JPH07140385A - 投影光学系及び投影露光装置 - Google Patents

投影光学系及び投影露光装置

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JPH07140385A
JPH07140385A JP5336471A JP33647193A JPH07140385A JP H07140385 A JPH07140385 A JP H07140385A JP 5336471 A JP5336471 A JP 5336471A JP 33647193 A JP33647193 A JP 33647193A JP H07140385 A JPH07140385 A JP H07140385A
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lens
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俊博 笹谷
Kazuo Ushida
一雄 牛田
Yutaka Suenaga
豊 末永
Ai Merukado Romeo
アイ. メルカド ロメオ
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    • GPHYSICS
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/7025Size or form of projection system aperture, e.g. aperture stops, diaphragms or pupil obscuration; Control thereof

Abstract

(57)【要約】 【目的】 比較的広い露光領域を確保しながら、第1物
体(レチクル)および第2物体(ウェハ)の平面度が極
めて悪い場合でも、実質的に少ない像歪が得られ、コン
パクトで高い開口数を持つ高解像力な投影光学系及びそ
れを備えた投影露光装置の提供にある。 【構成】 第1物体の像を所定の縮小倍率のもとで第2
物体に投影する投影光学系において、前記投影光学系
は、前記第1物体側より順に、正の屈折力を持つ第1レ
ンズ群G1と、アフォーカル系で構成される第2レンズ群
G2と、正の屈折力を持つ第3レンズ群G3とを有し、さら
に所定の条件を満足するように構成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、第1物体のパターンを
第2物体としての基板等に縮小投影するための投影光学
系及び露光装置に関するものであり、特に、第1物体と
してのレチクル(マスク)上に形成された回路パターン
を第2物体としての基板(ウエハ)上に投影露光するの
に好適な投影光学系及び投影露光装置に係るものであ
る。
【0002】
【従来の技術】集積回路のパターンが微細になるに従っ
て、ウェハの焼付けに用いられる投影光学系に対し要求
される性能もますます厳しくなってきている。このよう
な状況の中で、投影光学系の解像力の向上については、
露光波長λをより短くするか、あるいは投影光学系の開
口数NAを大きくする事が考えられる。
【0003】近年においては、転写パターンの微細化に
対応するために、露光用の光源は、g線(436nm) の露光
波長の光を発するものからi線(365nm) の露光波長の光
を発するものが主として用いられるようになってきてお
り、さらには、より短波長の光を発する光源、例えばエ
キシマレーザ(248nm,193nm)が用いられようとしてい
る。そして、以上の各種の露光波長の光によってレチク
ル上のパターンをウエハ上に投影露光するための投影光
学系が提案されている。
【0004】投影光学系においては、解像力の向上と共
に要求されるのは、像歪を少なくすることである。ここ
で、像歪とは、投影光学系に起因するディストーション
(歪曲収差)によるものの他、投影光学系の像側で焼き
付けられるウェハの反りによるものと、投影光学系の物
体側で回路パターン等が描かれているレチクルの反りに
よるものがある。そこで、ウェハの反りによる像歪への
影響を少なくするために、投影光学系の像側での射出瞳
位置を遠くに位置させる、所謂像側テレセントリック光
学系が従来より用いられてきた。
【0005】一方、レチクルの反りによる像歪の軽減に
ついても、投影光学系の物体側をテレセントリック光学
系にすることが考えられ、またそのように投影光学系の
入射瞳位置を物体面から比較的遠くに位置させる提案が
なされている。それらの例としては、特開昭63−11
8115号、特開平4−157412号、特開平5−1
73065号等のものがある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
各特許公報にて提案された投影光学系は、開口数NAが
小さくて高解像ではなく、あるいは露光領域が狭い。ま
た、投影光学系の入射瞳位置についても、単に物体面
(レチクル)から比較的遠くするというだけで、物体側
(レチクル側)でのテレセントリック性や像側(ウエハ
側)でのテレセントリック性の補正が不十分であった。
【0007】また、以上の特許公報に提案された投影光
学系の中には、物体面(レチクル)から投影光学系の第
1レンズ面までの距離を大きくして、物体側のテレセン
トリック性を実現したものがあるが、露光領域に比べて
物像間距離(レチクルとウエハとの間の距離)が非常に
大きくなっており、光学系自体の大型化を招いていると
いう問題がある。
【0008】本発明は、以上の問題点に鑑みてなされた
ものであり、比較的広い露光領域を確保しながら、第1
物体(レチクル)および第2物体(ウェハ)の平面度が
極めて悪い場合でも、実質的に少ない像歪が得られ、コ
ンパクトで高い開口数を持つ高解像力な投影光学系及び
それを備えた投影露光装置を提供することを目的として
いる。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的な達成するた
めに、本発明は、例えば、図2に示す如く、第1物体の
像を所定の縮小倍率のもとで第2物体に投影する投影光
学系において、その投影光学系は、第1物体側より順
に、正の屈折力を持つ第1レンズ群G1と、アフォーカル
系で構成される第2レンズ群G2と、正の屈折力を持つ第
3レンズ群G3とを有し、全系の焦点距離をFとし、投影
光学系の投影倍率をB、第1物体と第2物体との間の距
離をL、第1物体から第1レンズ群G1の最も第1物体側
のレンズ面までの距離をd0 、第1レンズ群G1の焦点距
離をf1 、第3レンズ群G3の焦点距離をf3 とすると
き、以下の条件を満足する構成としたものである。 (I) 1.8≦|F/(B・L)| (II) d0 /L≦0.2 (III) 0.80≦f3 /f1 ≦1.5 そして、上記の基本構成に基づいて、さらに以下の条件
を満足する構成とすることが好ましい。 (IV) 0.05≦f1 /L≦0.3
【0010】
【作用】図1に示す如く、通常、投影光学系の瞳位置に
は開口絞りASが設けられており、投影光学系の入射瞳
位置は、その開口絞りASよりも物体側(レチクル側)
にある光学系による像位置として、近軸光線により与え
られる近軸量より求められる。
【0011】しかし、一般に光学系の入射瞳位置は物体
高H(光軸からの物体の高さ)によって変化する。その
ため、投影光学系の入射瞳位置は、各物体高Hに応じて
決定されと考えられる。
【0012】一方、投影光学系の物体側でのレチクルの
反りによる像歪への影響は、レチクルから投影光学系に
入射する入射光束のテレセントリック性T、即ち投影光
学系の光軸に対する入射光束の主光線の傾き量に比例す
る。
【0013】ここで、レチクル上における光軸から高さ
H(物体高H)からの入射光束(主光線)のテレセント
リック性をT(H) 、レチクル上における光軸から高さH
(以下、物体高Hと称する。)からの入射光束(主光
線)による決定される投影光学系の入射瞳位置とレチク
ルとの間の距離をE(H) とすると、 T(H) =H/E(H) ・・・・・・・・・・・(1) の関係が成立する。
【0014】そこで、物体高Hによらず像歪への影響を
均一にするために常に一定のテレセントリック性を得る
には、投影光学系の入射瞳位置を物体高Hの高さに比例
させて変化させれば良いこととなる。つまり、物体高H
が低いときの投影光学系の入射瞳位置を、物体高Hの高
い時の投影光学系の入射瞳位置よりも物体側(レチクル
側)に近い位置に位置させることにより、像歪への影響
をほぼ一定にすることが可能となる。
【0015】よって、本発明では、一般に光学系の入射
瞳の位置は物体高の高低で変化するものの、光学系の入
射瞳位置の像歪への影響の度合いも物体高の高低で変化
するという事に着目し、投影光学系の入射瞳位置を物体
高H(レチクル上における光軸からの高さ)の高低で振
り分けてバランスをとることにより、物体面全体(レン
ズ全面)での像歪への影響を均一にすることを可能とし
ている。
【0016】条件(I)では、以下の示す如く、投影光
学系の焦点距離Fと、投影光学系の結像倍率Bに物像間
距離L(レチクルからウエハまでの距離)を乗じた値と
の最適な比率を規定している。 1.8≦|F/(B・L)| ・・・・・・・・・・・ (I) この条件(I)は、像側(ウエハ側)での投影光学系の
近軸射出瞳位置(近軸光線により決定される投影光学系
の射出瞳位置)を無限遠の位置と仮定したときの、物体
面(レチクル面)から投影光学系の近軸入射瞳までの距
離Eと物像間距離L(レチクルからウエハまでの距離)
との比を規定した事と等価となる事を意味する。
【0017】この事を具体的に説明すると、図1に示す
如く、投影光学系全体の前側焦点位置f(レチクル側焦
点位置)は、像側(ウエハ側)における投影光学系の近
軸射出瞳位置を無限遠と仮定したときの近軸入射瞳位置
に相当し、hを投影光学系の前側主平面とする時の投影
光学系全体の焦点距離をF、投影光学系の投影倍率を
B、物体面(レチクル面)より投影光学系全体の前側焦
点位置fまでの距離をEとすると、横倍率の式より、 B=F/E ・・・・・・・・・・・(2) の関係が成立する。そして、上記(2)式を変形する
と、 E=F/B ・・・・・・・・・・・(3) となり、上記(3)式の両辺を物像間距離L(レチクル
からウエハまでの距離)で割って、その値の絶対値をと
れば、上記条件(I)に関する(4)式が最終的に導出
される。 |E/L|=|F/(B・L)| ・・・・・・・・・・・(4)
【0018】以上の事から、条件(I)は、像側(ウエ
ハ側)における投影光学系の近軸射出瞳位置を無限遠と
仮定したときの、物体面(レチクル面)から近軸入射瞳
までの距離Eと、物像間距離L(レチクルからウエハま
での距離)との最適な比率の絶対値を規定していること
が理解できる。条件(I)の下限を越えると、物像間距
離L(レチクルからウエハまでの距離)に比べて投影光
学系の入射瞳位置が近すぎる事となり、物体面全体(レ
チクル面全体)でのテレセントリック性が悪化し、これ
をバランスさせて補正することが困難となる。
【0019】なお、投影光学系の構成の複雑化を防止す
るためには、条件(I)の上限値を6として、|F/
(B・L)|≦6とするのが望ましい。条件(I)の値
が6を越えると、許容される入射高(物体高H)による
入射瞳位置の差が少なくなり、物体面全面(レチクル全
面)でのテレセントリック性を良好に保つために物体高
H(レチクル上における光軸から高さH)からの光束に
より決定される投影光学系の入射瞳位置を振り分けてバ
ランスを取るという設計上の自由度が少なり過ぎてしま
う。このため、物体面全面(レチクル全面)で投影光学
系の入射瞳位置を必要以上に遠方に保つ事が必要とな
り、この結果、投影光学系をより多くのレンズ構成枚数
で構成せざるを得ず、投影光学系の大型化、複雑化を招
く。
【0020】また、条件(I)は、像側(ウエハ側)に
おける投影光学系の近軸射出瞳位置を無限遠と仮定した
ときの、投影光学系の最適な近軸入射瞳位置(近軸光線
により決定される投影光学系の射出瞳位置)を規定して
いるが、同時に投影光学系の最適な射出瞳位置に関して
も考慮されている。この事を具体的に説明すると、物体
側(レチクル側)における投影光学系の近軸入射瞳位置
を無限遠と仮定したとき、この投影光学系の近軸射出瞳
位置から像面(ウエハ面)までの距離をE’とすると、
横倍率の関係式より、 1/B=F/E’ ・・・・・・・・・・・(5) の関係が成立する。そして、上式(5)式を変形する
と、次式(6)が導出される。 E’=F・B=(F/B)・B2 ・・・・・・・・・・・(6)
【0021】上記(3)式を用いて上記(6)式をさら
に変形すると、次式(7)が導出される。 E’=E・B2 ・・・・・・・・・・・(7) この(7)式は上記の(3)式に投影光学系の投影倍率
Bの2乗(B2 )を乗じたものと等しくなり、上記
(7)式の両辺を投影光学系の物像間距離L(レチクル
からウエハまでの距離)で割って、その値の絶対値をと
ると以下の(8)式が導出される。 |F・B/L|=|〔F/(B・L)〕|・B2 ・・・・・・・・・・・(8)
【0022】この(8)式は、上記条件(I)に関する
(4)式に投影光学系の投影倍率Bの2乗(B2 )を乗
じたものに等しくなり、これを上記条件(I)に対応さ
せて示せば、以下に示す(9)式の如くなる。 1.8・B2 ≦|F/(B・L)|・B2 ・・・・・・・・・・・(9)
【0023】従って、条件(I)では投影光学系の近軸
射出瞳位置を無限遠と仮定した時の、投影光学系の最適
な近軸入射瞳位置を規定していると同時に、条件(I)
全体にB2 を乗じた量を考慮する事により、投影光学系
の近軸入射瞳位置を無限遠と仮定したときの近軸射出瞳
位置をも規定している事が理解できる。
【0024】よって、物体側(レチクル側)における投
影光学系の近軸入射瞳位置と同様に像側(ウエハ側)に
おける投影光学系の近軸射出瞳位置も、必ずしも完全に
無限遠とする必要は無く、条件(I)の範囲であれば、
像側(ウエハ側)と物体側(レチクル側)の双方のテレ
セントリック性を実質的にバランス良く良好に保つこと
ができる事が分かる。
【0025】条件(II)では、以下に示す如く、物像
間距離L(レチクルからウエハまでの距離)に対する、
物体面(レチクル面)から投影光学系の第1レンズ群の
最も物体側のレンズ面(第1レンズ面)までの最適な距
離d0 を規定している。 d0 /L≦0.2 ・・・・・・・・・・・ (II) 投影光学系の入射瞳位置を遠くにして、物体面(レチク
ル面)側をテレセントリックにするには、物体面(レチ
クル面)から投影光学系の第1レンズ群の最も物体側の
レンズ面までの距離d0 を大きく取ることによって実現
する事は可能であるものの、条件(II)の上限を越え
てその距離d0 を大きくすると、物像間距離L(レチク
ルからウエハまでの距離)に対する距離d0 の割合が大
きくなる。従って、所望の光学性能を得るためには投影
光学系を構成するレンズ、反射鏡等の光学部材間の空間
はそれほど変わらないため、投影光学系全体として全長
が長くなり、投影光学系のコンパクト化を実現すること
は困難となる。また、条件(III)では、投影光学系
が、第1物体側より順に、正の屈折力を持つ第1レンズ
群G1と、実質的にアフォーカル系で構成される第2レン
ズ群G2と、正の屈折力を持つ第3レンズ群G3とを含む基
本構成とした場合、以下に示す如く、第1レンズ群G1
焦点距離f1 と第3レンズ群G3の焦点距離f3 との最適
な比率を規定している。 0.80≦f3 /f1 ≦1.5 ・・・・・・・・・・・ (III)
【0026】この条件(III)は、広い露光領域を保
ちつつ、高い開口数NAを実現して、高解像な投影光学
系を達成するためのものである。ここで、条件(II
I)について説明するに当たって、まず、本発明の投影
光学系の基本構成について検討する。
【0027】図2に示す如く、本発明の投影光学系は、
物体側(レチクル側)より順に、正の屈折力を持つ第1
レンズ群G1、アフォーカル系で構成される第2レンズ群
G2、正の屈折力を持つ第3レンズ群G3を含むレンズ群構
成を基本としている。なお、図2において、物体(レチ
クル)上の物体高Hが零となる位置(レチクルと投影光
学系の光軸とが交わる位置)からの実線で示す光線は、
軸上物点(物体の中心)からの近軸マージナル光線を示
し、物体高H(光軸からの物体の高さH)の位置からの
点線で示す光線は、軸外物点からの近軸マージナル光線
を示している。但し、本発明で言う近軸マージナル光線
とは、所定の発散角を持ってある物点から発散する光線
が光学系に入射する時に、最も周縁(外側)の入射光線
を近軸光線追跡によって求めた光線の事を意味する。
【0028】以上のレンズ構成に基づいて、投影光学系
のコンパクト化、及び広い露光領域を保ちつつ、高解像
な投影光学系を達成するには、画角又は物体高Hによる
収差(像面湾曲、非点収差、コマ収差、歪曲収差等の軸
外光束による収差)と、投影光学系の像側開口数NA、
即ち解像度に関する収差(球面収差等の軸上光束による
収差)とを、バランス良く補正する必要がある。
【0029】そのために、図3に示す如く、第1レンズ
群G1における物体側(レチクル側)の開口数NAa と第
2レンズ群G2からの射出側の瞳に関する開口数NAd
の比と、第3レンズ群G3における像側(ウエハ側)の開
口数NAb と第2レンズ群G2への入射側の瞳に関する開
口数NAc との比をほぼ等しくする事が良い。
【0030】この事は、第1レンズ群G1における物体側
開口数NAa と第2レンズ群G2への入射瞳に関する開口
数NAc とに対する投影光学系の収差補正上での負荷
と、第3レンズ群G3における像側(ウエハ側)の開口数
NAb と第2レンズ群G2への射出瞳に関する開口数NA
d とに対する投影光学系の収差補正上での負荷とを、ほ
ぼ均等にする事を意味する。この事を数式化して表現す
れば、以下の(10)式及び(11)式の如くなる。 NAa :NAd =NAb :NAc ・・・・・・・・・・・(10) NAa ×NAc =NAb ×NAd ・・・・・・・・・・・(11)
【0031】よって、投影光学系の投影倍率をB、第1
レンズ群G1の焦点距離をf1 、第3レンズ群G3の焦点距
離をf3 、投影光学系の光軸からの最大の物体高(例え
ば、レチクル上の有効パターン領域内の対角線長の半
分)をHMAX とすると、上記(11)式は、以下の(1
2)式の如く変形できる。 (NAb ・B)×(HMAX /f1)=NAb ×(HMAX ・B/f3) ・・・・・・・・・・(12) さらに、上記(12)式を変形すると、最終的に、以下
の(13)が導出される。 f1 =f3 ・・・・・・・・・・(13)
【0032】以上の(13)式より、第1レンズ群G1
焦点距離f1 と第3レンズ群G3の焦点距離f3 とをほぼ
等しくする事によって、画角による収差(像面湾曲、非
点収差、コマ収差及び歪曲収差)と、解像度(投影光学
系の像側の開口数)に関する収差(球面収差)とを、バ
ランス良く補正する事ができ、広い露光領域を維持しな
がら、高い像側の開口数を持つ高解像な投影光学系を得
る事が理解できる。このように、諸収差のバランスと広
い露光領域とを保つためには、上記(13)式を満足す
ることが理想であるが、実際上では上記条件(III)
の範囲を満足すれば十分である。
【0033】しかしなから、条件(III)の下限を越
えた場合、第1レンズ群G1の焦点距離f1 を一定とする
と第3レンズ群G3の焦点距離f3 が短くなり、投影光学
系の射出側の瞳に関する開口数NAは大きくなる。この
結果、解像度(投影光学系の像側の開口数)に関する収
差(球面収差)を良好に補正して像側(ウエハ側)での
開口数を大きくしながら、画角による収差(像面湾曲、
非点収差、コマ収差及び歪曲収差)を良好に補正するこ
とが困難となり、優れた結像性能を得ることができな
い。逆に、第3レンズ群G3の焦点距離f3 を一定とする
と、第1レンズ群G1の焦点距離f1 が長くなり、解像度
(投影光学系の像側の開口数)に関する収差(球面収
差)と画角による収差(像面湾曲、非点収差、コマ収差
及び歪曲収差)とを補正することは比較的容易となるも
のの、物体面(レチクル面)から投影光学系の第1レン
ズ面までの距離d0 が大きくなる。このため、投影光学
系の全長のみならずレンズ径も大きくなり、投影光学系
のコンパクト化を図ることは極めて困難である。条件
(III)の上限を越えた場合、第1レンズ群G1の焦点
距離f1 を一定とすると第3レンズ群G3の焦点距離f3
が長くなり、解像度(投影光学系の像側の開口数)に関
する収差(球面収差)と画角による収差(像面湾曲、非
点収差、コマ収差及び歪曲収差)とを補正することは比
較的容易となるものの、投影光学系の最終レンズ面から
像面(ウエハ面)までの距離が長くなる。このため、投
影光学系の全長並びにレンズ径が大きくなり、投影光学
系のコンパクト化が図れない。反対に、第3レンズ群G3
の焦点距離f3 を一定とすると第1レンズ群G1の焦点距
離f1 は短くなり、投影光学系の入射側の瞳に関する開
口数NAが大きくなって画角による収差(像面湾曲、非
点収差、コマ収差及び歪曲収差)を良くする事が困難と
なるため、結果的に優れた結像性能が得られない。な
お、投影光学系をよりコンパクトにしつつ、より良好な
る結像性能を得るためには、条件(III)の上限値を
1.2として、f3 /f1 ≦1.2とするのがより望ま
しい。
【0034】また、より十分なるコンパクト化を実現す
るには、以上の条件式(I)〜(III)に加えて、さ
らに以下の条件(IV)を満足することがより好まし
い。 0.05≦f1 /L≦0.3 ・・・・・・・・・・・(IV) 但し、f1 は第1レンズ群G1の焦点距離f1 であり、L
は第1物体(レチクル)と第2物体(ウエハ)との間の
距離(物像間距離)である。
【0035】条件(IV)は、第1レンズ群G1の焦点距
離f1 と物像間距離Lとの最適な比率を規定することに
より、投影光学系の全長を短くするのを保証するための
ものである。条件(IV)の下限を越えると、物像間距
離Lに対して第1レンズ群G1のパワー(屈折力)が強く
なり過ぎるため、諸収差補正が困難になる。逆に、条件
(IV)の上限を越えると、投影光学系の全長が長くな
るため、投影光学系をコンパクトにすることが困難とな
る。
【0036】また、投影光学系の全長を十分に短くする
には、以下の条件(V)を満足することがより望まし
い。 0.04≦HMAX /L≦0.2 ・・・・・・・・・・・(V) 但し、HMAX は第1物体(レチクル)上における投影光
学系の光軸からの最大の物体高(レチクル上の有効パタ
ーン領域内の対角線長の半分)であり、Lは第1物体
(レチクル)と第2物体(ウエハ)の間の距離(物像間
距離)である。
【0037】条件(V)は、最大物体高HMAX に対する
物像間距離Lの最適な割合を規定するものである。上述
した条件(II)の値が一定であっても、条件(V)の
下限を越えて、最大物体高HMAX に対する物像間距離L
が大きくなると、投影光学系の全長が長くなり過ぎるた
め、コンパクト化を図ることができない。逆に、条件
(V)の上限を越えると、結像面全面(ウエハ面全面)
にわたり諸収差を良好に補正することが困難となる。
【0038】なお、諸収差の補正上の自由度を確保しつ
つ、諸収差をバランス良く補正するには、第1レンズ群
G1は少なくとも2枚以上の正レンズを含み、第2レンズ
群G2は少なくとも4枚以上の負レンズと少なくとも4枚
以上の正レンズを含み、第3レンズ群G3は、少なくとも
2枚以上の正レンズを含むことがより好ましい。
【0039】さて、以上においては、物体側(レチクル
側)より順に、正の屈折力を持つ第1レンズ群G1、アフ
ォーカル系で構成される第2レンズ群G2、正の屈折力を
持つ第3レンズ群G3を含むレンズ群構成を基本とした投
影光学系について述べたが、第2レンズ群G2の構成によ
って投影光学系全体をしてコンパクト化を図り、さらに
像面湾曲を良好に補正するには、アフォーカル系で構成
される第2レンズ群G2は、図2及び図3に示す如く、物
体側(レチクル側)より順に、負の屈折力を持つ第1サ
ブレンズ群G21 、正の屈折力を持つ第2サブレンズ群G
22 、負の屈折力を持つ第3サブレンズ群G23 を少なく
とも有する構成とすることが好ましい。
【0040】まず、この第2レンズ群G2における負の第
1サブレンズ群G21 と正の第2サブレンズ群G22 とは逆
ガリレオ系(あるいはレトロフォーカス系)を形成する
ため、主点を像側(ウエハ側)へ位置させて、物体面
(レチクル面)から投影光学系までの距離を短縮し、投
影光学系の全長を短くしている。また、第2レンズ群G2
中の第3サブレンズ群G23 は、主にペッツバール和の補
正に寄与するため、像面湾曲を良好に補正して像面を平
坦にしている。
【0041】なお、以上の第1サブレンズ群G21 と第2
サブレンズ群G22 との構成により、投影光学系の入射瞳
は物体面(レチクル面)に近くなる恐れがあるため、こ
の場合には、正の第1レンズ群G1の後側(像側またはウ
エハ側)の焦点位置をほぼそのときの投影光学系の入射
瞳位置に合致させることが好ましく、これにより、投影
光学系の全長を短く保ちつつ、投影光学系の入射瞳位置
を物体面(レチクル面)より遠くに位置させることが可
能である。
【0042】以上の第2レンズ群G2の基本構成に基づい
て、十分なるコンパクト化を図りながら、十分なる収差
補正の機能を第2レンズ群G2に担わすには、第1サブレ
ンズ群G21 の焦点距離をf21、第2サブレンズ群G22
焦点距離をf22、第3サブレンズ群G23 の焦点距離をf
23とするとき、さらに以下の条件式(VI)、(VII)
を満足することがより好ましい。 1.5≦|f22/f21|≦5 ・・・・・・・・・・・ (VI) 0.02≦|f23/L|≦0.10 ・・・・・・・・・・・ (VII) 条件(VI)は逆ガリレオ系(またはレトロフォーカス
系)を構成する第1サブレンズ群G21 と第2サブレンズ
群G22 との最適な倍率を与えることに相当し、投影光学
系の全長をコンパクトにする条件である。条件(VI)
の下限を越えると、投影光学系をコンパクトにすること
が困難となる。なお、十分なるコンパクト化を果たすに
は、条件(VI)の下限値を1.7として、1.7≦|
22/f21|とするのがより望ましい。反対に、条件
(VI)の上限を越えると、第1サブレンズ群G21 の焦
点距離f21が短くなって、諸収差補正が極めて困難とな
り、また第1サブレンズ群G21 の焦点距離f21を一定と
しても、第2サブレンズ群G2 2 焦点距離f22が長くな
り、十分にコンパクトにはならない。
【0043】また、条件(VII)は第3サブレンズ群
G23 においてペッツバール和を補正するための機能を十
分に担わせるための条件である。条件(VII)の下限
を越えると、第3サブレンズ群G23 の焦点距離をf23
短くなり過ぎて、諸収差補正が困難になり、逆に条件
(VII)の上限を越えると、ペッツバール和が補正不
足となって、像面の平坦化が困難となる。
【0044】なお、諸収差の補正上の自由度を確保しつ
つ、諸収差を補正するために、第2レンズ群G2は少なく
とも4枚以上の負レンズと少なくとも4枚以上の正レン
ズを含む構成とすることが好ましい旨を先に述べたが、
第2レンズ群G2のより好ましき構成としては、第1サブ
レンズ群G21 は少なくとも2枚以上の負レンズを含み、
第2サブレンズ群G22 は少なくとも4枚以上の正レンズ
を含み、第3サブレンズG23 は少なくとも2枚以上の負
レンズを含む構成とすることがより好ましい。さらに好
ましくは、第2サブレンズ群G22 における少なくとも4
枚以上の正レンズの内の2枚の正レンズを両凸形状のレ
ンズとすることが良い。
【0045】ところで、本発明における第2レンズ群G2
は、アフォーカル系を構成しているが、完全なるアフォ
ーカル系とする必要はない。具体的には、物体(レチク
ル)上の物体高Hが零となる位置(レチクルと投影光学
系の光軸とが交わる位置)を軸上物点として近軸マージ
ナル光線の追跡を行った時に、近軸マージナル光線の傾
角の変化量が最初に小さくなるような最も物体側(レチ
クル側)に近い領域において、近軸マージナル光線の傾
角が零または最も零に近くなるレンズ間隔の箇所を第1
レンズ群G1と第2レンズ群G2の境界とし、近軸マージナ
ル光線の傾角の変化量が最後に小さくなるような最も像
側(ウエハ側)に近い領域において、近軸マージナル光
線の傾角が零または最も零に近くなるレンズ間隔の箇所
を第2レンズ群G2と第3レンズ群G3の境界とした場合、
この時の第2レンズ群G2は本発明の意味するアフォーカ
ル系に含まれる。
【0046】そこで、本発明の意味する第2レンズ群G2
のアフォーカル系についてより分かり易くするために、
本発明の第1レンズ群G1〜第3レンズ群G3との群分けに
ついて図4〜図7を参照しながら説明する。図4及び図
5は近軸マージナル光線の追跡を行った時に、近軸マー
ジナル光線の傾角の変化量が最初に小さくなるような最
も物体側(レチクル側)に近い領域(a1 ,a2 )にお
ける近軸マージナル光線の光路を定性的に示しており、
図6及び図7は近軸マージナル光線の傾角の変化量が最
後に小さくなるような最も像側(ウエハ側)に近い領域
(b1 ,b2 )における近軸マージナル光線の光路の様
子を定性的に示している。但し、図4〜図7における近
軸マージナル光線の光路中にプロットされた点は、投影
光学系中の各レンズ面での近軸マージナル光線の光軸A
xからの通過位置を示している。
【0047】まず、図4では、投影光学系の各レンズへ
入射する近軸マージナル光線の通過高が最初の極大値と
なる位置もしくはその近傍において、近軸マージナル光
線の傾角の変化量が小さくなる領域a1 が含まれる時の
近軸マージナル光線の様子を示している。この場合に
は、第1レンズ群G1と第2レンズ群G2との境界は、その
領域a1 において、近軸マージナル光線の傾角が零また
は最も零に近くなるようなレンズ間隔da1の位置とする
のが良い。
【0048】図5では、投影光学系中の物体側(レチク
ル側)に近い領域において、投影光学系の各レンズへ入
射する近軸マージナル光線の傾角の変化量が最初に小さ
くなるような領域a2 を含んだ状態で近軸マージナル光
線の傾角が増加する傾向にある時の近軸マージナル光線
の様子を示している。この場合には、第1レンズ群G1
第2レンズ群G2との境界は、その領域a2 において、近
軸マージナル光線の傾角が零または最も零に近くなるよ
うなレンズ間隔da2の位置とするのが良い。
【0049】図6では、投影光学系の各レンズへ入射す
る近軸マージナル光線の通過高が最後の極大値となる位
置もしくはその近傍において、近軸マージナル光線の傾
角の変化量が小さくなる領域b1 が含まれる時の近軸マ
ージナル光線の様子を示している。この場合には、第2
レンズ群G2と第3レンズ群G3との境界は、その領域b1
において、近軸マージナル光線の傾角が零または最も零
に近くなるようなレンズ間隔の位置db1とするのが良
い。
【0050】図7では、投影光学系中の像側(ウエハ
側)に近い領域において、投影光学系の各レンズへ入射
する近軸マージナル光線の傾角の変化量が最後に小さく
なるような領域b2 を含んだ状態で近軸マージナル光線
の傾角が減少する傾向にある時の近軸マージナル光線の
様子を示している。この場合には、第2レンズ群G2と第
3レンズ群G3との境界は、その領域b2 において、近軸
マージナル光線の傾角が零または最も零に近くなるよう
なレンズ間隔の位置db2とするのが良い。
【0051】以上の第1レンズ群G1〜第3レンズ群G3
レンズ構成に基づいて、第2レンズ群G2を実質的にアフ
ォーカル系として十分に機能させるには、物体(レチク
ル)上での軸上物点からの近軸マージナル光線が第1レ
ンズ群G1に入射する時の近軸マージナル光線の入射角を
1 、物体(レチクル)上での軸上物点からの近軸マー
ジナル光線が第2レンズ群G2に入射する時の近軸マージ
ナル光線の入射角をu2 、物体(レチクル)上での軸上
物点からの近軸マージナル光線が第2レンズ群G2を射出
する時の近軸マージナル光線の射出角をu2'、物体(レ
チクル)上での軸上物点からの近軸マージナル光線が第
3レンズ群G3を射出する時の近軸マージナル光線の射出
角をu3'とするとき、 |u2 /u1 |≦0.5 ・・・・・・・・・・・ (VIII) |u2'/u3'|≦0.5 ・・・・・・・・・・・ (IX) を満足することがより望ましい。
【0052】条件(VIII)、(IX)の関係を満足
しないと、画角による収差(像面湾曲、非点収差、コマ
収差及び歪曲収差)と、投影光学系の像側開口数NAに
関する収差(球面収差)とをバランス良く補正すること
が困難となり、本発明が目的とする投影光学系を実現す
ることができない。
【0053】さらに、第2レンズ群G2をより十分なるア
フォーカル系として機能させるには、第1レンズ群G1
焦点距離をf1 とし、第2レンズ群G2の焦点距離をf
2 、第3レンズ群G3の焦点距離をf3 とするとき、 |f2 |>f1 ・・・・・・・・・・・ (X) |f2 |>f3 ・・・・・・・・・・・ (XI) を満足することがさらに好ましい。
【0054】条件(X)の関係を満足しないと、第1レ
ンズ群G1では物体側(レチクル側)をテレセントリック
とすることが困難となり、本発明の目的とする投影光学
系が得られない。
【0055】また、条件(XI)の関係から外れて、第
2レンズ群G2の焦点距離が負となる場合には、第2レン
ズ群G2を射出する近軸マージナル光線が発散する。この
ため、投影光学系の像側(ウエハ側)での開口数NAが
小さくなり、高解像な投影光学系を実現することが困難
となる。そこで、投影光学系の像側(ウエハ側)での開
口数NAを確保しようとすると、第3レンズ群G3のレン
ズ径が大きくなり、コンパクト化を図ることが困難とな
る。また、条件(XI)の関係から外れて、第2レンズ
群G2の焦点距離が正となる場合には、投影光学系の像側
(ウエハ側)での開口数NAを確保することは可能とな
るものの、投影光学系と像面(ウエハ面)との間の距離
(バックフォーカス)を確保できなくなり好ましくな
い。このため、投影光学系と像面(ウエハ面)との間の
距離(バックフォーカス)を確保しようとすると、第2
レンズ群G2のレンズ径の大型化を招き、コンパクト化を
図ることができない。
【0056】なお、第2レンズ群G2は、物体側(レチク
ル側)より順に、負の屈折力を持つ第1サブレンズ群G
21 、正の屈折力を持つ第2サブレンズ群G22 、負の屈
折力を持つ第3サブレンズ群G23 を少なくとも有する構
成とすることが好ましいという事は先に述べた通りであ
るが、図2及び図3に示す如く、負の屈折力を持つ第3
サブレンズ群G23 の像側に、正の屈折力を持つ第4サブ
レンズ群G24 を配置しても良い。これにより、投影光学
系の像側(ウエハ側)での開口数NAを大きくするため
に球面収差の補正に大きく関与する第3レンズ群G3にお
ける球面収差補正上の負荷を第4サブレンズ群G24 に分
担できるため、バランス良い球面収差の補正が達成でき
る。このとき、第1サブレンズG21 と第2サブレンズ群
G22 とは、逆ガリレオ系もしくはレトロフォーカス系を
構成し、第3サブレンズG23 と第4サブレンズ群G24
は、逆ガリレオ系もしくはレトロフォーカス系を構成す
る。これにより、第2レンズ群G2は、投影光学系のコン
パクト化に寄与する2つの光学系(逆ガリレオ系もしく
はレトロフォーカス系)を有する事になるため、第4サ
ブレンズ群G24 が付加されても投影光学系の大型化を実
質的に招くことはない。
【0057】なお、第2レンズ群G2が4つのサブレンズ
群を有する場合においても、上記条件(I)〜(XI)
を適用し得る事は勿論であり、さらには、第2レンズ群
中に第4サブレンズ群G24 を配置した場合、球面収差補
正を十分に果たすためには、少なくとも2枚以上の正レ
ンズを含む構成とすることがより好ましい。
【0058】また、第2レンズ群G2は、物体側(レチク
ル側)より順に、負の屈折力を持つ第1サブレンズ群G
21 、正の屈折力を持つ第2サブレンズ群G22 、負の屈
折力を持つ第3サブレンズ群G23 のみを有する構成とし
た場合には、第2サブレンズ群G22 から射出する光束を
収斂気味にする事によって、第3サブレンズ群G23 から
射出する光束をほぼ平行光束にとする事が可能である。
この場合にも、上記条件(I)〜(XI)の適用が可能
である。従って、第2レンズ群G2を具体的に構成する上
で、第4サブレンズ群G24 のレンズ構成は必須なもので
はない。
【0059】
【実施例】次に、本発明よる実施例について詳述する。
本実施例における投影光学系は、図8に示す露光装置に
応用したものである。
【0060】まず、図8について簡単に説明すると、図
示の如く、投影光学系PLの物体面には所定の回路パタ
ーンが形成された投影原版としてのレチクルRが配置さ
れており、投影光学系PLの像面には、基板としてのウ
エハWが配置されている。レチクルRはレチクルステー
ジRSに保持され、ウエハWはウエハステージWSに保
持されている。また、レチクルRの上方には、レチクル
Rを均一照明するための照明光学装置ISが配置されて
いる。
【0061】以上の構成により、照明光学装置ISから
供給される光は、レチクルRを照明し、投影光学系PL
の瞳位置(開口絞りAS位置)には照明光学装置IS中
の光源の像が形成され、所謂ケーラー照明がされる。そ
して、投影光学系PLによって、ケーラー照明されたレ
チクルRのパターン像が、投影光学系PLによりウエハ
W上に露光(転写)される。
【0062】本実施例では、照明光学装置IS内部に配
置される光源として、248nm の露光波長λを持つ光を供
給するエキシマレーザとした時の投影光学系の例を示し
ており、図9〜図11には本発明による第1〜第3実施
例の投影光学系のレンズ構成図を示している。
【0063】図9〜図11に示す如く、各実施例の投影
光学系は、物体側(レチクル側)より順に、正の屈折力
を持つ第1レンズ群G1と、アフォーカル系で構成される
第2レンズ群G2と、正の屈折力を持つ第3レンズ群G3
を有し、第2レンズ群G2は、物体側(レチクル側)より
順に、負の屈折力を持つ第1サブレンズ群G21 と、正の
屈折力を持つ第2サブレンズ群G22 と、負の屈折力を持
つ第3サブレンズ群G2 3 、正の屈折力を持つ第4サブレ
ンズ群G24 を有し、物体側(レチクル側)及び像側(ウ
エハ側)においてテレセントリックとなっている。
【0064】まず、図9に示す第1実施例の投影光学系
は、物像間距離(物体面から像面までの距離、またはレ
チクルRからウエハWまでの距離)Lが1000、像側の開
口数NAが0.56、投影倍率Bが1/4、ウエハW上での
露光領域の直径が24.4のスペックを有する。
【0065】第1実施例の具体的なレンズ構成を説明す
ると、図9に示す如く、正の屈折力を持つ第1レンズ群
G1は、物体側から順に、像側に凸面を向けたメニスカス
形状の正レンズL11 と、両凸形状の正レンズL12 とを有
し、第2レンズ群G2中の第1サブレンズ群G21 は、物体
側から順に、像側により強い曲率の面を向けたメニスカ
ス形状の負レンズL211と、両凹形状の負レンズL212と、
像側により強い曲率の面を向けた負レンズL213と、物体
側により強い曲率の面を向けた負レンズL214とを有す
る。そして、第2レンズ群G2中の第2サブレンズ群G22
は、物体側から順に、像側により強い曲率の面を向けた
正レンズL221と、3枚の両凸形状の正レンズ(L222〜L
224)と、物体側に凸面を向けたメニスカス形状の正レ
ンズL225とを有し、第2レンズ群G2中の第3サブレンズ
群G23 は、物体側から順に、像側により強い曲率の面を
向けた負レンズL231と、両凹形状の負レンズL232と、物
体側により強い曲率の面を向けた負レンズL233とを有す
る。第2レンズ群G2中の第4サブレンズ群G24 は、物体
側から順に、像側に凸面を向けた2枚の正レンズ
(L241,L242)と、両凸形状の正レンズL243とを有し、
第3レンズ群G3は、物体側から順に、物体側に凸面を向
けた2枚の正レンズ(L31,L32)と、物体側に凸面を向け
たメニスカスレンズ形状の負レンズL33 と、物体側に凸
面を向けた正レンズL34とを有する。
【0066】次に、図10に示す第2実施例の投影光学
系は、物像間距離Lが1000、像側の開口数NAが0.57、
投影倍率Bが1/4、ウエハW上での露光領域の直径が
26.0のスペックを有する。
【0067】第2実施例の具体的なレンズ構成は、図1
0に示す如く、先に述べた図9に示す第1実施例のもの
と基本的に同一である。また、図11に示す第3実施例
の投影光学系は、物像間距離Lが1000、像側の開口数N
Aが0.61、投影倍率Bが1/4、ウエハW上での露光領
域の直径が24.2のスペックを有する。
【0068】第3実施例の具体的なレンズ構成は、図1
1に示す如く、先に述べた第1及び実施例のものと類似
しているが、第2レンズ群G2中の第1サブレンズ群G21
のレンズ構成が異なる。すなわち、第1及び第2実施例
では、第1サブレンズ群G21 を4枚の負レンズで構成し
ているが、図11に示す第3実施例では、第1サブレン
ズ群G21 を3枚の負レンズで構成している。具体的に
は、第3実施例の第1サブレンズ群G21 は、物体側から
順に、物体側に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズ
L211と、両凹形状の負レンズL212と、物体側により強い
曲率の面を向けた負レンズL213とを有する。
【0069】さて、以下において、それぞれ本発明にお
ける各実施例の諸元の値並びに条件対応数値を掲げる。
但し、左端の数字は物体側(レチクル側)からの順序を
表し、rはレンズ面の曲率半径、dはレンズ面間隔、n
は露光波長λが248nm における溶融石英SiO2 の屈折
率、d0 は物体(レチクル)から第1レンズ群G1の最も
物体側(レチクル側)のレンズ面(第1レンズ面)まで
の距離、Bは投影光学系の投影倍率、NAは投影光学系
の像側での開口数、Fは全系の焦点距離、Lは物体面
(レチクル面)から像面(ウエハ面)までの物像間距
離、f1 は第1レンズ群G1の焦点距離、f2 は第2レン
ズ群G2の焦点距離、f3 は 第3レンズ群G3の焦点距
離、Hは投影光学系の光軸からの物体の最大の高さ(最
大物体高)、f21は第1サブレンズ群G21 の焦点距離、
22は第2サブレンズ群G22 の焦点距離、f23は第3サ
ブレンズ群G23 の焦点距離、u1 は物体(レチクル)上
での軸上物点(レチクル中心)からの近軸マージナル光
線が第1レンズ群G1に入射する時の近軸マージナル光線
の入射角、u2 は物体(レチクル)上での軸上物点(レ
チクル中心)からの近軸マージナル光線が第2レンズ群
G2に入射する時の近軸マージナル光線の入射角、u2'は
物体(レチクル)上での軸上物点(レチクル中心)から
の近軸マージナル光線が第2レンズ群G2を射出する時の
近軸マージナル光線の射出角、u3'は物体(レチクル)
上での軸上物点(レチクル中心)からの近軸マージナル
光線が第3レンズ群G3を射出する時の近軸マージナル光
線の射出角を表している。
【0070】
【第1実施例】 0 =112.464 、B=1/4、NA=0.56、|F/(B
・L)|=4.648 、d0 /L=0.1125、f3 /f1 =0.
879 、f1 /L=0.1880、HMAX /L=0.0488、f22
21=1.919 、f23/L=0.0433、|u2 /u1 |=0.
2664、|u2'/u3'|=0.1177、|f2 |/f1 =1.81
3 、|f2 |/f3 =2.061
【0071】
【第2実施例】 0 =104.463 、B=1/4、NA=0.57、|F/(B
・L)|=4.173 、d0 /L=0.1045、f3 /f1 =0.
876 、f1 /L=0.1883、HMAX /L=0.0520、f22
21=1.968 、f23/L=0.0428、|u2 /u1 |=0.
3091、|u2'/u3'|=0.1226、|f2 |/f1 =1.70
8 、|f2 |/f3 =1.949
【0072】
【第3実施例】 0 =121.885 、B=1/4、NA=0.61、|F/(B
・L)|=3.404 、d0 /L=0.1219、f3 /f1 =0.
9016、f1 /L=0.1883、HMAX /L=0.0484、f22
21=1.851 、f23/L=0.0461、|u2 /u1 |=0.
2035、|u2'/u3'|=0.1114、|f2 |/f1 =1.97
3 、|f2 |/f3 =2.188
【0073】以上の各実施例の諸元の値より、各実施例
のものは、比較的少ないレンズ構成枚数で全長がコンパ
クトであるにもかかわず、比較的広い露光領域と0.55以
上の高い開口数とを確保しながら、物体側(レチクル
側)及び像側(ウェハ側)においてテレセントリックが
達成されている事が理解される。また、図12、図1
3、図14はそれぞれ本発明による第1〜第3実施例に
おける諸収差図を示している。
【0074】ここで、各収差図において、NAは投影光
学系の開口数、Yは像高を示しており、また、各非点収
差図中において、点線は子午的像面(メリジオナル像
面)、実線は球欠的像面(サジタル像面)を示してい
る。各収差図の比較より、各実施例とも諸収差がバラン
ス良く補正されながら、0.55以上の高い開口数を持つ高
解像力な投影光学系が達成されていることが理解され
る。特に、歪曲収差は、像全体にわたり限り無く零に近
い状態まで良好に補正されていることが理解される。
【0075】なお、以上の各実施例では、第2レンズ群
G2を負・正・負・正の4つのサブレンズ群で構成した例
を示したが、これに限ることなく、第2レンズ群G2を負
・正・負の3つのサブレンズ群で構成し得ることは言う
までもない。また、以上の各実施例の第2レンズ群G2
屈折力は比較的弱い正の屈折力を有しているが、第2レ
ンズ群G2を零の屈折力、あるいは比較的弱い負の屈折力
で構成しても良いことは勿論である。
【0076】さらに、以上の各実施例では、投影光学系
を構成する光学材料として単一の硝子材料、即ち全て石
英(SiO2 )を用いているが、露光光にある半値幅を
持つ場合には、石英(SiO2 )と蛍石(CaF2 )と
を組み合わせて、色収差を補正することが可能であり、
さらには、その他の紫外域の光を通過させる光学材料を
組み合わせて色収差を補正することも可能である。
【0077】また、各実施例では、248nm の光を供給す
るエキシマレーザを光源として用いた例を示したがこれ
に限ることなく、g線(436nm),i線(365nm)の光を供
給する水銀アークランプや、193nm の光を供給するエキ
シマレーザ、さらにはそれ以外の紫外領域の光を供給す
る光源を用いたものにも応用し得ることは言うまでもな
い。また、投影光学系を構成する1部のレンズの代わり
に反射鏡等の反射部材を用いることも可能である。
【0078】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、コンパ
クトであるにもかかわず、比較的広い露光領域を確保し
ながら、諸収差がバランス良く補正され、しかも高い開
口数を持つ高解像力な投影光学系が達成できる。これに
より、高性能な投影露光装置を実現することが可能とな
る。
【0079】また、投影光学系の入射瞳位置を物体面
(レチクル面)より遠くに、また射出瞳位置も像面(ウ
エハ面)から遠くにする、所謂両側テレセントリックな
光学系が実現できるため、物体面や像面でのそりによる
像歪の問題を解消することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の両側テレセントリックな投影光学系を
示す概念図である。
【図2】本発明の投影光学系の基本構成を示す図であ
る。
【図3】図2の構成によって諸収差がバランス良く補正
される様子を示すための図である。
【図4】軸上物点(レチクル中心)からの近軸マージナ
ル光線の傾角の変化量が最初に小さくなるような最も物
体側(レチクル側)に近い領域において、近軸マージナ
ル光線のレンズ面通過高さが極大値を示す時の近軸マー
ジナル光線の光路の様子を定性的に示す図である。
【図5】軸上物点(レチクル中心)からの近軸マージナ
ル光線の傾角の変化量が最初に小さくなるような最も物
体側(レチクル側)に近い領域において、近軸マージナ
ル光線の傾角が増加する傾向にある時の近軸マージナル
光線の光路の様子を定性的に示す図である。
【図6】軸上物点(レチクル中心)からの近軸マージナ
ル光線の傾角の変化量が最後の小さくなるような最も像
側(ウエハ側)に近い領域において、近軸マージナル光
線のレンズ面通過高さが極大値を示す時の近軸マージナ
ル光線の光路の様子を定性的に示す図である。
【図7】軸上物点(レチクル中心)からの近軸マージナ
ル光線の傾角の変化量が最初に小さくなるような最も像
側(ウエハ側)に近い領域において、近軸マージナル光
線の傾角が減少する傾向にある時の近軸マージナル光線
の光路の様子を定性的に示す図である。
【図8】本発明による投影光学系を露光装置に応用した
時の露光装置の概略的構成を示す図である。
【図9】本発明による第1実施例のレンズ構成図を示す
図である。
【図10】は本発明による第2実施例のレンズ構成図を
示す図である。
【図11】は本発明による第3実施例のレンズ構成図を
示す図である。
【図12】は本発明による第1実施例の諸収差の様子を
示す諸収差図である。
【図13】は本発明による第2実施例の諸収差の様子を
示す諸収差図である。
【図14】は本発明による第3実施例の諸収差の様子を
示す諸収差図である。
【符号の説明】
1 ・・・・・・・・・ 第1レンズ群 G2 ・・・・・・・・・ 第2レンズ群 G3 ・・・・・・・・・ 第3レンズ群 G21・・・・・・・・・ 第1サブレンズ群 G22・・・・・・・・・ 第2サブレンズ群 G23・・・・・・・・・ 第3サブレンズ群 G24・・・・・・・・・ 第4サブレンズ群
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年2月10日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 投影光学系及び投影露光装置
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/027 (72)発明者 ロメオ アイ. メルカド アメリカ合衆国.カリフォルニア,フレモ ント,マウンテン ドライヴ 2977

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1物体の像を所定の縮小倍率のもとで第
    2物体に投影する投影光学系において、 前記投影光学系は、前記第1物体側より順に、正の屈折
    力を持つ第1レンズ群G1と、アフォーカル系で構成され
    る第2レンズ群G2と、正の屈折力を持つ第3レンズ群G3
    とを有し、 全系の焦点距離をFとし、前記投影光学系の投影倍率を
    B、前記第1物体と前記第2物体との間の距離をL、前
    記第1物体から前記第1レンズ群G1の最も第1物体側の
    レンズ面までの距離をd0 、前記第1レンズ群G1の焦点
    距離をf1 、前記第3レンズ群G3の焦点距離をf3 とす
    るとき、以下の条件を満足することを特徴とする投影光
    学系。 (I) 1.8≦|F/(B・L)| (II) d0 /L≦0.2 (III) 0.80≦f3 /f1 ≦1.5
  2. 【請求項2】前記第1物体と前記第2物体との間の距離
    Lに対する前記第1レンズ群G1の焦点距離f1 の比率を
    以下の条件を満足するように構成することを特徴とする
    請求項1記載の投影光学系。 (IV) 0.05≦f1 /L≦0.3
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