JPH09311277A

JPH09311277A - 反射屈折光学系

Info

Publication number: JPH09311277A
Application number: JP8149902A
Authority: JP
Inventors: Yuutou Takahashi; 友刀高橋
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1996-05-20
Filing date: 1996-05-20
Publication date: 1997-12-02

Abstract

(57)【要約】【課題】反射面の設置スペースを低減した反射屈折光学
系を提供する。【解決手段】透過型光学素子（Ａ₁）を透過した光を反
射鏡（Ｍ₁）によって反射し、反射鏡（Ｍ₁）からの反射
光を反射面（Ｍ₂）によって後続の光学系（Ｂ）に導く
反射屈折光学系において、透過型光学素子（Ａ₁）の周
辺部に、反射面（Ｍ₂）を一体に形成したことを特徴と
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は主として半導体の製
造に用いられるステッパーなどの縮小露光装置の光学系
に関し、特に光学系に反射屈折光学系を用いることによ
り、紫外線波長域でのサブミクロン単位の分解能を有す
る１／４×〜１／５×の走査型反射屈折縮小光学系に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体の回路パターンはますます
微細化しており、このパターンを焼き付ける露光装置に
はより解像力の高いものが要求されてきている。この要
求を満足するためには、光源の波長を短波長化しかつＮ
Ａ（光学系の開口数）を大きくしなければならない。し
かしながら、波長が短くなると光の吸収のため実用に耐
える光学ガラスが限られてくる。波長が３００ｎｍ以下
となると、実用上使える硝材は合成石英と蛍石だけとな
る。しかるに合成石英と蛍石のアッベ数は、色収差を補
正するのに十分なほどは離れていない。したがって波長
が３００ｎｍ以下の場合には、屈折光学系だけで投影光
学系を構成したのでは色収差補正が極めて困難となる。
また蛍石は温度変化による屈折率の変化、いわゆる温度
特性が悪く、またレンズ研磨の加工上多くの問題を持っ
ているので、多くの部分に使用することは好ましくな
い。したがって必要な解像力を有する投影光学系を屈折
系のみで構成することは非常に難しいものとなる。

【０００３】これに対して、反射系のみで投影光学系を
構成することも試みられているが、この場合、投影光学
系が大型化し、かつ反射面の非球面化が必要となる。し
かるに高精度の非球面は製作の面で極めて困難である。
そこで反射系と使用波長に使える光学ガラスからなる屈
折系とを組み合わせたいわゆる反射屈折光学系によっ
て、縮小投影光学系を構成する技術が色々提案されてい
る。その中で、光学系の途中で１回以上の中間結像を行
うタイプは、これまで種々のものが提案されているが、
中間像を１回だけ結像するものに限定すると、特公平５
−２５１７０、特開昭６３−１６３３１９、特開平４−
２３４７２２、ＵＳＰ−４，７７９，９６６に開示され
た技術が挙げられる。

【０００４】上記従来技術の中で、凹面ミラーを１枚だ
け使用しているものは、特開平４−２３４７２２とＵＳ
Ｐ−４，７７９，９６６に開示された光学系である。こ
れらの光学系は、凹面ミラーで構成される往復兼用光学
系において、凹レンズのみが採用されており、正の屈折
力の光学系が使われていない。そのため、光束が広がっ
て凹面ミラーに入射するため、凹面ミラーの径が大きく
なりがちであった。また特に特開平４−２３４７２２に
開示された往復兼用光学系は完全対称型であり、この光
学系での収差発生を極力抑えて後続の屈折光学系の収差
補正負担を軽くしているが、対称光学系を採用している
ため、第１面付近でのワーキングディスタンスがとりに
くく、またハーフプリズムを使用しなければならなかっ
た。またＵＳＰ−４，７７９，９６６に開示された光学
系では、中間像よりも後方の２次結像光学系にミラーを
使用している。したがって光学系の必要な明るさを確保
するためには、光束が広がって凹面ミラーに入射するこ
とになり、ミラーの小型化が困難なものであった。

【０００５】また複数のミラーを使用するものでは、屈
折光学系のレンズ枚数を削減できる可能性があるが、こ
れらのタイプでは以下の問題があった。すなわち、最
近、焦点深度を稼ぎながら解像力を上げるため、マスク
の選択部分の位相をずらす位相シフト法が考え出されて
いるが、さらに、効果を上げるために、照明光学系のＮ
Ａと結像光学系のＮＡの比σを可変にすることが行われ
る。このとき照明光学系には開口絞りを設置することが
できるが、前記に挙げた反射屈折光学系を対物レンズと
する場合は、有効な絞り設置部分がどこにも採れないこ
とになる。

【０００６】さらにこのような配置の往復光学系を縮小
側の第２面側に採用するタイプの反射屈折光学系では、
縮小倍率の関係から反射ミラーで反射した後ウエハまで
の距離が長く採れないため、この光路中に挿入される対
物レンズのレンズ枚数がそう多く採れず、そのため得ら
れる光学系の明るさは限られたものとならざるを得なか
った。たとえ高ＮＡの光学系が実現できても、限られた
長さに多くの光学部材が挿入されるため、ウエハと対物
レンズの端面との距離、いわゆるワーキングディスタン
スＷＤが長く採れない光学系となっていた。またこのよ
うな従来の反射屈折光学系においては、光路の光軸を必
ず途中で偏心させる必要があり、そのいわゆる偏心光学
系の偏心部分の調整作業が困難で、なかなか高精度の系
を実現することができなかった。

【０００７】そこで本出願人は、第１結像光学系によっ
て第１面の中間像を形成し、第２結像光学系によって中
間像の再結像を第２面上に形成し、第１結像光学系から
の光束を第２結像光学系へ導くように反射面を設け、第
１結像光学系を、第１面からの光束が往路のみ透過する
往路光学系と、凹面鏡と該凹面鏡への入射光と反射光と
の双方が透過するレンズ群とからなる往復光学系とによ
って形成した反射屈折光学系を提案した。この反射屈折
光学系によれば、凹面鏡の径を縮小させることができ、
位相シフト法のための照明光学系のＮＡと結像光学系の
ＮＡの比σを可変にすることができるように、有効な絞
り設置部分を採ることができ、さらに光学系の明るさを
十分とりながら、なおウエハと対物レンズの端面との距
離、いわゆるワーキングディスタンスＷＤを長く採るこ
とができる光学系を実現することができる。またいわゆ
る偏心光学系の偏心部分の調整作業が容易で、高精度の
光学系を実現するものである。また、凹面鏡と負の屈折
力のレンズによる往復光学系において、負の屈折力のレ
ンズのみでなく、正の屈折力のレンズを用いることによ
り、凹面鏡の径を小さくさせることができ、凹面鏡の製
作を容易にならしめ、またそのコスト負担を軽減させる
ことができるものである。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかるに上記反射屈折
光学系においても、中間像付近に位置する反射面を設置
する空間的スペースが、付近の光学系により、余り大き
く取れないことも多く、反射面と付近のレンズとが互い
に干渉するおそれがあった。したがって本発明は、透過
型光学素子を透過した光を反射鏡によって反射し、反射
鏡からの反射光を反射面によって後続の光学系に導く反
射屈折光学系において、反射面の設置スペースを低減す
ることを課題とする。本発明はまた、第１結像光学系に
よって第１面の中間像を形成し、第２結像光学系によっ
て中間像の再結像を第２面上に形成し、第１結像光学系
からの光束を第２結像光学系へ導くように反射面を設
け、第１結像光学系を、第１面からの光束が往路のみ透
過する往路光学系と、凹面鏡と該凹面鏡への入射光と反
射光との双方が透過するレンズ群とからなる往復光学系
とによって形成した反射屈折光学系において、反射面の
設置スペースを低減することを課題とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するためになされたものであり、すなわち、透過型光学
素子を透過した光を反射鏡によって反射し、反射鏡から
の反射光を反射面によって後続の光学系に導く反射屈折
光学系において、透過型光学素子の周辺部に、反射面を
一体に形成したことを特徴とする反射屈折光学系であ
る。本発明はまた、第１結像光学系によって第１面の中
間像を形成し、第２結像光学系によって中間像の再結像
を第２面上に形成し、第１結像光学系からの光束を第２
結像光学系へ導くように反射面を設け、第１結像光学系
を、第１面からの光束が往路のみ透過する往路光学系
と、凹面鏡と該凹面鏡への入射光と反射光との双方が透
過するレンズ群とからなる往復光学系とによって形成し
た反射屈折光学系において、往路光学系の最終光学部材
の周辺部に、反射面を一体に形成したことを特徴とする
反射屈折光学系である。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面によっ
て説明する。図１は本発明の第１実施例を示し、この実
施例はレチクルＲ上の回路パターンを半導体ウエハＷに
縮小転写する投影光学系に本発明を適用したものであ
る。この投影光学系は、レチクルＲに描いたパターンの
中間像を形成する第１結像光学系Ａと、中間像の近傍に
配置した反射面Ｍ₂と、中間像の再結像をウエハＷ上に
形成する第２結像光学系Ｂとを有する。第１結像光学系
Ａは、往路光学系Ａ₁と往復光学系Ａ₂とからなる。往路
光学系Ａ₁は、レチクルＲ側から順に、正レンズ１枚か
らなる往路光学系第１群Ａ₁₁と、負レンズ１枚からなる
往路光学系第２群Ａ₁₂とからなる。往復光学系Ａ₂は、
正レンズ１枚からなる往復光学系第１群Ａ₂₁と、屈折レ
ンズ３枚と１枚の凹面鏡Ｍ₁とからなる往復光学系第２
群Ａ₂₂とからなる。このとき、最も凹面鏡Ｍ₁に近い屈
折レンズは負レンズである。往路光学系第２群Ａ₁₂の周
辺部には、往復光学系Ａ₂を復路で通過した光を第２結
像光学系Ｂに導くように、反射面Ｍ₂が一体に形成され
ている。第２結像光学系Ｂは、第２結像光学系第１群Ｂ
₁と第２結像光学系第２群Ｂ₂とからなる。第２結像光学
系第１群Ｂ₁は屈折レンズ９枚からなり、第２結像光学
系第２群Ｂ₂は屈折レンズ７枚からなり、両群Ｂ₁、Ｂ₂
の間に開口絞りＳが配置されている。この投影光学系
は、倍率が１／４倍、像側の開口数ＮＡが０．６、物体
高が１６から７２までの矩形開口ａのレンズシステムで
ある。また屈折レンズは合成石英（ＳｉＯ₂）および蛍
石（ＣａＦ₂）を使用し、紫外線エキシマレーザーの１
９３ｎｍの波長における、±０．１ｎｍ波長幅に対して
軸上及び倍率の色収差が補正されている。

【００１１】図２は本実施例の展開光路図を示し、すな
わち図面上での反射光の繁雑さを避けるために、凹面鏡
Ｍ₁及び反射面Ｍ₂の直後に仮想的な平面反射ミラーをお
くことにより、光線が常に同一の方向に向かうように表
示したものである。以下の表１に本実施例の光学部材の
諸元を示す。同表中、第１カラムはレチクルＲからのレ
ンズ面の番号、第２カラムｒは各レンズ面の曲率半径、
第３カラムｄは各レンズ面の間隔、第４カラムは各レン
ズの材質、第５カラムは各光学部材の群番号を示す。第
５カラム中、＊印は復路を示す。なお合成石英（ＳｉＯ
₂）と蛍石（ＣａＦ₂）の使用基準波長（１９３ｎｍ）に
対する屈折率ｎと、基準波長の±０．１ｎｍでのアッベ
数νは次の通りである。ＳｉＯ₂：ｎ＝１．５６０１９ ν＝１７８０ＣａＦ₂：ｎ＝１．５０１３８ ν＝２５５０図３に本実施例の球面収差、非点収差、歪曲収差、横収
差、及び倍率色収差を示す。球面収差図中、ＳＣは正弦
条件違反量を示す。また各収差図中、Ｙは像高を示し、
Ｊは基準波長の＋０．１ｎｍ、Ｋは基準波長、Ｌは基準
波長の−０．１ｎｍを示す。各収差図より明らかなよう
に、球面収差、横収差、非点収差、歪曲収差ともほぼ無
収差に近い状態まで良好に補正された優れた性能の光学
系であることが分かる。

【００１２】

【表１】

【００１３】次に図４は第２実施例を示し、往路光学系
第２群Ａ₁₂の周辺部に一体に形成した反射面Ｍ₂を、プ
リズムによって形成したものである。次に図５は第３実
施例を示し、往路光学系第２群Ａ₁₂に平行平面板Ｐを配
置し、この平行平面板Ｐに反射面Ｍ₂を形成したもので
ある。なおこの場合には平行平面板Ｐが光路中に挿入さ
れていることから、上記第１実施例の諸元を僅かに変更
して用いることになる。

【００１４】次に図６は第４実施例の光路図を示す。こ
の実施例も往路光学系第２群Ａ₁₂に平行平面板Ｐを配置
し、この平行平面板Ｐに反射面Ｍ₂を形成したものであ
る。また第２結像光学系第１群Ｂ₁中に反射面Ｍ₃を配置
して、レチクルＲを照明する光の進行方向とウエハＷを
露光する光の進行方向とを一致させたものである。図７
に第４実施例の展開光路図を示し、図８に諸収差図を示
す。また表２に第４実施例の光学部材の諸元を示す。

【００１５】

【表２】

【００１６】以上のように上記各実施例では、往路光学
系Ａ₁の最終光学部材の周辺部に、反射面Ｍ₂を一体に形
成しているから、反射面Ｍ₂の設置スペースが少なくて
すむ。なお、以下に上記各実施例のその他の作用・効果
について若干付言する。各実施例は、物体からの光束を
正の屈折力を持つ屈折レンズ群である往復第１光学群Ａ
₂₁に通し、往復第１光学群Ａ₂₁からの光束を、凹面の球
状反射ミラーを含み正の屈折力を持つ反射屈折光学系で
ある往復第２光学群Ａ₂₂に入射させ、両者合わせて往復
光学系Ａ₂を形成し、中間結像付近に置かれた光路変更
手段Ｍ₂により、光路を分離又は変更させ、かつ一旦結
像して１次像を形成した後、正の屈折力を持つ第２結像
光学系Ｂにより再結像する構成となっている。このよう
な構成により、光路変更手段Ｍ₂は光束が集中して絞り
込まれる中間結像付近に置かれているから、光路変更手
段を小型にすることができる。

【００１７】第１実施例のように光路変更手段Ｍ₂とし
てミラーを用いる場合には、往路光学系Ａ₁の最終レン
ズの周辺部を斜め４５°に切り欠き、この切り欠き部分
に金属膜を蒸着することにより、反射ミラーとすること
ができる。また第２実施例のように光路変更手段Ｍ₂と
してプリズムを用いる場合には、往路光学系Ａ₁の最終
レンズの周辺部にプリズムを接着するか、またはレンズ
自身の一部をプリズムに加工することができる。また第
３及び第４実施例のように往路光学系Ａ₁の最終段に平
行平面板Ｐを設け、その平行平面板Ｐの端面を４５°に
加工してもよい。特にこの方法ではミラーの製作が容易
であり、ミラーのみの調整が楽で、公差的にも安定した
方法となる。

【００１８】各実施例は、一旦１次像を結像した後、正
の屈折力を持つ第２結像光学系Ｂにより再結像する構成
のため、ウエハＷと第２結像光学系Ｂの最後のレンズ面
までの長さのワーキングディスタンスＷＤを十分長く採
ることができ、また開口絞りＳを第２結像光学系Ｂの中
に設けることができる。また原理的に第２結像光学系Ｂ
はレンズ枚数をいくらでも増やすことが可能なので、光
学系のＮＡの値を上げることができ、明るい光学系を得
ることができる。

【００１９】さらにこのような反射屈折光学系では、光
学系の中のどこかで光路を折り込むことが必要であり、
そのときの偏心精度が厳しく、製造時大きな問題となる
が、各実施例では、第１結像光学系Ａと第２結像光学系
Ｂを、それぞれ独立で偏心調整し、しかる後に２つの光
学系Ａ、Ｂを直角に結合する構造がとれるので、原理的
に偏心などの調整がし易くなっている。

【００２０】また、ウエハＷを平面台の上に乗せた場
合、それに露光させる光学系の垂直高さは第２結像光学
系Ｂの長さによって決まるが、この長さが長い場合は、
光学系の任意の適当な場所にミラーを介在させて、折り
曲げることも可能である。光学系全体の縮小倍率は、第
１、第２の結像光学系Ａ、Ｂのどちらで稼いでも良く、
あるいはまた各光学系Ａ、Ｂに任意の量だけ分担させて
縮小しても良い。またこのような露光用光学系において
は、ウエハＷの光軸方向の変動に対して倍率の変化がな
いようにするために、テレセントリック光学系であるこ
とが望ましい。

【００２１】光束の方向変更、分離手段はミラーでも良
く、またプリズムでも良い。プリズムを使用する場合に
は、一括露光とすることもできるほか、走査型の露光と
することもできる。またこのような反射屈折光学系で
は、ウエハとミラーの間で光の反射が繰り返されてフレ
アーの原因となるので、これを解決するために、１／４
波長板と偏光ビームスプリッター（ＰＢＳ）膜を使い、
いらない反射光の偏光角の変動を利用して光をカットす
ることが望ましい。

【００２２】またこのようなプリズムによるビームスプ
リッターを、部分ミラーにすることで、結像光を１００
％使用でき、フレアーのない構成とすることができる。
但しこの場合は光軸から外れた軸外光を使い、レチクル
ＲとウエハＷを所定の速度で各々走査する、いわゆる走
査型としなければならない。また各実施例の構成におい
て、軸外の輪帯部分を使用することも当然可能であり、
この場合は、像面の一部分の光学性能のみ考えれば良い
ので、さらに光学系の性能アップが図れる。

【００２３】以上のような構成の光学系を採用すること
により、一括露光やスキャン露光の両方の露光方法に対
応できる光学系を実現できる。その特徴とするところ
は、光束方向変更または分離手段を中間結像付近に置く
ことにより小型にでき、中間結像付近におけるこの光路
変更手段は、負のレンズにより構成された往路光学系第
２群Ａ₁₂と兼用とすることで、さらに小型にできること
である。

【００２４】通常反射屈折光学系の場合は反射ミラーで
光路が折り返されるため、開口絞りＳを置くことが難し
い場合が多いが、この光学系の配置では、第２結像光学
系Ｂの中に置くことができるので、σ可変の調節機構が
簡単に行えること、さらにこの第２結像光学系Ｂのレン
ズ枚数を増やせるのでＮＡを上げる可能性を持っている
こと、またこの第２結像光学系Ｂの再結像の場合、ワー
キングディスタンスＷＤを十分長く取ることができるこ
とである。さらに結像付近で光路を折り曲げているの
で、光路折り曲げによる偏心誤差の影響が少ない。また
光学系の高さもそう高くならずに構成することができ
る。また、レチクルＲとウエハＷを同じ向きにしたいと
いう要求がある場合には、第１結像光学系Ａの途中の部
分を折り曲げ、あるいは第４実施例に示すように第２結
像光学系Ｂの途中の部分を折り曲げることで実現でき
る。

【００２５】以上の利点をさらにくわしく述べるなら
ば、一括露光方式を採用する場合には、使用するハーフ
プリズムを第１次結像、および第２次結像付近に配置さ
せるため、ハーフプリズムの大きさを極力小さくするこ
とができる。通常、特開平２−６６５１０号公報や特開
平３−２８２５２７号公報やＵＳＰ−５０８９９１３号
公報や特開平５−７２４７８号公報などに見られる一括
露光方式の反射屈折光学系においては、光路分割に使用
するハーフプリズムが光束の広がる凹面ミラーの付近に
配置されているために、大きなものとならざるを得ず、
そのため高精度な大型プリズムの製作技術が必要であっ
た。しかしながら、大型のプリズムはガラスの均質性、
製作コストや重量の点から、大きな欠点を有していた。
またハーフプリズムが大型のものとなると、その反射特
性の不均一性、吸収、位相変化などの不良特性の要因が
増え、ますます技術的にも困難なものとなっていた。

【００２６】また走査方式の露光方法を採用する場合に
おいても、光路分離のためのミラーを前記プリズムと同
じ場所に置くことにより、わずかの画角を持たせるだけ
で光路を分離できる。このことは光路分離のために大き
な画角を必要としないために、結像性能にも余裕を持つ
ことができる。ＵＳＰ−４７４７６７８号公報などに見
られる通常の走査型反射屈折光学系では、光路分離のた
めに最大、約２０°以上の画角が必要であるが、本発明
でのミラーに入射する画角は約１０°程度になってお
り、収差補正上、無理をする必要がない。

【００２７】本発明により、以上に述べたようなビーム
スプリッターによる特性の不均一や熱変動および光量の
損失の軽減が図られ、かつ光束のけられがなく高い開口
数が可能となった。また、リング視野光学系のように一
括で露光しないで軸外の輪帯部のみを露光するように構
成、つまりレチクルとウエハを光学系の縮小比に対応し
て互いに異なる速度で移動しながら露光する走査型露光
では、通常、お互いの光束がけられないようにする必要
があり、反射光学系の部分での入射光と反射光が互いに
干渉しないように軸外光束を用いることになり、そのた
めに開口数を大きくすることが困難であり、また光学部
材が光軸非対称の構成となるため、光学部材の加工、検
査、調整が困難で、精度出しや精度の維持が難しいもの
であるが、本発明の場合は軸外光束を用いた輪帯部のみ
露光のリング視野光学系の場合においても、画角を大き
くとらないので、光束のけられが少ない構造になってい
る。

【００２８】また当然従来と同じような輪帯部のみ露光
のリング視野光学系としても構成することができる。ま
た、第１次結像光学系Ａが一体となっており、それと第
２次結像光学系Ｂが独立の構造になっているので、光学
部材の加工、検査、調整が容易で、精度出しや精度の維
持がやり易く、高い開口数を可能とする優れた結像特性
を有するものである。

【００２９】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、往路光学
系の最終レンズの周辺部に反射面を一体に形成している
から、反射面の設置スペースが少なくてすむ。そのほ
か、ミラー又はプリズムを光束の分離手段として用い、
凹面ミラーを主とする第１結像光学系による第１次結像
が、光束の分離手段により分離された後、第２結像光学
系により、第２次結像をさせている。各実施例では、第
１結像光学系の往復光学系に入射する光束と、反射して
くる光束を分離し、後続の光学系に導くとともに、光束
の分離手段を第１次結像付近に置いているから、ミラー
又はプリズムの小型化を達成することができる。

【００３０】また本発明によって、高ＮＡでありながら
結像性能の優れた反射屈折投影光学系がえられた。光束
方向変更または分離手段を中間結像付近に置いているか
ら、光束方向変更または分離手段を小型にでき、往路光
学系の最終レンズと兼用としているから、さらに小型に
できる。また対物レンズの中に開口絞りを置くことがで
きるので、σを自由にコントロールすることができる。
さらに、反射ミラーからの距離も、一旦結像した後、再
結像させているため、十分長く採ることができＷＤも長
くすることができる。

【００３１】またこのような反射屈折光学系において
は、光路の光軸が偏心するために調整作業が困難で、な
かなか高精度の系を実現することができなかったが、本
発明による構成では、結像付近で光路を偏心させる構造
を採っているため、偏心誤差の影響が少ない優れた利点
を有している。さらに第１次と第２次結像光学系が一体
となっており、それぞれ独立で調整でき、その後でそれ
ぞれの光学系を直角光軸で結合する構造がとれるので、
このことも偏心などの調整がし易くなる利点である。以
上のように、これまでの光学系の種々の欠点が一挙に解
決された。また第１結像光学系による結像倍率を自由に
選ぶことができるので、優れた光学性能状態を実現でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例を示す概略図である。

【図２】第１実施例の展開光路図である。

【図３】第１実施例の諸収差図である。

【図４】第２実施例を示す概略図である。

【図５】第３実施例を示す概略図である。

【図６】第４実施例の光路図である。

【図７】第４実施例の展開光路図である。

【図８】第４実施例の諸収差図である。

【符号の説明】Ａ…第１結像光学系Ａ₁…往路光学系Ａ₁₁…往路光学系第１群Ａ₁₂…往路光学系第２
群Ａ₂…往復光学系Ａ₂₁…往復光学系第１
群Ａ₂₂…往復光学系第２群Ｍ₁…凹面鏡Ｍ₂、Ｍ₃…反射面Ｐ…平行平面板Ｂ…第２結像光学系Ｂ₁…第２結像光学系
第１群Ｂ₂…第２結像光学系第２群Ｓ…開口絞りａ…開口

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透過型光学素子（Ａ₁）を透過した光を反
射鏡（Ｍ₁）によって反射し、反射鏡（Ｍ₁）からの反射
光を反射面（Ｍ₂）によって後続の光学系（Ｂ）に導く
反射屈折光学系において、前記透過型光学素子（Ａ₁）の周辺部に、前記反射面
（Ｍ₂）を一体に形成したことを特徴とする反射屈折光
学系。
【請求項２】第１結像光学系（Ａ）によって第１面の中
間像を形成し、第２結像光学系（Ｂ）によって前記中間
像の再結像を第２面上に形成し、前記第１結像光学系
（Ａ）からの光束を第２結像光学系（Ｂ）へ導くように
反射面（Ｍ₂）を設け、前記第１結像光学系（Ａ）を、前記第１面からの光束が
往路のみ透過する往路光学系（Ａ₁）と、凹面鏡（Ｍ₁）
と該凹面鏡（Ｍ₁）への入射光と反射光との双方が透過
するレンズ群とからなる往復光学系（Ａ₂）とによって
形成した反射屈折光学系において、前記往路光学系（Ａ₁）の最終光学部材の周辺部に、前
記反射面（Ｍ₂）を一体に形成したことを特徴とする反
射屈折光学系。
【請求項３】往路光学系（Ａ₁）の前記最終光学部材が
平行平面板（Ｐ）である、請求項２記載の反射屈折光学
系。
【請求項４】前記反射面（Ｍ₂）をプリズムによって形
成した、請求項２又は３記載の反射屈折光学系。
【請求項５】前記反射面（Ｍ₂）を前記中間像の近傍に
配置した、請求項２、３又は４記載の反射屈折光学系。
【請求項６】前記往路光学系（Ａ₁）は、前記第１面側
から順に、正の屈折力を有する往路光学系第１群
（Ａ₁₁）と、負の屈折力を有する往路光学系第２群（Ａ
₁₂）とからなる、請求項２、３、４又は５記載の反射屈
折光学系。
【請求項７】前記往復光学系（Ａ₂）は、前記往路光学
系（Ａ₁）側から順に、正の屈折力を有する往復光学系
第１群（Ａ₂₁）と、凹レンズと前記凹面鏡（Ｍ₁）とを
含む往復光学系第２群（Ａ₂₂）とからなる、請求項２、
３、４、５又は６記載の反射屈折光学系。
【請求項８】前記第１結像光学系（Ａ）と第２結像光学
系（Ｂ）との結像倍率のうち、少なくともいずれか一方
は縮小倍率である、請求項２、３、４、５、６又は７記
載の反射屈折光学系。