KR970007502A - 조명장치 및 그 장치를 구비한 투영 노광장치 - Google Patents

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KR970007502A
KR970007502A KR1019960027860A KR19960027860A KR970007502A KR 970007502 A KR970007502 A KR 970007502A KR 1019960027860 A KR1019960027860 A KR 1019960027860A KR 19960027860 A KR19960027860 A KR 19960027860A KR 970007502 A KR970007502 A KR 970007502A
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light source
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condensing
relay optical
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KR1019960027860A
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오사무 다니츠
유우지 구도우
Original Assignee
오노 시게오
니콘 가부시키가이샤
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • G03F7/70058Mask illumination systems
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract

본 발명의 목적은 장기간에 걸친 레이저빔의 에너지조사에 대해서도 편향부재가 손상을 받는 일 없이 안정된 성능을 갖는 조명장치 및 상기 장치를 구비한 투영 노광장치를 제공하는 것으로, 본 발명의 조명장치는, 제1릴레이 광학계가 광원수단에서의 광을 집광하여 광원상을 형성하기 위한 제1집광부재와, 광원상에서의 광을 집광하기 위한 제2집광부재를 구비하며, 제1집광부재와 광원상과의 사이의 광로 및 광원상과 제2집광부재와의 사이의 광로중에서 적어도 한쪽의 노광중에는 광을 편향하기 위한 편향부재와 마련되며, 편향부재는 제1집광부재와 제2집광부재와의 사이의 광속의 광 에너지밀도의 변화에 의존하여 규정하는 소정거리만큼 광원상에서 광축에 따라서 간격을 두고 배치되어 있다.

Description

조명장치 및 그 장치를 구비한 투영 노광장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예에 따른 조명장치의 구성을 나타내는 사시도.

Claims (12)

  1. 광을 곱급하기 위한 광원수단과, 상기 광원수단에서의 광을 피조사면에 유도하기위한 도광 광학계를 구비한 조명장치에 있어서; 상기 도광 광학계는 상기 광원수단에서의 광을 받아 소정의 제1면과 소정의 제1면과 소정의 제2면을 공역하는 제1릴레이 광학계와, 상기 제1릴레이 광학계에서의 광을 받아 상기 제2면과 상기 피조사면을 공역하는 제2릴레이 광학계를 구비하며; 상기 제1릴레이 광학계는 상기 광원수단으로부터의 광을 집광하여 광원상을 형성하기 위한 제1집광부재와, 상기 광원상으로부터의 광을 집광하기 위한 제2집광부재를 구비하며; 상기 제1집광부재와 상기 광원상과의 사이의 광로 및 상기 광원상과 상기 제2집광부재와의 사이의 광로중에서 최소한 한쪽의 광로중에는 광을 편향하기 위한 편향부재가 마련되며, 상기 편향부재는 상기 제1집광부재와 상기 제2집광부재와의 사이의 광속의 광 에너지밀도의 변화에 의존하여 규정되는 소정거리만큼 상기 광원상에서 광축을 따라서 간격을 두고 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  2. 제1항에 있어서; 상기 제1집광부재에서의 사출광의 광 에너지밀도를 EO로 하고, 상기 편향수단이 소정기간에 걸쳐 견딜수 있는 허용광 에너지밀도를 Ed로 하며, 상기 제1집광부재와 상기 광원상과의 사이의 광축에 따른 간격을 D1으로 하였을때, 상기 소정거리 DO는; DO〉D1(EO/Ed)1/2의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  3. 제1항에 있어서; 상기 제2릴레이 광학계는 상기 제1릴레이 광학계에서의 광에 근거하여 다수의 광원을 형성하기 위한 다수광원 형성수단과, 상기 다수광원 형성수단에서의 광을 각각 집광하여 상기 피조사면을 중첩적으로 조명하기 위한 콘덴서 광학계를 구비하며; 상기 소정의 제1면은, 상기 광원수단의 사출면인 것을 특징으로 하는 조명장치.
  4. 제1항에 있어서; 상기 광원수단은 엑시마 레이저광원이며, 상기 편향수단은 반사밀러인 것을 특징으로 하는 조명장치.
  5. 제4항에 있어서; 상기 엑시마 레이저광원과 상기 제1집광부재와의 사이의 노광중에 상기 엑시마 레이저광원에서의 평행광속을 확대하기 위한 광속 확대수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항 기재의 조명장치와; 상기 조명장치의 피조사면에 위치결정된 마스크에 형성되어있는 패턴의 상을 감광기판위에 형성하기 위한 투영 광학계를 구비하며; 상기 조명장치의 상기 제2릴레이 광학계는 상기 제1릴레이 광학계에서의 광에 근거하여 광을 각각 집광하여 상기 마스크를 중첩적으로 조명하기 위한 콘덴서 광학계를 구비하는 것을 특징으로 하는 투영 노광장치.
  7. 제1항에 있어서; 상기 제1집광부재에서의 사출광의 광 에너지밀도를 EO로 하고, 상기 편향수단이 소정기간에 걸쳐 견딜수 있는 허용광 에너지밀도를 Ed로 하며, 상기 제1집광부재와 상기 광원상과의 사이의 광축에 따른 간격을 D1으로 하였을때, 상기 소정거리 DO는; DO〉D1(EO/Ed)1/2의 조건이며; 상기 제2릴레이 광학계는 상기 제1릴레이 광학계에서의 광에 근거하여 다수의 광원을 형성하기 위한 다수광원 형성수단과, 상기 다수광원 형성수단에서의 광을 각각 집광하여 상기 피조사면을 중첩적으로 조명하기 위한 콘덴서 광학계를 구비하며; 상기 소정의 제1면은, 상기 광원수단의 사출면인 것을 특징으로 하는 조명장치.
  8. 제7항에 있어서; 상기 광원 수단은 엑시마 레이저광원이며, 상기 편향수단은 반사밀러인 것을 특징으로 하는 조명장치.
  9. 제8항에 있어서; 상기 엑시마 레이저광원과 상기 제1집광부재와의 사이의 노광중에 상기 엑시마 레이저광원에서의 평행광속을 확대하기 위한 광속 확대수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  10. 제1항에 있어서; 상기 제1집광부재에서의 사출광의 광 에너지밀도를 EO로 하고, 상기 편향수단이 소정기간에 걸쳐 견딜수 있는 허용광 에너지밀도를 Ed로 하며, 상기 제1집광부재와 상기 광원상과의 사이의 광축에 따른 간격을 D1으로 하였을때, 상기 소정거리 DO는; DO〉D1(EO/Ed)1/2의 조건이며; 상기 광원수단은 엑시마 레이저광원이며, 상기 편향수단은 반사밀러인 것을 특징으로 하는 조명장치.
  11. 제10항에 있어서; 상기 제2릴레이 광하계는 상기 제1릴레이 광학계에서의 광에 근거하여 다수의 광원을 형성하기 위한 다수광원 형성수단과, 상기 다수광원 형성수단에서의 광을 각각 집광하여 상기 피조사면을 중첩적으로 조명하기 위한 콘덴서 광학계를 구비하며; 상기 소정의 제1면은, 상기 광원수단의 사출면인 것을 특징으로 하는 조명장치.
  12. 제10항에 있어서; 상기 엑시마 레이저광원과 상기 제1집광부재와의 사이의 노광중에 상기 엑시마 레이저 광원에서의 평행광속을 확대하기 위한 광속 확대수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 조명장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960027860A 1995-07-19 1996-07-11 조명장치 및 그 장치를 구비한 투영 노광장치 KR970007502A (ko)

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KR100456436B1 (ko) * 2000-05-18 2004-11-10 캐논 가부시끼가이샤 조명장치

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10209028A (ja) * 1997-01-16 1998-08-07 Nikon Corp 照明光学装置及び半導体素子の製造方法
JP5132119B2 (ja) * 2005-10-26 2013-01-30 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
WO2007049525A1 (en) 2005-10-26 2007-05-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation apparatus and manufacturing method of semiconductor device
JP2008270571A (ja) * 2007-04-20 2008-11-06 Canon Inc 照明光学装置、引き回し光学系、露光装置及びデバイス製造方法
NL2004483A (nl) * 2009-05-26 2010-11-30 Asml Holding Nv Pulse stretcher with reduced energy density on optical components.

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100456436B1 (ko) * 2000-05-18 2004-11-10 캐논 가부시끼가이샤 조명장치

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