JPH0378607B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0378607B2
JPH0378607B2 JP57030268A JP3026882A JPH0378607B2 JP H0378607 B2 JPH0378607 B2 JP H0378607B2 JP 57030268 A JP57030268 A JP 57030268A JP 3026882 A JP3026882 A JP 3026882A JP H0378607 B2 JPH0378607 B2 JP H0378607B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
optical
optical means
light source
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP57030268A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58147708A (ja
Inventor
Kunio Konno
Masashi Okada
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nippon Kogaku KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kogaku KK filed Critical Nippon Kogaku KK
Priority to JP57030268A priority Critical patent/JPS58147708A/ja
Priority to US06/468,551 priority patent/US4497015A/en
Publication of JPS58147708A publication Critical patent/JPS58147708A/ja
Publication of JPH0378607B2 publication Critical patent/JPH0378607B2/ja
Priority to US07/924,789 priority patent/USRE34634E/en
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21W—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO USES OR APPLICATIONS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS
    • F21W2131/00—Use or application of lighting devices or systems not provided for in codes F21W2102/00-F21W2121/00
    • F21W2131/40—Lighting for industrial, commercial, recreational or military use
    • F21W2131/402—Lighting for industrial, commercial, recreational or military use for working places

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は対象物を均一に照明するための照明用
光学装置に関し、特にIC等の半導体装置を製造
する露光装置に適した照明用光学系に関する。
従来、この種の露光装置に使われている照明光
学系として、例えば第１図に示すようなものがあ
つた。第１図ａは回路パターンを描画したフオト
マスク、あるいはレテイクルの像をウエハ上に縮
小して焼付ける縮小投影式露光装置の光学配置を
示す図である。このような光学系は例えば『特開
昭56−81813号』に開示されているので、以下簡
単に説明する。
第１図ａにおいて、発光管１の高輝度発光部１
ａは集光用の楕円ミラー２の第１焦点の近傍に配
置される。これにより、高輝度発光部１ａの光源
像ｐはほぼ点光源として楕円ミラー２の第２焦点
近傍に結ばれる。レンズ３は、その前側焦点の位
置が光源像ｐの位置と一致するように配置され、
光源像ｐからの発散光を平行光束にする。この平
行光束中にオプテイカル・インテグレータ４が配
置され、入射した平行光束を多数の光束に分離す
る。これにより、オプテイカルインテグレータ４
の射出面側には複数の２次光源像が形成される。
そしてレンズ５及び大口径集光レンズ６との合成
光学系の後側焦点位置に対象物としてのレテイク
ルＲを配置する。このレンズ５、大口径集光レン
ズ６により、複数の２次光源像から発した光がレ
テイクルＲ上で全て重ね合わされる。投影レンズ
７は、レテイクルＲとウエハＷとの間に、光学的
な共役状態で配置され、レテイクルＲ上の明暗の
回路パターンをウエハＷ上に縮小投影する。尚、
大口径集光レンズ７は、オプテイカル・インテグ
レータ４の後面と投影レンズ７の瞳面７ａとが共
役になるように、すなわちオプテイカル・インテ
グレータ４の射出面が瞳面７ａに結像するように
配置されている。
このような光学系において、レテイクルＲ上、
やウエハＷ上で照明光の強度分布を均一にする働
きについて、さらに第１図ｂを参照して説明す
る。第１図ｂは、第１図ａの光学系において、光
軸と垂直な各面の光強度分布を模式的に表わした
図である。
ここで、第１図ａに示すように面Ａは楕円ミラ
ー２の開口面を、面Ｂは光源像Ｐができる面（楕
円ミラー２の第２焦点面）を、面Ｃは、オプテイ
カル・インテグレータ４の入射面を、面Ｄはオプ
テイカル・インテグレータ４の射出面を、面Ｅは
レテイクルＲのパターン面を、面Ｆは投影レンズ
７の瞳面７ａを、そして面ＧはウエハＷのウエハ
面を夫々表わすものとする。
第１図ｂにおいて、楕円ミラー２の中心部は発
光管１のために穴あきになつているので、面Ａで
は光軸ｌの近傍が弱く、周辺部が強い輪帯状の光
強度分布ａとなる。面Ｂでは楕円ミラー２によつ
て光源像Ｐができるので、光軸ｌ上に鋭いピーク
を伴つた強度分布ｂとなる。面Ｃでは、面Ａでの
光強度分布ほどではないが、同様に光軸ｌ近傍の
光強度が低い輪帯状の光強度分布Ｃとなる。
またオプテイカル・インテグレータ４の各エレ
メントレンズの後端には、面Ｂの縮小像ができ
る。従つて、面Ｃでの光強度分布に各エレメント
レンズの光強度を掛け合わせたものとして、面Ｄ
での光強度分布ｄは輪帯状になつている。そして
面Ｅには、レンズ５、大口径集光レンズ６の働き
によつてオプテイカル・インテグレータ４の各エ
レメントレンズからの光が全て重畳される。この
ため面Ｅでの光強度分布ｅはほぼ平坦なものとな
る。また、面Ｇは投影レンズ７に対して面Ｅと共
役であるから、面Ｇにおいても光強度分布ｇは平
坦なものとなる。ところが、面Ｆ（瞳面７ａ）は
大口径集光レンズ６に対して面Ｄと共役であるか
ら、面Ｆの光強度分布ｆは、光強度分布ｄとほぼ
相似なものとなる。
このように、従来の光学系においては、投影レ
ンズ７の焦点位置、すなわち面Ｅと面Ｇ上ではフ
ラツトな光強度分布が得られるものの、それ以外
の面、特に瞳面７ａ上ではオプテイカル・インテ
グレータ４の射出光の不均一性（楕円ミラー２に
よる輪帯状の分布）がそのまま現われてしまう。
このため投影レンズ７の解像力の低下及び焦点深
度の減少等を引き起すという欠点が生じていた。
そこで本発明は上述の欠点を解決して、照明対象
物上で均一な光強度分布を得るばかりでなく、対
象物に達する光路中においても光強度分布を均一
にした照明用光学装置を得ることを目的とする。
この目的を達成するために、本発明において
は、高輝度発光管等からの光を楕円ミラーで収光
して点光源を得て、この点光源と照明対象物との
間に複数のオプテイカル・インテグレータを設け
る。この際、最も点光源側のオプテイカル・イン
テグレータは点光源からの光を入射して２次光源
像を作るとともに、相前後する２つのオプテイカ
ル・インテグレータのあいだでは、後側のオプテ
イカル・インテグレータが前側のオプテイカル・
インテグレータの２次光源像からの光を入射して
複数の２次光源像を再結像するように構成する。
次に本発明の実施例を第２図に基づいて説明す
る。
第２図ａは第１図で示した従来の投影式露光装
置の光学系に、本発明を適用した光学的な配置図
である。第２図ａで第１図ａと同じ機能を有する
部材には、同一の部番を付してある。尚、ここで
オプテイカル・インテグレータの一例としては、
第３図、第４図に示すように、四角柱、あるいは
六角柱の光学ガラス材１００，１０１の両端面１
００ａ，１００ｂ及び１０１ａ，１０１ｂを凸レ
ンズに加工したものを１つのエレメントレンズと
して、このエレメント・レンズをはちの巣状に多
数束ねたものである。または、第４図に示すよう
に、平板状のガラス材１０２の片面にプレス加工
により多数の小レンズ１０２ａを形成したフライ
アイ（ハエの眼）レンズを、所定間隔で２枚配置
したものである。また、照明すべき領域が矩形の
場合は、その形に合わせて、第３図のような四角
柱のエレメントレンズにするとよい。
さて、第２図ａの説明に戻つて、ここでは第１
図ａに示したオプテイカル・インテグレータ４
（第１のオプテイカル・インテグレータ）の１つ
のエレメントレンズの光入射側を前側レンズ４
ａ、射出側を後側レンズ４ｂとする。ここで、オ
プテイカル・インテグレータ４と大口径集光レン
ズ６との間には、インプツトレンズ１０、後側オ
プテイカル・インテグレータとしての第２のオプ
テイカル・インテグレータ１１、及びアウトプツ
トレンズ１２が配置される。尚、第２のオプテイ
カル・インテグレータ１１において、１つのエレ
メントレンズの光入射側を前側レンズ１１ａ、射
出側を後側レンズ１１ｂとする。そこで、前側の
オプテイカル・インテグレータ４と第２のオプテ
イカル・インテグレータ１１との配置について述
べる。
オプテイカルインテグレータ４の前側レンズ４
ａと後側レンズ４ｂとはほぼ等しい屈折力を有
し、両者の間隔は前側レンズ４ａの後側焦点距離
に等しく、かつ後側レンズ４ｂの前側焦点距離に
も等しくなるように定められている。従つて、前
側レンズ４ａは光源像Ｐを対向した後側レンズ４
ｂの射出面（面Ｄと同一）に結像する働きを有す
る。尚、レンズ３は光源像Ｐの像を無限遠に形成
し、前側レンズ４ａにより後側レンズ４ｂの中心
に光源の実像を結ばせる働きをする。さらに後側
レンズ４ｂは、レンズ５と共に前側レンズ４ａを
第２のオプテイカル・インテグレータ１１の入射
面に結像する働きを有する。すなわち第２のオプ
テイカル・インテグレータ１１の入射面を面Ｈと
すると、面Ｈと面Ｃとが共役になるように定めら
れている。このとき、レンズ５はその後側焦点が
第２のオプテイカル・インテグレータ１１の面Ｈ
に位置するようなパワーを備えている。従つて、
第２のオプテイカル・インテグレータ１１は第１
図ａにおいて、レテイクルＲの位置に面Ｈがくる
ように配置したのと同一である。
さて、第２のオプテイカル・インテグレータ１
１の前側レンズ１１ａはレンズ５及びインプツト
レンズ１０と共働してオプテイカル・インテグレ
ータ４の面Ｄを後側レンズ１１ｂの射出面に結像
する。この射出面は第２図ａに示す如く面Ｉとす
る。従つて面Ｄと面Ｉとは共役になるように定め
られている。またインプツトレンズ１０は、オプ
テイカル・インテグレータ４の射出側の面Ｄの像
（複数の２次光源像）の中心からの光束を光軸に
平行に変換するため、第２オプテイカル・インテ
グレータの射出側の面Ｉにて個々のエレメントレ
ンズにより形成される面Ｄの像の各中心が、個々
のレンズエレメントの光軸に一致する。従つて、
第２オプテイカル・インテグレータの各レンズエ
レメントの射出側に形成される光源像は個々のレ
ンズエレメントの光軸に関して対称となる。さら
に後側レンズ１１ｂは、これに対向する前側レン
ズ１１ａの入射面（面Ｈと同一）が、アウトプツ
トレンズ１２と大口径集光レンズ６を介してレテ
イクルＲに結像するようにパワー、曲率半径等が
定められる。
この時、アウトプツトレンス１２及び大口径集
光レンズ６の合成光学系の後側焦点位置とレテイ
クルＲのパターン面とを一致させるように配置す
れば、第２のオプテイカル・インテグレータ１１
から発した多数の光束はレテイクルＲ上で全て重
ね合わせられる。尚、アウトプツトレンズ１２の
働きは大口径集光レンズ６の口径を小さくすると
ともに、大口径集光レンズ６からレテイクルＲま
での距離を短かくしていることである。大口径集
光レンズ６は、第２のオプテイカル・インテグレ
ータ１１の面Ｉを投影レンズ７の瞳面７ａに結像
させるよう配置される。投影レンズ７はレテイク
ルＲの回路パターンをウエハＷ上に結像する。
さて、以上のように２つのオプテイカル・イン
テグレータを直列に配置する際、光源像Ｐからの
光束を効率よく照明対象物としてのレテイクルＲ
に照射するためには、以下の条件を満足するよう
に各インテグレータの形状及び配置を定めるとよ
い。
オプテイカル・インテグレータ４の全体の口径
をR1、第２のオプテイカル・インテグレータ１
１の全体の口径をR2、オプテイカル・インテグ
レータ４のエレメントレンズの口径をd1、そして
第２のオプテイカル・インテグレータ１１のエレ
メントレンズの口径をd2とすれば、面Ｃと面Ｈと
が共役で後側レンズ４ｂとレンズ５とによる結像
倍率β1がβ1＝R2／d1を満足し、同時に面Ｄと面Ｉ
とが共役で、前側レンズ１１ａとインプツトレン
ズとによる結像倍率β2がβ2＝d2／R1を満足するよ
うに定める。さらに、各オプテイカル・インテグ
レータを同一形状のエレメントレンズで構成した
場合には、β1・β2＝１を満すように２つのオプテ
イカル・インテグレータを配置する。
次に、第２図ａの各面における光強度分布を第
２図ｂに基づいて説明する。
第２図ａにおける面Ａから面Ｄまでの各光強度
分布ａ〜ｄは、第１図ｂで説明したのと同一であ
る。さて、第２のオプテイカル・インテグレータ
１１の面Ｈには、オプテイカル・インテグレータ
４の面Ｄにできる多数の２次光源像が全て重ね合
わされるから、面Ｈの光強度分布ｈは平坦なもの
となる。そして光学的に後側に位置した第２のオ
プテイカル・インテグレータ１１の各エレメント
レンズの射出面（面Ｉと同一）には、オプテイカ
ル・インテグレータ４の面Ｄの縮小像が結像され
る。すなわち面Ｉには２次光源の２次光源像がで
きる。従つて面Ｉにはその縮小像がエレメントレ
ンズの数だけでき、面Ｉの光強度分布ｉは細い強
度差があるものの全体的にフラツトな特性とな
り、面Ｄの光強度分布ｄのように輪帯状にはなら
ない。そして、レテイクルＲ上の光強度分布ｅ
は、第２のオプテイカルインテグレータ１１の各
エレメントレンズからの射出光が全て重畳される
からフラツトな特性になる。このため、面Ｉと共
役な投影レンズ７の瞳面７ａ（面Ｆ）は、光強度
分布ｉと相似的な光強度分布f′となる。もちろ
ん、面Ｇの光強度分布ｇは光強度分布ｅと相似的
になるから、フラツトな特性になる。
次に、上述のようにオプテイカル・インテグレ
ータを２段に重ねることによつて、被照明物上の
光強度の一様性が極めて改善されることについて
簡単に説明する。オプテイカル・インテグレータ
の働きは、その前面に入射した不均一な光束をエ
レメントレンズの数だけ細分し、オプテイカル・
インテグレータの直後に、多数の２次光源を作
り、それらの２次光源による光束を被照射面で、
重ね合わせるものである。この時、２次光源の配
光特性は、元の光源の配光特性を細かく分割した
ものとなる。そして、その分割したものそれぞれ
が比較的均一で、しかもお互いの不均一性を打ち
消すように重ね合わされるから被照射面の強度分
布は一様となる。この時、元の光源の配光特性が
同じならば、被照射面の一様性は２次光源の数に
比例して良くなる。上記実施例の光学系で、第１
のオプテイカル・インテグレータ４のエレメント
レンズの数をn1、第２のオプテイカル・インテグ
レータ１１のエレメントレンズの数をn2とする
と、楕円ミラー２の第２焦点面での光源像Ｐが第
１のオプテイカル・インテグレータ４の面Ｄにn1
個でき、第２のオプテイカル・インテグレータ１
１の面Ｉには面Ｄがn2個投影されるので、結局面
Ｉには光源像Ｐが２次光源像としてn1×n2個だけ
できる。このようにオプテイカル・インテグレー
タを直列に配置することによつて、面Ｉにできる
光源像Ｐの２次光源像の数が増大し、面Ｉ全体と
して光強度分布は一様になる。これは１つのオプ
テイカル・インテグレータで、n1×n2個のエレメ
ントレンズを設けたものと同等の一様性を実現す
ることに他ならない。また、上記の説明で各オプ
テイカル・インテグレータの射出面にできる２次
光源像は、かならずしもエレメントレンズの表面
上にできる必要はなく、その表面上の傷やゴミの
影響を考慮して、その表面から離れた位置に形成
するようにしてもよい。
以上のように本実施例によればレテイクルＲ上
やウエハＷ上のみを均一に照明するばかりでな
く、投影レンズ７の瞳面７ａの光強度分布をも一
様にしているから、投影像の解像力が向上し、投
影レンズ７の焦点深度が深くなるという効果があ
る。
次に本発明による他の実施例を第５図に基づい
て説明する。第５図はコンタクトまたはプロキシ
ミテイ方式の露光光学系を示す配置図である。
第５図において、発光管１、楕円ミラー２、レ
ンズ３、オプテイカル・インテグレータ４、レン
ズ５、インプツトレンズ１０、第２のオプテイカ
ル・インテグレータ１１及びアウトプツトレンズ
１２までの構成は第２図ａと同一である。このよ
うな露光装置では、マスクＭとウエハＷに対して
平行光束を照射しなければならないので、コンデ
ンサレンズ１３によつて、第２のオプテイカル・
インテグレータ１１の射出面、すなわち面Ｉにで
きる多数の２次光源像から生じる光束を平行にす
る。この場合、第２のオプテイカル・インテグレ
ータ１１の各エレメントレンズの前側レンズ１１
ａの入射面（面Ｈと同一）はマスクＭ及びウエハ
Ｗ上に全て重ね合わせるように照明される。この
ためマスクＭ上には極めて均一な平行光束が照射
される。
このように、この実施例では第２のオプテイカ
ル・インテグレータ１１の射出面で光強度分布が
均一であるから、マスクＭ、ウエハＷを一様に照
明すると共に、照明の角度特性をも均一にするこ
とができる。このためフレネル回析によりリンギ
ングを除去することや、ボケ像を滑らかにするこ
とができるという効果がある。
以上、本発明の実施例を説明したが、その他の
実施例として、オプテイカル・インテグレータを
３つ以上配置することもできる。この際、照明対
象物上に効率より照明光を導くためには、上述の
実施例のように、前側のオプテイカル・インテグ
レータと後側のオプテイカル・インテグレータと
は、それぞれの入射面同志が共役になるとともに
射出面同志が共役になるように配置され、結像倍
率も前述のように定められる。
以上のように本発明によれば、点光源と被照明
物との間に配列された複数のオプテイカル・イン
テグレータのうち、相前後する２つのオプテイカ
ル・インテグレータの間で、後側のオプテイカ
ル・インテグレータの射出面には均一な光強度分
布が得られる。しかもその複数のオプテイカル・
インテグレータは極めて単純な共役関係で配置さ
れるから、無理な収差が発生しないという効果が
ある。また、複数のオプテイカル・インテグレー
タを直列に配置することによつて、最終的に得ら
れる２次光源像の数は、各オプテイカル・インテ
グレータのエレメントレンズの数の積によつて定
まる。このため、オプテイカル・インテグレータ
のエレメントレンズの形状や寸法を大きくするこ
とができるから、加工が容易になるという効果も
ある。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来の照明光学系の配置を示す図、第
２図は本発明の実施例による照明用光学装置の配
置図、第３図はオプテイカル・インテグレータの
エレメントレンズを示す斜視図、第４図はフライ
アイレンズを示す斜視図、第５図は本発明の他の
実施例による照明用光学装置の配置図である。 〔主要部分の符号の説明〕、１……発光管、２
……楕円ミラー、４……第１のオプテイカル・イ
ンテグレータ、１１……第２のオプテイカル・イ
ンテグレータ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 所定の光源と、該光源からの光束により複数
    の二次光源を形成するための第１光学手段と、該
    第１光学手段による複数の二次光源からの光束か
    らさらに複数の光源像を形成するための第２光学
    手段と、該第１及び第２光学手段との間に配置さ
    れたレンズ群と、前記第２光学手段からの光を被
    照明対象物に導くための集光レンズとを有し、前
    記レンズ群は前記第１光学手段を射出する光束を
    前記第２光学手段の入射面に導き、前記第１光学
    手段により形成される光源像位置と前記第２光学
    手段の光源像位置とを共役に構成し、前記第２光
    学手段の光源像位置において前記第１光学手段に
    よる複数の光源像を複数形成し、前記集光レンズ
    は前記第２光学手段による複数の光源像からの光
    束を前記被照明対象物上にて重畳させることを特
    徴とする照明用光学装置。 ２ 前記第１及び第２光学手段の間に配置された
    レンズ群は、前記第１光学手段により形成される
    光源像位置と前記第２光学手段の射出面とをほぼ
    共役に形成し、前記集光レンズは前記第２光学手
    段の入射側面と前記被照明対象物とをほぼ共役に
    構成していることを特徴とする特許請求の範囲第
    １項記載の照明用光学装置。 ３ 前記レンズ群は、さらに前記第１光学手段の
    入射面と前記第２光学手段の入射面とを共役に形
    成することを特徴とする特許請求の範囲第２項記
    載の照明用光学装置。 ４ 前記第２光学手段は複数のレンズエレメント
    からなるオプテイカル・インテグレータであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の照明
    用光学装置。 ５ 前記第１光学手段は複数のレンズエレメント
    からなるオプテイカル・インテグレータであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の照明
    用光学装置。
JP57030268A 1982-02-26 1982-02-26 照明用光学装置 Granted JPS58147708A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57030268A JPS58147708A (ja) 1982-02-26 1982-02-26 照明用光学装置
US06/468,551 US4497015A (en) 1982-02-26 1983-02-22 Light illumination device
US07/924,789 USRE34634E (en) 1982-02-26 1992-08-06 Light illumination device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57030268A JPS58147708A (ja) 1982-02-26 1982-02-26 照明用光学装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58147708A JPS58147708A (ja) 1983-09-02
JPH0378607B2 true JPH0378607B2 (ja) 1991-12-16

Family

ID=12298948

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57030268A Granted JPS58147708A (ja) 1982-02-26 1982-02-26 照明用光学装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4497015A (ja)
JP (1) JPS58147708A (ja)

Families Citing this family (116)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60168147A (ja) * 1984-02-10 1985-08-31 Oak Seisakusho:Kk 露光装置
US4619508A (en) * 1984-04-28 1986-10-28 Nippon Kogaku K. K. Illumination optical arrangement
JPS60232552A (ja) * 1984-05-02 1985-11-19 Canon Inc 照明光学系
JPS6119129A (ja) * 1984-07-05 1986-01-28 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影光学装置
US4629298A (en) * 1984-08-03 1986-12-16 Apogee, Inc. Flux projector for use with composite photography
US5153419A (en) * 1985-04-22 1992-10-06 Canon Kabushiki Kaisha Device for detecting position of a light source with source position adjusting means
US4769750A (en) * 1985-10-18 1988-09-06 Nippon Kogaku K. K. Illumination optical system
US4851882A (en) * 1985-12-06 1989-07-25 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical system
JPS639186A (ja) * 1986-06-30 1988-01-14 Komatsu Ltd 照明光学装置
US4939630A (en) * 1986-09-09 1990-07-03 Nikon Corporation Illumination optical apparatus
JPH0744141B2 (ja) * 1987-09-22 1995-05-15 株式会社ニコン 照明光学装置
JPH0355921Y2 (ja) * 1986-11-11 1991-12-13
JPH0786647B2 (ja) * 1986-12-24 1995-09-20 株式会社ニコン 照明装置
JP2662562B2 (ja) * 1988-04-11 1997-10-15 株式会社ニコン 露光装置
US5307207A (en) * 1988-03-16 1994-04-26 Nikon Corporation Illuminating optical apparatus
JP2569711B2 (ja) * 1988-04-07 1997-01-08 株式会社ニコン 露光制御装置及び該装置による露光方法
JP2696360B2 (ja) * 1988-10-28 1998-01-14 旭光学工業株式会社 照明光学装置
US5153773A (en) * 1989-06-08 1992-10-06 Canon Kabushiki Kaisha Illumination device including amplitude-division and beam movements
JP2815910B2 (ja) * 1989-07-19 1998-10-27 シャープ株式会社 投影形画像表示装置
JP2995820B2 (ja) * 1990-08-21 1999-12-27 株式会社ニコン 露光方法及び方法，並びにデバイス製造方法
US5638211A (en) 1990-08-21 1997-06-10 Nikon Corporation Method and apparatus for increasing the resolution power of projection lithography exposure system
US7656504B1 (en) 1990-08-21 2010-02-02 Nikon Corporation Projection exposure apparatus with luminous flux distribution
US5719704A (en) * 1991-09-11 1998-02-17 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6967710B2 (en) 1990-11-15 2005-11-22 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6252647B1 (en) * 1990-11-15 2001-06-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6897942B2 (en) * 1990-11-15 2005-05-24 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6885433B2 (en) * 1990-11-15 2005-04-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6710855B2 (en) 1990-11-15 2004-03-23 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
JP3360686B2 (ja) * 1990-12-27 2002-12-24 株式会社ニコン 照明光学装置および投影露光装置並びに露光方法および素子製造方法
US6128068A (en) * 1991-02-22 2000-10-03 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus including an illumination optical system that forms a secondary light source with a particular intensity distribution
US5305054A (en) 1991-02-22 1994-04-19 Canon Kabushiki Kaisha Imaging method for manufacture of microdevices
JPH04369209A (ja) * 1991-06-17 1992-12-22 Nikon Corp 露光用照明装置
JPH0536586A (ja) * 1991-08-02 1993-02-12 Canon Inc 像投影方法及び該方法を用いた半導体デバイスの製造方法
JP3075381B2 (ja) * 1992-02-17 2000-08-14 株式会社ニコン 投影露光装置及び転写方法
US5309198A (en) * 1992-02-25 1994-05-03 Nikon Corporation Light exposure system
JP3210123B2 (ja) * 1992-03-27 2001-09-17 キヤノン株式会社 結像方法及び該方法を用いたデバイス製造方法
JP2973750B2 (ja) * 1992-03-31 1999-11-08 松下電器産業株式会社 照明光学装置とそれを用いた投写型表示装置
JP3278896B2 (ja) * 1992-03-31 2002-04-30 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
US5903388A (en) * 1992-06-11 1999-05-11 Sedlmayr Steven R High efficiency electromagnetic beam projector and systems and method for implementation thereof
US5347433A (en) * 1992-06-11 1994-09-13 Sedlmayr Steven R Collimated beam of light and systems and methods for implementation thereof
JP2946950B2 (ja) * 1992-06-25 1999-09-13 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた露光装置
JPH06124913A (ja) * 1992-06-26 1994-05-06 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー処理方法
JP3158691B2 (ja) * 1992-08-07 2001-04-23 株式会社ニコン 露光装置及び方法、並びに照明光学装置
US5791767A (en) * 1992-09-09 1998-08-11 Nikon Corporation Semiconductor exposure device
US5640284A (en) * 1992-09-11 1997-06-17 Nikon Corporation Optical reflector, illumination optical system, light source system and illumination optical apparatus
US5636003A (en) 1992-11-05 1997-06-03 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and scanning exposure apparatus
NL9301973A (nl) * 1992-11-20 1994-06-16 Samsung Electronics Co Ltd Belichtingssysteem voor een projectiebelichtingsapparaat.
KR100234357B1 (ko) * 1992-11-21 1999-12-15 윤종용 투영노광장치
JP3316937B2 (ja) * 1992-11-24 2002-08-19 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、及び該露光装置を用いた転写方法
JPH09311278A (ja) 1996-05-20 1997-12-02 Nikon Corp 反射屈折光学系
US5815248A (en) * 1993-04-22 1998-09-29 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and method having a wavefront splitter and an optical integrator
US5713660A (en) * 1993-11-10 1998-02-03 Nikon Corporation Illumination optical apparatus
DE19520563A1 (de) * 1995-06-06 1996-12-12 Zeiss Carl Fa Beleuchtungseinrichtung für ein Projektions-Mikrolithographie-Gerät
JP3368653B2 (ja) * 1994-03-11 2003-01-20 株式会社ニコン 照明方法及び装置、並びに露光方法及び装置
JP3395801B2 (ja) 1994-04-28 2003-04-14 株式会社ニコン 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法
JP3633002B2 (ja) * 1994-05-09 2005-03-30 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置及び露光方法
KR100298167B1 (ko) 1994-07-07 2001-10-24 오노 시게오 진공자외선파장대광선용실리카유리의제조방법,및그에의해제조된실리카유리및광학부재
USRE38438E1 (en) 1994-08-23 2004-02-24 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same
JPH08179204A (ja) 1994-11-10 1996-07-12 Nikon Corp 投影光学系及び投影露光装置
JPH08179237A (ja) * 1994-12-26 1996-07-12 Nikon Corp 照明光学装置
JP3454390B2 (ja) 1995-01-06 2003-10-06 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
US6087283A (en) 1995-01-06 2000-07-11 Nikon Corporation Silica glass for photolithography
US5986744A (en) * 1995-02-17 1999-11-16 Nikon Corporation Projection optical system, illumination apparatus, and exposure apparatus
JP3819048B2 (ja) 1995-03-15 2006-09-06 株式会社ニコン 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びに露光方法
JP3608580B2 (ja) * 1995-03-22 2005-01-12 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、露光方法、及びフライアイレンズ
JP3303595B2 (ja) * 1995-03-24 2002-07-22 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた観察装置
JP3064857B2 (ja) 1995-03-28 2000-07-12 株式会社ニコン 光リソグラフィー用光学部材および合成石英ガラスの製造方法
JPH0950958A (ja) * 1995-05-29 1997-02-18 Nikon Corp 照明光学装置及びそれを備えた投影露光装置
JP3491212B2 (ja) * 1995-06-23 2004-01-26 株式会社ニコン 露光装置、照明光学装置、照明光学系の設計方法及び露光方法
JP3624973B2 (ja) 1995-10-12 2005-03-02 株式会社ニコン 投影光学系
JP3653827B2 (ja) * 1995-10-20 2005-06-02 株式会社ニコン 干渉計
US5786939A (en) * 1996-02-26 1998-07-28 Fuji Photo Optical Co., Ltd. Illumination optical system
JP3750123B2 (ja) † 1996-04-25 2006-03-01 株式会社ニコン 投影光学系
JP3864399B2 (ja) * 1996-08-08 2006-12-27 株式会社ニコン 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法
US5852490A (en) * 1996-09-30 1998-12-22 Nikon Corporation Projection exposure method and apparatus
JP3757536B2 (ja) * 1996-10-01 2006-03-22 株式会社ニコン 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びにデバイス製造方法
US5699191A (en) * 1996-10-24 1997-12-16 Xerox Corporation Narrow-pitch beam homogenizer
US5923475A (en) * 1996-11-27 1999-07-13 Eastman Kodak Company Laser printer using a fly's eye integrator
US5754278A (en) * 1996-11-27 1998-05-19 Eastman Kodak Company Image transfer illumination system and method
JP3917698B2 (ja) * 1996-12-12 2007-05-23 株式会社半導体エネルギー研究所 レーザーアニール方法およびレーザーアニール装置
JP4056577B2 (ja) * 1997-02-28 2008-03-05 株式会社半導体エネルギー研究所 レーザー照射方法
JPH10244392A (ja) 1997-03-04 1998-09-14 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー照射装置
JPH10253916A (ja) * 1997-03-10 1998-09-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー光学装置
JP4310816B2 (ja) * 1997-03-14 2009-08-12 株式会社ニコン 照明装置、投影露光装置、デバイスの製造方法、及び投影露光装置の調整方法
JPH1164788A (ja) * 1997-08-27 1999-03-05 Minolta Co Ltd 照明光学装置および投影光学装置
US5844727A (en) * 1997-09-02 1998-12-01 Cymer, Inc. Illumination design for scanning microlithography systems
EP0901031B1 (en) * 1997-09-05 2004-10-13 Sharp Kabushiki Kaisha Dark field projection display
US6106139A (en) * 1997-10-30 2000-08-22 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and semiconductor device manufacturing method
US6833904B1 (en) 1998-02-27 2004-12-21 Nikon Corporation Exposure apparatus and method of fabricating a micro-device using the exposure apparatus
JP4238390B2 (ja) * 1998-02-27 2009-03-18 株式会社ニコン 照明装置、該照明装置を備えた露光装置および該露光装置を用いて半導体デバイスを製造する方法
DE69931690T2 (de) * 1998-04-08 2007-06-14 Asml Netherlands B.V. Lithographischer Apparat
JP2000021765A (ja) 1998-07-03 2000-01-21 Nikon Corp 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
US6563567B1 (en) * 1998-12-17 2003-05-13 Nikon Corporation Method and apparatus for illuminating a surface using a projection imaging apparatus
US6183087B1 (en) 1999-06-11 2001-02-06 Eastman Kodak Company Geneva mechanism and motion picture projector using same
TW587199B (en) 1999-09-29 2004-05-11 Asml Netherlands Bv Lithographic method and apparatus
US6369888B1 (en) * 1999-11-17 2002-04-09 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for article inspection including speckle reduction
JP2002072132A (ja) * 2000-08-30 2002-03-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 照明装置
US6501530B2 (en) 2000-10-19 2002-12-31 Eastman Kodak Company Motion picture film projector illumination system for minimizing film buckle
US6516551B2 (en) * 2000-12-27 2003-02-11 American Technologies Network Corporation Optical sight with switchable reticle
US6773142B2 (en) * 2002-01-07 2004-08-10 Coherent, Inc. Apparatus for projecting a line of light from a diode-laser array
US7016393B2 (en) * 2003-09-22 2006-03-21 Coherent, Inc. Apparatus for projecting a line of light from a diode-laser array
KR101170182B1 (ko) * 2004-02-17 2012-08-01 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 마이크로 리소그래피 투영 노광 장치용 조명 시스템
DE102004039936A1 (de) * 2004-08-17 2006-02-23 Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Homogenisierung von Licht sowie Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung
TW200625027A (en) * 2005-01-14 2006-07-16 Zeiss Carl Smt Ag Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus
US7250618B2 (en) * 2005-02-02 2007-07-31 Nikon Corporation Radiantly heated cathode for an electron gun and heating assembly
FR2890461B1 (fr) * 2005-09-05 2008-12-26 Sagem Defense Securite Obturateur et illuminateur d'un dispositif de photolithographie
US7265908B2 (en) * 2005-12-19 2007-09-04 Coherent, Inc. Apparatus for projecting a line of light from a diode-laser array
US7630136B2 (en) 2006-07-18 2009-12-08 Asml Holding N.V. Optical integrators for lithography systems and methods
US20090026388A1 (en) * 2007-07-25 2009-01-29 Drozdowicz Zbigniew M Illumination Homogenizer
DE102008023802A1 (de) 2008-05-15 2009-11-19 Carl Zeiss Microlmaging Gmbh Beleuchtungssystem, insbesondere für Mikroskope
DE102008051252B4 (de) * 2008-10-10 2016-09-08 Sypro Optics Gmbh Projektionsobjektiv und Projektor
EP2253997A3 (en) * 2009-05-18 2010-12-08 Süss MicroTec Lithography GmbH Illumination system for a microlithographic contact and proximity exposure apparatus
JP5097299B2 (ja) * 2010-06-10 2012-12-12 オリンパスメディカルシステムズ株式会社 光源装置および内視鏡システム
JP2013167832A (ja) * 2012-02-16 2013-08-29 V Technology Co Ltd 偏光光照射方法、露光済み材製造方法及び露光装置
FR2996015B1 (fr) * 2012-09-25 2014-09-12 Sagem Defense Securite Illuminateur de dispositif de photolithographie permettant la diffraction controlee
DE102015115064A1 (de) 2015-09-08 2017-03-09 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Beleuchtungseinheit und Vorrichtung zur lithografischen Belichtung

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3296923A (en) * 1965-01-04 1967-01-10 Gen Electric Lenticulated collimating condensing system
US3267802A (en) * 1965-01-04 1966-08-23 Gen Electric Lenticulated collimating condensing system for oblique object planes
US3941475A (en) * 1974-07-01 1976-03-02 Tamarack Scientific Co., Inc. Optical microcircuit printing system
US4206494A (en) * 1978-09-05 1980-06-03 Gca Corporation High throughput illuminator

Also Published As

Publication number Publication date
JPS58147708A (ja) 1983-09-02
US4497015A (en) 1985-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0378607B2 (ja)
US5675401A (en) Illuminating arrangement including a zoom objective incorporating two axicons
JPS60232552A (ja) 照明光学系
JPH06214318A (ja) 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置
USRE34634E (en) Light illumination device
JPH0817223A (ja) 照明光学装置
JPH032284B2 (ja)
JP2997351B2 (ja) 照明光学装置
KR950024024A (ko) 투영노광장치 및 이를 이용한 디바이스 제조방법
JP3428055B2 (ja) 照明光学装置、露光装置、半導体製造方法および露光方法
JP3491212B2 (ja) 露光装置、照明光学装置、照明光学系の設計方法及び露光方法
JP2875143B2 (ja) 投影露光装置
JP3208863B2 (ja) 照明方法及び装置、露光方法、並びに半導体素子の製造方法
JPH08203803A (ja) 露光装置
JPS622539A (ja) 照明光学系
JPH0744141B2 (ja) 照明光学装置
JP2914035B2 (ja) 輪帯光束形成方法および照明光学装置
KR0165701B1 (ko) 조명장치 및 동장치를 사용하는 노광장치
JP3879142B2 (ja) 露光装置
JP2503696B2 (ja) 投影露光装置
JPS6380243A (ja) 露光装置用照明光学装置
JP3209220B2 (ja) 露光方法及び半導体素子の製造方法
JP2748343B2 (ja) 光照射装置
JPS61251858A (ja) 照明光学系
JP2997350B2 (ja) 照明光学装置