KR950009902A - 웨이퍼 스테퍼 - Google Patents

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KR950009902A
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히로시 노주에
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세끼모또 다다히로
니뽄 덴끼 가부시끼가이샤
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    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
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    • G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
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    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70283—Mask effects on the imaging process

Abstract

반도체 IC를 제조하기 위한 웨이퍼 스테퍼에 있어서, 유리 기판은 그 위에 투과 물질로 형성된 다수의 8각형 패턴을 가진다. 이러한 유리 기판으로 스테퍼는 X, Y방향 뿐만 아니라 45° 및 135° 방향으로 광을 회절시킨다. 마스크 패턴을 웨이퍼로 옮겨져서, 촛점의 해상도와 심도가 향상된다.

Description

웨이퍼 스테퍼
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명에 따른 웨이퍼 스테퍼를 도시한 도면,
제5a도는 제4도의 실시예에 포함된 유리 기판의 평면도,
제5b도는 제5a도의 선 5B-5B에 따른 단면도.

Claims (7)

  1. 웨이퍼에 소정의 패턴을 형성하기 위한 웨이퍼 스테퍼에 있어서, 광원으로부터의 광을 모아서 균일화하기 위한 조명 광학계와; 상기 조명 광학계로부터 균일화된 광을 회절시키기 위한 다수의 8각형 패턴을 구비하는 유리기판과; 소정의 패턴을 구비하고, 상기 유리기판으로부터 회절된 광이 입사되는 마스크와; 소정의 패턴을 형성하도록 상기 마스크로부터 웨이퍼로 회절된 광을 결상하는 투영 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테퍼.
  2. 제1항에 있어서, 상기 유리 기판은 투과 물질로 만들어 진 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테퍼.
  3. 제2항에 있어서, 상기 투과물질은 SOG를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테퍼.
  4. 제1항에 있어서, 상기 조명 광학계는 상기 광원으로부터의 광을 균일화 하기 위한 파리는 렌즈와, 상기 파리는 렌즈에 의해 균일화된 광을 소정의 크기로 한정하기 위한 환형부를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테퍼.
  5. 제1항에 있어서, 상기 마스크 상의 소정의 패턴은 크롬으로 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테퍼.
  6. 제1항에 있어서, 상기 유리 기판상의 8각형 패턴은 상기 마스크 상의 소정 패턴의 피치에 대해 사전 결정된 관계를 가지는 피치를 가지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테퍼.
  7. 제6항에 있어서, 상기 사전 결정된 관계에 있어서, 상기 8각형 패턴의 피치는 상기 소정 패턴의 피치의 0.5내지 5배인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 스테퍼.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940023919A 1993-09-16 1994-09-16 웨이퍼 스테퍼 KR0142633B1 (ko)

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