KR950033695A - 광학 인테그레이터 및 이를 사용한 투영 노광 장치 - Google Patents

광학 인테그레이터 및 이를 사용한 투영 노광 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR950033695A
KR950033695A KR1019950011281A KR19950011281A KR950033695A KR 950033695 A KR950033695 A KR 950033695A KR 1019950011281 A KR1019950011281 A KR 1019950011281A KR 19950011281 A KR19950011281 A KR 19950011281A KR 950033695 A KR950033695 A KR 950033695A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
lens
component
group
section
lens component
Prior art date
Application number
KR1019950011281A
Other languages
English (en)
Inventor
타카시 모리
히데키 코마쭈다
Original Assignee
오노 시게오
가부시끼가이샤 니콘
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오노 시게오, 가부시끼가이샤 니콘 filed Critical 오노 시게오
Publication of KR950033695A publication Critical patent/KR950033695A/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/0006Arrays
    • G02B3/0037Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • G02B3/0056Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/0006Arrays
    • G02B3/0037Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • G02B3/0062Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/0006Arrays
    • G02B3/0037Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • G02B3/0062Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between
    • G02B3/0068Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between arranged in a single integral body or plate, e.g. laminates or hybrid structures with other optical elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 광원 시스템, 복수의 광원 상을 형성하는 광학 인테그레이터, 및 직사각형 또는 원호 패턴으로 표적 조명면을 다양한 방식으로 조명하는 집광 광학계로 이루어짐을 특징으로 하는 투영 노광 장치에 관한 것이다. 광학 인테그레이터는 광원 측으로부터, 복수의 제1렌즈 성분으로 각각 구성된 복수의 제1렌즈 성분 그룹을 갖는 제1렌즈 그룹, 및 복수의 제2렌즈 성분으로 각각 구성된 복수의 제2렌즈 성분의 그룹을 갖는 제2렌즈 그룹을 갖는다. 제2렌즈 성분은 제1렌즈 성분과 1대 1로 대응되도록 배열되어 있으며, 제1 및 제2렌즈의 렌즈 단면의 디멘젼은 소정의 관계식을 만족시킨다.

Description

광학 인테그레이터 및 이를 사용한 투영 노광 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제6도는 본 발명에 따른 플라이 눈 렌즈(50)의 원리를 설명하기 위한 투시도, 제7도는 본 발명에 따른 플라이 툰 렌즈(50)의 배열 방법을 설명하기 위한 도면, 제8도는 본 발명을 직사각형 노광 필드를 갖는 주사형 투영 노광 장치에 적용된 실시예의 배열을 도시한 개요도.

Claims (14)

  1. 직사각형 렌즈 단면을 갖고 제1방향을 따라 배열된 제1렌즈 성분의 그룹을 갖고, 제1방향에 수직인 제2방향을 따라 배열된 제1렌즈 그룹으로서, 상기 두 개의 제1렌즈 성분의 위치가 상기 제1방향을 따라 서로 소정의 길이로 이동된 두 개의 상기 제1렌즈 성분에 각각 인접한 제1렌즈 그룹 ; 상기 제1렌즈 성분의 렌즈 단면과는 다른 직사각형 렌즈 단면을 갖고 제2방향을 따라 배열된 제2렌즈 성분의 그룹을 갖고, 제1방향을 따라 배열된 제1렌즈 그룹으로서, 상기 두 개의 제2렌즈 성분의 위치가 상기 제2방향을 따라 서로 소정의 길이로 이동된 두 개의 상기 제2렌즈 성분에 각각 인접한 제2렌즈 그룹 ; 및 상기 제1 및 제2렌즈 그룹을 각각 상기 제1렌즈 성분의 렌즈 단면의 중심이 상기 제2렌즈 성분의 렌즈 단면의 중심과 일치하는 상태로 고정하도록 배열된 베이스로 이루어짐을 특징으로 하는 광학 인테그레이터.
  2. 제1항에 있어서, 제1렌즈 성분이 전체로서 상기 베이스로 형성됨을 특징으로 하는 인테그레이터.
  3. 제2항에 있어서, 제1렌즈 성분이 전체로서 주형법에 의한 상기 기판으로 형성됨을 특징으로 하는 인테그레이터.
  4. 제2항에 있어서, 제1렌즈 성분 및 베이스가 접착제로 서로 고정됨을 특징으로 하는 인테그레이터.
  5. 직사각형 렌즈 단면을 갖고 제1방향을 따라 배열된 제1렌즈 성분의 그룹을 갖고, 제1방향에 수직인 제2방향을 따라 배열된 제1렌즈 그룹으로서, 상기 두 개의 제1렌즈 성분의 위치가 상기 제1방향을 따라 서로 소정의 길이로 이동된 두 개의 상기 제1렌즈 성분에 각각 인접한 제1렌즈 그룹 ; 및 상기 제1렌즈 성분의 렌즈 단면과는 다른 직사각형 렌즈 단면을 갖고 제2방향을 따라 배열된 제2렌즈 성분의 그룹을 갖고, 제1방향을 따라 배열된 제1렌즈 그룹으로서, 상기 두 개의 제2렌즈 성분의 위치가 상기 제2방향을 따라 서로 소정의 길이로 이동된 두 개의 상기 제2렌즈 성분에 각각 인접한 제2렌즈 그룹으로 이루어지며, 상기 제1렌즈 성분의 렌즈 단면의 중심이 상기 제2렌즈 성분의 렌즈 단면의 성분과 일치하며, 하기의 관계가 만족됨을 특징으로 하는 광학 인테그레이터.
    1x1/y1=a, a〉2
    △1x1=a·1y1/m, m≥2
    1x2/1y2=a/m2
    (4a+1)0.5/2-0.5≤m≤(4a+1)0.5/2+0.5
    상기식에서, 1x1는 제1방향을 따라 상기 제1렌즈 성분의 렌즈 단면의 디멘젼을 나타내며, 1y1은 제2방향을 따라 상기 제1렌즈 성분의 렌즈 단면의 디멘젼을 나타내고, lx2는 제2방향을 따라 상기 제2렌즈 성분의 렌즈 단면의 디멘젼을 나타내며, ly2는 제2방향에 따라 상기 제2렌즈 성분의 디멘젼을 나타내고, △1x1는 제1방향을 따라서 상기 제1렌즈 성분 그룹 중의 하나에 속하는 제1렌즈 성분으로부터 상기 제1렌즈 성분 그룹 중에서 상기 하나에 인접하여 배열된 상기 제1렌즈 성분 그룹에 속하는 제1렌즈 성분까지의 이동량을 나타낸다.
  6. 제5항에 있어서, 1/2〈1x2/1y2≤3/2의 관계를 만족함을 특징으로 하는 인테그레이터.
  7. 제5항에 있어서, 2/3〈1x2/1y2≤3/2의 관계를 만족함을 특징으로 하는 인테그레이터.
  8. 제5항에 있어서, 제1렌즈 그룹 및 제2렌즈 그룹이 서로 분리됨을 특징으로 하는 인테그레이터.
  9. 광속을 제공하는 광원 시스템 ; 상기 광원 시스템으로부터의 광속에 기초하여 복수의 광원상을 형성하는 광학 인테그레이터 ; 상기 광학 인테그레이터로부터의 광속을 집광하는 집광 광학계 ; 물체가 조명되도록 지지하는 제1스테이지 ; 물체가 노광되도록 지지하는 제2스테이지 ; 및 상기 제1스테이지에 의해 지지되는 조명된 물체상에서의 위치와 상기 제2스테이지에 의해 지지되는 노광된 물체상의 위치를 만들기 위한 투영 광학계로 이루어지며, 상기 광학 인테그레이터는 : 직사각형 렌즈 단면을 갖고 제1방향을 따라 배열된 제1렌즈 성분의 그룹을 갖고, 제1방향에 수직인 제2방향을 따라 배열된 제1렌즈 그룹으로서, 상기 두 개의 제1렌즈 성분의 위치가 상기 제1방향을 따라 서로 소정의 길이로 이동된 두 개의 상기 제1렌즈 성분에 각각 인접한 제1렌즈 그룹 ; 및 상기 제1렌즈 성분의 렌즈 단면과는 다른 직사각형 렌즈 단면을 갖고 제2방향을 따라 배열된 제2렌즈 성분의 그룹을 갖고, 제1방향을 따라 배열된 제1렌즈 그룹으로서, 상기 두 개의 제2렌즈 성분의 위치가 상기 제2방향을 따라 서로 소정의 길이로 이동된 두 개의 상기 제2렌즈 성분에 각각 인접한 제2렌즈 그룹으로 이루어지며, 상기 제1렌즈 성분의 렌즈 단면의 중심이 상기 제2렌즈 성분의 렌즈 단면의 성분과 일치하며, 하기의 관계가 만족됨을 특징으로 하고
    1x1/y1=a, a〉2
    △1x1=a·1y1/m, m≥2
    1x2/1y2=a/m2
    (4a+1)0.5/2-0.5≤m≤(4a+1)0.5/2+0.5
    상기식에서, 1x1는 제1방향을 따라 상기 제1렌즈 성분의 렌즈 단면의 디멘젼을 나타내며, 1y1은 제2방향을 따라 상기 제1렌즈 성분의 렌즈 단면의 디멘젼을 나타내고, lx2는 제2방향을 따라 상기 제2렌즈 성분의 렌즈 단면의 디멘젼을 나타내며, ly2는 제2방향에 따라 상기 제2렌즈 성분의 디멘젼을 나타내고, △1x1는 제1방향을 따라서 상기 제1렌즈 성분 그룹 중의 하나에 속하는 제1렌즈 성분으로부터 상기 제1렌즈 성분 그룹 중에서 상기 하나에 인접하여 배열된 상기 제1렌즈 성분 그룹에 속하는 제1렌즈 성분까지의 이동량을 나타냄을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  10. 제9항에 있어서, 추가로 상기 광학 인테그레이터와 상기 집광 광학계 사이에 배열된 개구 스톱을 포함함을 특징으로 하는 장치.
  11. 제10항에 있어서, 개구 스톱이 존 개구부를 가짐을 특징으로 하는 장치.
  12. 제10항에 있어서, 개구 스톱이 복수의 편심 개구부를 가짐을 특징으로 하는 장치.
  13. 제9항에 있어서, 투영 광학계가 환원계임을 특징으로 하는 장치.
  14. 제1항에 있어서, 기판이 상기 제1렌즈 성분과 동일한 굴절률을 갖는 물질로 제조됨을 특징으로 하는 인테그레이터.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950011281A 1994-05-09 1995-05-09 광학 인테그레이터 및 이를 사용한 투영 노광 장치 KR950033695A (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9461294 1994-05-09
JP94612/1994 1994-05-09
JP22639594A JP3633002B2 (ja) 1994-05-09 1994-09-21 照明光学装置、露光装置及び露光方法
JP226395/1994 1994-09-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR950033695A true KR950033695A (ko) 1995-12-26

Family

ID=26435894

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950011281A KR950033695A (ko) 1994-05-09 1995-05-09 광학 인테그레이터 및 이를 사용한 투영 노광 장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5594526A (ko)
JP (1) JP3633002B2 (ko)
KR (1) KR950033695A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100917418B1 (ko) * 2006-10-13 2009-09-14 캐논 가부시끼가이샤 노광장치

Families Citing this family (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100422887B1 (ko) * 1995-03-16 2005-02-02 가부시키가이샤 니콘 노광장치및방법
JPH0950958A (ja) * 1995-05-29 1997-02-18 Nikon Corp 照明光学装置及びそれを備えた投影露光装置
US5801821A (en) * 1995-06-30 1998-09-01 Intel Corporation Photolithography method using coherence distance control
JP3627355B2 (ja) * 1996-02-22 2005-03-09 ソニー株式会社 スキャン式露光装置
JP3796294B2 (ja) * 1996-07-09 2006-07-12 キヤノン株式会社 照明光学系及び露光装置
IT1291039B1 (it) * 1997-02-19 1998-12-14 Fiat Ricerche Dispositivo di illuminazione, ad esempio proiettore per autoveicoli, con possibilita' di variazione delle caratteristiche del fascio
JP4310816B2 (ja) * 1997-03-14 2009-08-12 株式会社ニコン 照明装置、投影露光装置、デバイスの製造方法、及び投影露光装置の調整方法
EP0901031B1 (en) * 1997-09-05 2004-10-13 Sharp Kabushiki Kaisha Dark field projection display
US6014202A (en) * 1997-09-16 2000-01-11 Polaroid Corporation Optical system for transmitting a graphical image
JPH11212023A (ja) * 1997-11-18 1999-08-06 Seiko Epson Corp 照明光学系および投写型表示装置
JPH11174372A (ja) * 1997-12-11 1999-07-02 Victor Co Of Japan Ltd 投影装置の照明装置及び投影装置
JP4238390B2 (ja) * 1998-02-27 2009-03-18 株式会社ニコン 照明装置、該照明装置を備えた露光装置および該露光装置を用いて半導体デバイスを製造する方法
US6741394B1 (en) 1998-03-12 2004-05-25 Nikon Corporation Optical integrator, illumination optical apparatus, exposure apparatus and observation apparatus
US7006595B2 (en) * 1998-05-05 2006-02-28 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag Illumination system particularly for microlithography
US20050002090A1 (en) * 1998-05-05 2005-01-06 Carl Zeiss Smt Ag EUV illumination system having a folding geometry
US7142285B2 (en) * 1998-05-05 2006-11-28 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
US7329886B2 (en) * 1998-05-05 2008-02-12 Carl Zeiss Smt Ag EUV illumination system having a plurality of light sources for illuminating an optical element
DE10100265A1 (de) * 2001-01-08 2002-07-11 Zeiss Carl Beleuchtungssystem mit Rasterelementen unterschiedlicher Größe
US20070030948A1 (en) * 1998-05-05 2007-02-08 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system with field mirrors for producing uniform scanning energy
US6227669B1 (en) * 1998-05-26 2001-05-08 Industrial Technology Research Institute Illumination device and image projection apparatus comprising the device
US6048081A (en) * 1998-06-15 2000-04-11 Richardson; Brian Edward Beam divergence and shape controlling module for projected light
US6583937B1 (en) * 1998-11-30 2003-06-24 Carl-Zeiss Stiftung Illuminating system of a microlithographic projection exposure arrangement
DE19855106A1 (de) * 1998-11-30 2000-05-31 Zeiss Carl Fa Beleuchtungssystem für die VUV-Mikrolithographie
DE19931848A1 (de) * 1999-07-09 2001-01-11 Zeiss Carl Fa Astigmatische Komponenten zur Reduzierung des Wabenaspektverhältnisses bei EUV-Beleuchtungssystemen
DE10062579A1 (de) * 1999-12-15 2001-06-21 Nikon Corp Optischer Integrierer,optische Beleuchtungseinrichtung, Photolithographie-Belichtungseinrichtung,und Beobachtungseinrichtung
US6373633B1 (en) 2000-07-06 2002-04-16 Mems Optical, Llc Shaping irradiance profiles using optical elements with positive and negative optical powers
JP3605047B2 (ja) * 2001-05-22 2004-12-22 キヤノン株式会社 照明装置、露光装置、デバイス製造方法及びデバイス
US6773142B2 (en) * 2002-01-07 2004-08-10 Coherent, Inc. Apparatus for projecting a line of light from a diode-laser array
JP4324957B2 (ja) * 2002-05-27 2009-09-02 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置および露光方法
JP4356695B2 (ja) * 2003-05-09 2009-11-04 株式会社ニコン 照明光学系、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法
US7318644B2 (en) * 2003-06-10 2008-01-15 Abu-Ageel Nayef M Compact projection system including a light guide array
JP5026788B2 (ja) * 2003-07-30 2012-09-19 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィの照明システム
US7016393B2 (en) * 2003-09-22 2006-03-21 Coherent, Inc. Apparatus for projecting a line of light from a diode-laser array
WO2005084213A2 (en) * 2004-02-27 2005-09-15 Luxint, Inc. Light recycler and color display system including same
EP1920285A4 (en) * 2005-07-28 2010-11-03 Light Prescriptions Innovators OPEN-FREE LENTICULAR OPTICAL ELEMENTS AND THEIR APPLICATION TO CAPACITORS AND PROJECTORS
WO2007026390A1 (ja) * 2005-08-30 2007-03-08 Tadahiro Ohmi スキャン型露光装置
JP2007150295A (ja) 2005-11-10 2007-06-14 Carl Zeiss Smt Ag ラスタ要素を有する光学装置、及びこの光学装置を有する照射システム
US7265908B2 (en) * 2005-12-19 2007-09-04 Coherent, Inc. Apparatus for projecting a line of light from a diode-laser array
TWI284777B (en) * 2005-12-29 2007-08-01 Coretronic Corp Projector and integration rod thereof
DE102006001435B4 (de) * 2006-01-10 2009-10-08 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Vorrichtung zur Beleuchtung und zur Inspektion einer Oberfläche
DE102006034709A1 (de) * 2006-07-27 2008-01-31 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie, Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, mikrolithographisches Herstellungsverfahren für Bauelemente sowie mit diesem Verfahren hergestelltes Bauelement
US20080225257A1 (en) * 2007-03-13 2008-09-18 Nikon Corporation Optical integrator system, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
DE102007022895B9 (de) * 2007-05-14 2013-11-21 Erich Thallner Vorrichtung zum Übertragen von in einer Maske vorgesehenen Strukturen auf ein Substrat
JP2009069691A (ja) * 2007-09-14 2009-04-02 Olympus Corp 顕微鏡照明装置
US8497977B2 (en) 2009-03-12 2013-07-30 Nikon Corporation Optical integrator, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2011216863A (ja) * 2010-03-17 2011-10-27 Hitachi Via Mechanics Ltd ビームサイズ可変照明光学装置及びビームサイズ変更方法
US9703204B2 (en) 2010-04-02 2017-07-11 Nikon Corporation Light source apparatus, optical apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, illuminating method, exposure method, and method for manufacturing optical apparatus
JP5581958B2 (ja) 2010-10-12 2014-09-03 ソニー株式会社 照明装置、投影型表示装置、直視型表示装置
JP5884743B2 (ja) * 2013-01-30 2016-03-15 ソニー株式会社 照明装置および表示装置
CN105372816A (zh) * 2014-08-11 2016-03-02 上海太阳能工程技术研究中心有限公司 光纤耦合式半导体激光器的匀光方法
ES2758712T3 (es) * 2015-11-09 2020-05-06 Signify Holding Bv Método para producir un componente óptico mediante impresión 3D, un componente óptico y un dispositivo de iluminación
JP2018045060A (ja) * 2016-09-13 2018-03-22 キヤノン株式会社 照明装置、露光装置及び物品の製造方法
ES2797258T3 (es) * 2016-11-14 2020-12-01 Signify Holding Bv Conformación de haz de led
CN209086650U (zh) * 2018-05-14 2019-07-09 中强光电股份有限公司 照明系统及投影装置
WO2022207389A1 (en) * 2021-04-01 2022-10-06 Signify Holding B.V. Köhler beam shaping element
CN113238387A (zh) * 2021-05-07 2021-08-10 广景视睿科技(深圳)有限公司 一种复眼镜片模组、照明装置及dlp光机模组

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2186123A (en) * 1937-01-27 1940-01-09 Zeiss Ikon Ag Illuminating system
US2183249A (en) * 1937-11-06 1939-12-12 Zeiss Ikon Ag Illuminating device for projectors
US2326970A (en) * 1939-05-25 1943-08-17 Rantsch Kurt Illuminating system, particularly for projection purposes
US2803163A (en) * 1952-05-20 1957-08-20 Zeiss Ikon Ag Illuminating system for picture projectors
US2991691A (en) * 1956-09-03 1961-07-11 Kamera & Kinowerke Dresden Veb Light condenser
JPS5313976B1 (ko) * 1969-08-04 1978-05-13
JPS58147708A (ja) * 1982-02-26 1983-09-02 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 照明用光学装置
US4769750A (en) * 1985-10-18 1988-09-06 Nippon Kogaku K. K. Illumination optical system
JPS6461716A (en) * 1987-08-31 1989-03-08 Canon Kk Illuminator
US4949630A (en) * 1988-10-04 1990-08-21 Warner-Lambert Company Apparatus for forming a fold-over soft center-filled confection
JP2691319B2 (ja) * 1990-11-28 1997-12-17 株式会社ニコン 投影露光装置および走査露光方法
JP3360686B2 (ja) * 1990-12-27 2002-12-24 株式会社ニコン 照明光学装置および投影露光装置並びに露光方法および素子製造方法
JPH04369209A (ja) * 1991-06-17 1992-12-22 Nikon Corp 露光用照明装置
JP2973750B2 (ja) * 1992-03-31 1999-11-08 松下電器産業株式会社 照明光学装置とそれを用いた投写型表示装置
US5444572A (en) * 1992-11-27 1995-08-22 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Wavefront corrector for scanning microlens arrays

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100917418B1 (ko) * 2006-10-13 2009-09-14 캐논 가부시끼가이샤 노광장치

Also Published As

Publication number Publication date
US5594526A (en) 1997-01-14
JPH0831736A (ja) 1996-02-02
JP3633002B2 (ja) 2005-03-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR950033695A (ko) 광학 인테그레이터 및 이를 사용한 투영 노광 장치
US4497015A (en) Light illumination device
KR900008299A (ko) 조명방법 및 그 장치와 투영식 노출방법 및 그 장치
JP3707060B2 (ja) 照明光学装置
KR980005334A (ko) 노광 방법 및 노광 장치
KR950004373A (ko) 투영 노광장치 및 방법
JPH06214318A (ja) 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置
KR950012135A (ko) 투영노광장치 및 이를 이용한 디바이스제조방법
KR970062818A (ko) 펄스폭 신장광학계 및 이러한 광학계를 갖춘 노광장치
KR950024024A (ko) 투영노광장치 및 이를 이용한 디바이스 제조방법
KR950034479A (ko) 조명광학계
KR940010218A (ko) 사진석판술용 노광 장치의 조명 시스템
KR920013645A (ko) 투영노광방법
KR920006777A (ko) 전자기 방사에 의해 대상 물체상에 마크를 제공하는 방법 및 장치와, 그 대상 물체
KR940020482A (ko) 투영 노광 방법 및 그 시스템(Projection Exposure Method and System Used Therefor)
KR100269244B1 (ko) 복굴절 물질로 만들어진 투과형 광학부품을 사용한 리소그래피장비용 광학계의 초점심도 확장 방법 및 장치
KR980005336A (ko) 조명장치, 노광장치 및 디바이스제조방법
KR950009902A (ko) 웨이퍼 스테퍼
JPH01114035A (ja) 露光装置
JPS622539A (ja) 照明光学系
KR970007502A (ko) 조명장치 및 그 장치를 구비한 투영 노광장치
KR960035157A (ko) 반도체 노광 장치
JPS6380243A (ja) 露光装置用照明光学装置
JPS57200029A (en) Exposing device
JPH09232226A (ja) スキャン式露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid