JP2018045060A - 照明装置、露光装置及び物品の製造方法 - Google Patents
照明装置、露光装置及び物品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018045060A JP2018045060A JP2016179023A JP2016179023A JP2018045060A JP 2018045060 A JP2018045060 A JP 2018045060A JP 2016179023 A JP2016179023 A JP 2016179023A JP 2016179023 A JP2016179023 A JP 2016179023A JP 2018045060 A JP2018045060 A JP 2018045060A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fly
- eye lens
- light
- microlenses
- integrator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Abstract
【課題】被照明面において円弧状の領域を照明するのに有利な照明装置を提供する。
【解決手段】被照明面と光学的に共役な面に、第1方向に沿って長手方向を有し、前記第1方向に直交する第2方向に沿って短手方向を有する矩形状の照明領域を形成する光学系を有し、円弧状の開口をカバーする前記照明領域を形成する第1インテグレータ及び第2インテグレータと、を含み、前記第1インテグレータは、前記第1方向に第1長さを有し、前記第2方向に第2長さを有する第1照明領域を形成し、前記第2インテグレータは、前記第1方向に前記第1長さより短い第3長さを有し、前記第2方向に前記第2長さより短い第4長さを有する第2照明領域を、前記第1照明領域の前記第1方向に沿った辺のうちの前記円弧状の開口の凸側の辺と前記第2照明領域の前記第1方向に沿った辺のうちの前記円弧状の開口の凸側の辺とが一致するように形成する。
【選択図】図5
【解決手段】被照明面と光学的に共役な面に、第1方向に沿って長手方向を有し、前記第1方向に直交する第2方向に沿って短手方向を有する矩形状の照明領域を形成する光学系を有し、円弧状の開口をカバーする前記照明領域を形成する第1インテグレータ及び第2インテグレータと、を含み、前記第1インテグレータは、前記第1方向に第1長さを有し、前記第2方向に第2長さを有する第1照明領域を形成し、前記第2インテグレータは、前記第1方向に前記第1長さより短い第3長さを有し、前記第2方向に前記第2長さより短い第4長さを有する第2照明領域を、前記第1照明領域の前記第1方向に沿った辺のうちの前記円弧状の開口の凸側の辺と前記第2照明領域の前記第1方向に沿った辺のうちの前記円弧状の開口の凸側の辺とが一致するように形成する。
【選択図】図5
Description
本発明は、照明装置、露光装置及び物品の製造方法に関する。
液晶ディスプレイ装置やプラズマディスプレイ装置などのフラットパネルディスプレイ装置のTFT(Thin Film Transistor)のパネルを製造する装置として、露光装置が使用されている(特許文献1参照)。このような露光装置では、マスクのパターンを、投影光学系を介して、ステージ上の基板に転写している。投影光学系は、例えば、凸面ミラーや凹面ミラーを含み、軸外の円弧領域に良像域を形成する反射光学系で構成されている。
近年、フラットパネルディスプレイ装置のパネルの大型化が進み、例えば、第8世代の基板(縦2200mm×横2400mm)を露光する場合、その露光回数によって1ショットあたりの露光領域が変化する。例えば、かかる基板を縦に2分割、横に2分割して4ショットで露光する場合、1ショットあたりの露光領域は、縦1100mm×横1200mmとなる。また、かかる基板を縦に2分割、横に3分割して6ショットで露光する場合、1ショットあたりの露光領域は、縦1100mm×横800mmとなる。
露光装置には、露光領域の拡大とともに、スループットの向上も要求されている。露光領域を拡大する場合、その露光領域全体に与えられる単位時間あたりのエネルギーが同じであるとすると、照度が落ちるため、スループットが低下してしまう。従って、光源の出力アップや多灯化、照明効率の向上によって照度を落とさずに(即ち、スループットを低下させずに)露光することが求められている。
また、露光領域が変化する場合に、その露光領域に応じてオプティカルインテグレータを切り替えることで、照明効率の低下を抑制する技術が提案されている(特許文献2参照)。
しかしながら、特許文献2には、特許文献1に開示されているような円弧状の露光領域に対して、その露光領域が変化する場合において照明効率の低下を抑制するための具体的な方法が開示されていない。
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、被照明面において円弧状の領域を照明するのに有利な照明装置を提供することを例示的目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての照明装置は、光源からの光で被照明面を照明する照明装置であって、前記被照明面と光学的に共役な面に、第1方向に沿って長手方向を有し、前記第1方向に直交する第2方向に沿って短手方向を有する矩形状の照明領域を形成する光学系を有し、前記光学系は、前記被照明面と光学的に共役な面に配置され、円弧状の開口を有するスリットと、前記光の光路に交換可能に配置され、前記円弧状の開口をカバーする前記照明領域を形成する第1インテグレータ及び第2インテグレータと、を含み、前記第1インテグレータは、前記第1方向に第1長さを有し、前記第2方向に第2長さを有する第1照明領域を形成し、前記第2インテグレータは、前記第1方向に前記第1長さより短い第3長さを有し、前記第2方向に前記第2長さより短い第4長さを有する第2照明領域を、前記第1照明領域の前記第1方向に沿った辺のうちの前記円弧状の開口の凸側の辺と前記第2照明領域の前記第1方向に沿った辺のうちの前記円弧状の開口の凸側の辺とが一致するように形成することを特徴とする。
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
本発明によれば、例えば、被照明面において円弧状の領域を照明するのに有利な照明装置を提供することができる。
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
図1は、本発明の一側面としての露光装置100の構成を示す概略図である。露光装置100は、光源部LUからの光を用いて基板15を露光してパターンを形成するリソグラフィ装置である。露光装置100は、本実施形態では、ステップ・アンド・スキャン方式を採用し、マスク12と基板15とを走査しながらマスク12のパターンを基板15に転写する。図1では、走査方向に垂直な方向(紙面に垂直な方向)をx軸とし、走査方向にy軸とし、それらと直交する方向をz軸とする座標系を定義している。
露光装置100は、コンデンサーレンズ5と、複数のオプティカルインテグレータ6と、開口絞り7と、コンデンサーレンズ8と、スリット9と、マスキングブレード10と、コンデンサーレンズ11とを有する。更に、露光装置100は、マスクステージ13と、投影光学系14と、基板ステージ16とを有する。コンデンサーレンズ5、複数のオプティカルインテグレータ6、開口絞り7、コンデンサーレンズ8、スリット9、マスキングブレード10及びコンデンサーレンズ11は、光源1からの光で被照明面(マスク12や基板15)を照明する照明装置ILを構成する。
光源部LUは、例えば、ハロゲンランプなどの紫外線(光)を射出する光源1と、集光ミラー2とを含む。集光ミラー2は、本実施形態では、楕円形状を有する。集光ミラー2(楕円)の第1焦点3の近傍には、光源1の発光部が配置され、光源1からの光は、集光ミラー2の第2焦点4に集光(結像)される。
コンデンサーレンズ5は、第2焦点4に集光された光を、複数のオプティカルインテグレータ6のうち光源1からの光の光路に配置されたオプティカルインテグレータ(の入射面)に集光する。複数のオプティカルインテグレータ6は、光源1からの光の光路に交換可能に配置され、本実施形態では、1ショットあたりの露光領域の変動に応じて光路に配置するオプティカルインテグレータを選択可能な構造(ターレットなど)を有する。また、複数のオプティカルインテグレータ6は、互いに異なる面積の照明領域を形成する。本実施形態では、複数のオプティカルインテグレータ6は、第1インテグレータ6aと、第2インテグレータ6bとを含む。第1インテグレータ6a及び第2インテグレータ6bの詳細な構成は後述する。
開口絞り7は、光源1からの光の光路に配置された第1インテグレータ6a又は第2インテグレータ6bの射出面の近傍に配置されている。第1インテグレータ6a又は第2インテグレータ6bを通過した光は、開口絞り7及びコンデンサーレンズ8を介して、投影光学系14に入射する光の形状を規定するスリット9及び露光領域を規定するマスキングブレード10をケーラー照明する。スリット9及びマスキングブレード10は、被照明面(マスク12や基板15)と光学的に共役な面の近傍に配置すればよく、図1に示す位置に配置することに限定されるものではない。スリット9及びマスキングブレード10を通過した光は、コンデンサーレンズ11を介して、投影光学系14の物体面に配置されたマスク12を照明する。
投影光学系14は、マスク12のパターンを、投影光学系14の像面に配置された基板15に投影する光学系であって、反射光学系又は反射屈折光学系を含む。マスク12と基板15とは、投影光学系14に関して、光学的に共役な関係に配置される。
マスクステージ13は、マスク12を保持して移動するステージであって、例えば、マスク12を走査方向に移動させる(走査する)機能を実現する。基板ステージ16は、基板15を保持して移動するステージであって、例えば、基板15を走査方向に移動させる(走査する)機能を実現する。マスクステージ13及び基板ステージ16によってマスク12と基板15とを走査しながらスリット状の光で基板15を露光する。
投影光学系14は、本実施形態では、反射光学系として具現化され、図2(a)に示すように、円弧状の露光領域を形成する。このような円弧状の露光領域は、図2(b)に示すように、オプティカルインテグレータ6及びコンデンサーレンズ8によってケーラー照明された矩形状の光(照明領域)30を、円弧状の開口を有するスリット9で切り出すことで形成される。
フラットパネルディスプレイ装置のパネルの製造では、1つの基板を露光する際に作成するデバイス(例えば、画面サイズ)に応じて、露光するショットサイズ、即ち、1ショットあたりの露光領域を変更する。このような場合、照明効率の観点では、露光領域の変更に合わせて、被照明面に形成する照明領域も変更することが好ましい。
図3(a)乃至図3(c)を参照して、露光装置100における1ショットあたりの露光領域の変更に応じた照明領域の変更について説明する。ここでは、露光領域の非走査方向の露光幅として必要な長さが、長い場合を長さXa、短い場合を長さXbとする。また、照明装置ILは、第1方向(x軸方向)に沿って長手方向を有し、第1方向に直交する第2方向(y軸方向)に沿って短手方向を有する矩形状の照明領域を形成する。
露光領域の非走査方向の長さが長さXaである場合には、図3(a)に示すように、長手方向に長さ(第1長さ)Xaを有し、短手方向に長さ(第2長さ)Yaを有する照明領域(第1照明領域)30aを形成する。また、露光領域の非走査方向の長さが長さXbである場合には、図3(b)に示すように、長手方向に長さ(第1長さより短い第3長さ)Xbを有し、短手方向に長さ(第2長さより短い第4長さ)Ybを有する照明領域(第2照明領域)30bを形成する。照明領域30a及び30bは、スリット9の円弧状の開口、即ち、円弧状の露光領域(円弧領域)をカバーするように形成される。また、照明領域30aと照明領域30bの左端を揃える、即ち、照明領域30aのx軸方向に沿った辺のうちの円弧領域の凸側の辺SXaと照明領域30bのx軸方向に沿った辺のうちの円弧領域の凸側の辺SXbとが一致するように形成する必要がある。従って、図3(c)に示すように、照明領域30aの中心(中心位置)31aと照明領域30bの中心(中心位置)31bとを、走査方向(y軸方向)において、Δy=(Ya−Yb)/2だけずらしている(シフトさせている)。
このような照明領域の変更及び照明領域の中心位置のシフトを、本実施形態では、第1インテグレータ6a及び第2インテグレータ6bによって実現する。例えば、第1インテグレータ6aは、露光領域の非走査方向の長さが長い場合に用いられ(光源1からの光の光路に配置され)、長手方向(x軸方向)に長さXaを有し、短手方向(y軸方向)に長さYaを有する照明領域30a(図3(a))を形成する。また、第2インテグレータ6bは、露光領域の非走査方向の長さが短い場合に用いられ(光源1からの光の光路に配置され)、長手方向(x軸方向)に長さXbを有し、短手方向(y軸方向)に長さYbを有する照明領域30b(図3(b))を形成する。
図4(a)及び図4(b)は、第1インテグレータ6aの構成及び第1インテグレータ6aによって形成される照明領域30aを示す図である。図4(a)は、xz方向の断面図を示し、図4(b)は、yz方向の断面図を示している。第1インテグレータ6aは、光の進行方向に沿って順に、光の入射側の面に複数のマイクロレンズが配列されたフライアイレンズ61aと、光の射出側の面に複数のマイクロレンズが配列されたフライアイレンズ62aとを含む。図4(a)及び図4(b)では、フライアイレンズ61a及び62aとして、複数のマイクロレンズのうちの一対のマイクロレンズだけを図示しているが、実際には、x軸方向及びy軸方向のそれぞれに多数のマイクロレンズが配置されている。フライアイレンズ61a及び62aは、被照明面に形成される照明領域30aの形状と略相似となる断面形状を有する。第1インテグレータ6aを構成するフライアイレンズ61a及び62aの各マイクロレンズを通過した光が2次光源を形成する。第1インテグレータ6aから射出された光は、コンデンサーレンズ8を介して、被照明面を均一に照明する。
図5(a)及び図5(b)は、第2インテグレータ6bの構成及び第2インテグレータ6bによって形成される照明領域30bを示す図である。図5(a)は、xz方向の断面図を示し、図5(b)は、yz方向の断面図を示している。第2インテグレータ6bは、光の進行方向に沿って順に、光の入射側の面に複数の第1マイクロレンズが配列された第1フライアイレンズ61bと、光の射出側の面に複数の第2マイクロレンズが配列された第2フライアイレンズ62bとを含む。第2インテグレータ6bが形成する照明領域30bは、第1インテグレータ6aが形成する照明領域30aに対して、x軸方向及びy軸方向に小さくなる。従って、第1フライアイレンズ61b及び第2フライアイレンズ62bのそれぞれのマイクロレンズのサイズは、フライアイレンズ61a及び62bのそれぞれのマイクロレンズのサイズより小さくなっている。図5(a)及び図5(b)では、第1フライアイレンズ61b及び第2フライアイレンズ62bとして、一対のマイクロレンズだけを図示しているが、実際には、x軸方向及びy軸方向のそれぞれに多数のマイクロレンズが配置されている。
図5(b)に示すように、第1フライアイレンズ61bの複数の第1マイクレンズのそれぞれの光の入射側の面のy軸方向における中心(中心位置)を61Cbとする。また、複数の第1マイクロレンズのそれぞれに対応する、第2フライアイレンズ62bの複数の第2マイクロレンズのそれぞれの光の射出側の面のy軸方向における中心(中心位置)を62Cbとする。本実施形態では、各第1マイクロレンズの中心61Cbと各第2マイクロレンズの中心62Cbとがy軸方向に相対的にずれる(シフトする)ように、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとが配置されている。これにより、第2フライアイレンズ62bから射出される主光線の角度が傾くことになるため、被照明面に形成される照明領域30bの中心位置をシフトさせることが可能となる。従って、第1インテグレータ6aによって形成される照明領域30aのy軸方向の中心31aに対して、第2インテグレータ6bによって形成される照明領域30bのy軸方向の中心31bをy軸方向にΔyだけシフトさせることができる(図3(c))。ここで、照明領域30bの中心31bのシフト量Δyは、コンデンサーレンズ8の焦点距離をf、第2インテグレータ6bから射出される主光線の傾き角をθとすると、Δy=f×sinθで表すことができる。
このように、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとをy軸方向に相対的にシフトさせることで、照明領域の中心位置のシフトを実現することができる。従って、露光装置100(照明装置IL)では、露光領域を変更する場合において、効率的な照明を実現することができる。なお、本実施形態では、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとをy軸方向に相対的にシフトさせた状態で第2インテグレータ6bを、例えば、ターレットなどに組み込むことを想定している。但し、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとをy軸方向に相対的にシフトさせるシフト機構を設けてもよい。
また、図5(a)及び図5(b)では、光源1からの光は、第2インテグレータ6bに対して平行光として入射している。しかしながら、実際には、図6(a)乃至図6(c)に示すように、光源1からの光は、第2インテグレータ6bに対して集光光として(即ち、角度を有して)入射する。第2インテグレータ6bに対する光の入射角度は、照明装置ILの設計条件によって変化する。本実施形態では、第2インテグレータ6bの射出面、即ち、第2フライアイレンズ62bの第2マイクロレンズのそれぞれにおいて、y軸方向のレンズ境界まで光が広がっている場合を例に説明する。
図6(a)は、第2インテグレータ6bにおいて、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとをy軸方向に相対的にシフトさせていない、即ち、照明領域30bの中心をシフトさせない場合を示している。図6(a)に示す場合において、第2フライアイレンズ62bの第2マイクロレンズ上でのレンズ境界と光60の広がりとの関係を図7(a)に示す。図7(a)を参照するに、第2インテグレータ6bに集光光として入射した光60は、第2フライアイレンズ62bのマイクロレンズのy軸方向のレンズ境界まで広がっている。
図6(b)は、第2インテグレータ6bにおいて、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとをy軸方向に相対的にシフトさせた、即ち、照明領域30bの中心をシフトさせた場合を示している。図6(b)に示す場合において、第2フライアイレンズ62bの第2マイクロレンズ上でのレンズ境界と光60の広がりとの関係を図7(b)に示す。図7(b)を参照するに、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとをy軸方向に相対的にシフトさせているため、第2マイクロレンズのレンズ境界において、第2インテグレータ6bに入射した光60の一部にけられが生じている。第2マイクロレンズのレンズ境界でけられた光は、例えば、隣接する第2マイクロレンズ(不図示)に入射し、被照明面に対する照明には利用されない不要な光となるため、光量ロスとなり、スループットの低下を招くことになる。
そこで、このような光量ロスを改善するために、図6(c)に示すように、光源1と第1フライアイレンズ61bとの間、即ち、第1フライアイレンズ61bの入射側に、偏向部材75を配置する。偏向部材75は、楔状の光学部材であって、第2インテグレータ6bに集光光として入射する光60をy軸方向に偏向する。また、偏向部材75は、偏向部材75を配置していない場合と比較して、第1フライアイレンズ61bから射出して第2フライアイレンズ62bに入射する光が増加するように、光60をy軸方向に偏向するように構成されている。これにより、図7(c)に示すように、第2マイクロレンズのレンズ境界での光60のけられが抑制されるため、光量ロスを抑えて所期のスループットを維持することができる。なお、本実施形態では、偏向部材75を、第2インテグレータ6bとともに、例えば、ターレットなどに組み込むことを想定しているが、光源1からの光の光路に対して偏向部材75を挿脱する機構を設けてもよい。
また、図8に示すように、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとをx軸回りに傾かせる(回転させる)ことで、第2インテグレータ6bによって形成される照明領域の中心位置をシフトさせることも可能である。図8を参照するに、第1フライアイレンズ61bの第1マイクレンズ及び第2フライアイレンズ62bの第2マイクロレンズのそれぞれは、各レンズの外形中心上に曲率中心を有し、且つ、それらは相対的にシフトせずに同軸上に配置されている。また、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとがx軸回りに傾きを有するように配置されている。換言すれば、第1マイクロレンズの中心61Cbと第2マイクロレンズの中心62Cbとを結ぶ直線L1と、光軸OAとが交差するように、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとが配置されている。ここで、光軸OAは、x軸方向(第1方向)及びy軸方向(第2方向)に直交するz軸方向(第3方向)と平行となるように設定されている。これにより、第2インテグレータ6bから射出される主光線の角度が傾くことになるため、被照明面に形成される照明領域30bの中心位置をシフトさせることが可能となる。また、上述したように、第1フライアイレンズ61bの入射側に偏向部材75を配置することで、第2マイクロレンズのレンズ境界での光60のけられを抑制することができる。
なお、本実施形態では、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとをx軸回りに傾かせた状態で第2インテグレータ6bを、例えば、ターレットなどに組み込むことを想定している。但し、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとをx軸回りに回転させる回転機構を設けてもよい。
また、図5(a)及び図5(b)や図8に示す第2インテグレータ6bを、図9に示す第2インテグレータ90に置換することも可能である。第2インテグレータ90は、光の進行方向に沿って順に、光の入射側の面に複数の第1マイクロレンズが配列された第1フライアイレンズ91と、光の射出側の面に複数の第2マイクロレンズが配列された第2フライアイレンズ92とを含む。図9に示すように、第1フライアイレンズ91の複数の第1マイクレンズのそれぞれの光の入射側の面のy軸方向における中心(中心位置)を91Cとする。また、複数の第1マイクロレンズのそれぞれに対応する、第2フライアイレンズ92の複数の第2マイクロレンズのそれぞれの光の射出側の面のy軸方向における中心(中心位置)を92Cとする。本実施形態では、各第1マイクロレンズの中心91Cと各第2マイクロレンズの中心92Cとがz軸方向に沿った同じ軸上に存在するように、第1フライアイレンズ91と第2フライアイレンズ92とが配置されている。第1フライアイレンズ91の複数の第1マイクロレンズのそれぞれは、光の入射側の面が曲面で構成され、かかる曲面の頂点93と中心91Cとが一致している。また、第2フライアイレンズ92の複数の第2マイクロレンズのそれぞれは、光の射出側の面が曲面で構成され、かかる曲面の頂点94を中心92Cからy軸方向にずれた位置に有する。換言すれば、第2マイクロレンズの曲面の頂点94をy軸方向にシフト(偏心)させている。
図9では、第2インテグレータ90に入射する光として、平行光を実線で示し、集光光を点線で示している。第2マイクロレンズの曲面の頂点94がy軸方向にシフトしているため、第2インテグレータ90に入射した平行光は、第2フライアイレンズ92から傾いて射出される。また、第1マイクロレンズの中心91Cと第2マイクロレンズの中心92Cとが同軸上に配置されているため、第2インテグレータ90に入射した集光光は、第2フライアイレンズ92でけられることがない。従って、第2インテグレータ90は、光量ロスを生じさせることなく、被照明面に形成される照明領域の中心位置のシフトを実現することが可能である。
また、図9において、第2フライアイレンズ92から射出される光の傾き角度をθ、第1フライアイレンズ91の第1マイクロレンズの曲面の頂点93に対する第2フライアイレンズ92の第2マイクロレンズの曲面の頂点94のy軸方向へのシフト量をdyとする。また、図10に示すように、第2フライアイレンズ92の第2マイクロレンズの射出面の曲率半径をR、その屈折率をnとする。この場合、シフト量dyと傾き角度θとの関係は、以下の式で表される。
n×sinθ’=sin(θ+θ’)
dy=R×sinθ’
なお、図8では、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとをx軸回りに傾かせた角度θが、第2インテグレータ6bから射出する光の傾き角度と一致する。
n×sinθ’=sin(θ+θ’)
dy=R×sinθ’
なお、図8では、第1フライアイレンズ61bと第2フライアイレンズ62bとをx軸回りに傾かせた角度θが、第2インテグレータ6bから射出する光の傾き角度と一致する。
また、図5(a)及び図5(b)や図8に示す第2インテグレータ6bを、図11に示す第2インテグレータ110に置換することも可能である。第2インテグレータ110は、光の進行方向に沿って順に、光の入射側の面に複数の第1マイクロレンズが配列された第1フライアイレンズ111と、光の射出側の面に複数の第2マイクロレンズが配列された第2フライアイレンズ112とを含む。図11に示すように、第1フライアイレンズ111の複数の第1マイクレンズのそれぞれの光の入射側の面のy軸方向における中心(中心位置)を111Cとする。また、複数の第1マイクロレンズのそれぞれに対応する、第2フライアイレンズ112の複数の第2マイクロレンズのそれぞれの光の射出側の面のy軸方向における中心(中心位置)を112Cとする。本実施形態では、各第1マイクロレンズの中心111Cと各第2マイクロレンズの中心112Cとがz軸方向に沿った同じ軸上に存在するように、第1フライアイレンズ111と第2フライアイレンズ112とが配置されている。また、第1フライアイレンズ111の複数の第1マイクロレンズのそれぞれは、光の入射側の面が曲面で構成され、かかる曲面の頂点と中心111Cとが一致している。同様に、第2フライアイレンズ112の複数の第2マイクロレンズのそれぞれは、光の射出側の面が曲面で構成され、かかる曲面の頂点と中心112Cとが一致している。
第1フライアイレンズ111は、第2フライアイレンズ112の側の面114が平面(第1平面)で構成され、かかる平面は、x軸方向及びy軸方向に直交するz軸方向に直交する。また、第2フライアイレンズ112は、第1フライアイレンズ111の側の面115が平面(第2平面)で構成され、かかる平面は、面114に対して傾いている。換言すれば、第2フライアイレンズ112の面115は、x軸回りに傾いた楔状となっている。
図11では、第2インテグレータ110に入射する光として、平行光を実線で示し、集光光を点線で示している。第2フライアイレンズ112の面115がx軸回りに傾いた楔状であるため、第2インテグレータ110に入射した平行光は、第2フライアイレンズ112から傾いて射出される。また、第1マイクロレンズの中心111Cと第2マイクロレンズの中心112Cとが同軸上に配置されているため、第2インテグレータ110に入射した集光光は、第2フライアイレンズ112でけられることがない。従って、第2インテグレータ110は、光量ロスを生じさせることなく、被照明面に形成される照明領域の中心位置のシフトを実現することが可能である。
このように、本実施形態の露光装置100によれば、円弧状の露光領域に対して、その露光領域が変化する場合においても照明光率の低下を抑制し、高いスループットで基板15を露光することができる。
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス(半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など)、カラーフィルターなどの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置100を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する工程と、露光された基板を現像する工程を含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
100:露光装置 6a:第1インテグレータ 6b:第2インテグレータ 9:スリット IL:照明装置
Claims (10)
- 光源からの光で被照明面を照明する照明装置であって、
前記被照明面と光学的に共役な面に、第1方向に沿って長手方向を有し、前記第1方向に直交する第2方向に沿って短手方向を有する矩形状の照明領域を形成する光学系を有し、
前記光学系は、
前記被照明面と光学的に共役な面に配置され、円弧状の開口を有するスリットと、
前記光の光路に交換可能に配置され、前記円弧状の開口をカバーする前記照明領域を形成する第1インテグレータ及び第2インテグレータと、
を含み、
前記第1インテグレータは、前記第1方向に第1長さを有し、前記第2方向に第2長さを有する第1照明領域を形成し、
前記第2インテグレータは、前記第1方向に前記第1長さより短い第3長さを有し、前記第2方向に前記第2長さより短い第4長さを有する第2照明領域を、前記第1照明領域の前記第1方向に沿った辺のうちの前記円弧状の開口の凸側の辺と前記第2照明領域の前記第1方向に沿った辺のうちの前記円弧状の開口の凸側の辺とが一致するように形成することを特徴とする照明装置。 - 前記第2インテグレータは、前記光の進行方向に沿って順に、前記光の入射側の面に複数の第1マイクロレンズが配列された第1フライアイレンズと、前記光の射出側の面に複数の第2マイクロレンズが配列された第2フライアイレンズと、を含み、
前記複数の第1マイクロレンズのそれぞれの前記光の入射側の面の前記第2方向における中心位置と前記複数の第1マイクロレンズのそれぞれに対応する前記複数の第2マイクロレンズのそれぞれの前記光の射出側の面の前記第2方向における中心位置とが前記第2方向に相対的にずれるように、前記第1フライアイレンズと前記第2フライアイレンズとが配置されていることを特徴とする請求項1に記載の照明装置。 - 前記第2インテグレータは、前記光の進行方向に沿って順に、前記光の入射側の面に複数の第1マイクロレンズが配列された第1フライアイレンズと、前記光の射出側の面に複数の第2マイクロレンズが配列された第2フライアイレンズと、を含み、
前記複数の第1マイクロレンズのそれぞれの前記光の入射側の面の前記第2方向における中心位置と前記複数の第1マイクロレンズのそれぞれに対応する前記複数の第2マイクロレンズのそれぞれの前記光の射出側の面の前記第2方向における中心位置とを結ぶ直線と、前記第1方向及び前記第2方向に直交する第3方向とが交差するように、前記第1フライアイレンズと前記第2フライアイレンズとが配置されていることを特徴とする請求項1に記載の照明装置。 - 前記光は、集光光として前記第1フライアイレンズに入射し、
前記光学系は、前記光路に前記第2インテグレータが配置される場合に、前記光源と前記第1フライアイレンズとの間に配置される偏向部材を更に有し、
前記偏向部材は、前記光を前記第2方向に偏向することを特徴とする請求項2又は3に記載の照明装置。 - 前記偏向部材は、前記偏向部材を前記光路に配置していない場合と比較して、前記第1フライアイレンズから射出して前記第2フライアイレンズに入射する光が増加するように、前記光を前記第2方向に偏向することを特徴とする請求項4に記載の照明装置。
- 前記第2インテグレータは、前記光の進行方向に沿って順に、前記光の入射側の面に複数の第1マイクロレンズが配列された第1フライアイレンズと、前記光の射出側の面に複数の第2マイクロレンズが配列された第2フライアイレンズと、を含み、
前記複数の第1マイクロレンズのそれぞれの前記光の入射側の面の前記第2方向における中心位置と前記複数の第1マイクロレンズのそれぞれに対応する前記複数の第2マイクロレンズのそれぞれの前記光の射出側の面の前記第2方向における中心位置とが前記第1方向及び前記第2方向に直交する第3方向に沿った同じ軸上に存在するように、前記第1フライアイレンズと前記第2フライアイレンズとが配置され、
前記複数の第2マイクロレンズのそれぞれは、前記光の射出側の面が曲面で構成され、前記複数の第2マイクロレンズのそれぞれの前記光の射出側の面の前記第2方向における中心位置から前記第2方向にずれた位置に前記曲面の頂点を有することを特徴とする請求項1に記載の照明装置。 - 前記第2インテグレータは、前記光の進行方向に沿って順に、前記光の入射側の面に複数の第1マイクロレンズが配列された第1フライアイレンズと、前記光の射出側の面に複数の第2マイクロレンズが配列された第2フライアイレンズと、を含み、
前記複数の第1マイクロレンズのそれぞれの前記光の入射側の面の前記第2方向における中心位置と前記複数の第1マイクロレンズのそれぞれに対応する前記複数の第2マイクロレンズのそれぞれの前記光の射出側の面の前記第2方向における中心位置とが前記第1方向及び前記第2方向に直交する第3方向に沿った同じ軸上に存在するように、前記第1フライアイレンズと前記第2フライアイレンズとが配置され、
前記第1フライアイレンズは、前記第2フライアイレンズの側の面が第1平面で構成され、
前記第2フライアイレンズは、前記第1フライアイレンズの側の面が第2平面で構成され、
前記第1平面は、前記第1方向及び前記第2方向に直交する第3方向に直交し、
前記第2平面は、前記第1平面に対して傾いていることを特徴とする請求項1に記載の照明装置。 - 基板を露光する露光装置であって、
マスクを照明する請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の照明装置と、
前記照明装置によって照明された前記マスクのパターンを前記基板に投影する投影光学系と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 前記投影光学系は、反射光学系又は反射屈折光学系であることを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
- 請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016179023A JP2018045060A (ja) | 2016-09-13 | 2016-09-13 | 照明装置、露光装置及び物品の製造方法 |
KR1020197009186A KR20190046920A (ko) | 2016-09-13 | 2017-07-26 | 조명 장치, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
CN201780055492.6A CN109964176A (zh) | 2016-09-13 | 2017-07-26 | 照明装置、曝光装置以及物品的制造方法 |
PCT/JP2017/027008 WO2018051642A1 (ja) | 2016-09-13 | 2017-07-26 | 照明装置、露光装置及び物品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016179023A JP2018045060A (ja) | 2016-09-13 | 2016-09-13 | 照明装置、露光装置及び物品の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018045060A true JP2018045060A (ja) | 2018-03-22 |
Family
ID=61619992
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016179023A Pending JP2018045060A (ja) | 2016-09-13 | 2016-09-13 | 照明装置、露光装置及び物品の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2018045060A (ja) |
KR (1) | KR20190046920A (ja) |
CN (1) | CN109964176A (ja) |
WO (1) | WO2018051642A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7446096B2 (ja) | 2019-12-04 | 2024-03-08 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、および物品製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2759890B2 (ja) | 1989-11-24 | 1998-05-28 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置 |
JP3376043B2 (ja) * | 1993-09-20 | 2003-02-10 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JP3633002B2 (ja) * | 1994-05-09 | 2005-03-30 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置及び露光方法 |
JP3445021B2 (ja) | 1995-04-28 | 2003-09-08 | キヤノン株式会社 | 光学装置 |
JP3728613B2 (ja) * | 1996-12-06 | 2005-12-21 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置の調整方法及び該方法を使用する走査型露光装置 |
JPH11231221A (ja) * | 1998-02-10 | 1999-08-27 | Nikon Corp | 照明装置と露光装置及び半導体デバイスの製造方法 |
JP4324989B2 (ja) * | 1998-05-28 | 2009-09-02 | 日本精工株式会社 | 露光装置 |
JP2005005637A (ja) * | 2003-06-16 | 2005-01-06 | Canon Inc | 円弧領域照明光学装置、およびそれを用いた投影露光装置 |
JP4470558B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-06-02 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置 |
TW200607008A (en) * | 2004-08-09 | 2006-02-16 | Adv Lcd Tech Dev Ct Co Ltd | Light irradiation apparatus, crystallization apparatus, crystallization method and device |
JP2009253214A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
-
2016
- 2016-09-13 JP JP2016179023A patent/JP2018045060A/ja active Pending
-
2017
- 2017-07-26 WO PCT/JP2017/027008 patent/WO2018051642A1/ja active Application Filing
- 2017-07-26 KR KR1020197009186A patent/KR20190046920A/ko not_active Application Discontinuation
- 2017-07-26 CN CN201780055492.6A patent/CN109964176A/zh active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7446096B2 (ja) | 2019-12-04 | 2024-03-08 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、および物品製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018051642A1 (ja) | 2018-03-22 |
CN109964176A (zh) | 2019-07-02 |
KR20190046920A (ko) | 2019-05-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3633002B2 (ja) | 照明光学装置、露光装置及び露光方法 | |
JP5142892B2 (ja) | 照明光学系及び露光装置 | |
KR101578560B1 (ko) | 옵티컬 인테그레이터 시스템, 조명 광학 장치, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 | |
TWI579657B (zh) | 光學積分器、照明光學系統、曝光裝置以及元件製造方法 | |
US8149386B2 (en) | Illumination optical system, exposure apparatus using the same and device manufacturing method | |
US7714987B2 (en) | Exposure apparatus | |
TW200839460A (en) | Exposure apparatus and semiconductor device fabrication method | |
JP4474121B2 (ja) | 露光装置 | |
US9946056B2 (en) | Illumination optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing article | |
US6285440B1 (en) | Illumination system and projection exposure apparatus using the same | |
JP6651124B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
WO2018051642A1 (ja) | 照明装置、露光装置及び物品の製造方法 | |
JP2009130091A (ja) | 照明光学装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2014195048A (ja) | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
US9632423B2 (en) | Illumination device, exposure apparatus, adjusting method, and method for manufacturing object | |
TWI825339B (zh) | 曝光裝置,及物品的製造方法 | |
JP2006253529A (ja) | 照明光学装置、露光装置、および露光方法 | |
WO2011010560A1 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP4640688B2 (ja) | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 | |
KR20180007672A (ko) | 노광 장치, 노광 방법 및 물품 제조 방법 | |
KR19990062768A (ko) | 조명광학계와 노광장치 및 반도체 디바이스의 제조방법 | |
JP7336922B2 (ja) | 露光装置及び物品の製造方法 | |
US9720333B2 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing article | |
WO2004090955A1 (ja) | 照明光学装置、投影露光装置及び露光方法 | |
JP2022128509A (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |