体から発する光線の開口数と、その光線が光学面を通
過するときの高さとの対応関係が比較的高い光学面を非
球面としているから、歪曲収差等の軸外収差に影響を与
えることなく、球面収差等の軸上収差を補正することが
できる。したがって本発明により、従来の反射屈折光学
系の欠点を解消して、レンズ枚数の少ない、小型で結像
性能に優れた光学系を提供することができた。
を示す図である。
を示す図である。
を示す図である。
Claims (3)
- 【請求項1】凹面鏡を含む第1結像光学系によって第1
面の中間像を形成し、開口絞りを含む第2結像光学系に
よって前記中間像の再結像を第2面上に形成し、前記第
1結像光学系からの光束を前記第2結像光学系へ導くよ
うに反射面を設けた反射屈折光学系において、 前記第1面上の光軸上の点から発すると仮定した最大開
口数の光線が各光学面を通過する高さをhとし、前記開
口絞りの絞り半径をφとしたとき、 h/φ<0.85 ‥‥(1) となる光学面のうちの少なくとも1つの光学面と、 0.85<h/φ<1.2 ‥‥(2) となる光学面のうちの少なくとも1つの光学面と、をそ
れぞれ非球面に形成したことを特徴とする反射屈折光学
系。 - 【請求項2】前記反射面と前記凹面鏡との間に、該凹面
鏡に至る往路の光束と凹面鏡からの復路の光束が共に透
過する1又は複数枚のレンズが配置されていることを特
徴とする、請求項1記載の反射屈折光学系。 - 【請求項3】前記反射面と開口絞りとの間に第2の反射
面を設けて、前記第1面上での光軸と第2面上での光軸
とが平行となるように形成した、請求項1又は2記載の
反射屈折光学系。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9290357A JPH11109244A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | 反射屈折光学系 |
US09/052,481 US5969882A (en) | 1997-04-01 | 1998-03-31 | Catadioptric optical system |
DE69806667T DE69806667T2 (de) | 1997-04-01 | 1998-04-01 | Katadioptrisches optisches System |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9290357A JPH11109244A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | 反射屈折光学系 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH11109244A true JPH11109244A (ja) | 1999-04-23 |
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Family Applications (1)
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JP9290357A Pending JPH11109244A (ja) | 1997-04-01 | 1997-10-06 | 反射屈折光学系 |
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