JPH10229044A - 露光装置および該露光装置を用いた半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
露光装置および該露光装置を用いた半導体デバイスの製造方法Info
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- JPH10229044A JPH10229044A JP9307953A JP30795397A JPH10229044A JP H10229044 A JPH10229044 A JP H10229044A JP 9307953 A JP9307953 A JP 9307953A JP 30795397 A JP30795397 A JP 30795397A JP H10229044 A JPH10229044 A JP H10229044A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光源装置と露光装置本体とを別の構造体で支
持しても被露光面における照度分布が各構造体の変形お
よび変位の影響を受けにくい構成の露光装置。 【解決手段】 第１の構造体（Ｂ）によって支持された
光源手段（１）と、第１の構造体と隔絶された第２の構
造体（Ａ）によって支持された照明光学系（３，４）
と、第１の構造体によって支持された第１集光系（２
ａ）と、第２の構造体によって支持された第２集光系
（２ｂ）とを備えている。照明光学系は、第２集光系を
介した光を入射させる入射側にマスク（５）と共役な所
定面を有し、光源手段の射出面と所定面とは第１集光系
および第２集光系により光学的にほぼ共役に構成されて
いる。
持しても被露光面における照度分布が各構造体の変形お
よび変位の影響を受けにくい構成の露光装置。 【解決手段】 第１の構造体（Ｂ）によって支持された
光源手段（１）と、第１の構造体と隔絶された第２の構
造体（Ａ）によって支持された照明光学系（３，４）
と、第１の構造体によって支持された第１集光系（２
ａ）と、第２の構造体によって支持された第２集光系
（２ｂ）とを備えている。照明光学系は、第２集光系を
介した光を入射させる入射側にマスク（５）と共役な所
定面を有し、光源手段の射出面と所定面とは第１集光系
および第２集光系により光学的にほぼ共役に構成されて
いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は露光装置および該露
光装置を用いた半導体デバイスの製造方法に関し、特に
エキシマレーザー光源を用いた露光装置に関する。
光装置を用いた半導体デバイスの製造方法に関し、特に
エキシマレーザー光源を用いた露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子や液晶表示素子等を製造する
ための露光装置は、全体的にかなり大きな装置であり、
設置のための所要床面積は大きい。一般に、露光装置で
は光源として水銀ランプやレーザー光源などが用いられ
るが、特にエキシマレーザー光源のようなレーザー光源
は、水銀ランプのような光源と比較してはるかに巨大な
発光装置である。したがって、特にエキシマレーザー光
源を用いる露光装置では、光源装置を露光装置本体とは
別配置にする必要がある。そこで、半導体製造装置のた
めのクリーンルームの有効活用の観点から、占有面積の
大きいエキシマレーザー光源をクリーンルームの階下に
あるクリーン度の低い部屋に設置する場合がある。
ための露光装置は、全体的にかなり大きな装置であり、
設置のための所要床面積は大きい。一般に、露光装置で
は光源として水銀ランプやレーザー光源などが用いられ
るが、特にエキシマレーザー光源のようなレーザー光源
は、水銀ランプのような光源と比較してはるかに巨大な
発光装置である。したがって、特にエキシマレーザー光
源を用いる露光装置では、光源装置を露光装置本体とは
別配置にする必要がある。そこで、半導体製造装置のた
めのクリーンルームの有効活用の観点から、占有面積の
大きいエキシマレーザー光源をクリーンルームの階下に
あるクリーン度の低い部屋に設置する場合がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】露光装置では、マスク
を重畳的に均一照明するためにオプティカルインテグレ
ータを用いており、このオプティカルインテグレータを
光源からの光で効率良く照明しなければならない。しか
しながら、上述のようにエキシマレーザー光源と露光装
置本体とが別の床版に設置されているような場合、床版
の変形および変位によりオプティカルインテグレータを
照明する光束が位置ずれし、その結果、被露光面である
感光性基板上において照度分布の均一性が悪化したり照
度が低下したりする。
を重畳的に均一照明するためにオプティカルインテグレ
ータを用いており、このオプティカルインテグレータを
光源からの光で効率良く照明しなければならない。しか
しながら、上述のようにエキシマレーザー光源と露光装
置本体とが別の床版に設置されているような場合、床版
の変形および変位によりオプティカルインテグレータを
照明する光束が位置ずれし、その結果、被露光面である
感光性基板上において照度分布の均一性が悪化したり照
度が低下したりする。
【０００４】また、エキシマレーザー光源と露光装置本
体とが同じ床版から間隔を隔てて設置されたグレーティ
ング上に固設され、床版とグレーティングとの間の空間
がパイプスペースとして利用されることがある。この場
合、床版よりも変形し易いグレーティングの変形などに
よりオプティカルインテグレータを照明する光束が位置
ずれして、被露光面である感光性基板上において照度分
布の均一性が悪化したり照度が低下したりすることが考
えられる。また、グレーティングを介して同じ床版によ
って支持されたエキシマレーザー光源と露光装置本体と
の間における空間の有効利用が望まれる。
体とが同じ床版から間隔を隔てて設置されたグレーティ
ング上に固設され、床版とグレーティングとの間の空間
がパイプスペースとして利用されることがある。この場
合、床版よりも変形し易いグレーティングの変形などに
よりオプティカルインテグレータを照明する光束が位置
ずれして、被露光面である感光性基板上において照度分
布の均一性が悪化したり照度が低下したりすることが考
えられる。また、グレーティングを介して同じ床版によ
って支持されたエキシマレーザー光源と露光装置本体と
の間における空間の有効利用が望まれる。
【０００５】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、光源装置と露光装置本体とを別の構造体で支
持しても、被露光面における照度分布が各構造体の変形
および変位の影響を受けにくい構成を有する露光装置お
よび該露光装置を用いた半導体デバイスの製造方法を提
供することを目的とする。また、光源装置と露光装置本
体とを例えばグレーティングを介して同じ構造体で支持
する場合においても、被露光面における照度分布がグレ
ーティングや構造体の変形などの影響を受けにくい構成
を有し、且つ光源装置と露光装置本体との間の空間を有
効利用することのできる露光装置および該露光装置を用
いた半導体デバイスの製造方法を提供することを目的と
する。
のであり、光源装置と露光装置本体とを別の構造体で支
持しても、被露光面における照度分布が各構造体の変形
および変位の影響を受けにくい構成を有する露光装置お
よび該露光装置を用いた半導体デバイスの製造方法を提
供することを目的とする。また、光源装置と露光装置本
体とを例えばグレーティングを介して同じ構造体で支持
する場合においても、被露光面における照度分布がグレ
ーティングや構造体の変形などの影響を受けにくい構成
を有し、且つ光源装置と露光装置本体との間の空間を有
効利用することのできる露光装置および該露光装置を用
いた半導体デバイスの製造方法を提供することを目的と
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、第１の構造体によって支持され
た光源手段と、前記第１の構造体と実質的に隔絶された
第２の構造体によって支持されて前記光源手段からの光
に基づいてマスクを照明する照明光学系と、前記第１の
構造体によって支持されて前記光源手段からの光を集光
するための第１集光系と、前記第２の構造体によって支
持されて前記第１集光系を介して一旦集光された光を前
記照明光学系へ導くための第２集光系とを備え、前記照
明光学系は、前記第２集光系を介した光を入射させる入
射側に前記マスクと共役な所定面を有し、前記光源手段
の射出面と前記所定面とは、前記第１集光系および前記
第２集光系により光学的にほぼ共役に構成され、前記マ
スクに形成された所定のパターンを感光性基板上に露光
することを特徴とする露光装置を提供する。
に、本発明においては、第１の構造体によって支持され
た光源手段と、前記第１の構造体と実質的に隔絶された
第２の構造体によって支持されて前記光源手段からの光
に基づいてマスクを照明する照明光学系と、前記第１の
構造体によって支持されて前記光源手段からの光を集光
するための第１集光系と、前記第２の構造体によって支
持されて前記第１集光系を介して一旦集光された光を前
記照明光学系へ導くための第２集光系とを備え、前記照
明光学系は、前記第２集光系を介した光を入射させる入
射側に前記マスクと共役な所定面を有し、前記光源手段
の射出面と前記所定面とは、前記第１集光系および前記
第２集光系により光学的にほぼ共役に構成され、前記マ
スクに形成された所定のパターンを感光性基板上に露光
することを特徴とする露光装置を提供する。
【０００７】本発明の好ましい態様によれば、前記照明
光学系は、前記第２集光系を介した光に基づいて多数の
光源像を形成するためのオプティカルインテグレータ
と、前記オプティカルインテグレータを介して形成され
た前記多数の光源像からの光を集光して前記マスクを重
畳的に照明するためのコンデンサー光学系とを有し、前
記オプティカルインテグレータは、その入射面が前記所
定面とほぼ一致するように配置されている。また、前記
光源手段は、エキシマレーザー光源を有し、前記第１集
光系は、前記エキシマレーザー光源からの平行光束を集
光し、前記第２集光系は、前記第１集光系を介して一旦
集光した光束を再び平行光束に変換することが好まし
い。
光学系は、前記第２集光系を介した光に基づいて多数の
光源像を形成するためのオプティカルインテグレータ
と、前記オプティカルインテグレータを介して形成され
た前記多数の光源像からの光を集光して前記マスクを重
畳的に照明するためのコンデンサー光学系とを有し、前
記オプティカルインテグレータは、その入射面が前記所
定面とほぼ一致するように配置されている。また、前記
光源手段は、エキシマレーザー光源を有し、前記第１集
光系は、前記エキシマレーザー光源からの平行光束を集
光し、前記第２集光系は、前記第１集光系を介して一旦
集光した光束を再び平行光束に変換することが好まし
い。
【０００８】また、本発明の別の局面によれば、光束を
供給するための光源手段と、該光源手段からの光束に基
づいて、所定のパターンが形成されたマスクを照明する
ための照明光学系とを備え、前記マスクのパターンを感
光性基板に投影する露光装置において、前記光源手段と
前記照明光学系との間の光路中には、前記光源手段から
の光束を集光するための第１集光系と、該第１集光系を
介して一旦集光された光束を前記照明光学系へ導くため
の第２集光系とが配置され、前記第１集光系を支持する
ための第１支持体と、該第１支持体とは独立な支持構造
を有し前記第２集光系を支持するための第２支持体とが
設けられていることを特徴とする露光装置を提供する。
供給するための光源手段と、該光源手段からの光束に基
づいて、所定のパターンが形成されたマスクを照明する
ための照明光学系とを備え、前記マスクのパターンを感
光性基板に投影する露光装置において、前記光源手段と
前記照明光学系との間の光路中には、前記光源手段から
の光束を集光するための第１集光系と、該第１集光系を
介して一旦集光された光束を前記照明光学系へ導くため
の第２集光系とが配置され、前記第１集光系を支持する
ための第１支持体と、該第１支持体とは独立な支持構造
を有し前記第２集光系を支持するための第２支持体とが
設けられていることを特徴とする露光装置を提供する。
【０００９】また、本発明のさらに別の局面によれば、
上述のような本発明の露光装置を用いて、前記マスクに
形成された所定のパターンを前記感光性基板上に露光す
る露光工程を含むことを特徴とする、半導体デバイスの
製造方法を提供する。
上述のような本発明の露光装置を用いて、前記マスクに
形成された所定のパターンを前記感光性基板上に露光す
る露光工程を含むことを特徴とする、半導体デバイスの
製造方法を提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の一形態によれば、第１集
光系および第２集光系が、たとえばエキシマレーザー光
源のような光源手段のレーザー射出面とオプティカルイ
ンテグレータの入射面とをほぼ共役に結ぶリレー光学系
を構成している。そして、リレー光学系を構成する一方
の第１集光系は、エキシマレーザー光源とともに第１の
構造体によって支持されている。また、リレー光学系を
構成する他方の第２集光系は、オプティカルインテグレ
ータとともに、第１の構造体と実質的に隔絶された第２
の構造体によって支持されている。したがって、実施例
において後述するように、光源装置と露光装置本体とを
別の構造体で支持しても、光源手段の光射出面とオプテ
ィカルインテグレータの入射面とをほぼ共役に結ぶリレ
ー光学系の作用により、被露光面における照度分布が各
構造体の変形および変位の影響を受けにくい構成を実現
することができる。その結果、本発明の露光装置では、
被露光面において均一な照度分布を得ることができ、安
定した良好な露光を行うことができる。したがって、本
発明の露光装置を用いることにより、良好な半導体デバ
イスを製造することができる。
光系および第２集光系が、たとえばエキシマレーザー光
源のような光源手段のレーザー射出面とオプティカルイ
ンテグレータの入射面とをほぼ共役に結ぶリレー光学系
を構成している。そして、リレー光学系を構成する一方
の第１集光系は、エキシマレーザー光源とともに第１の
構造体によって支持されている。また、リレー光学系を
構成する他方の第２集光系は、オプティカルインテグレ
ータとともに、第１の構造体と実質的に隔絶された第２
の構造体によって支持されている。したがって、実施例
において後述するように、光源装置と露光装置本体とを
別の構造体で支持しても、光源手段の光射出面とオプテ
ィカルインテグレータの入射面とをほぼ共役に結ぶリレ
ー光学系の作用により、被露光面における照度分布が各
構造体の変形および変位の影響を受けにくい構成を実現
することができる。その結果、本発明の露光装置では、
被露光面において均一な照度分布を得ることができ、安
定した良好な露光を行うことができる。したがって、本
発明の露光装置を用いることにより、良好な半導体デバ
イスを製造することができる。
【００１１】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説
明する。図１は、本発明の第１実施例にかかる露光装置
の構成を概略的に示す図である。図１の露光装置は、光
源手段として、たとえば２４８ｎｍまたは１９３ｎｍの
波長光を射出するエキシマレーザー光源１を備えてい
る。エキシマレーザー光源１から水平方向に供給された
平行光束は、折り曲げミラーＭ１によって鉛直方向に偏
向された後、第１集光レンズ２ａに入射する。第１集光
レンズ２ａを介して一旦集光した光束は、第２集光レン
ズ２ｂを介して再び平行光束となって、折り曲げミラー
Ｍ２に入射する。折り曲げミラーＭ２によって水平方向
に偏向された光束は、たとえば一対のシリンドリカルレ
ンズからなるビームエキスパンダ８に入射する。
明する。図１は、本発明の第１実施例にかかる露光装置
の構成を概略的に示す図である。図１の露光装置は、光
源手段として、たとえば２４８ｎｍまたは１９３ｎｍの
波長光を射出するエキシマレーザー光源１を備えてい
る。エキシマレーザー光源１から水平方向に供給された
平行光束は、折り曲げミラーＭ１によって鉛直方向に偏
向された後、第１集光レンズ２ａに入射する。第１集光
レンズ２ａを介して一旦集光した光束は、第２集光レン
ズ２ｂを介して再び平行光束となって、折り曲げミラー
Ｍ２に入射する。折り曲げミラーＭ２によって水平方向
に偏向された光束は、たとえば一対のシリンドリカルレ
ンズからなるビームエキスパンダ８に入射する。
【００１２】ビームエキスパンダ８では、後述のオプテ
ィカルインテグレータ３の入射面の形状と光束の形状と
がほぼ一致するように、光軸ＡＸに垂直な面内において
光束を二次元的に拡大する。ビームエキスパンダ８を介
して整形された光束は、たとえばフライアイレンズのよ
うなオプティカルインテグレータ３に入射する。オプテ
ィカルインテグレータ３に入射した光束は、オプティカ
ルインテグレータ３を構成する複数のレンズエレメント
により二次元的に分割され、その後側焦点位置に複数の
光源像を形成する。複数の光源像からの光束は、コンデ
ンサーレンズ４に入射する。
ィカルインテグレータ３の入射面の形状と光束の形状と
がほぼ一致するように、光軸ＡＸに垂直な面内において
光束を二次元的に拡大する。ビームエキスパンダ８を介
して整形された光束は、たとえばフライアイレンズのよ
うなオプティカルインテグレータ３に入射する。オプテ
ィカルインテグレータ３に入射した光束は、オプティカ
ルインテグレータ３を構成する複数のレンズエレメント
により二次元的に分割され、その後側焦点位置に複数の
光源像を形成する。複数の光源像からの光束は、コンデ
ンサーレンズ４に入射する。
【００１３】コンデンサーレンズ４により集光された光
束は、折曲げミラーＭ３で反射された後、所定のパター
ンが形成されたマスク５を重畳的に照明する。マスク５
を透過した光束は、投影光学系６を介して、感光性基板
であるウエハ７上にマスク５のパターン像を形成する。
なお、マスク５は、投影光学系６の光軸に対して垂直な
平面内においてマスクステージ（不図示）上に載置され
ている。一方、ウエハ７は、投影光学系６の光軸に対し
て垂直な平面内において二次元的に移動可能なウエハス
テージ（不図示）上に載置されている。
束は、折曲げミラーＭ３で反射された後、所定のパター
ンが形成されたマスク５を重畳的に照明する。マスク５
を透過した光束は、投影光学系６を介して、感光性基板
であるウエハ７上にマスク５のパターン像を形成する。
なお、マスク５は、投影光学系６の光軸に対して垂直な
平面内においてマスクステージ（不図示）上に載置され
ている。一方、ウエハ７は、投影光学系６の光軸に対し
て垂直な平面内において二次元的に移動可能なウエハス
テージ（不図示）上に載置されている。
【００１４】こうして、投影光学系６に対してウエハス
テージをひいてはウエハ７を移動させながら露光を行う
ことにより、ウエハ７上の各露光領域にマスク６のパタ
ーンを逐次転写することができる。なお、第１実施例で
は、折り曲げミラーＭ１および第１集光レンズ２ａは、
支持体１１によって支持されている。そして、エキシマ
レーザー光源１および支持体１１（ひいては折り曲げミ
ラーＭ１および第１集光レンズ２ａ）は、第１の構造体
である下階の床版Ｂによって支持されている。
テージをひいてはウエハ７を移動させながら露光を行う
ことにより、ウエハ７上の各露光領域にマスク６のパタ
ーンを逐次転写することができる。なお、第１実施例で
は、折り曲げミラーＭ１および第１集光レンズ２ａは、
支持体１１によって支持されている。そして、エキシマ
レーザー光源１および支持体１１（ひいては折り曲げミ
ラーＭ１および第１集光レンズ２ａ）は、第１の構造体
である下階の床版Ｂによって支持されている。
【００１５】一方、折り曲げミラーＭ２はオプティカル
インテグレータ３を含む露光装置本体１０によって支持
され、第２集光レンズ２ｂは支持体１２によって支持さ
れている。そして、露光装置本体１０および支持体１２
（ひいては第２集光レンズ２ｂ）は、第１の構造体と実
質的に隔絶された第２の構造体である上階の床版Ａによ
って支持されている。また、図１において破線で示すよ
うに、エキシマレーザー光源１と支持体１１との間、支
持体１１と支持体１２との間、および露光装置本体１０
と支持体１２との間には、伝搬する光が空気ゆらぎの影
響を直接受けることのないように、たとえばフレキシブ
ルなパイプ部材が設けられている。なお、後述の図３お
よび図４においては、この種のパイプ部材の図示を省略
している。
インテグレータ３を含む露光装置本体１０によって支持
され、第２集光レンズ２ｂは支持体１２によって支持さ
れている。そして、露光装置本体１０および支持体１２
（ひいては第２集光レンズ２ｂ）は、第１の構造体と実
質的に隔絶された第２の構造体である上階の床版Ａによ
って支持されている。また、図１において破線で示すよ
うに、エキシマレーザー光源１と支持体１１との間、支
持体１１と支持体１２との間、および露光装置本体１０
と支持体１２との間には、伝搬する光が空気ゆらぎの影
響を直接受けることのないように、たとえばフレキシブ
ルなパイプ部材が設けられている。なお、後述の図３お
よび図４においては、この種のパイプ部材の図示を省略
している。
【００１６】図２は、図１のエキシマレーザー光源１か
らオプティカルインテグレータ３までの展開光路図であ
って、本発明の作用を説明する図である。図２では、折
り曲げミラーＭ１、Ｍ２およびビームエキスパンダ８の
図示を省略している。図２（ａ）において、エキシマレ
ーザー光源１から光軸ＡＸに沿って射出された平行光束
（図中実線で示す）は、焦点距離ｆ１を有する第１集光
レンズ２ａに入射する。第１集光レンズ２ａを介して光
軸ＡＸ上の点Ｆに一旦集光した光束は、焦点距離ｆ２を
有する第２集光レンズ２ｂを介して再び平行光束とな
り、オプティカルインテグレータ３に入射する。
らオプティカルインテグレータ３までの展開光路図であ
って、本発明の作用を説明する図である。図２では、折
り曲げミラーＭ１、Ｍ２およびビームエキスパンダ８の
図示を省略している。図２（ａ）において、エキシマレ
ーザー光源１から光軸ＡＸに沿って射出された平行光束
（図中実線で示す）は、焦点距離ｆ１を有する第１集光
レンズ２ａに入射する。第１集光レンズ２ａを介して光
軸ＡＸ上の点Ｆに一旦集光した光束は、焦点距離ｆ２を
有する第２集光レンズ２ｂを介して再び平行光束とな
り、オプティカルインテグレータ３に入射する。
【００１７】なお、第１集光レンズ２ａの前側焦点面に
エキシマレーザー光源１のレーザー射出面が配置され、
第２集光レンズ２ｂの後側焦点面にオプティカルインテ
グレータ３の入射面が配置されている。すなわち、第１
集光レンズ２ａおよび第２集光レンズ２ｂは、エキシマ
レーザー光源１のレーザー射出面とオプティカルインテ
グレータ３の入射面とを光学的に共役に結んでいる。し
たがって、エキシマレーザー光源１が光軸ＡＸに対して
傾いて設置された場合でも、エキシマレーザー光源１か
ら光軸ＡＸに対して傾いて射出された平行光束（図中破
線で示す）は、角度ずれを起こしても位置ずれすること
なくオプティカルインテグレータ３の入射面に達するこ
とになる。
エキシマレーザー光源１のレーザー射出面が配置され、
第２集光レンズ２ｂの後側焦点面にオプティカルインテ
グレータ３の入射面が配置されている。すなわち、第１
集光レンズ２ａおよび第２集光レンズ２ｂは、エキシマ
レーザー光源１のレーザー射出面とオプティカルインテ
グレータ３の入射面とを光学的に共役に結んでいる。し
たがって、エキシマレーザー光源１が光軸ＡＸに対して
傾いて設置された場合でも、エキシマレーザー光源１か
ら光軸ＡＸに対して傾いて射出された平行光束（図中破
線で示す）は、角度ずれを起こしても位置ずれすること
なくオプティカルインテグレータ３の入射面に達するこ
とになる。
【００１８】第１実施例では、上述したように、エキシ
マレーザー光源１および第１集光レンズ２ａが下階の床
版Ｂによって支持され、第２集光レンズ２ｂおよびオプ
ティカルインテグレータ３が上階の床版Ａによって支持
されている。したがって、図３に示すように、下階の床
版Ｂに対して上階の床版Ａが水平方向に所定量ｄだけ変
位すると、第１集光レンズ２ａの光軸ＡＸ１と第２集光
レンズ２ｂの光軸ＡＸ２とが所定量ｄだけ水平方向にず
れてしまう。すなわち、図３の状態に対応する展開光路
図である図２（ｂ）において、第１集光レンズ２ａの光
軸ＡＸ１と第２集光レンズ２ｂの光軸ＡＸ２とが所定量
ｄだけ図中鉛直方向にずれてしまう。しかしながら、図
２（ａ）において破線で示す光束のように、図２（ｂ）
において第２集光レンズ２ｂを介した光束は、θ＝ｄ／
ｆ２の角度ずれが発生するが位置ずれすることなくオプ
ティカルインテグレータ３の入射面に達する。実際の設
計では、床版の相対変位量ｄに比べて第２集光レンズ２
ｂの焦点距離ｆ２がはるかに大きくなるため、角度ずれ
量θが被露光面での照度分布に与える影響は無視し得る
程度に小さい。
マレーザー光源１および第１集光レンズ２ａが下階の床
版Ｂによって支持され、第２集光レンズ２ｂおよびオプ
ティカルインテグレータ３が上階の床版Ａによって支持
されている。したがって、図３に示すように、下階の床
版Ｂに対して上階の床版Ａが水平方向に所定量ｄだけ変
位すると、第１集光レンズ２ａの光軸ＡＸ１と第２集光
レンズ２ｂの光軸ＡＸ２とが所定量ｄだけ水平方向にず
れてしまう。すなわち、図３の状態に対応する展開光路
図である図２（ｂ）において、第１集光レンズ２ａの光
軸ＡＸ１と第２集光レンズ２ｂの光軸ＡＸ２とが所定量
ｄだけ図中鉛直方向にずれてしまう。しかしながら、図
２（ａ）において破線で示す光束のように、図２（ｂ）
において第２集光レンズ２ｂを介した光束は、θ＝ｄ／
ｆ２の角度ずれが発生するが位置ずれすることなくオプ
ティカルインテグレータ３の入射面に達する。実際の設
計では、床版の相対変位量ｄに比べて第２集光レンズ２
ｂの焦点距離ｆ２がはるかに大きくなるため、角度ずれ
量θが被露光面での照度分布に与える影響は無視し得る
程度に小さい。
【００１９】一方、図４に示すように、露光装置本体の
重量などにより上階の床版Ａが下側に凸面を向けるよう
に変形すると、第１集光レンズ２ａの光軸ＡＸ１に対し
て第２集光レンズ２ｂの光軸ＡＸ２が所定角αだけ傾い
てしまう。すなわち、図４の状態に対応する展開光路図
である図２（ｃ）において、第１集光レンズ２ａの光軸
ＡＸ１に対して第２集光レンズ２ｂの光軸ＡＸ２が所定
角αだけ傾いてしまう。しかしながら、この場合、図２
（ｃ）に示すように、光軸ＡＸ１に対して相対的に僅か
に傾いた第２集光レンズ２ｂを介した光束は、角度ずれ
および位置ずれをほとんど起こすことなく、オプティカ
ルインテグレータ３の入射面に達する。したがって、第
２集光レンズ２ｂの光軸ＡＸ２の傾きが被露光面での照
度分布に与える影響は無視し得る程度に小さい。なお、
実際には、床版Ｂに対して床版Ａが水平方向に相対的に
僅かに変位するとともに床版Ｂに対して床版Ａが相対的
に僅かに傾くが、図２（ｂ）の状態と図２（ｃ）の状態
とから類推して、被露光面での照度分布に与える影響は
無視し得る程度に小さいことがわかる。
重量などにより上階の床版Ａが下側に凸面を向けるよう
に変形すると、第１集光レンズ２ａの光軸ＡＸ１に対し
て第２集光レンズ２ｂの光軸ＡＸ２が所定角αだけ傾い
てしまう。すなわち、図４の状態に対応する展開光路図
である図２（ｃ）において、第１集光レンズ２ａの光軸
ＡＸ１に対して第２集光レンズ２ｂの光軸ＡＸ２が所定
角αだけ傾いてしまう。しかしながら、この場合、図２
（ｃ）に示すように、光軸ＡＸ１に対して相対的に僅か
に傾いた第２集光レンズ２ｂを介した光束は、角度ずれ
および位置ずれをほとんど起こすことなく、オプティカ
ルインテグレータ３の入射面に達する。したがって、第
２集光レンズ２ｂの光軸ＡＸ２の傾きが被露光面での照
度分布に与える影響は無視し得る程度に小さい。なお、
実際には、床版Ｂに対して床版Ａが水平方向に相対的に
僅かに変位するとともに床版Ｂに対して床版Ａが相対的
に僅かに傾くが、図２（ｂ）の状態と図２（ｃ）の状態
とから類推して、被露光面での照度分布に与える影響は
無視し得る程度に小さいことがわかる。
【００２０】以上のように、第１実施例では、第１集光
レンズ２ａおよび第２集光レンズ２ｂが、エキシマレー
ザー光源１のレーザー射出面とオプティカルインテグレ
ータ３の入射面とを共役に結ぶリレーレンズ系を構成し
ている。そして、リレーレンズ系を構成する一方の第１
集光レンズ２ａがエキシマレーザー光源１と一体的に床
版Ｂによって支持され、リレーレンズ系を構成する他方
の第２集光レンズ２ｂがオプティカルインテグレータ３
と一体的に床版Ｂによって支持されている。したがっ
て、上述のように、床版Ｂに対して床版Ａが水平方向に
相対的に僅かに変位するとともに床版Ｂに対して床版Ａ
が相対的に僅かに傾いても、エキシマレーザー光源１の
レーザー射出面とオプティカルインテグレータ３の入射
面とを共役に結ぶリレーレンズ系の作用により、被露光
面であるウエハ８上において均一な照度分布を得ること
ができる。その結果、第１実施例の露光装置では、安定
した良好な露光を行うことができる。
レンズ２ａおよび第２集光レンズ２ｂが、エキシマレー
ザー光源１のレーザー射出面とオプティカルインテグレ
ータ３の入射面とを共役に結ぶリレーレンズ系を構成し
ている。そして、リレーレンズ系を構成する一方の第１
集光レンズ２ａがエキシマレーザー光源１と一体的に床
版Ｂによって支持され、リレーレンズ系を構成する他方
の第２集光レンズ２ｂがオプティカルインテグレータ３
と一体的に床版Ｂによって支持されている。したがっ
て、上述のように、床版Ｂに対して床版Ａが水平方向に
相対的に僅かに変位するとともに床版Ｂに対して床版Ａ
が相対的に僅かに傾いても、エキシマレーザー光源１の
レーザー射出面とオプティカルインテグレータ３の入射
面とを共役に結ぶリレーレンズ系の作用により、被露光
面であるウエハ８上において均一な照度分布を得ること
ができる。その結果、第１実施例の露光装置では、安定
した良好な露光を行うことができる。
【００２１】図５は、本発明の第２実施例にかかる露光
装置の構成を概略的に示す図である。第２実施例は、第
１実施例と類似の構成を有する。しかしながら、第２実
施例では、一部の構成要素の配置および支持形態が第１
実施例とは相違している。すなわち、第２実施例では、
エキシマレーザー光源１から水平左方向に供給された平
行光束は、折り曲げミラーＭ１によって鉛直上方に偏向
された後、折り曲げミラーＭ２に入射する。折り曲げミ
ラーＭ２によって水平左方向に偏向された光束は、第１
集光レンズ２ａに入射する。
装置の構成を概略的に示す図である。第２実施例は、第
１実施例と類似の構成を有する。しかしながら、第２実
施例では、一部の構成要素の配置および支持形態が第１
実施例とは相違している。すなわち、第２実施例では、
エキシマレーザー光源１から水平左方向に供給された平
行光束は、折り曲げミラーＭ１によって鉛直上方に偏向
された後、折り曲げミラーＭ２に入射する。折り曲げミ
ラーＭ２によって水平左方向に偏向された光束は、第１
集光レンズ２ａに入射する。
【００２２】第１集光レンズ２ａを介して一旦集光した
光束は、第２集光レンズ２ｂを介して再び平行光束とな
って、露光装置本体１０内のビームエキスパンダ８に入
射する。なお、折り曲げミラーＭ１、折り曲げミラーＭ
２および第１集光レンズ２ａは支持体２０によって支持
され、第２集光レンズ２ｂは支持体２０とは独立な支持
構造を有する支持体２１によって支持されている。ま
た、図５において破線で示すように、エキシマレーザー
光源１と支持体２０との間、支持体２０と支持体２１と
の間、および露光装置本体１０と支持体２１との間に
は、伝搬する光が空気ゆらぎの影響を直接受けることの
ないように、フレキシブルなパイプ部材が設けられてい
る。
光束は、第２集光レンズ２ｂを介して再び平行光束とな
って、露光装置本体１０内のビームエキスパンダ８に入
射する。なお、折り曲げミラーＭ１、折り曲げミラーＭ
２および第１集光レンズ２ａは支持体２０によって支持
され、第２集光レンズ２ｂは支持体２０とは独立な支持
構造を有する支持体２１によって支持されている。ま
た、図５において破線で示すように、エキシマレーザー
光源１と支持体２０との間、支持体２０と支持体２１と
の間、および露光装置本体１０と支持体２１との間に
は、伝搬する光が空気ゆらぎの影響を直接受けることの
ないように、フレキシブルなパイプ部材が設けられてい
る。
【００２３】第２実施例では、図５に示すように、エキ
シマレーザー光源１、支持体２０（ひいては折り曲げミ
ラーＭ１、折り曲げミラーＭ２および第１集光レンズ２
ａ）、支持体２１（ひいては第２集光レンズ２ｂ）、お
よび露光装置本体１０が、たとえばグレーティングＧの
ような構造体によって支持されている。また、グレーテ
ィングＧは、床版Ａによって支持されている。したがっ
て、換言すると、エキシマレーザー光源１、第１集光レ
ンズ２ａ、第２集光レンズ２ｂおよび露光装置本体１０
は、グレーティングＧを介して同一の構造体すなわち床
版Ａによって支持されている。なお、グレーティングＧ
と床版Ａとの間の空間は、パイプスペースとして利用さ
れている。
シマレーザー光源１、支持体２０（ひいては折り曲げミ
ラーＭ１、折り曲げミラーＭ２および第１集光レンズ２
ａ）、支持体２１（ひいては第２集光レンズ２ｂ）、お
よび露光装置本体１０が、たとえばグレーティングＧの
ような構造体によって支持されている。また、グレーテ
ィングＧは、床版Ａによって支持されている。したがっ
て、換言すると、エキシマレーザー光源１、第１集光レ
ンズ２ａ、第２集光レンズ２ｂおよび露光装置本体１０
は、グレーティングＧを介して同一の構造体すなわち床
版Ａによって支持されている。なお、グレーティングＧ
と床版Ａとの間の空間は、パイプスペースとして利用さ
れている。
【００２４】また、第２実施例では第１実施例と同様
に、第１集光レンズ２ａおよび第２集光レンズ２ｂが、
エキシマレーザー光源１のレーザー射出面とオプティカ
ルインテグレータ３の入射面とを共役に結ぶリレーレン
ズ系を構成している。すなわち、第１集光レンズ２ａの
焦点距離をｆ１とし、第２集光レンズ２ｂの焦点距離を
ｆ２とすると、エキシマレーザー光源１のレーザー射出
面と第１集光レンズ２ａとは光軸に沿って距離ｆ１だけ
間隔を隔て、第１集光レンズ２ａと第２集光レンズ２ｂ
とは光軸に沿って距離（ｆ１＋ｆ２）だけ間隔を隔て、
第２集光レンズ２ｂとオプティカルインテグレータ３の
入射面とは光軸に沿って距離ｆ２だけ間隔を隔ててい
る。
に、第１集光レンズ２ａおよび第２集光レンズ２ｂが、
エキシマレーザー光源１のレーザー射出面とオプティカ
ルインテグレータ３の入射面とを共役に結ぶリレーレン
ズ系を構成している。すなわち、第１集光レンズ２ａの
焦点距離をｆ１とし、第２集光レンズ２ｂの焦点距離を
ｆ２とすると、エキシマレーザー光源１のレーザー射出
面と第１集光レンズ２ａとは光軸に沿って距離ｆ１だけ
間隔を隔て、第１集光レンズ２ａと第２集光レンズ２ｂ
とは光軸に沿って距離（ｆ１＋ｆ２）だけ間隔を隔て、
第２集光レンズ２ｂとオプティカルインテグレータ３の
入射面とは光軸に沿って距離ｆ２だけ間隔を隔ててい
る。
【００２５】以上のように、第２実施例では、第１集光
レンズ２ａおよび第２集光レンズ２ｂがエキシマレーザ
ー光源１のレーザー射出面とオプティカルインテグレー
タ３の入射面とを共役に結ぶリレーレンズ系を構成して
いるので、エキシマレーザー光源１が角度ずれを起こし
ても位置ずれすることなくオプティカルインテグレータ
３の入射面を良好に照明することができる。また、第１
集光レンズ２ａがエキシマレーザー光源１に比較的近接
した支持体２０によって支持され、第２集光レンズ２ｂ
が露光装置本体１０に比較的近接した支持体２１によっ
て支持されているので、床版Ａや変形し易いグレーティ
ングＧがある程度変形してエキシマレーザー光源１と露
光装置本体１０との間に相対的な変位が発生しても、エ
キシマレーザー光源１のレーザー射出面とオプティカル
インテグレータ３の入射面とを共役に結ぶリレーレンズ
系の作用により、被露光面であるウエハ８上において均
一な照度分布を得ることができる。さらに、支持体２０
と支持体２１との間において光軸が高い位置に設定され
ているため、支持体２０と支持体２１とフレキシブルな
パイプ部材とグレーティングＧとによって規定される空
間Ｃ（図中破線で示す）に物を配置したり、空間Ｃを介
して人が通過したりすることによって、空間の有効利用
を図ることができる。
レンズ２ａおよび第２集光レンズ２ｂがエキシマレーザ
ー光源１のレーザー射出面とオプティカルインテグレー
タ３の入射面とを共役に結ぶリレーレンズ系を構成して
いるので、エキシマレーザー光源１が角度ずれを起こし
ても位置ずれすることなくオプティカルインテグレータ
３の入射面を良好に照明することができる。また、第１
集光レンズ２ａがエキシマレーザー光源１に比較的近接
した支持体２０によって支持され、第２集光レンズ２ｂ
が露光装置本体１０に比較的近接した支持体２１によっ
て支持されているので、床版Ａや変形し易いグレーティ
ングＧがある程度変形してエキシマレーザー光源１と露
光装置本体１０との間に相対的な変位が発生しても、エ
キシマレーザー光源１のレーザー射出面とオプティカル
インテグレータ３の入射面とを共役に結ぶリレーレンズ
系の作用により、被露光面であるウエハ８上において均
一な照度分布を得ることができる。さらに、支持体２０
と支持体２１との間において光軸が高い位置に設定され
ているため、支持体２０と支持体２１とフレキシブルな
パイプ部材とグレーティングＧとによって規定される空
間Ｃ（図中破線で示す）に物を配置したり、空間Ｃを介
して人が通過したりすることによって、空間の有効利用
を図ることができる。
【００２６】図６は、本発明の第３実施例にかかる露光
装置の構成を概略的に示す図である。第３実施例は第２
実施例と類似の構成を有するが、一部の構成要素の配置
および支持形態が第２実施例とは相違している。すなわ
ち、第３実施例では、エキシマレーザー光源１から水平
左方向に供給された平行光束は、折り曲げミラーＭ１に
よって鉛直下方に偏向された後、折り曲げミラーＭ２に
入射する。折り曲げミラーＭ２によって水平左方向に偏
向された光束は、第１集光レンズ２ａに入射する。
装置の構成を概略的に示す図である。第３実施例は第２
実施例と類似の構成を有するが、一部の構成要素の配置
および支持形態が第２実施例とは相違している。すなわ
ち、第３実施例では、エキシマレーザー光源１から水平
左方向に供給された平行光束は、折り曲げミラーＭ１に
よって鉛直下方に偏向された後、折り曲げミラーＭ２に
入射する。折り曲げミラーＭ２によって水平左方向に偏
向された光束は、第１集光レンズ２ａに入射する。
【００２７】第１集光レンズ２ａを介して一旦集光した
光束は、第２集光レンズ２ｂを介して再び平行光束とな
り、折り曲げミラーＭ３に入射する。折り曲げミラーＭ
３によって鉛直上方に偏向された平行光束は、折り曲げ
ミラーＭ４によって水平左方向に偏向された後に、露光
装置本体１０内のビームエキスパンダ８に入射する。な
お、第１集光レンズ２ａ、折り曲げミラーＭ１および折
り曲げミラーＭ２は、支持体２０によって支持されてい
る。また、第２集光レンズ２ｂ、折り曲げミラーＭ３お
よび折り曲げミラーＭ４は、支持体２０とは独立な支持
構造を有する支持体２１によって支持されている。ま
た、図６において破線で示すように、エキシマレーザー
光源１と支持体２０との間、支持体２０と支持体２１と
の間、および露光装置本体１０と支持体２１との間に
は、伝搬する光が空気ゆらぎの影響を直接受けることの
ないように、フレキシブルなパイプ部材が設けられてい
る。
光束は、第２集光レンズ２ｂを介して再び平行光束とな
り、折り曲げミラーＭ３に入射する。折り曲げミラーＭ
３によって鉛直上方に偏向された平行光束は、折り曲げ
ミラーＭ４によって水平左方向に偏向された後に、露光
装置本体１０内のビームエキスパンダ８に入射する。な
お、第１集光レンズ２ａ、折り曲げミラーＭ１および折
り曲げミラーＭ２は、支持体２０によって支持されてい
る。また、第２集光レンズ２ｂ、折り曲げミラーＭ３お
よび折り曲げミラーＭ４は、支持体２０とは独立な支持
構造を有する支持体２１によって支持されている。ま
た、図６において破線で示すように、エキシマレーザー
光源１と支持体２０との間、支持体２０と支持体２１と
の間、および露光装置本体１０と支持体２１との間に
は、伝搬する光が空気ゆらぎの影響を直接受けることの
ないように、フレキシブルなパイプ部材が設けられてい
る。
【００２８】また、第３実施例では、図６に示すよう
に、エキシマレーザー光源１および露光装置本体１０
は、たとえばグレーティングＧのような構造体によって
支持されている。また、グレーティングＧ、支持体２０
（ひいては折り曲げミラーＭ１、折り曲げミラーＭ２お
よび第１集光レンズ２ａ）および支持体２１（ひいては
第２集光レンズ２ｂ、折り曲げミラーＭ３および折り曲
げミラーＭ４）は、床版Ａによって支持されている。し
たがって、換言すると、エキシマレーザー光源１および
露光装置本体１０はグレーティングＧを介して、第１集
光レンズ２ａおよび第２集光レンズ２ｂはグレーティン
グＧを介することなく、最終的には同一の構造体すなわ
ち床版Ａによって支持されている。
に、エキシマレーザー光源１および露光装置本体１０
は、たとえばグレーティングＧのような構造体によって
支持されている。また、グレーティングＧ、支持体２０
（ひいては折り曲げミラーＭ１、折り曲げミラーＭ２お
よび第１集光レンズ２ａ）および支持体２１（ひいては
第２集光レンズ２ｂ、折り曲げミラーＭ３および折り曲
げミラーＭ４）は、床版Ａによって支持されている。し
たがって、換言すると、エキシマレーザー光源１および
露光装置本体１０はグレーティングＧを介して、第１集
光レンズ２ａおよび第２集光レンズ２ｂはグレーティン
グＧを介することなく、最終的には同一の構造体すなわ
ち床版Ａによって支持されている。
【００２９】第３実施例では、第１実施例および第２実
施例と同様に、第１集光レンズ２ａおよび第２集光レン
ズ２ｂが、エキシマレーザー光源１のレーザー射出面と
オプティカルインテグレータ３の入射面とを共役に結ぶ
リレーレンズ系を構成している。すなわち、第１集光レ
ンズ２ａの焦点距離をｆ１とし、第２集光レンズ２ｂの
焦点距離をｆ２とすると、エキシマレーザー光源１のレ
ーザー射出面と第１集光レンズ２ａとは光軸に沿って距
離ｆ１だけ間隔を隔て、第１集光レンズ２ａと第２集光
レンズ２ｂとは光軸に沿って距離（ｆ１＋ｆ２）だけ間
隔を隔て、第２集光レンズ２ｂとオプティカルインテグ
レータ３の入射面とは光軸に沿って距離ｆ２だけ間隔を
隔てている。
施例と同様に、第１集光レンズ２ａおよび第２集光レン
ズ２ｂが、エキシマレーザー光源１のレーザー射出面と
オプティカルインテグレータ３の入射面とを共役に結ぶ
リレーレンズ系を構成している。すなわち、第１集光レ
ンズ２ａの焦点距離をｆ１とし、第２集光レンズ２ｂの
焦点距離をｆ２とすると、エキシマレーザー光源１のレ
ーザー射出面と第１集光レンズ２ａとは光軸に沿って距
離ｆ１だけ間隔を隔て、第１集光レンズ２ａと第２集光
レンズ２ｂとは光軸に沿って距離（ｆ１＋ｆ２）だけ間
隔を隔て、第２集光レンズ２ｂとオプティカルインテグ
レータ３の入射面とは光軸に沿って距離ｆ２だけ間隔を
隔てている。
【００３０】以上のように、第３実施例では、第１集光
レンズ２ａおよび第２集光レンズ２ｂがエキシマレーザ
ー光源１のレーザー射出面とオプティカルインテグレー
タ３の入射面とを共役に結ぶリレーレンズ系を構成して
いるので、エキシマレーザー光源１が角度ずれを起こし
ても位置ずれすることなくオプティカルインテグレータ
３の入射面を良好に照明することができる。また、第１
集光レンズ２ａがエキシマレーザー光源１に比較的近接
した支持体２０によって支持され、第２集光レンズ２ｂ
が露光装置本体１０に比較的近接した支持体２１によっ
て支持されているので、床版Ａや変形し易いグレーティ
ングＧがある程度変形してエキシマレーザー光源１と露
光装置本体１０との間に相対的な変位が発生しても、エ
キシマレーザー光源１のレーザー射出面とオプティカル
インテグレータ３の入射面とを共役に結ぶリレーレンズ
系の作用により、被露光面であるウエハ８上において均
一な照度分布を得ることができる。さらに、支持体２０
と支持体２１との間において光軸がグレーティングＧよ
りも低い位置に設定されているため、支持体２０と支持
体２１とグレーティングＧとによって規定される空間Ｄ
を有効に使用することによって、空間の有効利用を図る
ことができる。
レンズ２ａおよび第２集光レンズ２ｂがエキシマレーザ
ー光源１のレーザー射出面とオプティカルインテグレー
タ３の入射面とを共役に結ぶリレーレンズ系を構成して
いるので、エキシマレーザー光源１が角度ずれを起こし
ても位置ずれすることなくオプティカルインテグレータ
３の入射面を良好に照明することができる。また、第１
集光レンズ２ａがエキシマレーザー光源１に比較的近接
した支持体２０によって支持され、第２集光レンズ２ｂ
が露光装置本体１０に比較的近接した支持体２１によっ
て支持されているので、床版Ａや変形し易いグレーティ
ングＧがある程度変形してエキシマレーザー光源１と露
光装置本体１０との間に相対的な変位が発生しても、エ
キシマレーザー光源１のレーザー射出面とオプティカル
インテグレータ３の入射面とを共役に結ぶリレーレンズ
系の作用により、被露光面であるウエハ８上において均
一な照度分布を得ることができる。さらに、支持体２０
と支持体２１との間において光軸がグレーティングＧよ
りも低い位置に設定されているため、支持体２０と支持
体２１とグレーティングＧとによって規定される空間Ｄ
を有効に使用することによって、空間の有効利用を図る
ことができる。
【００３１】なお、第２実施例および第３実施例では、
エキシマレーザー光源１、第１集光レンズ２ａ、第２集
光レンズ２ｂおよび露光装置本体１０が、最終的には同
一の構造体すなわち床版Ａによって支持されている。し
かしながら、第２実施例および第３実施例において、第
１実施例と同様に、エキシマレーザー光源１と第１集光
レンズ２ａとを第１の構造体（たとえば床版Ａ）によっ
て支持し、第２集光レンズ２ｂと露光装置本体１０とを
第１の構造体とは実質的に隔絶された第２の構造体（た
とえば別の床版Ｂ）によって支持することもできる。
エキシマレーザー光源１、第１集光レンズ２ａ、第２集
光レンズ２ｂおよび露光装置本体１０が、最終的には同
一の構造体すなわち床版Ａによって支持されている。し
かしながら、第２実施例および第３実施例において、第
１実施例と同様に、エキシマレーザー光源１と第１集光
レンズ２ａとを第１の構造体（たとえば床版Ａ）によっ
て支持し、第２集光レンズ２ｂと露光装置本体１０とを
第１の構造体とは実質的に隔絶された第２の構造体（た
とえば別の床版Ｂ）によって支持することもできる。
【００３２】ところで、上述の各実施例の露光装置によ
る露光の工程（フォトリソグラフィ工程）を経たウエハ
は、現像する工程、現像したレジスト以外の部分を除去
するエッチングの工程、エッチングの工程後の不要なレ
ジストを除去するレジスト除去の工程等を経てウエハプ
ロセスが終了する。ウエハプロセスが終了すると、実際
の組立工程において、焼き付けられた回路毎にウエハを
切断してチップ化するダイシングの工程、各チップに配
線等を付与するボンディングの工程、各チップ毎にパッ
ケージングするパッケージングの工程等を経て、最終的
にＬＳＩのような半導体デバイスが製造される。なお、
上述の各実施例では、露光装置を用いたフォトリソグラ
フィ工程により半導体素子を製造する例を示したが、露
光装置を用いたフォトリソグラフィ工程によって、液晶
表示素子、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ素子等）
のような他の半導体デバイスを良好に製造することがで
きる。
る露光の工程（フォトリソグラフィ工程）を経たウエハ
は、現像する工程、現像したレジスト以外の部分を除去
するエッチングの工程、エッチングの工程後の不要なレ
ジストを除去するレジスト除去の工程等を経てウエハプ
ロセスが終了する。ウエハプロセスが終了すると、実際
の組立工程において、焼き付けられた回路毎にウエハを
切断してチップ化するダイシングの工程、各チップに配
線等を付与するボンディングの工程、各チップ毎にパッ
ケージングするパッケージングの工程等を経て、最終的
にＬＳＩのような半導体デバイスが製造される。なお、
上述の各実施例では、露光装置を用いたフォトリソグラ
フィ工程により半導体素子を製造する例を示したが、露
光装置を用いたフォトリソグラフィ工程によって、液晶
表示素子、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ素子等）
のような他の半導体デバイスを良好に製造することがで
きる。
【００３３】また、上述の各実施例では、光源手段とし
て平行光束を射出するエキシマレーザーを使用した例を
示したが、照明光を供給する一般の光源手段を用いた露
光装置に対しても本発明を適用することができる。さら
に、上述の各実施例では、リレーレンズ系（２ａ，２
ｂ）とオプティカルインテグレータ３との間の光路中に
ビームエキスパンダ８を配置しているが、第１集光レン
ズ２ａの焦点距離ｆ１と第２集光レンズ２ｂの焦点距離
ｆ２との比率を適当に設定することにより、ビームエキ
スパンダ８の設置を省略することもできる。
て平行光束を射出するエキシマレーザーを使用した例を
示したが、照明光を供給する一般の光源手段を用いた露
光装置に対しても本発明を適用することができる。さら
に、上述の各実施例では、リレーレンズ系（２ａ，２
ｂ）とオプティカルインテグレータ３との間の光路中に
ビームエキスパンダ８を配置しているが、第１集光レン
ズ２ａの焦点距離ｆ１と第２集光レンズ２ｂの焦点距離
ｆ２との比率を適当に設定することにより、ビームエキ
スパンダ８の設置を省略することもできる。
【００３４】また、上述の各実施例では、投影光学系に
対してウエハだけを二次元的に移動させながらウエハの
各露光領域にマスクパターンを露光するステップアンド
リピート方式の露光装置に本発明を適用している。しか
しながら、投影光学系に対してウエハおよびマスクを相
対的に移動させながらウエハの各露光領域にマスクパタ
ーンをスキャン露光するステップアンドスキャン方式の
露光装置に本発明を適用することもできる。また、投影
光学系に対してウエハおよびマスクを相対的に移動させ
ながらウエハの露光領域全体にマスクパターンを一括的
に露光するスキャン方式の露光装置に本発明を適用する
こともできる。
対してウエハだけを二次元的に移動させながらウエハの
各露光領域にマスクパターンを露光するステップアンド
リピート方式の露光装置に本発明を適用している。しか
しながら、投影光学系に対してウエハおよびマスクを相
対的に移動させながらウエハの各露光領域にマスクパタ
ーンをスキャン露光するステップアンドスキャン方式の
露光装置に本発明を適用することもできる。また、投影
光学系に対してウエハおよびマスクを相対的に移動させ
ながらウエハの露光領域全体にマスクパターンを一括的
に露光するスキャン方式の露光装置に本発明を適用する
こともできる。
【００３５】さらに、上述の各実施例では、フライアイ
レンズからなるオプティカルインテグレータを用いた例
を説明しているが、フライアイレンズに代えてたとえば
内面反射型のロッド型のオプティカルインテグレータを
用いることもできる。
レンズからなるオプティカルインテグレータを用いた例
を説明しているが、フライアイレンズに代えてたとえば
内面反射型のロッド型のオプティカルインテグレータを
用いることもできる。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の露光装置
では、光源装置と露光装置本体とを別の構造体で支持し
ても、被露光面における照度分布が各構造体の変形およ
び変位の影響を受けにくい。また、光源装置と露光装置
本体とを例えばグレーティングを介して同じ構造体で支
持する場合においても、被露光面における照度分布がグ
レーティングや構造体の変形などの影響を受けにくい。
その結果、被露光面において均一な照度分布を得ること
ができ、安定した良好な露光を行うことができる。した
がって、本発明の露光装置を用いることにより、良好な
半導体デバイスを製造することができる。
では、光源装置と露光装置本体とを別の構造体で支持し
ても、被露光面における照度分布が各構造体の変形およ
び変位の影響を受けにくい。また、光源装置と露光装置
本体とを例えばグレーティングを介して同じ構造体で支
持する場合においても、被露光面における照度分布がグ
レーティングや構造体の変形などの影響を受けにくい。
その結果、被露光面において均一な照度分布を得ること
ができ、安定した良好な露光を行うことができる。した
がって、本発明の露光装置を用いることにより、良好な
半導体デバイスを製造することができる。
【図１】本発明の第１実施例にかかる露光装置の構成を
概略的に示す図である。
概略的に示す図である。
【図２】図１のエキシマレーザー光源１からオプティカ
ルインテグレータ３までの展開光路図であって、本発明
の作用を説明する図である。
ルインテグレータ３までの展開光路図であって、本発明
の作用を説明する図である。
【図３】図１において下階の床版Ｂに対して上階の床版
Ａが水平方向に所定量ｄだけ変位した状態を示す図であ
る。
Ａが水平方向に所定量ｄだけ変位した状態を示す図であ
る。
【図４】図１において露光装置本体の重量などにより上
階の床版Ａが下側に凸面を向けるように変形した状態を
示す図である。
階の床版Ａが下側に凸面を向けるように変形した状態を
示す図である。
【図５】本発明の第２実施例にかかる露光装置の構成を
概略的に示す図である。
概略的に示す図である。
【図６】本発明の第３実施例にかかる露光装置の構成を
概略的に示す図である。
概略的に示す図である。
１ エキシマレーザー光源 ２ａ，２ｂ 集光レンズ ３ オプティカルインテグレータ ４ コンデンサーレンズ ５ マスク ６ 投影光学系 ７ ウエハ ８ ビームエキスパンダ １０ 露光装置本体 １１、１２、２０、２１ 支持体 Ａ、Ｂ 床版 ＡＸ 光軸
Claims (10)
- 【請求項１】 第１の構造体によって支持された光源手
段と、 前記第１の構造体と実質的に隔絶された第２の構造体に
よって支持されて前記光源手段からの光に基づいてマス
クを照明する照明光学系と、 前記第１の構造体によって支持されて前記光源手段から
の光を集光するための第１集光系と、 前記第２の構造体によって支持されて前記第１集光系を
介して一旦集光された光を前記照明光学系へ導くための
第２集光系とを備え、 前記照明光学系は、前記第２集光系を介した光を入射さ
せる入射側に前記マスクと共役な所定面を有し、 前記光源手段の射出面と前記所定面とは、前記第１集光
系および前記第２集光系により光学的にほぼ共役に構成
され、 前記マスクに形成された所定のパターンを感光性基板上
に露光することを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記照明光学系は、前記第２集光系を介
した光に基づいて多数の光源像を形成するためのオプテ
ィカルインテグレータと、 前記オプティカルインテグレータを介して形成された前
記多数の光源像からの光を集光して前記マスクを重畳的
に照明するためのコンデンサー光学系とを有し、 前記オプティカルインテグレータは、その入射面が前記
所定面とほぼ一致するように配置されていることを特徴
とする請求項１に記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記光源手段は、エキシマレーザー光源
を有し、 前記第１集光系は、前記エキシマレーザー光源からの平
行光束を集光し、 前記第２集光系は、前記第１集光系を介して一旦集光し
た光束を再び平行光束に変換することを特徴とする請求
項１または２に記載の露光装置。 - 【請求項４】 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の
露光装置を用いて、 前記マスクに形成された所定のパターンを前記感光性基
板上に露光する露光工程を含むことを特徴とする、半導
体デバイスの製造方法。 - 【請求項５】 光束を供給するための光源手段と、該光
源手段からの光束に基づいて、所定のパターンが形成さ
れたマスクを照明するための照明光学系とを備え、前記
マスクのパターンを感光性基板に投影する露光装置にお
いて、 前記光源手段と前記照明光学系との間の光路中には、前
記光源手段からの光束を集光するための第１集光系と、
該第１集光系を介して一旦集光された光束を前記照明光
学系へ導くための第２集光系とが配置され、 前記第１集光系を支持するための第１支持体と、該第１
支持体とは独立な支持構造を有し前記第２集光系を支持
するための第２支持体とが設けられていることを特徴と
する露光装置。 - 【請求項６】 前記光源手段、前記照明光学系、前記第
１支持体、および前記第２支持体は、同一の構造体によ
って支持されていることを特徴とする請求項５に記載の
露光装置。 - 【請求項７】 前記光源手段および前記第１支持体は第
１の構造体によって支持され、 前記照明光学系および前記第２支持体は、前記第１の構
造体とは実質的に隔絶された第２の構造体によって支持
されていることを特徴とする請求項５に記載の露光装
置。 - 【請求項８】 前記照明光学系は、前記第２集光系を介
した光に基づいて多数の光源像を形成するためのオプテ
ィカルインテグレータと、該オプティカルインテグレー
タを介して形成された前記多数の光源像からの光を集光
して前記マスクを重畳的に照明するためのコンデンサー
光学系とを有することを特徴とする請求項５乃至７のい
ずれか１項に記載の露光装置。 - 【請求項９】 前記照明光学系は、前記第２集光系を介
した光束を入射させる入射側に前記マスクと共役な所定
面を有し、 前記光源手段の射出面と前記所定面とは、前記第１集光
系および前記第２集光系により光学的にほぼ共役に構成
されていることを特徴とする請求項５乃至８のいずれか
１項に記載の露光装置。 - 【請求項１０】 請求項５乃至９のいずれか１項に記載
の露光装置を用いて、前記マスクに形成された所定のパ
ターンを前記感光性基板上に露光する露光工程を含むこ
とを特徴とする、半導体デバイスの製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9307953A JPH10229044A (ja) | 1996-12-13 | 1997-10-22 | 露光装置および該露光装置を用いた半導体デバイスの製造方法 |
| KR1019970071144A KR19980064410A (ko) | 1996-12-13 | 1997-12-12 | 노광장치 및 이 노광장치를 사용한 반도체 디바이스의 제조방법 |
| US08/989,624 US5963306A (en) | 1996-12-13 | 1997-12-12 | Exposure apparatus and methods for using the same |
| TW086118836A TW379363B (en) | 1996-12-13 | 1997-12-13 | Exposure apparatus and the manufacturing method of semiconductors using said exposure apparatus |
| EP97122087A EP0848298A3 (en) | 1996-12-13 | 1997-12-15 | Exposure apparatus and methods for using same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-353022 | 1996-12-13 | ||
| JP35302296 | 1996-12-13 | ||
| JP9307953A JPH10229044A (ja) | 1996-12-13 | 1997-10-22 | 露光装置および該露光装置を用いた半導体デバイスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10229044A true JPH10229044A (ja) | 1998-08-25 |
Family
ID=26565344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9307953A Pending JPH10229044A (ja) | 1996-12-13 | 1997-10-22 | 露光装置および該露光装置を用いた半導体デバイスの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5963306A (ja) |
| EP (1) | EP0848298A3 (ja) |
| JP (1) | JPH10229044A (ja) |
| KR (1) | KR19980064410A (ja) |
| TW (1) | TW379363B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010524231A (ja) * | 2007-04-03 | 2010-07-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | パターニングデバイスを照明するための照明システム、および照明システムを製造する方法 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU8749798A (en) * | 1997-08-29 | 1999-03-22 | Nikon Corporation | Temperature adjusting method and aligner to which this method is applied |
| TW479156B (en) * | 1999-01-08 | 2002-03-11 | Asm Lithography Bv | Lithographic projection apparatus, method of controlling the position of a moveable table in a lithographic projection apparatus, integrated circuits device manufacturing method, and integrated circuits device made by the manufacturing method |
| KR20010102421A (ko) * | 1999-02-26 | 2001-11-15 | 시마무라 테루오 | 노광장치, 리소그래피 시스템 및 반송방법 그리고디바이스 제조방법 및 디바이스 |
| JP3495992B2 (ja) * | 2001-01-26 | 2004-02-09 | キヤノン株式会社 | 補正装置、露光装置、デバイス製造方法及びデバイス |
| JPWO2002103766A1 (ja) * | 2001-06-13 | 2004-10-07 | 株式会社ニコン | 走査露光方法及び走査型露光装置、並びにデバイス製造方法 |
| EP1469347A1 (en) * | 2003-04-17 | 2004-10-20 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4724466A (en) * | 1986-01-17 | 1988-02-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Exposure apparatus |
| US4939630A (en) * | 1986-09-09 | 1990-07-03 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus |
| JPH0786647B2 (ja) * | 1986-12-24 | 1995-09-20 | 株式会社ニコン | 照明装置 |
| US4918583A (en) * | 1988-04-25 | 1990-04-17 | Nikon Corporation | Illuminating optical device |
| FR2663130B1 (fr) * | 1990-06-08 | 1994-12-09 | Nippon Seiko Kk | Dispositif d'exposition par projection. |
| DE4133037C2 (de) * | 1990-10-05 | 1999-07-22 | Canon Kk | Belichtungsvorrichtung |
| JPH04369209A (ja) * | 1991-06-17 | 1992-12-22 | Nikon Corp | 露光用照明装置 |
| JPH08148407A (ja) * | 1994-11-21 | 1996-06-07 | Nikon Corp | 照明光学装置 |
-
1997
- 1997-10-22 JP JP9307953A patent/JPH10229044A/ja active Pending
- 1997-12-12 KR KR1019970071144A patent/KR19980064410A/ko not_active Application Discontinuation
- 1997-12-12 US US08/989,624 patent/US5963306A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-13 TW TW086118836A patent/TW379363B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-12-15 EP EP97122087A patent/EP0848298A3/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010524231A (ja) * | 2007-04-03 | 2010-07-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | パターニングデバイスを照明するための照明システム、および照明システムを製造する方法 |
| KR101157507B1 (ko) * | 2007-04-03 | 2012-06-20 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 패터닝 디바이스를 조명하는 조명 시스템 및 조명 시스템을 제조하는 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5963306A (en) | 1999-10-05 |
| EP0848298A3 (en) | 2000-02-09 |
| EP0848298A2 (en) | 1998-06-17 |
| KR19980064410A (ko) | 1998-10-07 |
| TW379363B (en) | 2000-01-11 |
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