KR100456436B1 - 조명장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (13)
- 복수의 광원으로부터의 광빔들을 피조명면에 도광(導光)하는 조명장치에 있어서,복수의 광원으로부터의 광빔의 각각을 평행한 광속으로 변환하는 복수의 제 1광학수단과,상기 제 1광학수단으로부터의 평행한 광속들을 사용하여, 복수의 광원의 중첩된 상을 형성하는 제 2광학수단을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 조명장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제 2광학수단은 상기 제 1광학수단보다도 초점길이가 긴 것을 특징으로 하는 조명장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1광학수단으로부터의 평행한 광속들이 상기 제 2광학수단 위에 서로 병렬배치되어 입사되도록, 상기 제 1광학수단중 적어도 하나로부터의 광속을 편향시키는 편향수단을 부가하여 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 조명장치.
- 제 1항에 있어서,상기 광원들이 타원형 미러의 제 1초점에 배치되고, 제 2초점에는 상기 광원들의 상을 형성하는 타원형 미러를 가지고,상기 제 1광학수단의 초점은 상기 타원형 미러의 제 2초점과 일치하는 것을 특징으로 하는 조명장치.
- 제 4항에 있어서,상기 타원형 미러의 개구직경은, 상기 제 1광학수단에 의해 형성된 평행한 광속의 직경보다도 큰 것을 특징으로 하는 조명장치.
- 제 1항에 있어서,상기 피조명면을 균일하게 조명하기 위한 광학 집적기를 부가하여 포함하고, 상기 복수의 광원의 중첩된 상은 상기 광학 집적기의 광입사면 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 조명장치.
- 제 6항에 있어서,상기 제 2광학수단은, 그의 광출사측이 텔레센트릭한 것을 특징으로 하는 조명장치.
- 복수의 램프로부터의 광빔을 피조명면에 도광하는 조명장치에 있어서,상기 복수의 램프는, 발광관이 수직방향으로 뻗도록 배치되고, 상기 조명장치는 복수의 램프로부터 방출되는 광빔들을 편향시키는 복수의 편향수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 조명장치.
- 제 1항 내지 제 7항중 어느 한 항에 기재된 조명장치를 구비한 노광장치에 있어서,상기 조명장치를 사용하여 피조명면으로서 마스크표면을 조명하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제 9항에 있어서,마스크표면 위에 형성된 패턴을 감광성 기판에 투영하는 투영광학계를 부가하여 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 감광성 재료를 웨이퍼에 도포하는 단계와;청구항 제 9항에 기재된 노광장치를 이용해서 마스크표면에 형성된 패턴을 웨이퍼에 노광전사하는 단계와;노광에 의해 웨이퍼에 전사된 패턴을 현상하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 디바이스의 제조방법.
- 제 8항에 기재된 조명장치를 구비한 노광장치에 있어서,상기 조명장치를 사용하여 피조명면으로서 마스크표면을 조명하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 감광성 재료를 웨이퍼에 도포하는 단계와;청구항 제 12항에 기재된 노광장치를 이용해서 마스크표면에 형성된 패턴을 웨이퍼에 노광전사하는 단계와;노광에 의해 웨이퍼에 전사된 패턴을 현상하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 디바이스의 제조방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000146365A JP2001326171A (ja) | 2000-05-18 | 2000-05-18 | 照明装置 |
JP2000-146365 | 2000-05-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010105250A KR20010105250A (ko) | 2001-11-28 |
KR100456436B1 true KR100456436B1 (ko) | 2004-11-10 |
Family
ID=18652738
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2001-0026978A KR100456436B1 (ko) | 2000-05-18 | 2001-05-17 | 조명장치 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001326171A (ko) |
KR (1) | KR100456436B1 (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010118383A (ja) * | 2008-11-11 | 2010-05-27 | Nikon Corp | 照明装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP5806479B2 (ja) * | 2011-02-22 | 2015-11-10 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP6362095B2 (ja) | 2014-06-17 | 2018-07-25 | キヤノン株式会社 | 照明装置、露光装置、調整方法、及び、物品の製造方法 |
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2000
- 2000-05-18 JP JP2000146365A patent/JP2001326171A/ja active Pending
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2001
- 2001-05-17 KR KR10-2001-0026978A patent/KR100456436B1/ko active IP Right Grant
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20010105250A (ko) | 2001-11-28 |
JP2001326171A (ja) | 2001-11-22 |
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