JP2010524231A - パターニングデバイスを照明するための照明システム、および照明システムを製造する方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】 図2b
Description
Claims (29)
- 照明システムであって、
ハウジングと、
前記ハウジング内に配置された光学システムと
を含み、
前記光学システムは少なくとも1つの光学素子を含み、前記光学システムは中間集光点から発散する放射ビームでパターニングデバイスを照明するように構成され、前記中間集光点は前記照明システムの底部と実質的に同じレベルかまたは前記底部よりも下方の位置に配置される、照明システム。 - 前記光学システムは、前記中間集光点を前記パターニングデバイス上に結像するように構成される、請求項1に記載の照明システム。
- 前記照明システムの前記底部に、前記ハウジングを支持するための1つ以上のサポート構造体が設けられている、請求項1に記載の照明システム。
- 前記中間集光点は、前記サポート構造体のうちの少なくとも1つのサポート構造体と実質的に同じレベルに配置される、請求項3に記載の照明システム。
- 前記サポート構造体のうちの少なくとも1つのサポート構造体は、前記中間集光点が前記照明システムの前記底部に対して配置される前記位置を調節するための調節可能な高さを有する、請求項3に記載の照明システム。
- 前記中間集光点は、前記照明システムの前記底部よりも約0.10メートル〜約2.00メートル下方の位置に配置される、請求項1に記載の照明システム。
- 前記中間集光点は、前記照明システムの前記底部よりも約0.20メートル〜約1.50メートル下方の位置に配置される、請求項6に記載の照明システム。
- 前記中間集光点は、前記照明システムの前記底部よりも約0.10メートル下方の位置に配置される、請求項6に記載の照明システム。
- 前記中間集光点から放出された放射ビームが直接入射するミラーを更に含む、請求項1に記載の照明システム。
- 前記パターニングデバイス上に前記放射ビームの焦点を合わせるように構成された更なるミラーを更に含み、前記ミラーは前記放射ビームを前記更なるミラーに直接反射するように構成される、請求項9に記載の照明システム。
- 前記パターニングデバイス上に前記放射ビームの焦点を合わせるように構成されたミラーを更に含む、請求項1に記載の照明システム。
- 前記中間集光点は、前記ハウジングの外側に配置された位置を有する、請求項1に記載の照明システム。
- 照明システムと、
放射源およびコレクタを含む放射源−コレクタモジュールと
を備え、
前記照明システムは、
ハウジングと、
前記ハウジング内に配置された光学システムであって、前記光学システムは少なくとも1つの光学素子を含み、前記光学システムは中間集光点から発散する放射ビームでパターニングデバイスを照明するように構成され、前記中間集交点は前記照明システムの底部と実質的に同じレベルかまたは前記底部よりも下方の位置に配置される、光学システムと
を含み、
前記放射源−コレクタモジュールの前記コレクタは、前記放射源を前記中間集光点内に結像する、アセンブリ。 - 前記放射源は、前記照明システムの前記底部よりも下方の位置に配置される、請求項13に記載のアセンブリ。
- 前記放射源−コレクタモジュールは、前記照明システムの前記底部よりも下方の位置に配置される、請求項13に記載のアセンブリ。
- 照明システムであって、
ハウジングと、
前記ハウジング内に配置された光学システムであって、前記光学システムは少なくとも1つの光学素子を含み、前記光学システムは中間集光点から発散する放射ビームでパターニングデバイスを照明するように構成され、前記中間集光点は前記照明システムの底部と実質的に同じレベルか又は底部よりも下方の位置に配置される、光学システムとを含む照明システムと、
放射源、および、前記放射源を前記中間集光点内に結像するためのコレクタを含む、放射源−コレクタモジュールと、
前記パターニングデバイスを支持するように構成されたサポートであって、前記パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成すべく前記放射ビームの断面にパターンを付けるように構成される、サポートと、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと
を備えた、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
照明システムであって、
ハウジングと、
前記ハウジング内に配置された光学システムであって、前記光学システムは少なくとも1つの光学素子を含み、前記光学システムは中間集光点から発散する放射ビームでパターニングデバイスを照明するように構成された、光学システムとを含む照明システムと、
放射源、および、前記放射源を前記中間集光点内に結像するためのコレクタを含む、放射源−コレクタモジュールと、
前記パターニングデバイスを支持するように構成されたサポートであって、前記パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成すべく前記放射ビームの断面にパターンを付けるように構成される、サポートと、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを投影システムの像面上に投影するように構成された投影システムであって、前記像面は前記基板のターゲット部分に配置される、投影システムと
を備え、
前記中間集光点は前記像面と実質的に同じレベルか又は前記像面よりも下方の位置に配置される、リソグラフィ装置。 - 前記光学システムは、前記中間集光点を前記パターニングデバイス上に結像するように構成される、請求項16または17に記載のリソグラフィ装置。
- 照明システムを製造する方法であって、
中間集光点をパターニングデバイス上に結像するための少なくとも1つの光学素子を含む光学システムを有するハウジングを提供することと、
前記中間集光点から発散する放射ビームを用いて前記パターニングデバイスを照明するように前記光学システムを構成することと、
を含み、前記中間集光点は前記照明システムの底部と実質的に同じレベルかまたは前記底部よりも下の位置に配置される、方法。 - 照明システムを製造する方法であって、
中間集光点をパターニングデバイス上に結像するための少なくとも1つの光学素子を含む光学システムを有するハウジングを提供することと、
前記中間集光点から発散する放射ビームを用いて前記パターニングデバイスを照明するように前記光学システムを構成することと、
前記パターニングデバイスによって付けられるパターンを像面に結像することと、
を含み、前記中間集光点は前記像面と実質的に同じレベルかまたは前記像面よりも下方の位置に配置される像面である、方法。 - 前記光学システムは、前記中間集光点を前記パターニングデバイス上に結像するように構成される、請求項19または20に記載の方法。
- 前記中間集光点の前記場所は、前記アセンブリがその上で動作可能となるフロアにある開口内であるように決められる、請求項19または20に記載の方法。
- 前記中間集光点の前記場所は、前記フロアのおよそ中間にある、請求項22に記載の方法。
- 前記中間集光点は、前記照明システムの前記底部よりも約0.10メートル〜約2.00メートル下方の位置であるように決められる、請求項19または20に記載の方法。
- 前記中間集光点は、前記照明システムの前記底部よりも約0.50メートル〜約1.50メートル下方の位置に配置される、請求項24に記載の方法。
- 前記中間集光点は、前記照明システムの前記底部よりも約0.10メートル下方の位置に配置されるように決められる、請求項21に記載の方法。
- 放射源およびコレクタを含む放射源−コレクタモジュールを提供することを更に含み、前記放射源−コレクタモジュールは前記放射源を前記中間集光点内に結像するように構成される、請求項19または20に記載の方法。
- 前記放射源を、前記照明システムの前記底部よりも下方の位置に置くことを更に含む、請求項27に記載の方法。
- 前記中間集光点は、前記ハウジングの外側に配置されるように決められる、請求項19または20に記載の方法。
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