KR980005334A - 노광 방법 및 노광 장치 - Google Patents

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Abstract

노광용 조명광의 파장을 짧게하지 않고, 초점심도의 마진에 관한 조건을 충족시키면서 보다 해상도를 향상시키는 노광방법 및 노광장치를 제공코자 하는 것으로, 광원1로부터의 조명광IL 아래에서, 레티클R의 패턴상을 투영광학계PL을 거쳐 웨이퍼상에 투영노광한다. 포커스 제어 정밀도, 하지 패턴의 단차(마크 단차), 및 포토레지스트에 소정계수를 곱하여 얻어지는 폭의 합이 초점심도보다 작다고 하는 초점심도의 마진에 관한 조건을 충족하기 위해, 마크 단차가 낮고 포토레지스트가 얇은 때에 투영광학계PL의 기구수를 크게해서 해상도를 높이고, 마크 단차가 높고 포토레지스트가 두꺼울때에는 그 개구수를 작게 한다. 투영광학계PL의 개구수가 클때에는 통상의 조명법을 사용하고, 그 개구수가 작을 때에는 해상도를 높이기 위해서 변형 조명법을 사용한다.

Description

노광 방법 및 노광 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 실시예에서 사용되는 투영노광장치를 나타낸 개략구성도이다.

Claims (9)

  1. 노광용 조명광 하에서 마스크상의 전사용 패턴을 감광 재료가 도포된 기판상에 전사 노광하는 노광 방법에 있어서, 상기 기판상에 도포된 상기 감광 재료의 두께에 따라서 상기 노광용 조명광의 적산(積算) 노광량을 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 마스크에 따르는, 소정 기준이 되는 두께에서의 상기 감광 재료에 대한 적정 적산 노광량을 미리 기억시켜 두고, 상기 감광 재료의 두께 및 상기 소정 기준이 되는 두께의 차이를 구하여, 상기 차이에 근거하여 상기 노광용 조명광의 적산 노광량을 설정하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 마스크상의 전사용 패턴은 투영 광학계를 매개하여 상기 기판상에 투영 노광되며, 상기 기판상에 도포된 상기 감광 재료의 두께는 0.5㎛이하이며, 상기 투영 광학계의 개구수는 0.68이상인 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  4. 노광용 조명광하에서 마스크사의 전사용 패턴을 감광 재료가 도포된 기판상에 전사 노광하는 노광 방법에 있어서, 상기 기판상에 도포된 상기 감광 재료의두께에 따라서 상기 투영 광학계의 개구수 전환을 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  5. 조명 광학계로 부터의 노광용 조명광으로 마스크에 형성된 전사용 패턴을 조명하고, 상기 조명광하에서 상기 마스크 패턴의 상의 투영광학계를 통하여 감광 시판상에 전사 노광하는 노광 방법에 있어서, 상기 조명 광학계 내의 상기 마스크의 패턴면에 대한 광학적 푸리에(Fourier) 변환면인 조명계 동공면에서의 광량 분포가, 광축을 포함하는 제 1 의 영역에 대한 통상 조명 조건과, 상기 조명계 동공면에서의 광량 분포가 상기 광축을 포함하지 않는 제 2영역에 대한 변형 조명 조건을 전환 자제로 구비하고, 상기 투영 광학계의 개구수에 대응하여 상기 조명 광학계를 상기 통상 및 변형의 조명 조건의 어느것으로 전환하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  6. 노광용의 조명광으로 마스크에 형성된 전사용의 패턴을 조명하는 조명 광학계와, 상기 조명광하에서 상기 마스크의 패턴상을 감광 기판상에 투영되는 투영되는 투영 광학계를 포함하여 이루어 지는 노광 장치에 있어서, 상기 투영 광학계의 개구수를 전환하는 투영 조건 변경 수단과, 상기 조명 광학계의 조명 조건을 상기 조명 광학계내의 상기 마스크의 패턴면에 대한 광학적 푸리에 변화면인 조명계 동공면에서의 광량 분포가 광축을 포함하는 제1영역에 대한 통상의 조명 조건과, 상기 조명계 동공면에서의 광량분포가 상기 광축을 포함 하지 않는 제 2 영역에 대한 변형 조명 조건을 포함하는 복수의 조명 조건으로 전환하는 조명 조건 변경 수단을 구비하고, 상기 조명 조건 변경 수단은, 상기 투영 광학계의 개구수가 0.68이상으로 설정할 때에는, 상기 조명 광학계를 상기 통상의 조명 조건으로 설정하고, 상기 투영 광학계의 개구수가 0.6이하로 설정할 때에는, 상기 조명 광학계를 상기 변형 조명 조건으로 설정하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 조명 변경 수단은, 상기 노광용의 조명광을 제 1 및 제 2 의 광속으로 분할하는 광속 분할계와, 상기 제 1 광속의 단면 형상을 고리 띠 (輪帶)으로 확대하는 제 1 광속 확대계와, 상기 제 2 광속의 광량 분포를 내측과 외형에서 반전시킨 상태에서 단면 형상을 고리 띠 모양으로 확대하는 제 2 의 광속 확대계와, 상기 제 1 및 제 2 의 광속 확대계로 부터의 광속을 상기 조명계 동공면보다 앞에 합성하는 광속 합성계를 가지며, 상기 변형 조명 조건으로 설정된 경우에, 상기 조명 조건 변경 수단은, 상기 광속 합성계에서 합성된 광속을 상기 조명계 동공면으로 인도하여 고리 띠 조명을 실시하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  8. 얼라이먼트용의 조명광 하에서 얼라이먼트 광학계를 통하여 감광 기판상의 위치 맞춤용 마크의 상을 검출하고, 그 검출 결과에 근거하여 상기 감광 기판의 위치 맞춤을 실시하며, 노광용의 조명광하에서 마스크에 형성된 패턴의 상을 투영 광학계를 통하여 상기 감광 기판상에 전사 노광하는 노광 방법에 있어서, 상기 얼라이먼트 광학계내의 상기 감광 기판의 표면에 대한 광학적 푸리에 변환면인 얼라이먼트계 동공면상에서 균일하게 결상 광속을 통과 시키는 통상의 검출 조건과, 상기 얼라이먼트계 동공면상에서 결상 광속을 소정의 분포로 통과시켜 윤곽 강조를 실시하는 윤곽 강조용 검출 조건을 전환 자재로 구비하여, 상기 투영 광학계의 개구수에 응하여, 상기 얼라이먼트 광학계를 상기 2개의 검출 조건중 어느 것으로 전환하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 투영 광학계의 개구수가 0.68이상으로 설정될 경우에는 상기 얼라이먼트 광학계를 상기 윤곽 강조용 검출 조건으로 설정하고, 상기 투영 광학계의 개구수가 0.6이하로 설정될 경우에는 상기 얼라이먼트 광학계를 상기 통상의 검출 조건으로 설정하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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