KR940020482A - 투영 노광 방법 및 그 시스템(Projection Exposure Method and System Used Therefor) - Google Patents

투영 노광 방법 및 그 시스템(Projection Exposure Method and System Used Therefor) Download PDF

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Abstract

마스크 패턴이 분리된 기하학적 형상과 밀접 배열된 기하학적 형상 모두를 포함하는 투영 노광 방법은 초점심도를 개선할 수 있다. 광 빔 단면의 중심부는 마스크를 클 조명하기 전에 어두워진다. 이렇게 어두워진 광 빔은 제1노광을 수행하기 위해 마스크 및 광학 투영 시스템을 통해 기판 상에 형성된 포토레지스트 막에 투영된다. 다음에, 포토레지스트 막 및 광학 투영 시스템 중 하나 이상이 광학 투영 시스템의 광 축을 따라 상대 이동한 다음 어두운 광 빔이 제1노광에서와 다른 위치에서 제2노광을 수행하도록 마스크 및 광학 투영 시스템을 통해 포토레지스트 막에 다시 투영된다. 포토레지스트 막의 표면은 각각의 제1 및 제2노광 중에 광학 투영 시스템의 초점면과 일치하지 않는다. 마스크의 패턴은 제1 및 제2노광을 통해 포토레지스트 막 상에 전사된다.

Description

투영 노광 방법 및 그 시스템(Projection Exposure Method and System Used Therefor)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 투영 노광 시스템의 한 실시예에 대한 개략도,
제4도는 본 발명의 투영 노광 방법의 제1실시예에 대한 개략도.

Claims (14)

  1. 단면의 중심부가 어두운 광 빔을 발생하는 단계, 상기 어두운 광 빔을 광학 조명 시스템을 통해 패턴을 갖는 마스크에 조명하는 단계, 제1노광을 수행하도록 상기 마스크 및 광학 투영 시스템을 통해 기판 상에 형성되는 포토레지스트 막에 상기 어두운 광빔을 투영하는 단계, 상기 광학 투영 시스템의 광축을 따라 상기 포토레지스트막과 상기 광학 투영 시스템 중 적어도 하나 이상을 상대 이동하는 단계 및 상기 제1노광시의 위치와 다른 위치에서 제2노광을 수행하도록 상기 마스크와 상기 광학 투영 시스템을 통해 상기 포토레지스트막에 상기 어두운 광 빔을 투영하는 단계를 포함하며, 상기 포토레지스트 막의 표면이 각각의 상기 제1 및 제2노광시 상기 광학 투영시스템의 초점면과 일치하지 않고, 상기 마스크의 패턴이 상기 제1 및 제2노광을 통해 상기 포토레지스트 막에 전사되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  2. 단면의 중심부가 어두워지고 파장을 변화시킬 수 있는 광 빔을 발생하는 단계, 상기 어두운 광 빔을 광학조명 시스템을 통해 패턴을 갖는 마스크에 조명하는 단계, 제1노광을 수행하도록 상기 마스크 및 광학 투영 시스템을 통해 기판 상에 형성되는 포토레지스트 막에 제1파장을 갖는 상기 어두운 광 빔을 투영하는 단계 및 상기 제1노광시의 위치와 상기 광학 투영시스템 및 포토레지스트 막의 동일한 위치에서 제2노광을 수행하도록 상기 마스크와 상기 광학 투영 시스템을 통해 상기 포토레지스트 막에 제1파장과 다른 제2파장을 갖고 있는 상기 어두운 광 빔을 투영하는 단계를 포함하고, 상기 포토레지스트 막 표면이 각각의 상기 제1 및 제2노광시 상기 광학 투영 시스템의 초점면 일치하지 않고, 상기 마스크의 상기 패턴이 상기 제1 및 제2노광을 통해 상기 포토레지스트 막에 전사되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  3. 단면의 중심부가 어둡고 파장이 변화할 수 있는 광 빔을 발생하는 단계, 상기 어두운 광 빔을 광학조명 시스템을 통해 패턴을 갖는 마스크에 조명하는 단계 및 노광을 수행하도록 상기 마스크 및 광학 투영 시스템을 통해 기판 상에 형성되는 포토레지스트 막에 상기 어두운 광 빔을 투영하는 단계를 포함하고, 상기 어두운 광빔이 상기 노광 동안 파장이 연속으로 변화하고, 상기 포토레지스트 막의 표면이 상기 노광시 상기 광학 투영 시스템의 초점면과 일치하지 않고, 상기 마스크의 패턴이 상기 노광을 통해 상기 포토레지스트막에 전사되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  4. 단면의 중심부가 어두운 광 빔을 발생하는 단계, 상기 어두운 광 빔을 광학 조명 시스템을 통해 패턴을 갖는 마스크에 조명하는 단계, 제1노광을 수행하도록 상기 마스크와 광학 투영 시스템을 통해 기판 상에 형성되는 포토레지스트 막에 상기 어두운 광 빔을 투영하는 단계를 포함하고, 상기 마스크와 상기 포토레지스트 막 사이에 상기 어두운 광 빔의 광 경로가 제1길이를 갖고 있고, 제2노광을 수행하도록 상기 마스크와 상기 광학 투영 시스템을 통해 상기 포토레지스트 막에 상기 어두운 광 빔을 투영하는 단계를 포함하되, 상기 어두운 광 빔의 경로가 상기 제1길이와 다른 제2길이를 갖고 있으며, 상기 포토레지스트 막의 표면이 각각의 상기 제1 및 제2 노광시 상기 광학 투영 시스템의 초점면과 일치하지 않고, 상기 마스크의 상기 패턴이 상기 제1 및 제2노광을 통해 상기 포토레지스트 막에 전사되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법
  5. 제4항에 있어서, 상기 투명 부재가 상기 제1 및 제2노광 중 한 노광시 상기 마스크와 상기 포토레지스트 막 사이에 제공되어 상기 어두운 광 빔의 상기 광 경로에서 차이를 발생시키는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  6. 제4항에 있어서, 상기 제1투명 부재가 제1노광시 상기 마스크와 상기 포토레지스트 막 사이에 제공되고, 상기 제2 투명 부재가 상기 제2 노광시 상기 마스크와 상기 포토레지스트 막 사이에 제공되어 상기 어두운 광 빔의 광 경로에서 상기 차이를 발생시키는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  7. 단면의 중심부가 어두운 광 빔을 발생하는 단계, 상기 어두운 광 빔을 광학 조명 시스템을 통해 패턴을 갖는 마스크에 조명하는 단계, 제1노광을 수행하도록 상기 마스크 및 광학 투영 시스템을 통해 기판 상에 형성되는 포토레지스트 막에 상기 어두운 광 빔을 투영하는 단계를 포함하되, 상기 광학 투영 시스템이 다수의 초점들 중 제1초점을 이용하여 투영되는 상기 어두운 광 빔 및 다수의 상이한 초점들을 갖고 있고, 제2노광을 수행하도록 상기 마스크와 상기 광학 투영 시스템을 통해 상기 포토레지스 막에 상기 어두운 광 빔을 투영하는 단계를 포함하며, 상기 어두운 광 빔이 상기 다수의 초점들 중 제2 초점을 이용하여 투영되며, 상기 포토레지스트 막의 표면이 각각의 상기 제1 및 제2 노광시 상기 광학 투영 시스템의 초점면과 일치하지 않고, 상기 마스크의 상기 패턴이 상기 제1 및 제2 노광을 통해 상기 포토레지스트 막에 전사되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
  8. 광 빔을 발생시키기 위한 광원, 상기 광 빔을 패턴을 갖고 있는 마스크에 조명시키기 위한 광학 조명 시스템, 상기 광원과 상기 마스크 사이에 배치되고 상기 광 빔의 단면의 중심부가 어두운 암영 부재, 포토레지스트 막을 갖고 있는 지지 부재가 배치되는 단 및 상기 어두운 광 빔을 상기 포토레지스트 막에 투영하기 위한 광학 투영 시스템을 포함하고, 상기 포토레지스트 막과 상기 광학 투영 시스템 중 하나 이상이 상기 광학 투영 시스템의 광 축을 따라 상대 이동시킬 수 있고, 제1 노광이 상기 마스크와 상기 광학 투영 시스템을 통해 상기 포토레지스트 막에 상기 어두운 광 빔을 투영함으로써 수행되며, 제2 노광이, 상기 포토레지스트 막 및 상기 광학 투영 시스템 중 하나 이상이 상기 광학 투영 시스템의 광 축을 따라 상대 이동된 후 상기 제1 노광시와 다른 위치에서 상기 마스크와 상기 광학 투영 시스템을 통해 상기 포토레지스트 막에 상기 어두운 광 빔을 투영함으로써 수행되고, 상기 포토레지스트 막의 표면이 각각의 제1 및 제2 투영시 상기 광학 투영 시스템의 초점면과 일치하지 않으며, 상기 마스크의 상기 패턴이 제1 및 제2 노광을 통해 상기 포토레지스트 막 상에 전사되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 시스템.
  9. 파형이 변할 수 있는 광 빔을 발생시키기 위한 광원, 패턴을 갖고 있는 마스크에 상기 광 빔을 조명시키기 위한 광학 조명 시스템, 상기 광원과 상기 마스크 사이에 배치되고 상기 광 빔의 단면의 중심부가 어두운 암영 부재, 포토레지스트 막을 갖고 있는 지지 부재가 배치되는 단 및 상기 어두운 광 빔을 상기 포토레지스트 막에 투영하기 위한 광학 투영 시스템을 포함하고, 제1 노광이 상기 마스크와 상기 광학 투영 시스템을 통해 상기 포토레지스트막에 제1 파장을 갖는 상기 어두운 광 빔을 투영함으로써 수행되며, 제2 노광이 제1 노광시와 동일한 위치에서 상기 마스크와 상기 광학 투영 시스템을 통하는 상기 포토레지스트 막에 상기 제1파장과 다른 제2파장을 갖는 상기 어두운 광 빔을 투영함으로써 수행되고, 상기 포토레지스트 막의 표면이 각각의 제1 및 제2 노광시 상기 광학 투영 시스템의 초점면과 일치하지 않으며, 상기 마스크의 상기 패턴이 제1 및 제2 노광을 통해 상기 포토레지스트 막 상에 전사되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 시스템.
  10. 파장이 변할 수 있는 광 빔을 발생시키기 위한 광원, 패턴을 갖고 있는 마스크에 상기 광 빔을 조명시키기 위한 광학 조명 시스템, 상기 광원과 상기 마스크 사이에 배치되고 상기 광 빔의 단면의 중심부가 어두운 암영 부재, 포토레지스트 막을 갖고 있는 지지 부재가 배치되는 단 및 상기 어두운 광 빔을 상기 포토레지스트 막에 투영하기 위한 광학 투영 시스템을 포함하고, 노광이 상기 마스크와 상기 광학 투영 시스템을 통해 상기 포토레지스트 막에 상기 노광 중에 파장의 값이 연속으로 변하는 상기 어두운 광 빔을 투영함으로써 수행되며, 상기 포토레지스트 막의 표면이 상기 노광시 상기 광학 투영 시스템의 초점면과 일치하지 않으며, 상기 마스크의 상기 패턴이 노광을 통해 상기 포토레지스트 막 상에 전사되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 시스템.
  11. 광 빔을 발생시키기 위한 광원, 패턴을 갖고 있는 마스크에 상기 광 빔을 조명시키기 위한 광학 조명 시스템, 상기 광원과 상기 마스크 사이에 배치되고 상기 광 빔의 단면의 중심부가 어두운 암영 부재, 포토레지스트 막을 갖고 있는 지지 부재가 배치되는 단, 상기 어두운 광 빔을 상기 포토레지스트 막에 투영하기 위한 광학 투영 시스템 및 상기 마스크와 상기 포토레지스트 막 사이에서 상기 어두운 광 빔의 광 경로 길이를 변경시키기 위한 수단을 포함하고, 제1 노광이 상기 마스크와 상기 광학 투영 시스템을 통해 상기 포토레지스트 막에 상기 어두운 광 빔을 투영함으로써 수행되며, 상기 광 빔의 상기 광 경로가 제1길이를 갖고, 제2 노광이 상기 마스크와 상기 광학 투영 시스템을 통해 상기 포토레지스트 막에 상기 어두운 광 빔을 투영함으로써 수행되고, 상기 광 빔의 상기 광 경로가 제1길이와 다른 제2길이를 갖고 있으며, 상기 포토레지스트 막의 표면이 각각의 제1 및 제2 노광시 상기 광학 투영 시스템의 초점면과 일치하지 않으며, 상기 마스크의 상기 패턴이 제1 및 제2 노광을 통해 상기 포토레지스트 막 상에 전사되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 시스템.
  12. 제11항에 있어서, 상기 광 빔의 광 경로 길이를 변경시키는 상기 수단이 상기 마스크와 상기 포토레지스트 막 사이의 상기 광학 투영 시스템의 광 경로에 삽입될 수 있는 투명 부재를 포함하고, 상기 투명 부재가 상기 제1 및 제2 길이 사이의 차를 발생시키도록 상기 제1 및 제2 노광들 중 한 노광 중에 상기 광 경로에 삽입되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 시스템.
  13. 제11항에 있어서, 상기 광 빔의 광 경로 길이를 변경시키는 상기 수단이 상기 마스크와 상기 포토레지스트막 사이의 상기 광학 투영 시스템의 광 경로에 삽입될 수 있는 제1 및 제2 투명부재를 포함하고, 상기 제1 및 제2 투명 부재가 상기 제1 및 제2 길이 사이의 차를 발생시키도록 상기 제1 및 제2 노광들 중 한 노광 중에 상기 광 경로에 삽입되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 시스템.
  14. 광 빔을 발생시키기 위한 광원, 패턴을 갖고 있는 마스크에 상기 광빔을 조명시키기 위한 광학 조명 시스템, 상기 광원과 상기 마스크 사이에 배치되고 상기 광 빔의 단면의 중심부가 어두운 암영 부재, 포토레지스트 막을 갖고 있는 지지 부재가 배치되는 단 및 서로가 다른 제1 및 제2 초점을 갖고 있고, 상기 어두운 광 빔을 상기 포토레지스트 막에 투영하기 위한 광학 투영 시스템을 포함하고, 제1 노광이 상기 광학 투영 시스템의 제1초점을 이용하는 상기 광학 투영 시스템과 상기 마스크를 통해 상기 포토레지스트 막에 상기 어두운 광 빔을 투영함으로써 수행되며, 제2 노광이 상기 광학 투영 시스템의 제2초점을 이용하는 상기 광학 투영 시스템과 상기 마스크를 통해 상기 포토레지스트 막에 상기 어두운 광 빔을 투영함으로써 수행되고, 상기 포토레지스트 막의 표면이 제1 및 제2 노광시 상기 광학 투영 시스템의 초점면과 일치하지 않으며, 상기 마스크의 상기 패턴이 제1 및 제2 노광을 통해 상기 포토레지스트 막 상에 전사되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 시스템.
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