KR970062818A - 펄스폭 신장광학계 및 이러한 광학계를 갖춘 노광장치 - Google Patents

펄스폭 신장광학계 및 이러한 광학계를 갖춘 노광장치 Download PDF

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Abstract

펄스광의 발광시간을 의사적으로 신장하는 것에 의하여 발광시간내의 평균에너지를 저감한다.
펄스광을 복수의 광로에 따라 분할하기 위한 광분할수단과 복수의광로를 따르는 분할펄스광을 동일한 광로에 따라 합성하기 위한 광합성수단이 포함되어 있고, 동일한 광로에 따라 합성된 합성펄스광의 강도가 복수의 광로에 따라 분할되는 원 펄스광의 강도보다 실질적으로 더 작게 되도록 복수의 광로는 서로 소정의 광로차를 가진다.

Description

펄스폭 신장광학계 및 이러한 광학계를 갖춘 노광장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 관한 펄스폭 신장광학계의 구성을 개략적으로 도시한 도면.

Claims (22)

  1. 펄스광의 발광시간을 의사적으로 신장하는 펄스폭 신장광학계로서, 상기 펄스광을 복수의 광로에 따라 분할하기 위한 광 분할수단과 복수의 광로에 따르는 분할펄스광을 동일한 광로에 따라 합성하기 위한 광합성수단이 포함되어 있고, 동일한 광로에 따라 합성된 합성펄스광의 강도가 복수의 광로에 따라 분할되는 원펄스광의 강도보다도 실질적으로 작게 되도록, 복수의 광로가 서로 소정의 광로차를 가지는 것을 특징으로 하는 펄스폭 신장광학계.
  2. 제1항에 있어서, 상기 소정의 광로차가 원펄스광의 발광시간 내에서의 발광강도가 피크강도의 1/2이상인 시간과 광 속의 적(積)보다 더 큰 것을 특징으로 하는 펄스폭 신장광학계.
  3. 제1항에 있어서, 상기 복수의 광로중 적어도 하나의 광로중에 광분할수단의 분할면과 광합성수단의 합성면을 실질적으로 공역으로 구성하기 위한 릴레이 광학계가 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 펄스폭 신장광학계.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 광로가 2개의 공로로 구성되어 있고, 광분할수단과 광합성수단이 동일한 광학소자인 것을 특징으로 하는 펄스폭 신장광학계.
  5. 패턴이 형성되어 있는 마스크를 거의 균일하게 조명하기 위한 조명광학계가 포함되어 있고, 상기 마스크 위에 형성되어 있는 패턴의 상을 감광기판위에 형성하는 노광장치로서, 조명광학계에 펄스발광하는 광원과 이러한 광원으로부터의 펄스광의발광시간을 의사적으로 신장하기 위한 펄스폭 신장광학계가 제공되어 있고, 펄스폭 신장광학계에는 펄스광을 복수의 광로에 따라 분할하기 위한 광분할수단과 복수의 광로에 따르는 분할펄스광을 동일한 광로에 따라 합성하기 위한 광합성 수단이 포함되어 있고, 동일한 광로에 따라 합성된 합성펄스광의 강도가 복수의 광로에 따라 분할되는 원펄스광의 강도보다 실질적으로 더 작게 되도록, 복수의 광로가 서로 소정의 광로차를 가지는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 조명광학계에, 펄스폭 신장광학계를 거쳐 형성된 합성펄스광에 근거하여 다수의 광원상을 형성하기 위한 다광원상 형성수단과 이러한 다광원상 형성수단에 의하여 형성된 다수의 광원상으로부터의 광속을 집광하여 상기 마스크 위를 중첩적으로 조명하는 집광광학계가 더 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 소정의 광로차가 원펄스광의 발광시간내에서의 발광강도가 피크강도의 1/2 이상인 시간과 광 속의 적보다 더 큰 것을 특징으로 하는 노광장치.
  8. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 복수의 광로중 적어도 하나의 광로중에, 광분할수단의 분할면과 광합성 수단의 합성면을 광학적으로 공역이 되도록 구성하기 위한 릴레이 광학계가 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  9. 제5항에 있어서, 상기 복수의 광로가 2개의 광로로 구성되고, 광분할수단과 광합성수단이 동일한 광학소자인 것을 특징으로 하는 노광장치.
  10. 제6항에 있어서, 상기 다광원상 형성수단이 조명광학계의 광축에 따라 병렬배치되어 있는 다수의 렌즈요소들로 구성되는 플라이아이 렌즈이고, 이러한 플라이아이 렌즈의 입사면과 광합성수단의 합성면이 실질적으로 공역으로 위치가 결정되어 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  11. 제6항에 있어서, 상기 복수의 광로가 2개의 광로로 구성되고, 광분할수단과 광합성수단이 동일한 광학소자인 것을 특징으로 하는 노광장치.
  12. 제7항에 있어서, 상기 복수의 광로가 2개의 광로로 구성되고, 광분할수단과 광합성수단이 동일한 광학소자인 것을 특징으로 하는 노광장치.
  13. 제8항에 있어서, 상기 복수의 광로가 2개의 광로로 구성되고, 광분할수단과 광합성수단이 동일한 광학소자인 것을 특징으로 하는 노광장치.
  14. 제7항에 있어서, 상기 다광원상 형성수단이 조명광학계의 광축에 따라 병렬 배치되어 있는 다수의 렌즈요소들로 구성되는 플라이아이 렌즈이고, 이러한 플라이아이 렌즈의 입사면과 광합성수단의 합성면이 실질적으로 공역으로 위치가 결정되어 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  15. 제8항에 있어서, 상기 다광원상 형성수단이 조명광학계의 광축에 따라 병렬 배치되어 있는 다수의 렌즈요소들로 구성되는 플라이아이 렌즈이고, 이러한 플라이아이 렌즈의 입사면과 광합성수단의 합성면이 실질적으로 공역으로 위치가 결정되어 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  16. 제9항에 있어서, 상기 다광원상 형성수단이 조명광학계의 광축에 따라 병렬 배치되어 있는 다수의 렌즈요소들로 구성되는 플라이아이 렌즈이고, 이러한 플라이아이 렌즈의 입사면과 광합성수단의 합성면이 실질적으로 공역으로 위치가 결정되어 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  17. 제5항에 있어서, 상기 마스크상의 패턴을 감광성기판에 노광하는 공정이 포함되어 있는 반도체 소자의 제조방법.
  18. 제6항에 있어서, 상기 마스크상의 패턴을 감광성기판에 노광하는 공정이 포함되어 있는 반도체 소자의 제조방법.
  19. 제7항에 있어서, 상기 마스크상의 패턴을 감광성기판에 노광하는 공정이 포함되어 있는 반도체 소자의 제조방법.
  20. 제8항에 있어서, 상기 마스크상의 패턴을 감광성기판에 노광하는 공정이 포함되어 있는 반도체 소자의 제조방법.
  21. 제9항에 있어서, 상기 마스크상의 패턴을 감광성기판에 노광하는 공정이 포함되어 있는 반도체 소자의 제조방법.
  22. 제10항에 있어서, 상기 마스크상의 패턴을 감광성기판에 노광하는 공정이 포함되어 있는 반도체 소자의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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