JPH09105861A - 投影光学系 - Google Patents

投影光学系

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JPH09105861A
JPH09105861A JP7263932A JP26393295A JPH09105861A JP H09105861 A JPH09105861 A JP H09105861A JP 7263932 A JP7263932 A JP 7263932A JP 26393295 A JP26393295 A JP 26393295A JP H09105861 A JPH09105861 A JP H09105861A
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lens
lens group
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projection optical
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均 松澤
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/14—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/22—Telecentric objectives or lens systems

Abstract

(57)【要約】 【課題】比較的広い露光領域と大きな開口数とを確保つ
つ両側テレセントリックとしながらも、諸収差、特にデ
ィストーション（高次のディストーションを含む）を極
めて良好に補正する。 【解決手段】本発明の投影光学系は、物体側から順に、
正の第１レンズ群G1、負の第２レンズ群G2、正の第３レ
ンズ群G3、負の第４レンズ群G4、正の第５レンズ群G5及
び正の第６レンズ群G6を有し、第２レンズ群は、負の前
方レンズと負の後方レンズとの間に配置されかつ負レン
ズのみで構成される中間レンズ群を含み、中間レンズ群
は、少なくとも２枚の負レンズを有し、第５レンズ群
は、少なくとも７枚の正レンズを有するように構成され
る。そして、本発明は、上記レンズ構成に関する最適な
条件を見出したものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、第１物体のパター
ンを第２物体としての基板等に投影するための投影光学
系に関するものであり、特に、第１物体としてのレチク
ル（マスク）上に形成された半導体用または液晶用のパ
ターンを第２物体としての基板（ウェハ、プレート等）
上に投影露光するのに好適な投影光学系に係るものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】集積回路のパターンの微細化が進むに従
って、ウェハの焼付けに用いられる投影光学系に対し要
求される性能もますます厳しくなってきている。このよ
うな状況の中で、投影光学系の解像力の向上について
は、露光波長λをより短くするか、あるいは投影光学系
の開口数（ＮＡ）を大きくする事が考えられる。
【０００３】近年においては、転写パターンの微細化に
対応するために、露光用の光源は、ｇ線(436nm) の露光
波長の光を発するものからｉ線(365nm) の露光波長の光
を発するものが主として用いられるようになってきてお
り、さらには、より短波長の光を発する光源、例えばエ
キシマレーザ（248nm,193nm)が用いられようとしてい
る。
【０００４】そして、以上の各種の露光波長の光によっ
てレチクル上のパターンをウェハ上に投影露光するため
の投影光学系が提案されている。投影光学系において
は、解像力の向上と共に要求されるのは、像歪を少なく
することである。ここで、像歪とは、投影光学系に起因
するディストーション（歪曲収差）によるものの他、投
影光学系の像側で焼き付けられるウェハの反り等による
ものと、投影光学系の物体側で回路パターン等が描かれ
ているレチクルの反り等によるものがある。
【０００５】近年ますます転写パターンの微細化が進
み、像歪の低減要求も一段と厳しくなってきている。そ
こで、ウェハの反りによる像歪への影響を少なくするた
めには、投影光学系の像側での射出瞳位置を像面から遠
くに位置させる、所謂像側テレセントリック光学系が従
来より用いられてきた。
【０００６】一方、レチクルの反りによる像歪の軽減に
ついても、投影光学系の入射瞳位置を物体面から遠くに
位置させる、所謂物体側テレセントリック光学系にする
ことが考えられ、またそのように投影光学系の入射瞳位
置を物体面から比較的遠くに位置させる提案がなされて
いる。それらの例としては、特開昭６３−１１８１１５
号、特開平４−１５７４１２号、特開平５−１７３０６
５号等のものがある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】以上の各特許公報にて
提案された光学系の中には、物体側と像側とが共にテレ
セントリックである、所謂両側テレセントリック投影光
学系が開示されている。しかしながら、以上の各特許公
報にて提案されている両側テレセントリック投影光学系
では、解像力に寄与する開口数（ＮＡ）が十分に大きく
なく、さらには各収差、特にディストーションの補正が
十分ではなかった。
【０００８】本発明は、以上の問題点に鑑みてなされた
ものであり、比較的広い露光領域と大きな開口数とを確
保しつつ両側テレセントリックとしながらも、諸収差、
特にディストーション（高次のディストーションを含
む）が極めて良好に補正された高性能な投影光学系を提
供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、第１物体の像を第２物体上に投影する
投影光学系において、前記投影光学系は、前記第１物体
側から順に、正の屈折力を持つ第１レンズ群と、負の屈
折力を持つ第２レンズ群と、正の屈折力を持つ第３レン
ズ群と、負の屈折力を持つ第４レンズ群と、正の屈折力
を持つ第５レンズ群と、正の屈折力を持つ第６レンズ群
とを有し、前記第２レンズ群は、最も第１物体側に配置
されて前記第２物体側に凹面を向けた負の屈折力を持つ
前方レンズと、最も第２物体側に配置されて前記第１物
体側に凹面を向けた負の屈折力を持つ後方レンズと、前
記第２レンズ群中の前方レンズと前記第２レンズ群中の
後方レンズとの間に配置されかつ負レンズのみで構成さ
れる中間レンズ群を含み、前記中間レンズ群は、少なく
とも２枚の負レンズを有し、前記第５レンズ群は、少な
くとも７枚の正レンズを有し、前記第１レンズ群の焦点
距離をｆ1 とし、前記第２レンズ群の焦点距離をｆ2、
前記第３レンズ群の焦点距離をｆ3 、前記第４レンズ群
の焦点距離をｆ4 、前記第５レンズ群の焦点距離を
ｆ5 、前記第６レンズ群の焦点距離をｆ6 、前記第２レ
ンズ群中の前記中間レンズ群の合成焦点距離をｆ2m、前
記第１物体から前記第２物体までの距離をＬとすると
き、以下の条件を満足するように構成したものである。 （１） ０．１＜ｆ1 ／ｆ3 ＜１７ （２） ０．０５＜ｆ2 ／ｆ4 ＜７ （３） ０．０１＜ｆ5 ／Ｌ＜０．９ （４） ０．０２＜ｆ6 ／Ｌ＜１．６ （５） １．１＜ｆ2m／ｆ2 ＜９ 以上の基本構成に基づいて、前記第１物体から前記投影
光学系全体の第１物体側焦点までの軸上距離をＩとし、
前記第１物体から前記第２物体までの距離をＬとすると
き、以下の条件を満足することが望ましい。 （６） １．０＜Ｉ／Ｌ また、前記第５レンズ群は、負メニスカスレンズと、該
負メニスカスレンズの凹面と隣接して配置されかつ該負
メニスカスレンズの凹面と対向する凸面を持つ正レンズ
とを有し、前記第５レンズ群中の前記負メニスカスレン
ズにおける凹面の曲率半径ｒ5nとし、前記第５レンズ群
中の前記負メニスカスレンズの凹面に隣接して配置され
た正レンズにおける負メニスカスレンズの凹面と対向す
る凸面の曲率半径ｒ5pとするとき、以下の条件を満足す
ることがより望ましい。 （７） ０＜（ｒ5p−ｒ5n）／（ｒ5p＋ｒ5n）＜１ この場合、特に、前記第５レンズ群は、前記正レンズと
隣接して配置された前記負メニスカスレンズの凸面側、
及び前記負メニスカスレンズと隣接して配置された前記
正レンズの前記負メニスカスレンズとは反対側におい
て、それぞれ少なくとも１枚以上の正レンズを有するこ
とがより好ましい。また、前記第６レンズ群の最も第１
物体側のレンズ面の曲率半径をｒ6Fとし、第６レンズ群
の最も第１物体側のレンズ面から第２物体までの軸上距
離をｄ6 とするとき、以下の条件を満足することが好ま
しい。 （８） ０．５０＜ｄ6 ／ｒ6F＜１．５０ さらに、前記第５レンズ群は、最も第２物体側に配置さ
れて第２物体側に凹面を向けた負レンズを有することが
好ましい。この場合、特に、前記第５レンズ群中の最も
第２物体側に設けられた負レンズにおける第１物体側の
曲率半径をｒ5F、前記第５レンズ群中の最も第２物体側
に設けられた負レンズにおける第２物体側の曲率半径を
ｒ5Rとするとき、以下の条件を満足することがより好ま
しい。 （９） ０．３０＜（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋ｒ5R）＜１．２８ また、前記第５レンズ群は、最も第１物体側に配置され
て第２物体側に凸面を向けた第１正メニスカスレンズ
と、該第１正メニスカスレンズの第２物体側に配置され
て第２物体側に凸面を向けた第２正メニスカスレンズと
を有し、前記第５レンズ群中の最も第１物体側に設けら
れた前記第１正メニスカスレンズにおける第１物体側の
曲率半径をｒ51F 、前記第５レンズ群中の最も第１物体
側に設けられた前記第１正メニスカスレンズにおける第
２物体側の曲率半径をｒ51R 、前記第５レンズ群中の前
記第１正メニスカスレンズの第２物体側に配置された第
２正メニスカスレンズにおける第１物体側の曲率半径を
ｒ52F 、前記第５レンズ群中の前記第１正メニスカスレ
ンズの第２物体側に配置された第２正メニスカスレンズ
における第２物体側の曲率半径をｒ52R とするとき、以
下の条件を満足することがより望ましい。 （１０） １．２＜Ｑ52／Ｑ51＜８ 但し、Ｑ51＝（ｒ51F −ｒ51R ）／（ｒ51F ＋ｒ51R ） Ｑ52＝（ｒ52F −ｒ52R ）／（ｒ52F ＋ｒ52R ） である。
【００１０】この場合、前記第５レンズ群中の最も第１
物体側に設けられた前記第１正メニスカスレンズにおけ
る第１物体側の曲率半径をｒ51F 、前記第５レンズ群中
の最も第１物体側に設けられた前記第１正メニスカスレ
ンズにおける第２物体側の曲率半径をｒ51R とすると
き、以下の条件を満足することがより好ましい。 （１１） ０．０１＜Ｑ51＜０．８ 但し、Ｑ51＝（ｒ51F −ｒ51R ）／（ｒ51F ＋ｒ51R ）
である。
【００１１】さらに、前記第２レンズ群中の最も第１物
体側に配置されて前記第２物体側に凹面を向けた負の屈
折力を持つ前方レンズの焦点距離をｆ2F、前記第２レン
ズ群中の最も第２物体側に配置されて前記第１物体側に
凹面を向けた負の屈折力を持つ後方レンズの焦点距離を
ｆ2Rとするとき、以下の条件を満足することが好まし
い。 （１２） ０≦ｆ2F／ｆ2R＜１８ また、前記第１レンズ群は、少なくとも２枚の正レンズ
を有し、前記第３レンズ群は、少なくとも３枚の正レン
ズを有し、前記第４レンズ群は、少なくとも３枚の負レ
ンズを有し、前記第５レンズ群は、少なくとも７枚の正
レンズ及び少なくとも１枚の負レンズとを有し、前記第
６レンズ群は、少なくとも１枚の正レンズを有すること
が好ましい。
【００１２】また、前記第６レンズ群は、以下の条件を
満足するレンズ面を少なくとも一面有する３枚以下のレ
ンズからなることが望ましい。 （１３） １／｜φＬ｜＜２０ 但し、φ：前記レンズ面の屈折力、 Ｌ：前記第１物体と前記第２物体までの物像間距離、 である。
【００１３】
【発明の実施の形態】まず、本発明の実施例を説明する
前に、本発明の作用並びに各条件について詳述する。本
発明の投影光学系では、第１物体側から順に、正の屈折
力を持つ第１レンズ群と、負の屈折力を持つ第２レンズ
群と、正の屈折力を持つ第３レンズ群と、負の屈折力を
持つ第４レンズ群と、正の屈折力を持つ第５レンズ群
と、正の屈折力を持つ第６レンズ群とを少なくとも有す
る構成としている。
【００１４】まず、正の屈折力を持つ第１レンズ群はテ
レセントリック性を維持しながら主にディストーション
の補正に寄与しており、具体的には、第１レンズ群にて
正のディストーションを発生させて、この第１レンズ群
よりも第２物体側に位置する複数のレンズ群にて発生す
る負のディストーションをバランス良く補正している。
負の屈折力を持つ第２レンズ群及び負の屈折力を持つ第
４レンズ群は、主にペッツバール和の補正に寄与し、像
面の平坦化を図っている。負の屈折力を持つ第２レンズ
群及び正の屈折力を持つ第３レンズ群では、この２つの
レンズ群において逆望遠系を形成しており、投影光学系
のバックフォーカス（投影光学系の最も第２物体側のレ
ンズ面等の光学面から第２物体までの距離）の確保に寄
与している。正の屈折力を持つ第５レンズ群及び同じく
正の屈折力を持つ第６レンズ群は、ディストーションの
発生を抑えることと、第２物体側での高ＮＡ化に十分対
応するために特に球面収差の発生を極力抑えることとに
主に寄与している。
【００１５】以上の構成に基づいて、第２レンズ群にお
ける最も第１物体側に配置されて第２物体側に凹面を向
けた負の屈折力を持つ前方レンズ、及び第２レンズ群に
おける最も第２物体側に配置されて第１物体側に凹面を
向けた負の屈折力を持つ後方レンズは、ともに像面湾
曲、コマ収差の補正に寄与する。また、前方レンズと後
方レンズとの間に配置された負の屈折力を持つ中間レン
ズ群は、像面湾曲の補正に大きく寄与し、さらに、この
中間レンズ群を負レンズのみで構成、即ち第２レンズ群
を負レンズのみで構成することによって、中間レンズ群
にて発生しがちな高次のディストーションの発生を良好
に抑えつつ、投影光学系の全長を短くすることを可能と
している。さらに、中間レンズ群は２枚以上の負レンズ
を含む構成としているため、コマ収差の発生を十分に抑
えることができる。
【００１６】さらに、第５レンズ群が少なくとも７枚以
上の正レンズを含む構成とすることにより、第５レンズ
群自身が担う屈折力を各正レンズにバランス良く分担さ
せることができるため、高開口数化（高ＮＡ化）に伴っ
て第５レンズ群にて発生しがちな負の球面収差を良好に
抑えることができる。従って、第５レンズ群が少なくと
も７枚以上の正レンズを含む構成とすることにより、投
影光学系の高解像力が保証される。
【００１７】条件（１）では、正の屈折力の第１レンズ
群の焦点距離ｆ1 と正の屈折力の第３レンズ群の焦点距
離ｆ3 との最適な比率、即ち、第１レンズ群と第３レン
ズ群との最適な屈折力（パワー）配分を規定している。
この条件（１）は、主にディストーションをバランス良
く補正するためのものであり、この条件（１）の下限を
越えると、第３レンズ群の屈折力が第１レンズ群の屈折
力に対して相対的に弱くなるため、負のディストーショ
ンが大きく発生する。また、条件（１）の上限を越える
と、第１レンズ群の屈折力が第３レンズ群の屈折力に対
して相対的に弱くなるため、負のディストーションが大
きく発生する。
【００１８】条件（２）では、負の屈折力の第２レンズ
群の焦点距離ｆ2 と負の屈折力の第４レンズ群の焦点距
離ｆ4 との最適な比率、即ち、複数の負レンズのみで構
成される負の屈折力の第２レンズ群と負の屈折力の第４
レンズ群との最適な屈折力（パワー）配分を規定してい
る。この条件（２）は、主にペッツバール和を小さくし
て、広い露光フィールドを確保しながら、像面湾曲を良
好に補正するためのものであり、この条件（２）の下限
を越えると、第４レンズ群の屈折力が第２レンズ群の屈
折力に対して相対的に弱くなるため、正のペッツバール
和が大きく発生する。また、条件（２）の上限を越える
と、第２レンズ群の屈折力が第４レンズ群の屈折力に対
して相対的に弱くなるため、正のペッツバール和が大き
く発生する。なお、第４レンズ群の屈折力を第２レンズ
群の屈折力に対して相対的に強くして、広い露光フィー
ルドのもとでペッツバール和をよりバランス良く補正す
るためには、上記条件（２）の下限値を０．４として、
０．４＜ｆ2 ／ｆ4 とすることが好ましい。
【００１９】条件（３）では、正の屈折力の第５レンズ
群の焦点距離ｆ5 と第１物体（レチクル等）と第２物体
（ウェハ等）までの距離（物像間距離）Ｌとの最適な比
率を規定している。この条件（３）は、大きな開口数を
保ちながら球面収差、ディストーション及びペッツバー
ル和をバランス良く補正するためのものである。この条
件（３）の下限を越えると、第５レンズ群の屈折力が大
きくなり過ぎ、この第５レンズ群にて負のディストーシ
ョンのみならず負の球面収差が甚大に発生する。なお、
第５レンズ群にて発生しがちな負の球面収差を十分に抑
えるためには、上記条件（３）の下限値を０．０８１と
して、０．０８１＜ｆ5 ／Ｌとすることが好ましい。逆
に、この条件（３）の上限を越えると、第５レンズ群の
屈折力が弱くなり過ぎ、これに伴って負の屈折力の第４
レンズ群の屈折力も必然的に弱くなり、この結果、ペッ
ツバール和を良好に補正することができない。
【００２０】条件（４）では、正の屈折力の第６レンズ
群の焦点距離ｆ6 と、第１物体（レチクル等）から第２
物体（ウェハ等）までの距離（物像間距離）Ｌとの最適
な比率を規定している。この条件（４）は、大きな開口
数を保ちながら高次の球面収差及び負のディストーショ
ンの発生を抑えるためのものである。この条件（４）の
下限を越えると、第６レンズ群自身にて負のディストー
ションが大きく発生し、この条件（４）の上限を越える
と、高次の球面収差が発生する。
【００２１】条件（５）では、第２レンズ群中の負の屈
折力を持つ中間レンズ群の合成焦点距離ｆ2mと第２レン
ズ群の焦点距離ｆ2 との最適な比率を規定している。こ
の条件（５）は、ディストーションの発生を抑えながら
ペッツバール和を小さく保つためのものである。この条
件（５）の下限を越えると、第２レンズ群中の中間レン
ズ群における負の合成屈折力が強くなり過ぎるため、負
のディストーションが大きく発生する。なお、ディスト
ーション並びにコマ収差の発生を十分に抑えるために
は、上記条件（５）の下限値を１．８６として、１．８
６＜ｆ2m／ｆ2 とすることが好ましい。
【００２２】この条件（５）の上限を越えると、第２レ
ンズ群中の中間レンズ群における負の屈折力が弱くなり
過ぎるため、正のペッツバール和が大きく発生するのみ
ならず、第３レンズ群の屈折力も弱くなり、投影光学系
のコンパクト化が困難となる。なお、ペッツバール和を
良好に補正しつつより十分なるコンパクト化を図るに
は、上記条件（５）の上限値を２．９として、ｆ2m／ｆ
2 ＜２．９とすることが好ましい。
【００２３】さらに、第１物体から投影光学系全体の第
１物体側焦点までの軸上距離をＩとし、第１物体から第
２物体までの距離をＬとするとき、以下の条件（６）を
満足することが好ましい。 （６） １．０＜Ｉ／Ｌ 条件（６）では、第１物体から投影光学系全体の第１物
体側焦点までの軸上距離Ｉと、第１物体（レチクル等）
から第２物体（ウェハ等）までの距離（物像間距離）Ｌ
との最適な比率を規定している。ここで、投影光学系全
体の第１物体側焦点とは、投影光学系の光軸に対して近
軸領域での平行光を投影光学系の第２物体側から入射さ
せ、その近軸領域の光が投影光学系を射出する時に、そ
の射出光が光軸と交わる点を意味するものである。
【００２４】この条件（６）の下限を越えると、投影光
学系の第１物体側でのテレセントリック性が大幅に崩れ
て、第１物体の光軸方向のずれに起因する倍率の変動並
びにディストーションの変動が大きくなり、その結果、
第１物体の像を所望の倍率のもとで忠実に第２物体上に
投影することが困難となる。なお、第１物体の光軸方向
のずれに起因する倍率の変動並びにディストーションの
変動をより十分に抑えるためには、上記条件（６）の下
限値を１．７として、１．７＜Ｉ／Ｌとすることが好ま
しい。さらに、投影光学系のコンパクト化を維持しなが
ら、瞳の球面収差及びディストーションを共にバランス
良く補正するためには、上記条件（６）の上限値を６．
８として、Ｉ／Ｌ＜６．８とすることが好ましい。
【００２５】さて、主に３次の球面収差を良好に補正す
るためには、正の屈折力を持つ第５レンズ群は、負メニ
スカスレンズと、その負メニスカスレンズの凹面と隣接
して配置されかつその負メニスカスレンズの凹面と対向
する凸面を持つ正レンズとを有し、第５レンズ群中の負
メニスカスレンズにおける凹面の曲率半径ｒ5nとし、第
５レンズ群中の負メニスカスレンズの凹面に隣接して配
置された正レンズにおける負メニスカスレンズの凹面と
対向する凸面の曲率半径ｒ5pとするとき、以下の条件
（７）を満足することがより望ましい。 （７） ０＜（ｒ5p−ｒ5n）／（ｒ5p＋ｒ5n）＜１ 条件（７）の下限を越えると、３次の球面収差が補正不
足となり、逆に条件（７）の上限を越えると、３次の球
面収差が補正過剰となり、好ましくない。ここで、３次
の球面収差をより良好に補正するためには、条件（７）
の下限値を０．０１として、０．０１＜（ｒ5p−ｒ5n）
／（ｒ5p＋ｒ5n）とすることがさらに好ましく、条件
（７）の上限値を０．７として、（ｒ5p−ｒ5n）／（ｒ
5p＋ｒ5n）＜０．７とすることがさらに好ましい。
【００２６】ここで、前記第５レンズ群は、上記正レン
ズと隣接して配置された負メニスカスレンズの凸面側、
及びその負メニスカスレンズと隣接して配置された上記
正レンズの負メニスカスレンズとは反対側において、そ
れぞれ少なくとも１枚以上の正レンズを有することがよ
り好ましい。この構成により、高ＮＡに応じて発生しが
ちな高次の球面収差の発生を抑えることができる。
【００２７】また、第６レンズ群の最も第１物体側のレ
ンズ面の曲率半径をｒ6Fとし、第６レンズ群の最も第１
物体側のレンズ面から第２物体までの軸上距離をｄ6 と
するとき、以下の条件を満足することがより好ましい。 （８） ０．５０＜ｄ6 ／ｒ6F＜１．５０ この条件（８）の上限を越えると、第６レンズ群の最も
第１物体側のレンズ面の正の屈折力が強くなり過ぎるた
め、負のディストーション及びコマ収差が大きく発生す
る。この条件（８）の下限を越えると、第６レンズ群の
最も第１物体側のレンズ面の正の屈折力が弱くなり過ぎ
るため、コマ収差が大きく発生する。なお、よりコマ収
差の発生を抑えるためには条件（８）の下限値を０．８
４として、０．８４＜ｄ6 ／ｒ6Fとすることが望まし
い。
【００２８】さらに、第５レンズ群は、これの最も第２
物体側において、第２物体側に凹面を向けた負レンズを
有することが望ましい。これによって、第５レンズ群中
の最も第２物体側に位置する負レンズにて、正のディス
トーション並びに負のペッツバール和を発生させること
が可能となるため、第５レンズ群中の正レンズにて発生
する負のディストーション並びに正のペッツバール和を
相殺することが可能となる。このとき、第５レンズ群中
の最も第２物体側に位置する負レンズにおける第１物体
側の曲率半径をｒ5F、第５レンズ群中の最も第２物体側
に位置する負レンズにおける第２物体側の曲率半径をｒ
5Rとするとき、以下の条件（９）を満足することがより
望ましい。 （９） ０．３０＜（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋ｒ5R）＜１．２８ この条件（９）の下限を越えると、ペッツバール和及び
コマ収差を共に補正することが困難となり、この条件
（９）の上限を越えると、高次のコマ収差が大きく発生
するため好ましくない。より高次のコマ収差の発生を防
ぐためには、条件（９）の上限値を０．９３とし、（ｒ
5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋ｒ5R）＜０．９３とすることが好
ましい。
【００２９】また、第５レンズ群は、最も第１物体側に
配置されて第２物体側に凸面を向けた第１正メニスカス
レンズと、その第１正メニスカスレンズの第２物体側に
配置されて第２物体側に凸面を向けた第２正メニスカス
レンズとを有し、第５レンズ群中の最も第１物体側に設
けられた第１正メニスカスレンズにおける第１物体側の
曲率半径をｒ51F 、第５レンズ群中の最も第１物体側に
設けられた第１正メニスカスレンズにおける第２物体側
の曲率半径をｒ51R 、第５レンズ群中の第１正メニスカ
スレンズの第２物体側に配置された第２正メニスカスレ
ンズにおける第１物体側の曲率半径をｒ52F 、第５レン
ズ群中の第１正メニスカスレンズの第２物体側に配置さ
れた第２正メニスカスレンズにおける第２物体側の曲率
半径をｒ 52R とするとき、以下の条件を満足することが
より望ましい。 （１０） １．２＜Ｑ52／Ｑ51＜８ 但し、Ｑ51＝（ｒ51F −ｒ51R ）／（ｒ51F ＋ｒ51R ） Ｑ52＝（ｒ52F −ｒ52R ）／（ｒ52F ＋ｒ52R ） である。
【００３０】この条件（１０）の上限及び下限を越える
と、第５レンズ群中において発生する球面収差やコマ収
差を補正することが困難となり、優れた結像性能を実現
することはできない。なお、よりバランス良く球面収差
を補正するためには、条件（１０）の下限値を３．３と
し、３．３＜Ｑ52／Ｑ51とすることが好ましい。さら
に、第５レンズ群中の最も第１物体側に設けられた第１
正メニスカスレンズにおける第１物体側の曲率半径をｒ
51F 、第５レンズ群中の最も第１物体側に設けられた第
１正メニスカスレンズにおける第２物体側の曲率半径を
ｒ51R とするとき、以下の条件を満足することがより一
層好ましい。 （１１） ０．０１＜Ｑ51＜０．８ 但し、Ｑ51＝（ｒ51F −ｒ51R ）／（ｒ51F ＋ｒ51R ）
である。
【００３１】この条件（１０）の上限及び下限を越える
と、第５レンズ群中において発生する球面収差を十分に
補正することが困難となるため好ましくない。なお、よ
り十分に球面収差を補正するためには、条件（１１）の
下限値を０．０９とし、０．０９＜Ｑ51とすることが好
ましく、より一層コマ収差をバランス良く補正するため
には、条件（１１）の上限値を０．２５とし、Ｑ51＜
０．２５とすることが好ましい。
【００３２】また、第２レンズ群中の前方レンズ及び後
方レンズは、第２レンズ群中の最も第１物体側に配置さ
れて第２物体側に凹面を向けた負の屈折力を持つ前方レ
ンズの焦点距離をｆ2F、第２レンズ群中の最も第２物体
側に配置されて第１物体側に凹面を向けた負の屈折力を
持つ後方レンズの焦点距離をｆ2Rとするとき、以下の条
件を満足することが好ましい。 （１２） ０≦ｆ2F／ｆ2R＜１８ 条件（１２）では、前記第２レンズ群中の後方レンズの
焦点距離ｆ2Rと第２レンズ群中の前方レンズの焦点距離
をｆ2Fとの最適な比率を規定している。この条件（１
２）の下限及び上限を越えると、第１レンズ群或いは第
３レンズ群の屈折力のバランスが崩れ、ディストーショ
ンを良好に補正すること或いはペッツバール和と非点収
差とを同時に良好に補正することが困難となる。
【００３３】なお、以上の各レンズ群において、十分な
る収差補正機能を果たさせるには、具体的には、以下の
構成とすることが望ましい。まず、第１レンズ群におい
て高次のディストーション並びに瞳の球面収差の発生を
抑える機能を持たせるには、この第１レンズ群は、少な
くとも２枚の正レンズを有することが好ましく、第３レ
ンズ群において球面収差及びペッツバール和の悪化を抑
える機能を持たせるには、この第３レンズ群は、少なく
とも３枚の正レンズを有することが好ましく、さらに
は、第４レンズ群においてペッツバール和を補正しつつ
コマ収差の発生を抑える機能を持たせるには、この第４
レンズ群は、少なくとも３枚の負レンズを有することが
好ましい。また、第５レンズ群において球面収差の発生
を抑える機能を持たせるには、この第５レンズ群は、少
なくとも７枚の正レンズを有することが好ましく、さら
に第５レンズ群において、負のディストーションとペッ
ツバール和とを補正する機能を持たせるには、この第５
レンズ群は、少なくとも１枚の負レンズとを有すること
が好ましい。また、第６レンズ群において球面収差を大
きく発生しないように第２物体上に集光させるには、こ
の第６レンズ群は、少なくとも１枚の正レンズを有する
ことが好ましい。
【００３４】第６レンズ群において、さらに負のディス
トーションの発生を抑える機能を持たせるには、この第
６レンズ群は、以下の条件（１３）を満足するレンズ面
を少なくとも１面有する３枚以下のレンズから構成され
ることが好ましい。 （１３） １／｜φＬ｜＜２０ 但し、φ：レンズ面の屈折力、 Ｌ：第１物体から第２物体までの物像間距離、 である。尚、ここで言う、レンズ面の屈折力とは、その
レンズ面の曲率半径をｒとし、そのレンズ面の第１物体
側の媒質の屈折率をｎ1 とし、そのレンズ面の第２物体
側の媒質をｎ2 とするとき、次式にて与えられるもので
ある。
【００３５】φ＝（ｎ2 −ｎ1 ）／ｒ ここで、この条件（１３）を満足するレンズ面を有する
レンズが４枚以上となる場合には、第２物体の近傍に配
置されるある程度の曲率を持つレンズ面が増すことにな
り、ディストーションの発生を招くため好ましくない。
次に、本発明による実施例について詳述する。本実施例
における投影光学系は、図１に示すスキャン型の露光装
置に応用したものである。
【００３６】まず、図１について簡単に説明すると、図
示の如く、投影光学系ＰＬの物体面には所定の回路パタ
ーンが形成された投影原版としてのレチクルＲ（第１物
体）が配置されており、投影光学系ＰＬの像面には、基
板としてのウェハＷ（第２物体）が配置されている。レ
チクルＲは露光時においてＸ方向へ移動するレチクルス
テージＲＳに保持され、ウェハＷは露光時においてレチ
クルステージＲＳとは反対の−Ｘ方向へ移動するウェハ
ステージＷＳに保持されている。また、レチクルＲの上
方には、図１に示す如く、Ｙ方向に長手方向を持ちＸ方
向に短手方向を持つスリット状（長方形状）の照明領域
ＩＦ1 をレチクルＲ上に形成し、そのレチクルＲを均一
照明するための照明光学装置ＩＳが配置されている。
【００３７】以上の構成により、照明光学装置ＩＳから
供給される光は、レチクルＲをスリット状に照明し、投
影光学系ＰＬの瞳位置（開口絞りＡＳ位置）には照明光
学装置ＩＳ中の光源の像が形成され、所謂ケーラー照明
がされる。そして、投影光学系ＰＬによって、ケーラー
照明されたレチクルＲのパターン像が、投影光学系ＰＬ
によりウェハＷ上に露光（転写）される。
【００３８】このとき、ウェハＷ上に露光されるレチク
ルＲのパターン像の領域ＥＦ1 は、図１に示す如く、Ｙ
方向に長手方向を持ちＸ方向に短手方向を持つスリット
状（長方形状）となっている。このため、投影光学系Ｐ
Ｌの投影倍率を１／Ｍ倍とすると、レチクルステージＲ
ＳとウェハステージＷＳとは、Ｍ：１の速度比のもと
で、Ｘ方向において互いに反対方向へ移動することによ
り、レチクルＲ全面のパターン像がウェハＷ上に転写さ
れる。
【００３９】さて、本実施例では、照明光学装置ＩＳ内
部に配置される光源として、248.4nm の露光波長λを持
つ光を供給するエキシマレーザとしたときの投影光学系
の例を示しており、図２〜図４には本発明による第１〜
第３実施例の投影光学系のレンズ構成図を示している。
図２〜図４に示す如く、各実施例の投影光学系は、第１
物体としてのレチクルＲ側より順に、正の屈折力を持つ
第１レンズ群G1と、負の屈折力を持つ第２レンズ群G
2と、正の屈折力を持つ第３レンズ群G3と、負の屈折力
を持つ第４レンズ群G4と、正の屈折力を持つ第５レンズ
群G5と、正の屈折力を持つ第６レンズ群G6とを有し、物
体側（レチクルＲ側）及び像側（ウェハＷ側）において
ほぼテレセントリックとなっており、縮小倍率を有する
ものである。
【００４０】図２〜図４に示す各実施例の投影光学系
は、それぞれ物像間距離（物体面から像面までの距離、
またはレチクルＲからウェハＷまでの距離）Ｌが1000、
像側の開口数ＮＡが0.6 、投影倍率Ｂが１／４、投影光
学系ＰＬのウェハＷ上における露光領域の直径又はウェ
ハＷ上におけるスリット状の露光領域の対角長が26.4で
ある。
【００４１】次に、第１実施例の具体的なレンズ構成を
説明すると、図２に示す如く、まず、第１レンズ群G
1は、物体側から順に、像側に凹面を向けた負レンズ
（負メニスカスレンズ）Ｌ11と、両凸形状の２枚の正レ
ンズＬ12及びＬ13と、物体側に凸面を向けた正レンズ
（両凸レンズ）Ｌ14とを有している。そして、第２レン
ズ群G2は、最も物体側に配置されて像側に凹面を向けた
負メニスカスレンズ（前方レンズ）Ｌ2Fと、最も像側に
配置されて物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズ
（後方レンズ）Ｌ2Rと、第２レンズ群G2内の最も物体側
に位置する負メニスカスレンズＬ2Fと第２レンズ群内の
最も像側に位置する負メニスカスレンズＬ2Rとの間に配
置されて負の屈折力を持つ中間レンズ群G2m とから構成
されている。
【００４２】その中間レンズ群G2m は、全て負レンズで
構成されており、具体的には、物体側から順に、像側に
凹面を向けた負レンズ（負メニスカスレンズ）Ｌm1と、
両凹形状の負レンズＬm2とから構成されている。また、
第３レンズ群G3は、物体側から順に、像側に凸面を向け
た正レンズ（正メニスカスレンズ）Ｌ31と、像側に凸面
を向けた正レンズ（両凸レンズ）Ｌ32と、両凸形状の２
枚の正レンズＬ33及びＬ34と、物体側に凸面を向けた正
レンズ（正メニスカスレンズ）Ｌ35とから構成されてお
り、第４レンズ群G4は、物体側から順に、像側に凹面を
向けた２枚の負レンズ（２枚の負メニスカスレンズ）Ｌ
41及びＬ42と、両凹形状の負レンズＬ43と、物体側に凹
面を向けた負レンズ（両凹レンズ）Ｌ44とから構成され
ている。
【００４３】第５レンズ群G5は、７枚の正レンズと２枚
の負レンズで構成されており、具体的には、物体側から
順に、像側に凸面を向けた２枚の正メニスカスレンズＬ
51及びＬ52と、両凸形状の２枚の正レンズＬ53及びＬ54
と、物体側に凹面を向けた負レンズ（負メニスカスレン
ズ）Ｌ55と、両凸形状の正レンズＬ56と、物体側に凸面
を向けた２枚の正レンズ（２枚の正メニスカスレンズ）
Ｌ57及びＬ58と、像側に凹面を向けた負レンズ（負メニ
スカスレンズ）Ｌ59とから構成され、第６レンズ群G
6は、物体側に凸面を向けた正レンズ（正メニスカスレ
ンズ）Ｌ61のみから構成される。
【００４４】ここで、第１実施例の第１レンズ群G1にお
いては、像側に凹面を向けた負レンズ（負メニスカスレ
ンズ）Ｌ11の像側のレンズ面と、両凸形状の正レンズＬ
12の物体側のレンズ面とが、同程度の曲率を有しかつ比
較的近接しているため、これらの２つのレンズ面が高次
のディストーションを補正している。本実施例では、第
２レンズ群G2の最も物体側に配置される負の屈折力を持
つ前方レンズＬ2Fは、像側に凹面を向けたメニスカス形
状で構成されているため、コマ収差の発生を軽減するこ
とができ、また、第２レンズ群G2の最も像側に配置され
る負の屈折力を持つ後方レンズＬ2Rは、物体側に凹面を
向けたメニスカス形状で構成されているため、前方レン
ズＬ2Fと共にコマ収差の発生を抑えることができる。さ
らに、第２レンズ群G2中の中間レンズ群Ｇ2mは、全て負
レンズで構成しているため、高次のディストーションの
発生を抑えることができる。
【００４５】また、第４レンズ群G4では、両凹形状の負
レンズＬ43の物体側に凹面を像側に向けた負レンズＬ41
を配置し、その両凹形状の負レンズＬ43の像側に物体側
に凹面を向けた負レンズＬ44を配置する構成であるた
め、コマ収差の発生を抑えつつペッツバール和を補正す
ることができる。第５レンズ群G5では、７枚の正レンズ
（Ｌ51、Ｌ52、Ｌ53、Ｌ54、Ｌ56、Ｌ57、Ｌ58）を含む
構成としているため、高ＮＡ化に伴って第５レンズ群G5
自身で発生する負の球面収差を抑えることができる。さ
らに、第５レンズ群G5では、物体側から第４番目の正レ
ンズＬ54が、物体側に凹面を向けた負レンズ（負メニス
カスレンズ）Ｌ55に対向する凸面を有し、かつ物体側に
凹面を向けた負レンズ（負メニスカスレンズ）Ｌ55と反
対側（物体側）のレンズ面も凸面である両凸形状のた
め、高ＮＡ化に伴う高次の球面収差の発生を抑えること
ができる。なお、第１実施例では、高ＮＡ化に伴う高次
の球面収差の発生を抑えるために、物体側から順に、両
凸形状の正レンズＬ54と、物体側に凹面を向けた負レン
ズ（負メニスカスレンズ）Ｌ55とを配置した例を示した
が、この順番とは逆に、物体側から順に、負レンズＬ55
の凹面を逆に向けて像側に凹面を向けた負レンズ（負メ
ニスカスレンズ）Ｌ55と両凸形状の正レンズＬ54とを配
置しても良い。
【００４６】なお、開口絞りＡＳは、第５レンズ群G5中
の物体側に位置する２枚の正メニスカスレンズ（Ｌ51、
Ｌ52）間に配置されているが、この配置に限ることな
く、基本的には、第５レンズ群G5中の最も物体側に位置
する正レンズＬ51よりも像側に配置されていれば良い。
このような開口絞りＡＳの配置によって、高ＮＡ化に伴
い第５レンズ群G5で発生しがちな高次の球面収差を抑え
ることができる。
【００４７】次に、図３を参照しながら、第２実施例の
投影光学系のレンズ構成について説明する。図３に示す
第２実施例の投影光学系の具体的なレンズ構成は、先に
述べた図２に示す第１実施例と類似したレンズ構成を有
するが、第２レンズ群G2、第４レンズ群G4及び第６レン
ズ群G6での構成が若干異なる。まず、第２レンズ群G2中
の中間レンズ群G2m は、第１実施例と比べて負レンズが
１枚増えて、３枚の負レンズで構成されており、具体的
には、物体側から順に、像側に凹面を向けた負レンズ
（負メニスカスレンズ）Ｌm1と、同じく像側に凹面を向
けた負レンズ（平凹レンズ）Ｌm2と、両凹形状の負レン
ズＬm3とから構成されている。この中間レンズ群G2m の
３枚の負レンズからなる構成は、中間レンズ群G2m にて
発生しがちなコマ収差を抑えるのにより有利となってい
る。
【００４８】また、第４レンズ群G4において、物体側か
ら第４番目の物体側に凹面を向けた負レンズＬ44を、第
１実施例では両凹レンズで構成していたが、第２実施例
では、この負レンズＬ44を平凹レンズで構成している。
また、第６レンズ群G6は、第１実施例と比べて正レンズ
が１枚増えて、２枚の正レンズで構成され、具体的に
は、物体側から順に、物体側に凸面を向けた２枚の正レ
ンズ（正メニスカスレンズ）Ｌ61及びＬ62で構成され
る。
【００４９】次に、図４を参照しながら、第３実施例の
投影光学系のレンズ構成について説明する。図４に示す
第３実施例の投影光学系の具体的なレンズ構成は、先に
述べた図２に示す第１実施例と類似したレンズ構成を有
するが、第１レンズ群G1と第２レンズ群G2との構成が若
干異なる。まず、第１レンズ群G1は、第１実施例と比べ
て正レンズが１枚減って、１枚の負レンズと２枚の正レ
ンズで構成されており、物体側から順に、像側に凹面を
向けた負レンズ（負メニスカスレンズ）Ｌ11と、両凸形
状の１枚の正レンズＬ12と、物体側に凸面を向けた正レ
ンズ（両凸レンズ）Ｌ13とを有している。
【００５０】第２レンズ群G2中の中間レンズ群G2m は、
第１実施例と比べて負レンズが１枚増えて、第２実施例
と同様に３枚の負レンズで構成されており、具体的に
は、物体側から順に、像側に凹面を向けた２枚の負レン
ズ（２枚の負メニスカスレンズ）Ｌm1及びＬm2と、両凹
形状の負レンズＬm3とから構成されている。この中間レ
ンズ群G2m の３枚からなる負レンズの構成は、中間レン
ズ群G2m にて発生しがちなコマ収差を抑えるのにより有
利となっている。さて、以下の表１乃至表１２におい
て、それぞれ本発明における各実施例の諸元の値並びに
条件対応数値を掲げる。
【００５１】但し、左端の数字は物体側（レチクル側）
からの順序を表し、ｒはレンズ面の曲率半径、ｄはレン
ズ面間隔、ｎは露光波長λが248.4nm における合成石英
ＳｉＯ2 の屈折率、ｄ0 は物体面（レチクル面）から第
１レンズ群G1の最も物体側（レチクル側）のレンズ面
（第１レンズ面）までの距離、Ｂｆは第６レンズ群G6の
最も像側（ウェハ側）のレンズ面から像面（ウェハ面）
までの距離、Ｂは投影光学系の投影倍率、ＮＡは投影光
学系の像側での開口数、Ｌは物体面（レチクル面）から
像面（ウェハ面）までの物像間距離、Ｉは物体面（レチ
クル面）から投影光学系全体の第１物体側焦点までの軸
上距離（但し、投影光学系全体の第１物体側焦点とは、
投影光学系の光軸に関する近軸領域での平行光を投影光
学系の第２物体側から入射させ、その近軸領域の光が投
影光学系を射出する時に、その射出光が光軸と交わる点
を意味する）、ｆ1 は第１レンズ群G1の焦点距離、ｆ2
は第２レンズ群G2の焦点距離、ｆ3 は第３レンズ群G3の
焦点距離、ｆ4 は第４レンズ群G4の焦点距離、ｆ5 は第
５レンズ群G5の焦点距離、ｆ6 は 第６レンズ群G6の焦
点距離、ｆ2Fは第２レンズ群中の最も物体側に配置され
て像側に凹面を向けた負の屈折力を持つ前方レンズの焦
点距離、ｆ2Rは第２レンズ群中の最も像側に配置されて
物体側に凹面を向けた負の屈折力を持つ後方レンズの焦
点距離、ｆ2mは第２レンズ群における前方レンズと後方
レンズとの間の中間レンズ群の合成焦点距離、ｒ51F は
第５レンズ群中の最も物体側に設けられた第１正メニス
カスレンズにおける物体側の曲率半径、ｒ51R は第５レ
ンズ群中の最も物体側に設けられた第１正メニスカスレ
ンズにおける像側の曲率半径、ｒ52F は第５レンズ群中
の第１正メニスカスレンズの像側に配置された第２正メ
ニスカスレンズにおける物体側の曲率半径、ｒ52R は第
５レンズ群中の第１正メニスカスレンズの像側に配置さ
れた第２正メニスカスレンズにおける像側の曲率半径、
ｒ5nは第５レンズ群内部に設けられた負メニスカスレン
ズにおける凹面の曲率半径、ｒ5pは第５レンズ群内部に
設けられた負メニスカスレンズの凹面に隣接して配置さ
れた正レンズにおける負メニスカスレンズの凹面と対向
する凸面の曲率半径、ｒ5Fは第５レンズ群中の最も像側
に設けられた負レンズにおける物体側の曲率半径、ｒ5R
は第５レンズ群の最も像側に配置される負レンズの像側
の曲率半径、ｒ6Fは第６レンズ群の最も物体側に配置さ
れるレンズの物体側の曲率半径、ｄ6 は第６レンズ群の
最も物体側のレンズ面から像面までの軸上距離、φは第
６レンズ群を構成するレンズのレンズ面の屈折力を表し
ている。但し、Ｑ51＝（ｒ51F −ｒ51R ）／（ｒ 51F ＋
ｒ51R ）、Ｑ52＝（ｒ52F −ｒ52R ）／（ｒ52F ＋ｒ
52R ）である。
【００５２】
【表１】 〔第１実施例〕 ｄ0 ＝ 95.002 Ｂ＝１／４ ＮＡ＝ 0.6 Ｂｆ＝ 20.930 Ｌ＝ 1000
【００５３】
【表２】 〔第１実施例の条件対応値〕 （１）ｆ1 ／ｆ3 ＝ 1.405 （２）ｆ2 ／ｆ4 ＝ 0.636 （３）ｆ5 ／Ｌ＝ 0.0816 （４）ｆ6 ／Ｌ＝ 0.101 （５）ｆ2m／ｆ2 ＝ 2.049 （６）Ｉ／Ｌ＝ 3.498 （７）（ｒ5p−ｒ5n）／（ｒ5p＋ｒ5n）＝ 0.300 （８）ｄ6 ／ｒ6F＝ 0.863 （９）（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋ｒ5R）＝ 0.924 （１０）Ｑ52／Ｑ51＝ 3.901 （１１）Ｑ51＝ 0.171 （１２）ｆ2F／ｆ2R＝ 1.829 （１３）１／（φ・Ｌ）＝ 0.0985 （正レンズＬ61の物
体側のレンズ面での値）
【００５４】
【表３】 〔第２実施例〕 ｄ0 ＝ 95.002 Ｂ＝１／４ ＮＡ＝ 0.6 Ｂｆ＝ 18.512 Ｌ＝ 1000
【００５５】
【表４】 〔第２実施例の条件対応値〕 （１）ｆ1 ／ｆ3 ＝ 1.492 （２）ｆ2 ／ｆ4 ＝ 0.714 （３）ｆ5 ／Ｌ＝ 0.0933 （４）ｆ6 ／Ｌ＝ 0.138 （５）ｆ2m／ｆ2 ＝ 1.883 （６）Ｉ／Ｌ＝ 3.609 （７）（ｒ5p−ｒ5n）／（ｒ5p＋ｒ5n）＝ 0.259 （８）ｄ6 ／ｒ6F＝ 0.900 （９）（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋ｒ5R）＝ 0.909 （１０）Ｑ52／Ｑ51＝ 4.094 （１１）Ｑ51＝ 0.177 （１２）ｆ2F／ｆ2R＝ 1.899 （１３）１／（φ・Ｌ）＝ 0.122（正レンズＬ61の物体
側のレンズ面での値） １／（φ・Ｌ）＝ 0.383（正レンズＬ62の物体側のレン
ズ面での値）
【００５６】
【表５】 〔第３実施例〕 ｄ0 ＝ 95.003 Ｂ＝１／４ ＮＡ＝ 0.6 Ｂｆ＝ 16.467 Ｌ＝ 1000
【００５７】
【表６】 〔第３実施例の条件対応値〕 （１）ｆ1 ／ｆ3 ＝ 1.851 （２）ｆ2 ／ｆ4 ＝ 0.844 （３）ｆ5 ／Ｌ＝ 0.0816 （４）ｆ6 ／Ｌ＝ 0.108 （５）ｆ2m／ｆ2 ＝ 1.953 （６）Ｉ／Ｌ＝ 3.560 （７）（ｒ5p−ｒ5n）／（ｒ5p＋ｒ5n）＝ 0.680 （８）ｄ6 ／ｒ6F＝ 0.846 （９）（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋ｒ5R）＝ 0.924 （１０）Ｑ52／Ｑ51＝ 3.320 （１１）Ｑ51＝ 0.201 （１２）ｆ2F／ｆ2R＝ 2.793 （１３）１／（φ・Ｌ）＝ 0.0966 （正レンズＬ61の物
体側のレンズ面での値） なお、上述の第１実施例において、正レンズＬ61の物体
側のレンズ面では１／｜φＬ｜＝ 0.0985 であり、条件
（１３）を満足している。第２実施例において、正レン
ズＬ61の物体側のレンズ面では１／｜φＬ｜＝ 0.122で
あり、正レンズＬ62の物体側のレンズ面では１／｜φＬ
｜＝ 0.383であり、条件（１３）を満足している。第３
実施例において、正レンズＬ61の物体側のレンズ面では
１／｜φＬ｜＝ 0.0966 であり、条件（１３）を満足し
ている。このように、各実施例の第６レンズ群G6は、条
件（１３）を満足するレンズ面を持つ３枚以下のレンズ
から構成されている。
【００５８】以上の各実施例の諸元の値より、各実施例
のものは、比較的広い露光領域と大きな開口数とを確保
しながら、物体側（レチクル側）及び像側（ウェハ側）
においてテレセントリックが達成されている事が理解で
きる。また、図５、図６及び図７はそれぞれ本発明によ
る第１乃至第３実施例における諸収差図を示している。
【００５９】ここで、各収差図において、ＮＡは投影光
学系の開口数、Ｙは像高を示しており、また、各非点収
差図中において、点線は子午的像面（メリジオナル像
面）、実線は球欠的像面（サジタル像面）を示してい
る。各収差図の比較より、各実施例とも諸収差がバラン
ス良く補正され、特にディストーションが像全体にわた
り殆ど零に近い状態まで極めて良好に補正されながら、
0.6 に達する大きな開口数を持つ高解像力な投影光学系
が実現されていることが理解される。
【００６０】なお、以上の各実施例では、248.4nm の光
を供給するＫｒＦエキシマレーザを光源として用いた例
を示したがこれに限ることなく、193nm の光を供給する
ＡｒＦエキシマレーザ等の極紫外光源や、ｇ線（436n
m)，ｉ線（365nm)の光を供給する水銀アークランプ、さ
らにはそれ以外の紫外領域の光を供給する光源を用いた
ものにも応用し得ることは言うまでもない。
【００６１】また、各実施例では、投影光学系を構成す
るレンズは、非貼合せであり全て単一の光学材料、すな
わち石英（ＳｉＯ2 ）から構成されている。ここで、上
述の各実施例では単一の光学材料で構成されているた
め、低コスト化を達成している。しかしながら、露光光
がある半値幅を持つ場合には、石英（ＳｉＯ2 ）と蛍石
（ＣａＦ2 ）との組み合わせ、あるいはその他の光学材
料の組み合わせにより、色収差を補正することも可能で
ある。さらに、露光光源が広帯域な場合には、複数種の
光学材料を組み合わせて色収差を補正することも可能で
ある。
【００６２】さらに、第１〜第３実施例の投影光学系
は、図１に示す如く、スキャン型の露光装置に用いられ
るものとして示したが、本発明の投影光学系は、これに
限ることなく、例えば、図８に示す如く、レチクルＲの
パターンをウエハＷ上に一括露光する一括露光方式の露
光装置に適用できることは言うまでもない。
【００６３】
【効果】以上のように、本発明による投影光学系によれ
ば、比較的広い露光領域を確保して、両側テレセントリ
ックな光学系としながら、諸収差がバランス良く補正さ
れ、しかも大きな開口数を持つ高解像力な投影光学系が
達成できる。特に、本発明の投影光学系では、ディスト
ーション（高次のディストーションを含む）が極めて良
好に補正されている。従って、本発明では、両側テレセ
ントリック性の達成のみならず、ディストーションも極
めて良好に補正されているため、像歪を非常に低減でき
る効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による投影光学系をスキャン型露光装置
に適用した際の概略的な構成を示す図である。
【図２】本発明による第１実施例のレンズ構成図であ
る。
【図３】本発明による第２実施例のレンズ構成図であ
る。
【図４】本発明による第３実施例のレンズ構成図であ
る。
【図５】本発明による第１実施例の諸収差図である。
【図６】本発明による第２実施例の諸収差図である。
【図７】本発明による第３実施例の諸収差図である。
【図８】本発明による投影光学系を一括露光方式の露光
装置に適用した際の概略的な構成を示す図である。
【符号の説明】
G1 … 第１レンズ群、 G2 … 第２レンズ群、 G3 … 第３レンズ群、 G4 … 第４レンズ群、 G5 … 第５レンズ群、 G6 … 第６レンズ群、 Ｌ2F … 第２レンズ群中の前方レンズ、 Ｌ2R … 第２レンズ群中の後方レンズ、 Ｇ2m … 第２レンズ群中の中間レンズ群、

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】第１物体の像を第２物体上に投影する投影
    光学系において、前記投影光学系は、前記第１物体側か
    ら順に、正の屈折力を持つ第１レンズ群と、負の屈折力
    を持つ第２レンズ群と、正の屈折力を持つ第３レンズ群
    と、負の屈折力を持つ第４レンズ群と、正の屈折力を持
    つ第５レンズ群と、正の屈折力を持つ第６レンズ群とを
    有し、 前記第２レンズ群は、最も第１物体側に配置されて前記
    第２物体側に凹面を向けた負の屈折力を持つ前方レンズ
    と、最も第２物体側に配置されて前記第１物体側に凹面
    を向けた負の屈折力を持つ後方レンズと、前記第２レン
    ズ群中の前方レンズと前記第２レンズ群中の後方レンズ
    との間に配置されかつ負レンズのみで構成される中間レ
    ンズ群を含み、 前記中間レンズ群は、少なくとも２枚の負レンズを有
    し、 前記第５レンズ群は、少なくとも７枚の正レンズを有
    し、 前記第１レンズ群の焦点距離をｆ1 とし、前記第２レン
    ズ群の焦点距離をｆ2、前記第３レンズ群の焦点距離を
    ｆ3 、前記第４レンズ群の焦点距離をｆ4 、前記第５レ
    ンズ群の焦点距離をｆ5 、前記第６レンズ群の焦点距離
    をｆ6 、前記第２レンズ群中の前記中間レンズ群の合成
    焦点距離をｆ2m、前記第１物体から前記第２物体までの
    距離をＬとするとき、以下の条件を満足することを特徴
    とする投影光学系。 （１） ０．１＜ｆ1 ／ｆ3 ＜１７ （２） ０．０５＜ｆ2 ／ｆ4 ＜７ （３） ０．０１＜ｆ5 ／Ｌ＜０．９ （４） ０．０２＜ｆ6 ／Ｌ＜１．６ （５） １．１＜ｆ2m／ｆ2 ＜９
  2. 【請求項２】前記第１物体から前記投影光学系全体の第
    １物体側焦点までの軸上距離をＩとし、前記第１物体か
    ら前記第２物体までの距離をＬとするとき、以下の条件
    を満足することを特徴とする請求項１記載の投影光学
    系。 （６） １．０＜Ｉ／Ｌ
  3. 【請求項３】前記第５レンズ群は、負メニスカスレンズ
    と、該負メニスカスレンズの凹面と隣接して配置されか
    つ該負メニスカスレンズの凹面と対向する凸面を持つ正
    レンズとを有し、前記第５レンズ群中の前記負メニスカ
    スレンズにおける凹面の曲率半径ｒ5nとし、前記第５レ
    ンズ群中の前記負メニスカスレンズの凹面に隣接して配
    置された正レンズにおける負メニスカスレンズの凹面と
    対向する凸面の曲率半径ｒ5pとするとき、以下の条件を
    満足することを特徴とする請求項１又は請求項２の何れ
    か一項記載の投影光学系。 （７） ０＜（ｒ5p−ｒ5n）／（ｒ5p＋ｒ5n）＜１
  4. 【請求項４】前記第５レンズ群は、前記正レンズと隣接
    して配置された前記負メニスカスレンズの凸面側、及び
    前記負メニスカスレンズと隣接して配置された前記正レ
    ンズの前記負メニスカスレンズとは反対側において、そ
    れぞれ少なくとも１枚以上の正レンズを有することを特
    徴とする請求項３記載の投影光学系。
  5. 【請求項５】前記第６レンズ群の最も第１物体側のレン
    ズ面の曲率半径をｒ 6Fとし、第６レンズ群の最も第１物
    体側のレンズ面から第２物体までの軸上距離をｄ6 とす
    るとき、以下の条件を満足することを特徴とする請求項
    １乃至請求項４の何れか一項記載の投影光学系。 （８） ０．５０＜ｄ6 ／ｒ6F＜１．５０
  6. 【請求項６】前記第５レンズ群は、最も第２物体側に配
    置されて第２物体側に凹面を向けた負レンズを有するこ
    とを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか一項記載
    の投影光学系。
  7. 【請求項７】前記第５レンズ群中の最も第２物体側に設
    けられた負レンズにおける第１物体側の曲率半径を
    ｒ5F、前記第５レンズ群中の最も第２物体側に設けられ
    た負レンズにおける第２物体側の曲率半径をｒ5Rとする
    とき、以下の条件を満足することを特徴とする請求項６
    記載の投影光学系。 （９） ０．３０＜（ｒ5F−ｒ5R）／（ｒ5F＋ｒ5R）＜１．２８
  8. 【請求項８】前記第５レンズ群は、最も第１物体側に配
    置されて第２物体側に凸面を向けた第１正メニスカスレ
    ンズと、該第１正メニスカスレンズの第２物体側に配置
    されて第２物体側に凸面を向けた第２正メニスカスレン
    ズとを有し、前記第５レンズ群中の最も第１物体側に設
    けられた前記第１正メニスカスレンズにおける第１物体
    側の曲率半径をｒ51F 、前記第５レンズ群中の最も第１
    物体側に設けられた前記第１正メニスカスレンズにおけ
    る第２物体側の曲率半径をｒ51 R 、前記第５レンズ群中
    の前記第１正メニスカスレンズの第２物体側に配置され
    た第２正メニスカスレンズにおける第１物体側の曲率半
    径をｒ52F 、前記第５レンズ群中の前記第１正メニスカ
    スレンズの第２物体側に配置された第２正メニスカスレ
    ンズにおける第２物体側の曲率半径をｒ52R とすると
    き、以下の条件を満足することを特徴とする請求項１乃
    至請求項７の何れか一項記載の投影光学系。 （１０） １．２＜Ｑ52／Ｑ51＜８ 但し、Ｑ51＝（ｒ51F −ｒ51R ）／（ｒ51F ＋ｒ51R ） Ｑ52＝（ｒ52F −ｒ52R ）／（ｒ52F ＋ｒ52R ） である。
  9. 【請求項９】前記第５レンズ群中の最も第１物体側に設
    けられた前記第１正メニスカスレンズにおける第１物体
    側の曲率半径をｒ51F 、前記第５レンズ群中の最も第１
    物体側に設けられた前記第１正メニスカスレンズにおけ
    る第２物体側の曲率半径をｒ51R とするとき、以下の条
    件を満足することを特徴とする請求項８記載の投影光学
    系。 （１１） ０．０１＜Ｑ51＜０．８ 但し、Ｑ51＝（ｒ51F −ｒ51R ）／（ｒ51F ＋ｒ51R ）
    である。
  10. 【請求項１０】前記第２レンズ群中の最も第１物体側に
    配置されて前記第２物体側に凹面を向けた負の屈折力を
    持つ前方レンズの焦点距離をｆ2F、前記第２レンズ群中
    の最も第２物体側に配置されて前記第１物体側に凹面を
    向けた負の屈折力を持つ後方レンズの焦点距離をｆ2Rと
    するとき、以下の条件を満足することを特徴とする請求
    項１乃至９の何れか一項記載の投影光学系。 （１２） ０≦ｆ2F／ｆ2R＜１８
  11. 【請求項１１】前記第１レンズ群は、少なくとも２枚の
    正レンズを有し、前記第３レンズ群は、少なくとも３枚
    の正レンズを有し、前記第４レンズ群は、少なくとも３
    枚の負レンズを有し、前記第５レンズ群は、少なくとも
    ７枚の正レンズ及び少なくとも１枚の負レンズとを有
    し、前記第６レンズ群は、少なくとも１枚の正レンズを
    有することを特徴とする請求項１乃至請求項１０の何れ
    か一項記載の投影光学系。
  12. 【請求項１２】前記第６レンズ群は、以下の条件を満足
    するレンズ面を少なくとも一面有する３枚以下のレンズ
    からなることを特徴とする請求項１乃至請求項１１の何
    れか一項記載の投影光学系。 （１３） １／｜φＬ｜＜２０ 但し、φ：前記レンズ面の屈折力、 Ｌ：前記第１物体と前記第２物体までの物像間距離、 である。
  13. 【請求項１３】前記投影光学系のレンズ面の曲率半径を
    ｒとし、前記投影光学系のレンズ面間隔をｄとし、屈折
    率をｎとするとき、以下の諸元を満足することを特徴と
    する請求項１乃至１２の何れか一項記載の投影光学系。
  14. 【請求項１４】前記投影光学系のレンズ面の曲率半径を
    ｒとし、前記投影光学系のレンズ面間隔をｄとし、屈折
    率をｎとするとき、以下の諸元を満足することを特徴と
    する請求項１乃至１２の何れか一項記載の投影光学系。
  15. 【請求項１５】前記投影光学系のレンズ面の曲率半径を
    ｒとし、前記投影光学系のレンズ面間隔をｄとし、屈折
    率をｎとするとき、以下の諸元を満足することを特徴と
    する請求項１乃至１２の何れか一項記載の投影光学系。
  16. 【請求項１６】前記投影光学系の倍率は、１／４である
    ことを特徴とする請求項１３乃至１５の何れか一項記載
    の投影光学系。
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DE69531153T DE69531153T3 (de) 1995-10-12 1995-11-17 Optisches Projektionssystem mit Belichtungsgerät
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6459534B1 (en) 1999-06-14 2002-10-01 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method
US6538821B2 (en) 1997-09-22 2003-03-25 Nikon Corporation Projection optical system
US6621555B1 (en) 1999-06-14 2003-09-16 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method
US6867922B1 (en) 1999-06-14 2005-03-15 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus using the same

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09311278A (ja) 1996-05-20 1997-12-02 Nikon Corp 反射屈折光学系
JP3395801B2 (ja) 1994-04-28 2003-04-14 株式会社ニコン 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法
USRE38438E1 (en) 1994-08-23 2004-02-24 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same
JPH08179204A (ja) 1994-11-10 1996-07-12 Nikon Corp 投影光学系及び投影露光装置
JP3500745B2 (ja) * 1994-12-14 2004-02-23 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
USRE38465E1 (en) 1994-12-14 2004-03-16 Nikon Corporation Exposure apparatus
JP3454390B2 (ja) 1995-01-06 2003-10-06 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JPH09270385A (ja) * 1996-03-29 1997-10-14 Nikon Corp 露光装置の環境制御装置
JP3750123B2 (ja) † 1996-04-25 2006-03-01 株式会社ニコン 投影光学系
JP3757536B2 (ja) * 1996-10-01 2006-03-22 株式会社ニコン 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びにデバイス製造方法
JPH116957A (ja) * 1997-04-25 1999-01-12 Nikon Corp 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法
JP3925576B2 (ja) 1997-07-24 2007-06-06 株式会社ニコン 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法
US6700645B1 (en) 1998-01-22 2004-03-02 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus and method
JPH11214293A (ja) 1998-01-22 1999-08-06 Nikon Corp 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法
US6243203B1 (en) 1998-04-24 2001-06-05 U.S. Philips Corporation Optical system with anti-reflection coating
JP2000039556A (ja) * 1998-07-23 2000-02-08 Fuji Photo Optical Co Ltd 投影レンズ
EP0989434B1 (en) 1998-07-29 2006-11-15 Carl Zeiss SMT AG Catadioptric optical system and exposure apparatus having the same
DE19855108A1 (de) 1998-11-30 2000-05-31 Zeiss Carl Fa Mikrolithographisches Reduktionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und -Verfahren
DE19855157A1 (de) 1998-11-30 2000-05-31 Zeiss Carl Fa Projektionsobjektiv
EP1139138A4 (en) * 1999-09-29 2006-03-08 Nikon Corp PROJECTION EXPOSURE PROCESS, DEVICE AND OPTICAL PROJECTION SYSTEM
US6710930B2 (en) 1999-12-01 2004-03-23 Nikon Corporation Illumination optical system and method of making exposure apparatus
TW448307B (en) * 1999-12-21 2001-08-01 Zeiss Stiftung Optical projection system
US6995930B2 (en) 1999-12-29 2006-02-07 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective with geometric beam splitting
JP2001318317A (ja) * 2000-02-29 2001-11-16 Olympus Optical Co Ltd 対物レンズ
WO2002052303A2 (de) * 2000-12-22 2002-07-04 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv
JP2002244034A (ja) 2001-02-21 2002-08-28 Nikon Corp 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
JP2002323652A (ja) 2001-02-23 2002-11-08 Nikon Corp 投影光学系，該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法
DE10143385C2 (de) * 2001-09-05 2003-07-17 Zeiss Carl Projektionsbelichtungsanlage
DE10151309A1 (de) * 2001-10-17 2003-05-08 Carl Zeiss Semiconductor Mfg S Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie für Lambda <200 nm
JP2005519332A (ja) * 2002-03-01 2005-06-30 カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー 屈折型投影対物レンズ
US7190527B2 (en) 2002-03-01 2007-03-13 Carl Zeiss Smt Ag Refractive projection objective
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151364A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
KR20180078354A (ko) 2004-05-17 2018-07-09 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
US9348112B2 (en) * 2012-09-05 2016-05-24 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Optical system

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3391974A (en) * 1965-01-15 1968-07-09 Bausch & Lomb Progressively powered singlets for aplanatic optical objective for spherical interferometers
US3737215A (en) * 1972-04-06 1973-06-05 Eastman Kodak Co Six element unit magnification lens
JPS5336326B2 (ja) * 1972-12-26 1978-10-02
JPS5820402B2 (ja) * 1975-10-14 1983-04-22 オリンパス光学工業株式会社 チヨウコウカイゾウリヨクシユクシヨウレンズ
JPS58147708A (ja) * 1982-02-26 1983-09-02 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 照明用光学装置
US4666273A (en) * 1983-10-05 1987-05-19 Nippon Kogaku K. K. Automatic magnification correcting system in a projection optical apparatus
GB2153543B (en) * 1983-12-28 1988-09-01 Canon Kk A projection exposure apparatus
US4811055A (en) * 1984-02-27 1989-03-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
US4772107A (en) * 1986-11-05 1988-09-20 The Perkin-Elmer Corporation Wide angle lens with improved flat field characteristics
JPH0812329B2 (ja) * 1986-11-06 1996-02-07 株式会社シグマ 投影レンズ
US4770477A (en) * 1986-12-04 1988-09-13 The Perkin-Elmer Corporation Lens usable in the ultraviolet
US5105075A (en) * 1988-09-19 1992-04-14 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
US5253110A (en) * 1988-12-22 1993-10-12 Nikon Corporation Illumination optical arrangement
SU1659955A1 (ru) * 1989-07-31 1991-06-30 Конструкторское бюро точного электронного машиностроения Проекционный объектив с увеличением - 1/5 @
US5197893A (en) * 1990-03-14 1993-03-30 Burndy Corporation Connector assembly for printed circuit boards
JPH03288112A (ja) * 1990-04-04 1991-12-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 色消しレンズ系
JP3126028B2 (ja) * 1990-07-06 2001-01-22 オリンパス光学工業株式会社 高倍率対物レンズ
JP3041939B2 (ja) * 1990-10-22 2000-05-15 株式会社ニコン 投影レンズ系
JP2830492B2 (ja) 1991-03-06 1998-12-02 株式会社ニコン 投影露光装置及び投影露光方法
US5506684A (en) * 1991-04-04 1996-04-09 Nikon Corporation Projection scanning exposure apparatus with synchronous mask/wafer alignment system
US5097291A (en) * 1991-04-22 1992-03-17 Nikon Corporation Energy amount control device
JPH04369209A (ja) * 1991-06-17 1992-12-22 Nikon Corp 露光用照明装置
JPH06501792A (ja) * 1991-08-23 1994-02-24 イーストマン・コダック・カンパニー マイクロリレーレンズとして使用するに適した高開口数の有限共役レンズ系及びそのレンズ系を用いたプリンタ
JP3298131B2 (ja) * 1991-10-24 2002-07-02 株式会社ニコン 縮小投影レンズ
US5333035A (en) * 1992-05-15 1994-07-26 Nikon Corporation Exposing method
US5591958A (en) * 1993-06-14 1997-01-07 Nikon Corporation Scanning exposure method and apparatus
JP3747951B2 (ja) * 1994-11-07 2006-02-22 株式会社ニコン 反射屈折光学系
JPH06302496A (ja) * 1993-04-13 1994-10-28 Nikon Corp 位置合わせ方法
US5534970A (en) * 1993-06-11 1996-07-09 Nikon Corporation Scanning exposure apparatus
JP3318060B2 (ja) * 1993-07-19 2002-08-26 オリンパス光学工業株式会社 液浸系顕微鏡対物レンズ
JP3360387B2 (ja) * 1993-11-15 2002-12-24 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
JP3396935B2 (ja) * 1993-11-15 2003-04-14 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6538821B2 (en) 1997-09-22 2003-03-25 Nikon Corporation Projection optical system
US6781766B2 (en) 1997-09-22 2004-08-24 Nikon Corporation Projection optical system
US6459534B1 (en) 1999-06-14 2002-10-01 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method
US6621555B1 (en) 1999-06-14 2003-09-16 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method
US6867922B1 (en) 1999-06-14 2005-03-15 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus using the same

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