JPH04369209A - 露光用照明装置 - Google Patents

露光用照明装置

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JPH04369209A
JPH04369209A JP3170374A JP17037491A JPH04369209A JP H04369209 A JPH04369209 A JP H04369209A JP 3170374 A JP3170374 A JP 3170374A JP 17037491 A JP17037491 A JP 17037491A JP H04369209 A JPH04369209 A JP H04369209A
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JP
Japan
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light source
optical system
light
variable
exposure
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JP3170374A
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English (en)
Inventor
Koji Mori
孝司 森
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造用の露光装
置に好適な照明装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、LSIや超LSI等極微細パター
ンからなる半導体素子の製造に縮小投影型露光装置が使
用されており、より一層微細なパターンを転写するため
に多大の努力が続けられている。このようなパターンの
微細化に対応するために、露光光の短波長化と共に、投
影光学系の開口数(以下、NAと略称する。)の増大が
図られており、NA=0.5を超える投影光学系も実現
されてきている。
【0003】そして、このように大きなNAを有する投
影光学系を用いた実際の投影露光においては、対象とす
るパターンの最小線幅等により、投影光学系のNAや照
明条件を最適化することが重要となっている。この照明
条件は、投影光学系のNAに対する照明光学系のNAの
比に相当する所謂σ値の調節によって決定され、所定の
パターンについての解像力とコントラストとの適切なバ
ランスを得るように両光学系のNAの比を調整すること
が、例えば特開昭59−155843号公報等により提
案されている。
【0004】ここで提案されている装置では、照明光学
系における2次光源像が形成されるフライアイレンズの
射出側の位置に開口部が可変な可変開口絞りを配置し、
この可変開口絞りの開口部の大きさを変化させて、光源
像の大きさを制御していた。すなわち、σ値は投影光学
系の瞳の大きさの比に対応するため、実際に形成される
光源像の遮光の度合を変化させることで、光源像の大き
さを可変とすることにより、実質的に照明光学系のNA
を変化させていた。これにより、投影露光するパターン
の微細化の程度に応じて、所定のパターンについての解
像力とコントラストとが最適状態となるように照明条件
の最適化、すなわちσ値の最適化を図っていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】一般に、この種の露光
用照明装置では、微細なパターンの露光焼付の際にスル
ープットを向上せさるため、被照射面(マスクあるいは
レチクル)上において、より高い照度の照明が要求され
る。ところが、上記の従来の装置においては、投影露光
するパターンの微細化の程度に応じて、所定のパターン
についての解像力とコントラストが最適状態となるよう
な照明条件としてのσ値の最適化を達成するために、可
変絞りの開口部の大きさを調整しているので、これを小
さくした場合には、2次光源像の周辺部が可変絞りによ
り遮光されて光量損失が生ずることとなる。
【0006】つまり、σ値を最大とした時(可変開口絞
りの口径を最大とした時)には、光源からの全ての光束
が照射されることとなるため、被照射面(マスクあるい
はレチクル)上で最大の照度が得られるものとなってい
る。しかし、σ値を前記最大値よりも小さくした時(可
変開口絞りの口径を小さくした時)には、可変絞りによ
り2次光源像からの光束の一部が遮断されるので、照射
光の総光量が減少して被照射面上での照度の低下が生じ
る。このため、適正露光に必要な露光時間が長くなり、
結果として露光作業のスループットの低下を免れないと
いう致命的な欠点があった。
【0007】本発明は上記の欠点を克服して、投影露光
するパターンに応じてσ値を変化させた際にも照射光を
効率良く被照射面へ導き、照射光の有効利用を図って従
来の光量損失によるスループットの低下を招くことなく
、より高い照度で均一に照射できる高性能な露光用照明
装置を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、請
求項1記載の発明に係る露光用照明装置では、平行光束
を供給する光源系と、該光源系からの平行光束から複数
の2次光源像を形成するオプティカルインテグレータと
、該オプティカルインテグレータにより形成された複数
の2次光源像からの光束を集光して被照射面を重畳的に
照明する照明光学系とを有し、前記光源系とオプティカ
ルインテグレータとの間の光路中に、前記2次光源像の
大きさを可変とするために焦点距離が可変に構成された
ズームレンズ系からなるアフォーカル変倍光学系を配置
したことを特徴とする。
【0009】さらに、請求項2に記載の発明では、請求
項1記載の露光用照明装置において、前記光源系が楕円
鏡と前記楕円鏡の第1焦点近傍に位置する光源とからな
る光源手段と、前記光源手段からの光束を平行光束に変
換する集光光学系とを備え、前記アフォーカル変倍光学
系の焦点距離の変化の前後において、前記楕円鏡の開口
部の像が前記集光光学系及びアフォーカル変倍光学系に
より、前記オプティカルインテグレータの光源側近傍に
結像されるように構成されている。
【0010】また、請求項3に記載の発明では、請求項
1又は2記載の露光用照明装置において、前記オプティ
カルインテグレータの被照射面側の焦点位置あるいはそ
の近傍に可変開口絞りを有し、前記アフォーカル変倍光
学系の焦点距離変化に連動して、この可変開口絞りの開
口部の大きさを変化させるように構成されている。
【0011】加えて、請求項4記載の発明では、請求項
1,2又は3記載の露光用照明装置において、前記集光
光学系と前記アフォーカル光学系との光路間に露光波長
を選択する波長選択手段を備えていることを特徴とする
【0012】
【作用】本発明は上記の様に構成されているため、以下
の作用を奏するものである。図5に、本発明の前提とな
る露光用照明光学系のレンズ構成及び光路図の概略を示
している。この図において、光源1からの光は、楕円鏡
2により反射集光され、コリメータレンズ3により平行
光束に変換される。この平行光束を供給する光源系は特
に限定されるものではなく、レーザ光源等を用いたもの
でも良い。
【0013】また、ここで平行光束とされた後の光路上
に配設されたフィルタ4により露光波長が選択される。 さらに、この平行光束がオプティカルインテグレータ6
に入射され、射出側Bに多数の2次光源が形成されると
共に、この位置には固定開口絞り7が設けられている。
【0014】そして、2次光源からの多数の光束は、コ
ンデンサーレンズ8により被照射面(レチクル)R上を
重畳的に照明し、均一な照度での照明がなされる。この
照明により、レチクルR上の所定パターンが投影対物レ
ンズ9によってウエハW上に転写される。このような照
明装置により投影対物レンズ9の瞳9a上に2次光源像
が形成され、所謂ケーラー照明が達成される。
【0015】ところで、従来はこの固定開口絞り7によ
りσ値の変更を行っていた。即ち、図4の照明装置にお
いて、2次光源が形成される位置に設けられた可変開口
絞り7の口径を点線で示す如く絞り込むことで、照明光
束の一部を遮光することにより上述の如きσ値を変更が
達成できるものであった。しかしながら、開口絞りによ
る遮光に伴い照射光量の損失を招くため、最適なσ値の
もとであっても総照射光量が減少しているので、効率の
良い照明を行なうことは不可能である。
【0016】そこで本発明では、σ値が投影対物レンズ
の瞳上に形成さる照明光学系の光源像の大きさと、投影
対物レンズの瞳の大きさに対応する光量損失を全く招く
ことなく照明光学系の光源像の大きさを変化させること
に着目した。まず、請求項1に記載の発明の作用を図3
に示す一例をもって詳しく説明する。
【0017】この図3に示す発明では、楕円鏡2と該楕
円鏡の第1焦点近傍に位置する光源1と、前記楕円鏡で
反射された光束を平行光束に変換する集光光学系3とを
備えた光源系と、前記平行光束を所望の光束径に変換す
るアフォーカル変倍光学系50と、該平行光束から複数
の2次光源Bを形成する為のオプティカルインテグレー
タ6と、該オプティカルインテグレータ6により形成さ
れた複数の2次光源からの光束を集光し、被照射面を重
畳的に照明するコンデンサーレンズを基本構成として有
する照明光学装置を考える。
【0018】本発明では、上記の照明装置において、ア
フォーカル変倍光学系50の焦点距離を可変とすること
により、被照射面Rの大きさと該被照射面R上の照度を
一定に保ちながら、前記複数の2次光源Bの大きさを可
変とするようにしたものである。即ち、図に示すように
アフォーカル変倍光学系50はズームレンズ系(51,
52,53)からなり、光源系から射出された平行光束
のの光路中に配置することで光束径を可変としている。
【0019】そして、ここで光束径が調整された平行光
束をオプティカルインテグレータ6に入射させているた
め、従来例のように開口絞り径に応じてオプティカルイ
ンテグレータ6に入射する光束径を可変とすることによ
り生ずる照明光の光量損失を全く招くことなく、2次光
源像の大きさを可変とすることが可能となった。
【0020】また、本発明では、平行光束を供給する光
源系としてレーザ光源で構成しても良い。これにより、
レーザ光源からの平行光束径は、アフォーカル変倍光学
系50にて変化される。その結果、オプティカルインテ
グレータ6により形成される複数の2次光源の大きさを
可変とすることができる。
【0021】とこで、図3に示す如き構成において、楕
円鏡2の開口部2aの像が形成される位置から離れた位
置にオプティカルインテグレータ6の入射側面A(オプ
ティカルイングレータ6の前側焦点)が配置されている
場合には、光源1(例えば水銀灯)は発散性の広がりを
持った光を発するために、その広がりに起因する光量損
失(図4の斜線部Cに示した領域)が生ずる。なお、平
行光束を供給する光源系としてレーザ光源で構成した場
合には、図4の斜線部Cに示した領域の如き広がりが無
いため光量損失の問題が生じない。
【0022】このため、請求項2記載の発明では、この
損失を回避するために、楕円鏡の開口部の像がオプティ
カルインテグレータ6の光源側近傍(オプティカルイン
テグレータ6の前側焦点近傍)に結像されるようにアフ
ォーカル変倍光学系が構成されている。これは、図4か
らも明らかなように、楕円鏡の開口部2aの像がオプテ
ィカルインテグレータ6の入射側面Aの近傍に形成され
ると、上記の光束の広がり(に基く斜線部C)が生ずる
事なくオプティカルインテグレータ6に入射するため、
前述の光量損失が回避できるものである。
【0023】これは、アフォーカル変倍光学系の変倍(
焦点距離の移動)に際して、この結像面の移動を極力小
さくすることで達成できるものであり、少なくとも変倍
動作を行った前後の露光作業状態において、上記結像状
態が保たれていれば良い。
【0024】このようにして、本発明では照明光の光量
損失を全く招くことなく、被照射領域の大きさを一定に
保ちながら、σ値を変化させることが可能となった。 尚、アフォーカル変倍光学系や光束の広がり等に基く2
次光源像の大きさの誤差(σ値の誤差となる。)を考慮
して、オプティカルインテグレータ6の射出側には、図
3に示すように可変開口絞りを設けることが好ましい。
【0025】請求項3記載の発明では、この点を考慮し
てσ値の変化に際し、アフォーカル変倍光学系の焦点距
離変化(平行光束の光束系変化)に連動して、この可変
開口絞りの大きさが変化するものとしている。
【0026】また、光源を単色光源ではなく白色光源(
水銀アーク灯等)を光源として使用する場合には、露光
波長の光を選択する波長選択手段を配設することが望ま
れ、この波長選択手段は照明光学系における平行光路中
に配置することが好ましい。ここで、本発明による照明
光学系中の平行光路は、集光光学系3とオプティカルイ
ンテグレータとの間に形成されている。
【0027】しかし、アフォーカル変倍光学系50とオ
プティカルインテグレータ6との平行光路中に波長選択
手段を配置すれば、図3に示す如く、アフォーカル変倍
光学系50による変倍により、楕円鏡の開口部2aの像
を形成する光線の開口数NA、即ち角度θが変化するた
め、波長選択手段自体の波長選択特性を変化してしまう
問題がある。
【0028】そこで、請求項4に記載の発明では、集光
光学系3とアフォーカル変倍光学系50との平行光路中
に波長選択手段を配置することにより、アフォーカル変
倍光学系50による変倍に際しても、波長選択手段自体
の波長選択特性を変化させることがなく、常に安定し、
かつ、所望のσ値のもとでの適正な露光が達成できるよ
うにしている。
【0029】
【実施例】本発明の実施例を図面を参照して説明する。 図1は本発明の一実施例に係る露光用照明装置の原理的
な光学構成を示す光路図であり、同(A)は変倍機能を
有するアフォーカル変倍光学系50aの最大倍率状態、
同(B)はアフォーカル変倍光学系50Aの最小倍率状
態を示している。尚、以下に示す図中において、図1と
同符号を付したものは、図1に示すものと同様な部材を
用いている。
【0030】この実施例では、光源1は楕円鏡2の第1
焦点位置に設けられており、例えば光源1として水銀灯
を用いている。ここから発せられた照明光を楕円鏡2で
反射集光させ、楕円鏡2の第2焦点位置Eで光源像が形
成され、コリメータレンズ3(集光光学系)でこの光源
像からの光を集光して平行光束としている。そして、こ
の平行光束の光路中に波長選択フィルタ4(波長選択手
段)を配置し、露光波長のみの単色光としている。
【0031】ここを通過した露光波長のみ平行光束は、
アフォーカルズーム変倍光学系50aを介して、並列的
に配置された複数の棒状レンズよりなるオプティカルイ
ンテグレータ6に入射し、これの射出面B(オプティカ
ルインデグレータ6の後側焦点位置)に複数の2次光源
が形成される。そして、ここを射出した複数の光束はコ
ンデンサレンズ8を介してレチクルRを重畳的に照射す
る。さらにその透過光が投影対物レンズ9を介してウエ
ハW上に、レチクルR上の所定のパターンを投影する。 尚、2次光源が形成される位置Bには可変開口絞り7、
投影対物レンズ9の瞳(入射瞳)位置Fには可変開口絞
り9aが設けられている。
【0032】ところで、アフォーカル変倍光学系50a
は、正の屈折力を有する第1レンズ群51a、負の屈折
力を有する第2レンズ群52a、正の屈折力を有する第
3レンズ群53aを有しており、アフォーカル変倍光学
系50aの変倍に際し、図1の(A),(B)に示すご
とく、第2レンズ群52aが被照射面側に移動し、第3
レンズ群53aが異なる移動量で被照射面側に移動する
。これらのレンズ群は、駆動手段13によりの移動され
、その移動量は制御手段12により制御されている。
【0033】この際に、アフォーカル変倍光学系50a
の倍率が決定(露光対象となるレチクルの線幅等から前
述したσ値が決定された段階)されれば、これに対応し
てアフォーカル変倍光学系50aの各レンズ群の配設位
置が定まる。このため、例えば使用する倍率(レチクル
)に応じた各レンズ群の配設位置を予め記憶させておけ
ば、入力手段11に使用するレチクルを選択して入力す
るだけで、アフォーカル変倍光学系50aの各レンズ群
の移動が迅速に終了する。
【0034】さらに、制御手段12では使用するレチク
ルR(若しくはそれに対応する最小線幅)に最適なσ値
を記憶させておき、アフォーカル変倍光学系50aの各
レンズ群の移動と共に、第1口径可変手段14並びに第
2口径可変手段15に制御信号を送り、開口絞り7およ
び可変開口絞り9aの開口の大きさを適時変更する。こ
れらの連動機構は,電気的または機械的な連動機構の何
れを設けても良い。
【0035】そして、この移動に伴いアフォーカル変倍
光学系50aの倍率が変更されるが、楕円鏡2の開口2
aの像が、常にオプティカルインテグレータ6の入射側
前面位置A近傍(もしくはオプティカルインテグレータ
6の前側焦点近傍)に形成されていることとなるため、
その移動の前後の状態において、光束径の異なる平行光
束が(光束の広がり無しで)オプティカルインテグレー
タ6に入射される。このため、実質的光源面(2次光源
の位置B)の位置は変わることなく、大きさのみが可変
となるよう構成されていると共に、総光量は変化しない
ものとなっている。
【0036】なお、図1に示した構成では、楕円鏡2に
より第2焦点位置に形成される光源像の位置Eと、実質
的な第2光源が形成されるオプティカルインテグレータ
6の射出側面の位置B(オプティカルインテグレータ6
の後側焦点位置)及び投影対物レンズ9の瞳(入射瞳)
位置Fとは互いに共役となるように構成されている。
【0037】これをより具体的に説明すれば、楕円鏡の
光源像位置Eは、コリメータレンズ3とアフォーカル変
倍光学系50aとオプティカルインテグレータ6の入射
側のレンズとに関して、オプティカルインテグレータ6
の射出側面の位置B(オプティカルインテグレータ6の
後側焦点位置)と共役である。そして、このオプティカ
ルインテグレータ6の射出側面の位置Bは、コンデンサ
ーレンズ8と投影対物レンズ8中の入射面から瞳面まで
のレンズ系に関して、投影対物レンズの瞳位置Fと共役
である。
【0038】この様な構成により、アフォーカル変倍光
学系による変倍に際してもケーラー照明が維持されるた
め、物体面(レチクルR、ウエハWょを均一に照明する
ことを可能としている。
【0039】また、図中のDに位置する楕円鏡の開口部
2aの位置Dと、楕円鏡2の開口部2aの像が形成され
る位置近傍に配置されるオプティカルインテグレータ6
の入射側面の位置A(オプティカルインテグレータ6の
前側焦点位置)とはほぼ共役であり、オプティカルイン
テグレータ6の入射側面の位置AとレチクルR及びウエ
ハWとは互いに共役となるように構成されている。
【0040】これをより具体的に説明すれば、楕円鏡の
開口部2aの位置Dは、コリメータレンズ3とアフォー
カル変倍光学系50aに関して、オプティカルインテグ
レータ6の入射側面A(オプティカルインテグレータ6
の入射側面Aは、オプティカルインテグレータ6の射出
側レンズとコンデンサーレンズ8とに関して、レチクル
R(被照射面)である。そして、レチクルRは、投影対
物レンズ9に関して、ウエハWと共役である。
【0041】この様な構成により、アフォーカル変倍光
学系による変倍に際しても光源1から供給される広がり
を持つ光による光量損失を招くことくなく、効率の良い
照明が達成されている。
【0042】このように、投影対物レンス9の物体面(
レチクルR、ウエハW)に対する照明光学系側での共役
関係と、投影対物レンズ9の瞳面に対する照明光学系側
での共役関係との2重共役関係とが同時に保たれている
ため、照明光を遮光することなく2次光源像の大きさを
コントロールしながら、より高い照明効率で、かつ、均
一な照度での照明が達成できる。
【0043】次に、変倍範囲が大きい時の別の実施例に
ついて図2を用いて説明する。但し、本実施例において
も実施例1と同様に2重共役関係が保たれた状態で構成
されている。この図に示すように、本実施例ではアフォ
ーカル変倍光学系50bの第1レンズ群51bが、第2
レンズ群52b、第3レンズ群53bとは異なり光源側
に移動し、その移動量も夫々異なる。
【0044】ここで、アフォーカル変倍光学系50bの
変倍動作に際し、上記実施例同様に楕円鏡2の開口2a
の像がオプティカルインテグレータ6の入射側面A(オ
プティカルインテグレータ6の前側焦点位置)近傍に結
像されるような相対位置関係を保っていることは言うま
でもない。さらに、本実施例ではアフォーカル変倍光学
系50bの個々のレンズ群の移動中においても、開口2
aの像がオプティカルインテグレータ6の入射側A近傍
で移動しない様に個々の移動量が制御されている。
【0045】これにより、変倍範囲が広く、又任意に倍
率を定めた場合であっても、前述の光源の広がりに起因
する光量損失を全く回避し、また実質的光源(2次光源
)の位置を変えることなく、大きさのみを可変にして、
常に同一光量で露光作業をすることができる。
【0046】以上のように、本発明の各実施例によれば
、オプティカルインテグレータ6により形成される実質
的光源B(2次光源)の位置および総光量を変えること
なく、大きさのみをコントロールできることとなる。 その結果、図1及び図2に示す如く、アフォーカル変倍
光学系50aの最大倍率状態から最小倍率状態への変倍
によって、2次光源像の大きさが小さくなり、照明光学
系の開口数がNA=sinθW からNA=sinθT
 へ変化して小さくなるる従って、所望のσ値に設定す
ることができる。
【0047】尚、言うまでもなく照明系の開口NAが小
さくなった場合でも、露光作業における総光量の損失は
生じない。また、変倍機能を有するアフォーカル変倍光
学系50を構成する各レンズ群は、3群以上の構成にし
ても良く、さらには、正、負の屈折力を有するレンズ群
を適宜組み合わせて構成しても良い。
【0048】このように、本発明の実施例では、高い照
明効率のもとで、適切なσ値に変更できるため、露光作
業のスループットの低下を招くことなく、焼付けるべき
パターンの最小線幅及び焦点深度に応じた最適な照明状
態での照明が達成できる。
【0049】なお、図1に示した入力手段11は、入力
された最小線幅のみの情報から適切な投影レンズ9のN
A及びσ値を算出する演算機能を備え、このσ値の算出
結果に基づいて制御手段12は投影レンズ9の可変開口
絞り9a及び照明光学系の可変開口絞り7の絞り量を算
出すると共に、アフォーカル変倍光学系50の変倍のた
めのレンズ群の移動量を算出し、駆動手段13を介して
アフォーカル変倍光学系50の移動量を制御すると共に
、投影レンズ9の可変開口絞り9aの口径および照明光
学系の可変開口絞り7の口径を制御する構成としても良
い。
【0050】また、例えばウエハ上での最小線幅等の情
報が盛り込まれたバーコード等のマークがレチクルRの
照射領域外に刻印されたレチクルRを用いた場合、この
マークを検知するマーク検知手段を適切な箇所に設け、
マーク検知手段により出力された情報に基づいて、制御
手段12が投影レンズ9の可変開口絞り9aの口径、照
明光学系の可変開口絞り7の口径及びアフォーカル変倍
光学系50の移動量を制御するようにしても良い。
【0051】さらに、開口部の口径の大きさが変化する
照明光学系の可変開口絞り7の代わりに、円形形状等を
有する基板上に互いに異なる口径を有する開口部を円周
方向に複数設け、σ値を変更する際に、この基板を回転
させるターレット式(レボルバー式)の可変開口絞りと
しても良い。
【0052】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、露
光対象となるレチクル(若しくはそれに対応する最小線
幅)の種類に応じて定まる最適なσ値の状態で、常に均
一な光量で露光作業を行うことができる。即ち、本発明
によれば使用するレチクルに応じてσ値を変化させた場
合にも、光量損失を招くことなく、高い照度で被照射面
を均一に照射することができるものとなっている。
【0053】このため、本発明により露光作業を行う場
合には、露光焼付けを行なうべき最小線幅、焦点深度に
応じて、最適なσ値の状態で常に同一の光量での露光作
業を行うことができるので、スループットの低下を招く
ことが全くない高性能な露光照明装置を達成することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る露光照明装置の概略構
成並びに光路を示す説明図であり、(A)は最大倍率の
状態、(B)は最小倍率の状態を示している。
【図2】本発明の他の実施例に係る露光照明装置の照明
系部分の概略構成並びに光路を示す説明図であり、(A
)は最大倍率の状態、(B)は最小倍率の状態を示して
いる。
【図3】本発明に係る露光照明装置の照明系における作
用を説明する説明図である。
【図4】図3と同様に本発明に係る露光照明装置の照明
系における作用を説明する説明図である。
【図5】従来の露光照明装置のレンズ構成及び光路を示
す説明図である。
【符号の説明】
1  光源 2  楕円鏡 3  コリメータレンズ 4  波長選択フィルタ 50  アフォーカルズーム系 6  オプティカルインテグレータ 7  可変開口絞り 8  コンデンサレンズ 9  投影対物レンズ 9a  可変開口絞り R  レチクル W  ウエハ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  平行光束を供給する光源系と、該光源
    系からの平行光束から複数の2次光源像を形成するオプ
    ティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレ
    ータにより形成された複数の2次光源像からの光束を集
    光して被照射面を重畳的に照明する照明光学系とを有し
    、前記光源系とオプティカルインテグレータとの間の光
    路中に、前記2次光源像の大きさを可変とするために焦
    点距離が可変に構成されたズームレンズ系からなるアフ
    ォーカル変倍光学系を配置したことを特徴とする露光用
    照明装置。
  2. 【請求項2】  前記光源系が、楕円鏡と前記楕円鏡の
    第1焦点近傍に位置する光源とからなる光源手段と、前
    記光源手段からの光束を平行光束に変換する集光光学系
    とを備え、前記アフォーカル変倍光学系の焦点距離の変
    化の前後において、前記楕円鏡の開口部の像が前記集光
    光学系及びアフォーカル変倍光学系により、前記オプテ
    ィカルインテグレータの光源側近傍に結像されるように
    構成されていることを特徴とする請求項1記載の露光用
    照明装置。
  3. 【請求項3】  前記オプティカルインテグレータの被
    照射面側の焦点位置あるいはその近傍に可変開口絞りを
    有し、前記変倍リレー光学系の焦点距離変化に連動して
    、この可変開口絞りの開口部の大きさを変化させるよう
    に構成されていることを特徴とする請求項1又は2記載
    の露光用照明装置。
  4. 【請求項4】  前記集光光学系と前記アフォーカル変
    倍光学系との光路間に、露光波長を選択する波長選択手
    段を備えていることを特徴とする請求項1,2又は3記
    載の露光用照明装置。
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