JPH0355921Y2 - - Google Patents
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- JPH0355921Y2 JPH0355921Y2 JP1986172952U JP17295286U JPH0355921Y2 JP H0355921 Y2 JPH0355921 Y2 JP H0355921Y2 JP 1986172952 U JP1986172952 U JP 1986172952U JP 17295286 U JP17295286 U JP 17295286U JP H0355921 Y2 JPH0355921 Y2 JP H0355921Y2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V5/00—Refractors for light sources
- F21V5/04—Refractors for light sources of lens shape
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0062—Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0075—Arrays characterized by non-optical structures, e.g. having integrated holding or alignment means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
この考案は、均一な照度分布を与えるために用
いられるフライアイレンズに関し、詳しくは、フ
ライアイレンズを構成するエレメントレンズの保
持構造に関する。
いられるフライアイレンズに関し、詳しくは、フ
ライアイレンズを構成するエレメントレンズの保
持構造に関する。
従来の技術
均一な露光、例えば、60×60cmのプリント配線
板の精密フオトエツチングパターンの焼付作業な
どを能率良く行うために、現在、第3図に示され
るような露光光学系が採用されている。図におい
て、1は光源の超高圧水銀灯で、楕円鏡2による
集光位置にフライアイレンズ3を設置し、このフ
ライアイレンズ3の光出射側エレメントレンズ4
それぞれからの拡散光束の重畳によつて露光面5
に均一な照度分布を与えるものである。6a,6
bはそれぞれ反射ミラー、7は平行光束化のため
のフレネルレンズ、フオトマスクを被着したレジ
スト付基板は、露光面5に設置される。
板の精密フオトエツチングパターンの焼付作業な
どを能率良く行うために、現在、第3図に示され
るような露光光学系が採用されている。図におい
て、1は光源の超高圧水銀灯で、楕円鏡2による
集光位置にフライアイレンズ3を設置し、このフ
ライアイレンズ3の光出射側エレメントレンズ4
それぞれからの拡散光束の重畳によつて露光面5
に均一な照度分布を与えるものである。6a,6
bはそれぞれ反射ミラー、7は平行光束化のため
のフレネルレンズ、フオトマスクを被着したレジ
スト付基板は、露光面5に設置される。
ところで、このような露光光学系に用いられる
フライアイレンズ3は、光軸と垂直な平面上にエ
レメントレンズ4を2次元に配列した構成を基本
とする。なお、かかるフライアレイレンズ3は、
光軸方向にもエレメントレンズ4を複数段組合わ
せて空間的に3次元に配置されることが多い。そ
のため、フライアレイレンズ3を構成するエレメ
ントレンズは精度よく2次元に配列され、しかも
光軸方向の位置関係も正確に保持させて組立てら
れる必要がある。
フライアイレンズ3は、光軸と垂直な平面上にエ
レメントレンズ4を2次元に配列した構成を基本
とする。なお、かかるフライアレイレンズ3は、
光軸方向にもエレメントレンズ4を複数段組合わ
せて空間的に3次元に配置されることが多い。そ
のため、フライアレイレンズ3を構成するエレメ
ントレンズは精度よく2次元に配列され、しかも
光軸方向の位置関係も正確に保持させて組立てら
れる必要がある。
従来、この必要性を満足させるために、第4図
に示されるようなホルダ部品が使用されてきた。
第4図aは、同図b−1,2に例示するようなエ
レメントレンズ4を配置・収容するためのエレメ
ントレンズホルダ8を示し、このホルダ8は、金
属製円板の中央部を切削により格子状の平面9に
加工したものである。エレメントレンズ4は、こ
の格子状の平面9の単位格子9uに正確に位置決
め2次元アレイ状に配列されることによつて1枚
のエレメントレンズ群を構成する。このレンズ設
置板に、同図cで示すような所定の厚みに精度よ
く加工し所定のレンズ間距離を与える、エレメン
トレンズホルダ8と同様に格子状に切削加工した
金属製スペーサ10を嵌め合わせる。これを設計
仕様に従つて複数枚準備する。そして、これらを
光軸方向に複数段重ね合わせ、さらにスペーサ1
0と同様な形状の抜け止め防止用ホルダ(図示せ
ず)で光軸方向に挟持し、その全体を筒状にくり
抜いた外観箱形のホルダ本体(図示せず)に嵌せ
合せ、ネジで固定してフライアイレンズ構体とす
る。
に示されるようなホルダ部品が使用されてきた。
第4図aは、同図b−1,2に例示するようなエ
レメントレンズ4を配置・収容するためのエレメ
ントレンズホルダ8を示し、このホルダ8は、金
属製円板の中央部を切削により格子状の平面9に
加工したものである。エレメントレンズ4は、こ
の格子状の平面9の単位格子9uに正確に位置決
め2次元アレイ状に配列されることによつて1枚
のエレメントレンズ群を構成する。このレンズ設
置板に、同図cで示すような所定の厚みに精度よ
く加工し所定のレンズ間距離を与える、エレメン
トレンズホルダ8と同様に格子状に切削加工した
金属製スペーサ10を嵌め合わせる。これを設計
仕様に従つて複数枚準備する。そして、これらを
光軸方向に複数段重ね合わせ、さらにスペーサ1
0と同様な形状の抜け止め防止用ホルダ(図示せ
ず)で光軸方向に挟持し、その全体を筒状にくり
抜いた外観箱形のホルダ本体(図示せず)に嵌せ
合せ、ネジで固定してフライアイレンズ構体とす
る。
考案が解決しようとする問題点
ところが、上記のような構造であると、フライ
アイレンズのレンズ面は、レンズだけでなくエレ
メントレンズホルダ自身すなわち格子状平面9の
金属格子9lが必ずある面積を占め、これが光源
からの光束を遮り一部露光面に到達しないといつ
た入射光量の損失の問題がある。仮に、この損失
を補償するように大容量の光源を用いることが考
えられるが、装置全体が大型化する欠点とともに
熱処理対策が問題化する。
アイレンズのレンズ面は、レンズだけでなくエレ
メントレンズホルダ自身すなわち格子状平面9の
金属格子9lが必ずある面積を占め、これが光源
からの光束を遮り一部露光面に到達しないといつ
た入射光量の損失の問題がある。仮に、この損失
を補償するように大容量の光源を用いることが考
えられるが、装置全体が大型化する欠点とともに
熱処理対策が問題化する。
第2の問題は、ホルダ部品を別個にかつ高精度
に加工しなければならない難点である。即ち、エ
レメントレンズホルダやスペーサなどは、使用す
るエレメントレンズ固有の形状に合わせて加工す
る必要があり、また、個々のエレメントレンズ間
及び光軸方向のエレメントレンズ群相互間の位置
関係を光学的に正確に保てるように、ホルダ部品
の総てにおいてその機械加工には極めて高い精度
が要求され、これらのことが大幅なコスト上昇を
招いている。
に加工しなければならない難点である。即ち、エ
レメントレンズホルダやスペーサなどは、使用す
るエレメントレンズ固有の形状に合わせて加工す
る必要があり、また、個々のエレメントレンズ間
及び光軸方向のエレメントレンズ群相互間の位置
関係を光学的に正確に保てるように、ホルダ部品
の総てにおいてその機械加工には極めて高い精度
が要求され、これらのことが大幅なコスト上昇を
招いている。
第3は熱に係る問題である。フライアイレンズ
構体は、楕円鏡2の集光部に設置されるので、相
当に高温となる。ホルダ部品、エレメントレンズ
はそれぞれ熱をもつが、金属と光学ガラスの熱膨
張係数差によつて機械的な歪が生じる。これが光
学的特性に影響を及ぼす。また、ホルダ部品を構
成する金属は熱伝導性が高いので、個々のエレメ
ントレンズにおいてホルダ部品と接する外周部は
中心部と温度差を生じ種々の悪影響を及ぼす。
構体は、楕円鏡2の集光部に設置されるので、相
当に高温となる。ホルダ部品、エレメントレンズ
はそれぞれ熱をもつが、金属と光学ガラスの熱膨
張係数差によつて機械的な歪が生じる。これが光
学的特性に影響を及ぼす。また、ホルダ部品を構
成する金属は熱伝導性が高いので、個々のエレメ
ントレンズにおいてホルダ部品と接する外周部は
中心部と温度差を生じ種々の悪影響を及ぼす。
この考案は、上記問題点を解消することを目的
とする。
とする。
問題点を解決するための手段
このため、本考案は、方形状のエレメントレン
ズを光軸と平行な側面相互を密接させて2次元に
配列し、各列の一端を断熱性のスペーサを介して
基台に固定の側板に支持させる一方、他端のそれ
ぞれを断熱性のスペーサを介し前記基台に固定さ
れる側板に設けたバネにより列方向に押圧してエ
レメントレンズ列を前記両側板間に保持させて板
状のエレメントレンズ群を構成し、この構成の板
状エレメントレンズ群を光軸方向に複数重ね合せ
てなることを特徴とする。
ズを光軸と平行な側面相互を密接させて2次元に
配列し、各列の一端を断熱性のスペーサを介して
基台に固定の側板に支持させる一方、他端のそれ
ぞれを断熱性のスペーサを介し前記基台に固定さ
れる側板に設けたバネにより列方向に押圧してエ
レメントレンズ列を前記両側板間に保持させて板
状のエレメントレンズ群を構成し、この構成の板
状エレメントレンズ群を光軸方向に複数重ね合せ
てなることを特徴とする。
作 用
上記のフライアイレンズ構体によれば、フライ
アイレンズはエレメントレンズのみで構成されて
いるので、このフライアイレンズに入射する光束
は光量の損失なく射出する。
アイレンズはエレメントレンズのみで構成されて
いるので、このフライアイレンズに入射する光束
は光量の損失なく射出する。
また、この構体が高温になつても、フライアイ
レンズは断熱性スペーサを介して支持されている
ので、側板からの熱伝導がなく均一な温度分布の
状態が確保でき熱膨張のバラツキ度合を抑制で
き、たとえ熱膨張してもバネでこれを均等に吸収
するので、露光時の光学的特性が安定化する。
レンズは断熱性スペーサを介して支持されている
ので、側板からの熱伝導がなく均一な温度分布の
状態が確保でき熱膨張のバラツキ度合を抑制で
き、たとえ熱膨張してもバネでこれを均等に吸収
するので、露光時の光学的特性が安定化する。
実施例
以下、本発明を添付図面に示す実施例によつて
具体的に説明する。
具体的に説明する。
第1図は一実施例のフライアイレンズ構体の半
裁断面を示し、11は部品取付の基台をなすアル
ミ合金製の底板で、中央に光束出射用の矩形窓1
2がある。13は底板11上に立設されたアルミ
合金製の側板で、この側板13の内側には、底板
11上に立てたテフロン製のスペーサ板14があ
り、側板13の内側面と密着している(“テフロ
ン”はデユポン社の登録商標)。
裁断面を示し、11は部品取付の基台をなすアル
ミ合金製の底板で、中央に光束出射用の矩形窓1
2がある。13は底板11上に立設されたアルミ
合金製の側板で、この側板13の内側には、底板
11上に立てたテフロン製のスペーサ板14があ
り、側板13の内側面と密着している(“テフロ
ン”はデユポン社の登録商標)。
ネジ15を設けたアルミ合金製の側板16は、
上記側板13と平行して底板11上に立設されて
いる。側板13は、25個の貫通孔17を備え、貫
通孔17は図中横方向には直線状一定ピツチで並
び、縦方向では直線状に並ぶが、中心間の距離は
レンズ間隔に応じて相違する。貫通孔17の上部
はネジ15と螺合するネジ部17sを形成する一
方、下部はネジ部17sの内径より大きい内径の
筒状部17sを形成している。
上記側板13と平行して底板11上に立設されて
いる。側板13は、25個の貫通孔17を備え、貫
通孔17は図中横方向には直線状一定ピツチで並
び、縦方向では直線状に並ぶが、中心間の距離は
レンズ間隔に応じて相違する。貫通孔17の上部
はネジ15と螺合するネジ部17sを形成する一
方、下部はネジ部17sの内径より大きい内径の
筒状部17sを形成している。
貫通孔17の筒状部17sには、金属円板18、
圧縮コイルバネ19、円板18と同一形状の金属
円板20及びテフロン製の円柱形スペーサ21が
この順に収容されていて、ねじ込んだネジ15の
下端が金属円板18を押圧している。
圧縮コイルバネ19、円板18と同一形状の金属
円板20及びテフロン製の円柱形スペーサ21が
この順に収容されていて、ねじ込んだネジ15の
下端が金属円板18を押圧している。
31e,32e,33e,34eはそれぞれ焦
点距離の異なるエレメントレンズであつて、光軸
方向に直交する平面に投影するとすべて同一の正
方形をなす。エレメントレンズ31e,32e,
33e,34eのそれぞれは光軸方向と平行な4
つの側面をもつ。
点距離の異なるエレメントレンズであつて、光軸
方向に直交する平面に投影するとすべて同一の正
方形をなす。エレメントレンズ31e,32e,
33e,34eのそれぞれは光軸方向と平行な4
つの側面をもつ。
第1段目の板状のエレメントレンズ群31は、
エレメントレンズ31eをその側面35を相互に
密接させ5×5のマトリクス状に配列して構成さ
れている。エレメントレンズ31eの5個からな
る列の一端を板状スペーサ14で支持し、列他端
のレンズ側面を円柱形スペーサ21で支持してい
る。円柱形スペーサ21には、ネジ15の下端を
支承端とする圧縮コイルバネ19からの強いバネ
力(例えば全圧で1〜1.5Kg)が列方向に作用し
ており、5個のエレメントレンズ列はこのバネ力
によつて押圧保持されている。他のエレメントレ
ンズ列も全く同様に圧縮コイルバネ19のバネ力
により押圧されスペーサ14,21間に保持され
ている。このようにして25個のエレメントレンズ
31eだけからなる板状のエレメントレンズ群3
1が形成される。第2段目、第3段目及び第4段
目のエレメントレンズ群32,33,34も全く
同じ態様で形成されている。
エレメントレンズ31eをその側面35を相互に
密接させ5×5のマトリクス状に配列して構成さ
れている。エレメントレンズ31eの5個からな
る列の一端を板状スペーサ14で支持し、列他端
のレンズ側面を円柱形スペーサ21で支持してい
る。円柱形スペーサ21には、ネジ15の下端を
支承端とする圧縮コイルバネ19からの強いバネ
力(例えば全圧で1〜1.5Kg)が列方向に作用し
ており、5個のエレメントレンズ列はこのバネ力
によつて押圧保持されている。他のエレメントレ
ンズ列も全く同様に圧縮コイルバネ19のバネ力
により押圧されスペーサ14,21間に保持され
ている。このようにして25個のエレメントレンズ
31eだけからなる板状のエレメントレンズ群3
1が形成される。第2段目、第3段目及び第4段
目のエレメントレンズ群32,33,34も全く
同じ態様で形成されている。
なお、22は底板11上に立設されたアルミ合
金製の側板、23は底板11上に立てられ側板1
1に密着したテフロン製のスペーサ板、24は中
央部に円形窓25をもつたアルミ合金製の天板
で、側板13,16,22,27それぞれの上面
と固定されている。図示しない光源からの光束
は、円形窓25を通り、第4段目のエレメントレ
ンズ群34に入射する。4段のエレメントレンズ
群を経由して、第1段目のエレメントレンズ群3
1の各エレメントレンズ31eからは広角の光束
が射出する。射出光量は、入射光束を遮断する部
分がないので光量の損失がなく入射光量とほぼ同
等となる。したがつて、従来と同じ容量の光源を
使うとすれば露光時間を短くでき、露光時間を変
えないとすれば容量の小さな光源すなわち小型の
ものが使用できる。光源の小型化は一般には大型
化する露光装置のコンパクト化に貢献する。
金製の側板、23は底板11上に立てられ側板1
1に密着したテフロン製のスペーサ板、24は中
央部に円形窓25をもつたアルミ合金製の天板
で、側板13,16,22,27それぞれの上面
と固定されている。図示しない光源からの光束
は、円形窓25を通り、第4段目のエレメントレ
ンズ群34に入射する。4段のエレメントレンズ
群を経由して、第1段目のエレメントレンズ群3
1の各エレメントレンズ31eからは広角の光束
が射出する。射出光量は、入射光束を遮断する部
分がないので光量の損失がなく入射光量とほぼ同
等となる。したがつて、従来と同じ容量の光源を
使うとすれば露光時間を短くでき、露光時間を変
えないとすれば容量の小さな光源すなわち小型の
ものが使用できる。光源の小型化は一般には大型
化する露光装置のコンパクト化に貢献する。
また、露光時、集光光によりこのフライアイレ
ンズ構体は熱をもつが、フライアイレンズ31〜
34は熱遮断性に優れたテフロン製のスペーサに
囲まれた構造となつているので、金属板からの伝
熱を有効に防止する。さらに、エレメントレンズ
が膨張しても、テフロンは樹脂としては軟質であ
るので、この膨張を有効に吸収することができ
る。圧縮コイルバネ19の押圧方向ではテフロン
のスペーサとともにこのコイルバネが均等に膨張
を吸収し、光学特性を安定に保つ。尚、各段のフ
ライアイレンズ31〜34の4偶のエレメントレ
ンズは、レンズでない同一形状のスペーサで置き
換えてもよい。
ンズ構体は熱をもつが、フライアイレンズ31〜
34は熱遮断性に優れたテフロン製のスペーサに
囲まれた構造となつているので、金属板からの伝
熱を有効に防止する。さらに、エレメントレンズ
が膨張しても、テフロンは樹脂としては軟質であ
るので、この膨張を有効に吸収することができ
る。圧縮コイルバネ19の押圧方向ではテフロン
のスペーサとともにこのコイルバネが均等に膨張
を吸収し、光学特性を安定に保つ。尚、各段のフ
ライアイレンズ31〜34の4偶のエレメントレ
ンズは、レンズでない同一形状のスペーサで置き
換えてもよい。
次に、第2図の分解斜視図によつて、実施例の
フライアイレンズ構体の組み立て方の概要を説明
しておく。
フライアイレンズ構体の組み立て方の概要を説明
しておく。
まず、底板11に側板13と側板22をネジに
より固定する。次に、側板16の貫通孔17に金
属円板18、圧縮コイルバネ19、金属円板2
0、円柱形スペーサ21を収容し、この側板16
を底板22にネジにより固定する。スペーサ板1
4とスペーサ板23をそれぞれ側板13,22に
沿わせて底板22上に立てる。
より固定する。次に、側板16の貫通孔17に金
属円板18、圧縮コイルバネ19、金属円板2
0、円柱形スペーサ21を収容し、この側板16
を底板22にネジにより固定する。スペーサ板1
4とスペーサ板23をそれぞれ側板13,22に
沿わせて底板22上に立てる。
次に、底板11上に所定の厚みの薄い平板(治
具)を敷き、その上へエレメントレンズ31eを
側面を接するように5×5のマトリクス状に配置
する。エレメントレンズ列が直線状に整列するよ
うに側板を取付けていない側からこれらを押し付
け保持して、ネジ15を1列ずつ順にねじ込む。
もちろん、エレメントレンズの材質である光学ガ
ラスの許容応力以下の押圧力とする。第1段目が
完成する治具の平板を抜く。
具)を敷き、その上へエレメントレンズ31eを
側面を接するように5×5のマトリクス状に配置
する。エレメントレンズ列が直線状に整列するよ
うに側板を取付けていない側からこれらを押し付
け保持して、ネジ15を1列ずつ順にねじ込む。
もちろん、エレメントレンズの材質である光学ガ
ラスの許容応力以下の押圧力とする。第1段目が
完成する治具の平板を抜く。
第1段目の上へレンズ間隔に対応した厚みをも
つた治具の平板を敷く。第2段目のエレメントレ
ンズ32eをこの平板の上へ配置する。エレメン
トレンズ列を正しく整えこれらを押圧保持して、
同様にネジ15を1列ずつ順にねじ込む。第2段
目を完成させて、治具の平板を抜く。第3段目、
第4段目も同様に所定厚さの治具の平板を敷いて
作業を行う。第4段目が完成すると、テフロン製
のスペーサ26を押し当て、スペーサ26に密着
するように側板27を底板11にネジで固定す
る。最後に、側板13,22,16,27上に天
板24をかぶせ、ネジにより固定する。
つた治具の平板を敷く。第2段目のエレメントレ
ンズ32eをこの平板の上へ配置する。エレメン
トレンズ列を正しく整えこれらを押圧保持して、
同様にネジ15を1列ずつ順にねじ込む。第2段
目を完成させて、治具の平板を抜く。第3段目、
第4段目も同様に所定厚さの治具の平板を敷いて
作業を行う。第4段目が完成すると、テフロン製
のスペーサ26を押し当て、スペーサ26に密着
するように側板27を底板11にネジで固定す
る。最後に、側板13,22,16,27上に天
板24をかぶせ、ネジにより固定する。
考案の効果
以上の説明から明らかなように、本考案は、エ
レメントレンズ相互を密接させこれを側部からバ
ネ力により押圧してホルダに保持しこの板状のエ
レメントレンズ群を重ねてフライアイレンズとす
るものであるから、光量の損失をなくせるばかり
か、高精度加工のホルダ部品が不要で大幅なコス
ト削減ができ、また、断熱性スペーサやバネによ
り熱膨張を有効に吸収する構造であるので、露光
中に安定した光学特性を実現できる優れた効果が
ある。
レメントレンズ相互を密接させこれを側部からバ
ネ力により押圧してホルダに保持しこの板状のエ
レメントレンズ群を重ねてフライアイレンズとす
るものであるから、光量の損失をなくせるばかり
か、高精度加工のホルダ部品が不要で大幅なコス
ト削減ができ、また、断熱性スペーサやバネによ
り熱膨張を有効に吸収する構造であるので、露光
中に安定した光学特性を実現できる優れた効果が
ある。
第1図は本考案の一実施例を示す半裁断面図、
第2図はこの実施例の分解斜視図、第3図はフラ
イアイレンズを用いる露光光学系の例示図、第4
図は従来のフライアイレンズ構体の説明図であ
る。 11……底板、13……側板、14……テフロ
ン製のスペーサ板、15……ネジ、16……側
板、19……圧縮コイルバネ、21……円柱形ス
ペーサ、31e,32e,33e,34e……エ
レメントレンズ、31,32,33,34……板
状のエレメントレンズ群。
第2図はこの実施例の分解斜視図、第3図はフラ
イアイレンズを用いる露光光学系の例示図、第4
図は従来のフライアイレンズ構体の説明図であ
る。 11……底板、13……側板、14……テフロ
ン製のスペーサ板、15……ネジ、16……側
板、19……圧縮コイルバネ、21……円柱形ス
ペーサ、31e,32e,33e,34e……エ
レメントレンズ、31,32,33,34……板
状のエレメントレンズ群。
Claims (1)
- 方形状のエレメントレンズを光軸と平行な側面
相互を密接させて2次元に配列し、各列の一端を
断熱性のスペーサを介して基台に固定の側板に支
持させる一方、他端のそれぞれを断熱性のスペー
サを介し前記基台に固定される側板に設けたバネ
により列方向に押圧してエレメントレンズ列を前
記両側板間に保持させて板状のエレメントレンズ
群を構成し、この構成の板状エレメントレンズ群
を光軸方向に複数段重ね合せてなることを特徴と
するフライアイレンズ構体。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986172952U JPH0355921Y2 (ja) | 1986-11-11 | 1986-11-11 | |
DE8787116667T DE3778301D1 (de) | 1986-11-11 | 1987-11-11 | Facettenlinsen-einheit zur beleuchtung. |
US07/119,715 US4884869A (en) | 1986-11-11 | 1987-11-12 | Fly's eye lens unit for illumination system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986172952U JPH0355921Y2 (ja) | 1986-11-11 | 1986-11-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6378902U JPS6378902U (ja) | 1988-05-25 |
JPH0355921Y2 true JPH0355921Y2 (ja) | 1991-12-13 |
Family
ID=15951403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1986172952U Expired JPH0355921Y2 (ja) | 1986-11-11 | 1986-11-11 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4884869A (ja) |
JP (1) | JPH0355921Y2 (ja) |
DE (1) | DE3778301D1 (ja) |
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JPH06124913A (ja) | 1992-06-26 | 1994-05-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザー処理方法 |
NL9301973A (nl) * | 1992-11-20 | 1994-06-16 | Samsung Electronics Co Ltd | Belichtingssysteem voor een projectiebelichtingsapparaat. |
TW536644B (en) * | 1997-10-29 | 2003-06-11 | Ushio Electric Inc | Polarized light radiation device for alignment film of liquid crystal display element |
JP4238390B2 (ja) | 1998-02-27 | 2009-03-18 | 株式会社ニコン | 照明装置、該照明装置を備えた露光装置および該露光装置を用いて半導体デバイスを製造する方法 |
JP3904352B2 (ja) * | 1998-10-14 | 2007-04-11 | 株式会社日立製作所 | 光学部品及び画像表示装置 |
JP3967851B2 (ja) * | 1999-08-11 | 2007-08-29 | フジノン株式会社 | フライアイレンズの位置決め構造 |
KR100426699B1 (ko) * | 2001-07-12 | 2004-04-13 | 엘지전자 주식회사 | Lcd 프로젝터 광학엔진의 fel 위치 조정 장치 |
US7289207B2 (en) * | 2003-10-28 | 2007-10-30 | Los Alamos National Security, Llc | Integrated optical biosensor system (IOBS) |
US7394023B2 (en) * | 2004-06-10 | 2008-07-01 | Rizzuto Jr Salvatore A | Slack cable arrangement for underground electric service conduit connected to service boxes on the sides of buildings |
KR100702951B1 (ko) * | 2005-02-21 | 2007-04-03 | 삼성테크윈 주식회사 | 카메라용 조명장치 |
US20090026388A1 (en) * | 2007-07-25 | 2009-01-29 | Drozdowicz Zbigniew M | Illumination Homogenizer |
US8247999B2 (en) | 2008-01-22 | 2012-08-21 | Alcatel Lucent | Time division multiplexing a DC-to-DC voltage converter |
US20110234985A1 (en) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Alcatel-Lucent Usa Inc. | Despeckling laser-image-projection system |
CN101916044B (zh) * | 2010-07-27 | 2011-12-21 | 浙江大学 | 一种用于双四极均匀照明的自由曲面透镜 |
TWI487983B (zh) * | 2012-05-03 | 2015-06-11 | Univ Nat Chiao Tung | 光學膜及使用光學膜之背光模組 |
CN102944934B (zh) * | 2012-12-12 | 2016-01-20 | 南京迈得特光学有限公司 | 多层曲面复眼式180°大视场成像系统 |
EP3376099B1 (en) | 2017-03-17 | 2019-09-18 | Lumileds Holding B.V. | Led lighting arrangement |
CN113238387A (zh) * | 2021-05-07 | 2021-08-10 | 广景视睿科技(深圳)有限公司 | 一种复眼镜片模组、照明装置及dlp光机模组 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1882829A (en) * | 1930-10-29 | 1932-10-18 | Bell Telephone Labor Inc | Relief picture viewing screen |
US3296923A (en) * | 1965-01-04 | 1967-01-10 | Gen Electric | Lenticulated collimating condensing system |
JPS5612664A (en) * | 1979-07-13 | 1981-02-07 | Canon Inc | Projector |
JPS58147708A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-02 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 照明用光学装置 |
-
1986
- 1986-11-11 JP JP1986172952U patent/JPH0355921Y2/ja not_active Expired
-
1987
- 1987-11-11 DE DE8787116667T patent/DE3778301D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-12 US US07/119,715 patent/US4884869A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3778301D1 (de) | 1992-05-21 |
JPS6378902U (ja) | 1988-05-25 |
US4884869A (en) | 1989-12-05 |
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