JPS58147708A - 照明用光学装置 - Google Patents

照明用光学装置

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JPS58147708A
JPS58147708A JP57030268A JP3026882A JPS58147708A JP S58147708 A JPS58147708 A JP S58147708A JP 57030268 A JP57030268 A JP 57030268A JP 3026882 A JP3026882 A JP 3026882A JP S58147708 A JPS58147708 A JP S58147708A
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face
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Kunio Konno
今野 邦男
Masashi Okada
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21WINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO USES OR APPLICATIONS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS
    • F21W2131/00Use or application of lighting devices or systems not provided for in codes F21W2102/00-F21W2121/00
    • F21W2131/40Lighting for industrial, commercial, recreational or military use
    • F21W2131/402Lighting for industrial, commercial, recreational or military use for working places

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は対象物を均一に照明するための照明用光学装置
に関し、特に1C等の半導体装置を製造する露光装置に
適した照明用光学系に関する。
従来、この種の露光装置に使われている照明光学系とし
て、例えば第1図に示すようなものがあった。第1図(
a)は回路パターンを描−したフォトマスク、あるいは
レティクルの像全ウェハ上に縮小して焼付ける稍小投影
式露光装置の光学配置tt示す図である。このような光
学系は例えば特開昭56−81813号に開示されてい
るので、以F簡単に説明する。
第1図(a)において、発光g1の簡輝度発光部゛°1
集光用′°楕円i′−217)第1X焦点0近傍に配置
される。これにより、高輝度発光部1aの光源像Pはほ
ぼ点光源として楕円ミラー2の第2焦点近傍に結はれる
。レンズろは、その前側焦点の位置が光源像Pの位置と
一蚊するように配置され、光源像Pからの発散光を平行
光束にする。この平行光束中にオプティカル・インテグ
レータ4が配置され、入射した平行光束を多数の光束に
分離する。これにより、オノティヵルインテグレータ4
の射出面側には複数の2次元原像が形成される。そして
レンズ5及び大口径集光レンズ6との合成光学系の後側
焦点位11に対象物としてのレティクルRを配置する。
このレンズ5、大口径集光レンズ6により、複数の2次
光源像から発し九光がレティクルR上で全て重ね合わさ
れる。投影レンズ7は、レティクルRとウェハWとの1
4に、光学的な共役状態で配置され、レティクルR上の
明暗の回路パターンをウェハW上に縮小投影する。尚、
大口径集光レンズ7に、第1テイカル・インテグレータ
4の後面と投影レンズ7の一面7aとが共役になるよう
に、すなわち第1テイカル・インテグレータ4の射出面
が臆面^に結像するように配置されている。
このような光学系において、レティクルR上、やウェハ
W上で照明光の強度分布を均一にするー働きについて、
さらに第1図(鴫を参照して説明する。第1図(切は、
第1図<a)の光学系において、元軸と垂直な各面の元
!i!Ii&分布を模式的に表わした図である。
ここで、第1図(a)に小すようにdiiAは楕円ミラ
ー2の開口面を、百Bは光源像Pができる面(楕円ミラ
ー2の第2焦点面)を、IfiCは、オプティカル・イ
ンテグレータ4の入射面を、面Diオノテイカル・イン
テグレータ4の射出面t%曲Eはレテ1クル只のパター
ン面を、而Ftよ投影レンズ7の111面7a t” 
、そして向GはウェハWのワエハ面全夫々表わすものと
丁り。
第1図(D)に2いて、楕円ミラー2の中心ilsは発
光管1の皮めに穴6!!になっているので、面Aでは元
軸tの近傍が弱く、周辺部が強い輪帯状の光強変分4a
となる。面Bでに楕円ミラー2によって−yesspが
できるので、光軸を上に鋭いピークt−伴った強度分4
bとなる。面Cでは、面Aでの光強度分布#1とではな
いが、同様に光軸を近傍のft、m度が低い輪帯状の光
強度分布0となる。
またオプティカル・インテグレータ4の各エレメントレ
ンズの後端には、mlBの縮小像ができる。従って、向
0での光強度分布に各エレメントレンズの光強度t−掛
は合わせ友ものとして、面りでの光強度分布dは輪帯状
になっている。
セして面Eには、レンズ5、大口径集光レンズ6の働き
によってオプティカル・インテグレータ4の各エレメン
トレンズからの光が全て3111される。このため向E
での光強度分布e昧はぼ平担なものとなる。ま皮、面G
は投影レンズ7にメ4して面Eと共役でめるから、If
iGVci?いても光強度分布gは平担なものとなる。
ところが、面F(瞳面7a )は大口径集光レンズ6に
対して1tiDと共役であるから、1fiFの光強度分
布f d。
光強度分布dとほぼ相似なものとなる。
このように、家来の光学系においては、投影レンズ7の
焦点位置、すなわち面Eと向G上ではフラットな光強度
分布が得られるものの、それ以外の面、特に瞳面7色上
ではオプティカル・ィンテグレータ4の射出光の不均一
性(楕円ミラー2による輪帯状の分布)がそのまま現わ
れてしまう。このため投影レンズ7の解像力の低下及び
焦点深度の減少等を引き起すという欠点が生じていた。
そこで本発明は上述の欠点を解決して、照明対象物上で
均一な光強度分布を得るばかりでなく、対象物に達する
光路中においても光強度分布を均一にした照明用光学装
置?得ることを目的とする。
この目的を達成するために、本発明においては、高輝度
発光管等からの元t′114円ミラーで収死して点光源
を得て、この点)を啄と照明対象物との間に4i数のオ
プティカル・1ンテグレータ1に設ける。この際、鍛も
点光源側のオプティカル・インテグレータは点光源から
の光を入射して2次光源像を作るとともに、相前後する
2つ光を入射して2次光源像を作るように構成する。
仄に本発明の実施例t−12図に基づいて説明する。
第2図(a)は第1図で示した従来の投影式露光装置の
光学系に、本発明を適用した光学的な配置図である。第
2図(a)で第1図(a)と同じ機能を有する部材には
、同一の部番を付しておる。尚、ここでオプティカル・
インテグレータの一例としては、第6図、第4図に示す
ように、四角柱、あるいは六角柱の光学ガラス材1(1
0,101の両端面100a 、  100b及び10
1a 、 1011) @凸レンズに7Jil工したも
のを1つのエレメントレンズとし−(、コのエレメント
・レンズをはちの巣状に多数束ねたものでおる。ま九は
、第5図に示すように、平根状のガラス材102の片肉
にブレス加工により多数の小レンズ102aを形成した
フラづアイ(ハエの眼)レンズを、所定間隔で2枚配置
し几ものである。また、照明すべき帆域が短形の場合は
、その形に合わせて、′43図のような四角柱のエレメ
ントレンズにするとよい。
さて、第2図(a)の説明に戻って、ここでは第1図(
a)に示した第1テイカル・インテグレータ4(第1の
オプティカル・インテグレータ)の1つのエレメントレ
ンズの光入射側を前側レンズda、射出側を後側レンズ
hoとする。ここで、オプティカル・インテグレータ4
と大口径集光レンズ6との間には、インノットレンズ1
0、後側オプティカル・インテグレータとしての第2の
オプティカル・インテグレータ11、及びアウトプット
レンズ12が配置される。尚、第2のオプティカル・イ
ンテグレータ11において、1つのエレメントレンズの
光入射側を前−レンズ11a。
射出9IIlt後側レンズ11bとする。そこで、前側
の第1テイカル・インテグレータ4と第2のオプティカ
ル・インテグレータ11との配置について述べる。
オグテイカルインテグレータ4の前側レンズ鉢と後側レ
ンズ4bとはほぼ等しい屈折力を有し、両者の間隔は前
側レンズ4aの後側焦点距離に等しく、かつ後−レンズ
4bの前側焦点距離にも等しくなるように定められてい
る。従って、前側し/ズ4aけ光源1欲Pを対向し九後
側レンズ4bの射出面(面りと同一)に結像する働きを
有する。
尚、レンズ6は後側レンズ4bに出来る光源像Pの像を
後側レンズ4bの中心に結ばせる働@【する。さらに後
側レンズ4bは、前側レンズ4aを第2のオプティカル
・インケグレータ110入射面に#儂する慟さを有する
。すなわち第2のオプティカル・イ/テグレータ11の
入射面を面Hとすると、面Hとl11i0とが共役にな
るよりに定められている。このとき、レンズ5はその後
側焦点が第2のオプティカル・インテグレータ11のZ
Hに位置するようなパワーを備えでいる。従って、第2
のオプティカル・インテグレータ11は第1図(a)に
おいて、レディノルRの位置に面Hがくるように配置し
たのと同一でめる。
さて、第2のオプティカル・インテグレータ11の前側
レンズ11&はオプティカル・インテグレータ4の而り
を後側レンズ11klの射出面に結像する。この射出面
は第2図(a)に示す如く而■とする。促つC面りと面
工とは共役になるように定められている。またインノッ
トレンズ10は、百■に結ばれた第1テイカル・インテ
グレータ4のD面の像を後側レンズ1obの光軸と対象
にする作用を有する。さらに後側レンズ11klは、こ
れに対向する前側レンズ11aの入射面(面Hと同一)
が、アウトプットレンズ12ト大ロ径集光レンズ3を介
してレティクルRに結像するようにパワー、曲軍半掻等
が定められる。
この時、アウトグツトレンズ12及び大口性集光レンズ
6の合成光学系の後側焦点位置とレテタ11から発し1
1多数の光束はレティクルR上で全て1jLt2tAわ
せられる。同、アウト1ツトレンズ12の@キtま大口
径集光レンズ6の口径を小さくするとともに、大口僅渠
光レンズ6からレティクルRまでの距離を短かくしてい
る仁とである。大口径集光レンズ6は、第2のオプテイ
カル・インテグレータ11の面■を投影レンズ7のl+
蝋肉面7a結像させるよう配置される。投影レンズ7は
レティクルRの回路パ(−ンをウェハW上に結像する。
さて、以上のように2つの第1テイカル・1ンテグレー
タを直列に配置する際、光源像Pがらの光束を効率よく
照明対象物としてのレティクルRK照射するためKd、
以下の条件を満足するように各インテグレータの形状及
び配置を定めるとよい。
第1テイカル・インテグレータ4の全体の口嵯をR工、
第2のオグテ1カル・インテグレータティカル・インテ
グレータ11のエレメントレンズの口径をd、とすれは
、面Cと面Hとが共役で41に@レンズ4bの結1戚倍
率βよがβ、−R2A□を満芝1らに%各オプティカル
・インテグレータを同一形状のエレメントレンズで構成
し几場合には、β□・β2−1を満すように2つのオプ
テイカル・インテグレータを配置する。
次に、第2図(a)の各面における光強度分布を第2図
(D)に基づいて説明する。
第2図(a)における而Aから面りまでの各光強度分布
a−は、第1図(”)で説明したのと同一である。さて
、7g2のオフ”ティカル・インテグレータ11の面H
には、オプテイカル・インテグレータ直の面りにできる
多数の2次元源傷が全て重ね合わされるから、向Hの光
強度分布りは平担なものとなる。そして光学的に後側に
位置し次第2のオフ゛ティカル・インテグレータ11の
各エレメントレンズの射出面(mIと同一)には、第1
テイカル・インテグレータ4の面りの縮小1象が結像さ
れる。すなわち重工には2次光源の2次元源像かできる
。従って重工にはその縮小傷がエレメントレンズの畝だ
けでき、面Iの光強度分布1は細い強度iがあるものの
全体的にフ、ラントな特性となり、而りの光強度分布d
のように輪帯状にはならない。そして、レティクルR上
の光強度分布eは、第2のオグテイカルインテグレータ
11の各エレメントレンズがらの射出光が全て重畳され
るから7ラツトな特性になる。このため、重工と共役な
投影レンズ7の瞳面7a (面F )rl、、光強度分
布1と相似的な光強度分布f°となる。もちろん、面G
の光強度分布gは光強度分布eと相似的になるから、フ
ラットな特性になる。
次に、上述のようにオプテイカル・インテグV−夕を2
段に′ILねることによって、被照明物上の光強度の一
様性が極めて改善されることについて簡単Kl!!明す
る。第1テイカル・インテグレータの餉きは、・その前
面に入射した不均一な光束をエレメントレンズの数だけ
細分し、オプテイカル・インテグレータの直後に、多数
の2次元源を作り、それらの2次光源による光束を被照
射面で、重ね合わせるものである。この時、2久光源の
配光特性は、元の光源の配光特性t−細かく分割したも
のとなろ。そして、その分割したものそれfれが比較的
均一で、しかもお互いの不均一性を打ち消すように重ね
合わされるから被照射面の強度分布は一様となる−0こ
の時、元の光源の配光特性が同じならば、被照射面の一
様性は2次光源の数に比例して良くなる。上記実瘤例の
光4糸で、第1のオプティカル・インテグレータ4のエ
レメントレンズの数ヲn□、第2のオプティカル・イン
ーテグ4レータ11のエレメントレンズの数In2とす
ると、楕円ミラー2の第2焦点面での光源像Pが第1の
第1テイカル・インテグV−夕4の囲りにnよ個でき、
第2のオプティカル・インテグレータ11の面1には面
りが11.ivA投影されるので、結局囲工には光源像
Pが2次光源像としてnよ×n2個だけできる。
このようにオプティカル・インテグレータを直列に配置
することによって、(3)■にでさる光源1m!?の2
次光源像の数が増大し、II[11全体として光強度分
布は一様になる。こitは1つのオプティカル・づンテ
グレータで、nlxn211mのエレメントレンズを設
けたものと同等の一様性を実現することに他ならない。
また、上記の説明で6オグテイカル・イ/テグンータの
射出面にでさる2次光源像は、かならずしもエレメント
レンズの表面上にできる必!!はなく、その表面上の傷
やゴミの影響を考慮して、その表面から離れた位置に形
成するようにしてもよい。
以上のように本実施例によればレティクルR上やウェハ
W上のみを均一に照明するばかりでなく、投影レンズ7
の射出面7aの光強度分布をも一様にしているη為ら、
投影儂の解像力が向上し、投影レンズ7の焦点深度が深
くなるという効果がめる。
次に本発明による他の実施例を第5図に眉づいて説明す
る。第5図はコンタクトま九はブロギシミテイ方式の露
光光学系を示す配慮図でめるO 第5図にふ・いて、発光管1、楕円ミラー2、レンズ3
、オプティカル・インテグレータ4、レンズ5.1/プ
ツトレンズ10、第2のオプティカル・インテグレータ
11及びアウト1ツトレンズ12までの構成は第2図(
a)と同一である。このような露光装置では、マスクM
とウエノ1Wに対して平行光束を照射しなければならな
いので、コンデンサレンズ13によって、第2のオプテ
ィカル・インテグレータ11の射出面、すなわち面Iに
できる多数の2久元源像から生じる光束を平行にする。
この場合、第2の第1テイカル・インテグレータ11の
各エレメントレンズの前側レンズ11aの入射面(面)
lと同一)はマスクM及びウェハW上に全て重ね合わせ
るように照明される。このためマスクM上には極めて均
一な平行光束が照射される。
このように、この実施例では第2のオプティカル・イン
テグレーメ11の射出面で光強度分布が均一であるから
、マスク材1ウニI−WII−一様に照明すると共に、
照明の角l[特性をも均一にすることができる。このr
tめフレネル回折によるリンギングを除去することや、
ボケ像を滑らかにすることができるという効果かめる。
以、ヒ、本発明の実施例t at明したが、その他の実
施例として、オプティカル・1ンテグレータを5つ以上
配IIすることもできる。この際、照明対象物上に効率
より照明光を導くためには、上述の実施例のように、前
側のオプティカル・インテグレータとt!に11iiの
オプテイカル・インテグレータとは、それぞれの入射面
同志が共役になるとともに射出面同志が共役になるよう
に配置され、結像倍率も前述のように定められる。
以上のように本発明によれば、点光源と被照明物との間
に配置1jされた複数σ)オプティカル・1ンテグレー
タのうち、相前後する2つVノオグテ1カル・イ/テグ
レータの間で、後側σ)オプティカル・インテグV−メ
の射出面には均一な光強度分布が得られる。しかもその
複数σ)オプティカル・インテグレータは極めて単Rな
共役関係で配置される力・ら、無理な収差か発生しない
という効果がり心。ま几、llaσ〕オグテイカル・イ
ンテグレータti列に配置することによって、鍾終的に
得られる2次元源1象の数は、各オプティカル・インテ
グレータσ)エレメントレンズの数の積によって定まる
。こc/)ため、jプテイカル・インテグレータσノエ
レメントレンズの形状や寸法を大きくすることができる
力・ら、加工が容易になるという効果もある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の照明光学系の配置を示す図、第2図は本
発明の実施例による照明用光学装置の配置図、第6図は
第1テイカル・づンテグレータの℃レメントレンズを示
す斜視図、集4図はフライアイレンズを示す斜視図、s
5図は本発明の他の実施例による照明用光学装置の配置
図でりる。 し工費部分の符号の説明〕 亀・・・発光管 2・・・楕円ミラー 4・・・第1のオグテイカル・インテグレーメ11・・
・第2のオグテイカル・インテグレータ出願人 日本九
字工業株式会社 代理人 渡 辺 隆 男

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ある光源からの光を入射して2次光源像を作る第1
    テイカル・インチクレータを、点光涼と被照明物との間
    に複数配列し、該複数のオフティカル・インチクレータ
    のうち最前側に位置した第1テ1カル・インチクレータ
    は前記点光源からの光を入射して2次光源像を作る如く
    配置するとともに、光学的に相前後する2つのオフティ
    カル・インチクレータの1−では、後側のオフティカル
    ・インチクレータが前1@^第1テイカル・インチクレ
    ータのり 2次光源像からの光を入射して2次光源像を作る如く配
    置したことt″4G徴とする照明用光学装置。 2 前記複数の第1テ1カル・インチクレータのうち、
    相前後する2つの第1テイカル・インチクレータは前記
    前側及び後側のオフティカル・インチクレータの入射面
    同志、及び射出面同志が共に光学的に共役となる如く構
    成した仁とを特徴とする特許請求の範111鶴1項記載
    の照明用光学装置。 6 特奸請求範l第2項記載の照明用光学装置において
    、前側のすブチ1カル・インチクレータの口径tR□、
    咳前側のオフティカル・インチクレータの1つのエレメ
    ントレンズの口径Iaよ、後側のオフティカル・インチ
    クレータのロ径vtR,s誼*@の第1テイカル・1ン
    テグレータの1つのエレメントレンズの口径をd2とし
    たとS%該m’vaのオフティカル・1ンテグレータの
    入射向と咳41kIIIのオフティカル・インチクレー
    タの入射面との結像倍率がR,/d□に、かつ該前側の
    第1テ1カル・づンテグレータの射出面とi*後側のオ
    フティカル・インチクレータの射出面との結像倍率が%
    A□に略等しくなるように定めたことを特徴とする照明
    用光学!!!置。
JP57030268A 1982-02-26 1982-02-26 照明用光学装置 Granted JPS58147708A (ja)

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JP57030268A JPS58147708A (ja) 1982-02-26 1982-02-26 照明用光学装置
US06/468,551 US4497015A (en) 1982-02-26 1983-02-22 Light illumination device
US07/924,789 USRE34634E (en) 1982-02-26 1992-08-06 Light illumination device

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