JPH1062710A - 照明光学系 - Google Patents
照明光学系Info
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- JPH1062710A JPH1062710A JP8239789A JP23978996A JPH1062710A JP H1062710 A JPH1062710 A JP H1062710A JP 8239789 A JP8239789 A JP 8239789A JP 23978996 A JP23978996 A JP 23978996A JP H1062710 A JPH1062710 A JP H1062710A
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- light
- light source
- optical system
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70583—Speckle reduction, e.g. coherence control or amplitude/wavefront splitting
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 コヒーレンスの高い光源に対しても、構成を
大型化することなく、所望の空間的コヒーレンスで照度
むらの少ない照明が可能な照明光学系の提供。 【解決手段】 空間的にコヒーレントでほぼ平行な光を
供給するための光源１手段と、光源手段からの光を複数
の光に分割し、該分割された複数の光のうち任意に選択
された２つの光に対して光の可干渉距離以上の光路差を
付与するための光路差発生手段２と、光路差発生手段を
介した複数の光の各々に基づいて複数の光源像を形成す
るためのフライアイレンズ５と、フライアイレンズに対
する複数の光の入射角度を変化させるための走査手段と
を備えている。
大型化することなく、所望の空間的コヒーレンスで照度
むらの少ない照明が可能な照明光学系の提供。 【解決手段】 空間的にコヒーレントでほぼ平行な光を
供給するための光源１手段と、光源手段からの光を複数
の光に分割し、該分割された複数の光のうち任意に選択
された２つの光に対して光の可干渉距離以上の光路差を
付与するための光路差発生手段２と、光路差発生手段を
介した複数の光の各々に基づいて複数の光源像を形成す
るためのフライアイレンズ５と、フライアイレンズに対
する複数の光の入射角度を変化させるための走査手段と
を備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は照明光学系に関し、
特に半導体素子などの製造のための露光装置に好適な照
明光学系に関する。
特に半導体素子などの製造のための露光装置に好適な照
明光学系に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は、第１の従来例にかかる照明光学
系を備えた露光装置の構成を概略的に示す図である。図
３に示す露光装置は、たとえば特開昭６３−１５９８７
３号公報や光学第１９巻（１９９０年）第１５５頁およ
び第１５６頁に開示された装置であって、ＫｒＦエキシ
マレーザなどのパルスレーザを発する光源４１を備えて
いる。エキシマレーザ光源４１から射出されたビーム
は、一対のシリンドリカルレンズからなるビームエキス
パンダ４２およびズームレンズ４３によって整形された
後、走査ミラー４４に入射する。走査ミラー４４を介し
て光軸に垂直な面内において二次元的に走査されたビー
ムは、フライアイレンズ４５を介して複数の光源像を形
成する。複数の光源像からの光は、コンデンサーレンズ
４６を介してマスク４７を照明し、投影光学系４８を介
してウエハ４９上にマスクパターン像を形成する。
系を備えた露光装置の構成を概略的に示す図である。図
３に示す露光装置は、たとえば特開昭６３−１５９８７
３号公報や光学第１９巻（１９９０年）第１５５頁およ
び第１５６頁に開示された装置であって、ＫｒＦエキシ
マレーザなどのパルスレーザを発する光源４１を備えて
いる。エキシマレーザ光源４１から射出されたビーム
は、一対のシリンドリカルレンズからなるビームエキス
パンダ４２およびズームレンズ４３によって整形された
後、走査ミラー４４に入射する。走査ミラー４４を介し
て光軸に垂直な面内において二次元的に走査されたビー
ムは、フライアイレンズ４５を介して複数の光源像を形
成する。複数の光源像からの光は、コンデンサーレンズ
４６を介してマスク４７を照明し、投影光学系４８を介
してウエハ４９上にマスクパターン像を形成する。
【０００３】図３の露光装置では、たとえば数十のパル
ス照射によって１回の露光が行われている。フライアイ
レンズ４５は、光源４１の射出面内におけるビームの強
度分布に起因する被照射面（マスク４７およびウエハ４
９）上での照明むらを補正するために不可欠の要素であ
る。しかしながら、フライアイレンズ４５は入射ビーム
を波面分割するので、各パルス照射に対する照明によっ
て、マスク４７上には干渉ノイズが発生する。図３の露
光装置では、各パルス照射ごとに走査ミラーの角度を変
化させて干渉ノイズを平均化することによって、マスク
４７およびウエハ４９上における照度を均一化してい
る。
ス照射によって１回の露光が行われている。フライアイ
レンズ４５は、光源４１の射出面内におけるビームの強
度分布に起因する被照射面（マスク４７およびウエハ４
９）上での照明むらを補正するために不可欠の要素であ
る。しかしながら、フライアイレンズ４５は入射ビーム
を波面分割するので、各パルス照射に対する照明によっ
て、マスク４７上には干渉ノイズが発生する。図３の露
光装置では、各パルス照射ごとに走査ミラーの角度を変
化させて干渉ノイズを平均化することによって、マスク
４７およびウエハ４９上における照度を均一化してい
る。
【０００４】図５は、第２の従来例にかかる照明光学系
の要部構成を概略的に示す図である。図５に示す照明光
学系は、たとえば特開昭６０−２３０６２９号公報や光
学第２１巻（１９９２年）第８９６頁および第８９７頁
に開示された装置である。図５において、図示を省略し
たエキシマレーザ光源からの平行ビーム６１は、光路差
を発生させるロッド体６２を介してフライアイレンズ６
３に入射する。ここで、フライアイレンズ６３は、ロッ
ド体６２の射出面に隣接するように配置されている。ロ
ッド体６２は、光路長の互いに異なる複数の導光エレメ
ントからなり、各導光エレメントを介したビームがフラ
イアイレンズ６３を構成する各レンズエレメントに各々
一個一個対応して入射するように構成されている。
の要部構成を概略的に示す図である。図５に示す照明光
学系は、たとえば特開昭６０−２３０６２９号公報や光
学第２１巻（１９９２年）第８９６頁および第８９７頁
に開示された装置である。図５において、図示を省略し
たエキシマレーザ光源からの平行ビーム６１は、光路差
を発生させるロッド体６２を介してフライアイレンズ６
３に入射する。ここで、フライアイレンズ６３は、ロッ
ド体６２の射出面に隣接するように配置されている。ロ
ッド体６２は、光路長の互いに異なる複数の導光エレメ
ントからなり、各導光エレメントを介したビームがフラ
イアイレンズ６３を構成する各レンズエレメントに各々
一個一個対応して入射するように構成されている。
【０００５】そして、任意の２つの導光エレメントを介
した２つのビームすなわち任意の２つのレンズエレメン
トを介した２つのビームの間には、エキシマレーザの可
干渉距離以上の光路差が付与されるように、ロッド体６
２が構成されている。フライアイレンズ６３を介して形
成された複数の光源像からの光は、コンデンサーレンズ
６４を介して、たとえばマスク６５のような被照射面を
照明する。図５の照明光学系では、フライアイレンズ６
３において任意の２つのレンズエレメントを介した光は
互いにインコヒーレントとなり干渉することなく、被照
射面において干渉ノイズが発生しない。
した２つのビームすなわち任意の２つのレンズエレメン
トを介した２つのビームの間には、エキシマレーザの可
干渉距離以上の光路差が付与されるように、ロッド体６
２が構成されている。フライアイレンズ６３を介して形
成された複数の光源像からの光は、コンデンサーレンズ
６４を介して、たとえばマスク６５のような被照射面を
照明する。図５の照明光学系では、フライアイレンズ６
３において任意の２つのレンズエレメントを介した光は
互いにインコヒーレントとなり干渉することなく、被照
射面において干渉ノイズが発生しない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】パルス発振の紫外線レ
ーザとしてはエキシマレーザの他に、半導体レーザ励起
のＹＡＧレーザの４倍高調波（波長２６６ｎｍ）や５倍
高調波（波長２１３ｎｍ）などの固体レーザが知られて
いる。ところで、第１の従来例にかかる照明光学系に固
体レーザ光源を用いると、フライアイレンズの各レンズ
エレメントを介した光波による干渉ノイズを十分に平均
化することができないという不都合があった。これは、
固体レーザのコヒーレンス、特に空間的コヒーレンスが
エキシマレーザと比べて非常に高いことに起因してい
る。
ーザとしてはエキシマレーザの他に、半導体レーザ励起
のＹＡＧレーザの４倍高調波（波長２６６ｎｍ）や５倍
高調波（波長２１３ｎｍ）などの固体レーザが知られて
いる。ところで、第１の従来例にかかる照明光学系に固
体レーザ光源を用いると、フライアイレンズの各レンズ
エレメントを介した光波による干渉ノイズを十分に平均
化することができないという不都合があった。これは、
固体レーザのコヒーレンス、特に空間的コヒーレンスが
エキシマレーザと比べて非常に高いことに起因してい
る。
【０００７】固体レーザ光源を用いる場合、固体レーザ
の空間的コヒーレンスが非常に高いので、フライアイレ
ンズの隣接する２つのレンズエレメント間の干渉性だけ
でなく、すべてのレンズエレメント間の干渉性を低減し
なければならない。一方、マスク上の照度むらをひいて
はウエハ上の照度むらを少なくするためには、レンズエ
レメントの数を多くする必要がある。しかしながら、後
述するように、第１の従来例においてレンズエレメント
の数を多くすると、すべてのレンズエレメント間の干渉
性を低減するためには光源の露光パルス数も多くしなけ
ればならないという不都合があった。
の空間的コヒーレンスが非常に高いので、フライアイレ
ンズの隣接する２つのレンズエレメント間の干渉性だけ
でなく、すべてのレンズエレメント間の干渉性を低減し
なければならない。一方、マスク上の照度むらをひいて
はウエハ上の照度むらを少なくするためには、レンズエ
レメントの数を多くする必要がある。しかしながら、後
述するように、第１の従来例においてレンズエレメント
の数を多くすると、すべてのレンズエレメント間の干渉
性を低減するためには光源の露光パルス数も多くしなけ
ればならないという不都合があった。
【０００８】さらに、第２の従来例にかかる照明光学系
に固体レーザ光源を用いる場合においても、固体レーザ
の空間的コヒーレンスが非常に高いので、フライアイレ
ンズのすべてのレンズエレメント間の干渉性を低減しな
ければならない。したがって、光路差発生部材の所要長
さＬｍは、レンズエレメントの総数をＫとし、固体レー
ザの可干渉距離をＬｃとすると、（Ｋ−１）Ｌｃ以上と
なる。加えて、固体レーザは空間的コヒーレンスだけで
なく時間的コヒーレンスも高いので、可干渉距離Ｌｃ自
体がかなり長くなる。その結果、光路差発生部材が大型
化してしまうという不都合があった。
に固体レーザ光源を用いる場合においても、固体レーザ
の空間的コヒーレンスが非常に高いので、フライアイレ
ンズのすべてのレンズエレメント間の干渉性を低減しな
ければならない。したがって、光路差発生部材の所要長
さＬｍは、レンズエレメントの総数をＫとし、固体レー
ザの可干渉距離をＬｃとすると、（Ｋ−１）Ｌｃ以上と
なる。加えて、固体レーザは空間的コヒーレンスだけで
なく時間的コヒーレンスも高いので、可干渉距離Ｌｃ自
体がかなり長くなる。その結果、光路差発生部材が大型
化してしまうという不都合があった。
【０００９】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、固体レーザ光源のようにコヒーレンスの高い
光源に対しても、構成を大型化することなく、所望の空
間的コヒーレンスで照度むらの少ない照明が可能な照明
光学系を提供することを目的とする。
のであり、固体レーザ光源のようにコヒーレンスの高い
光源に対しても、構成を大型化することなく、所望の空
間的コヒーレンスで照度むらの少ない照明が可能な照明
光学系を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、空間的にコヒーレントでほぼ平
行な光を供給するための光源手段と、前記光源手段から
の光を複数の光に分割し、該分割された複数の光のうち
任意に選択された２つの光に対して前記光の可干渉距離
以上の光路差を付与するための光路差発生手段と、前記
光路差発生手段を介した前記複数の光の各々に基づいて
複数の光源像を形成するため、前記光路差発生手段を構
成する１個のエレメントに対して複数個のエレメントが
対応するように構成されたフライアイレンズと、前記複
数の光の各々に基づいて形成された前記複数の光源像か
らの光束を集光して被照射面を重畳的に照明するための
コンデンサー光学系と、前記フライアイレンズに対する
前記複数の光の入射角度を変化させるための走査手段と
を備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
に、本発明においては、空間的にコヒーレントでほぼ平
行な光を供給するための光源手段と、前記光源手段から
の光を複数の光に分割し、該分割された複数の光のうち
任意に選択された２つの光に対して前記光の可干渉距離
以上の光路差を付与するための光路差発生手段と、前記
光路差発生手段を介した前記複数の光の各々に基づいて
複数の光源像を形成するため、前記光路差発生手段を構
成する１個のエレメントに対して複数個のエレメントが
対応するように構成されたフライアイレンズと、前記複
数の光の各々に基づいて形成された前記複数の光源像か
らの光束を集光して被照射面を重畳的に照明するための
コンデンサー光学系と、前記フライアイレンズに対する
前記複数の光の入射角度を変化させるための走査手段と
を備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
【００１１】本発明の好ましい態様によれば、前記走査
手段は、前記フライアイレンズに対する前記複数の光の
入射角度を変化させるために、前記光路差発生手段を介
した前記複数の光を所定の光路に沿って反射して前記フ
ライアイレンズに導くための走査ミラーである。あるい
は、前記フライアイレンズに対する前記複数の光の入射
角度を変化させるために、前記光源手段からの光を所定
の光路に沿って反射して前記光路差発生手段に導くため
の走査ミラーである。
手段は、前記フライアイレンズに対する前記複数の光の
入射角度を変化させるために、前記光路差発生手段を介
した前記複数の光を所定の光路に沿って反射して前記フ
ライアイレンズに導くための走査ミラーである。あるい
は、前記フライアイレンズに対する前記複数の光の入射
角度を変化させるために、前記光源手段からの光を所定
の光路に沿って反射して前記光路差発生手段に導くため
の走査ミラーである。
【００１２】
【発明の実施の形態】まず、図４を参照して、図３の照
明光学系の動作原理について説明する。図４において、
フライアイレンズ５１の隣接する２つのレンズエレメン
ト５１ａおよび５１ｂの入射面において対応する点Ｐお
よびＱに入射するビームに着目する。フライアイレンズ
５１の入射面は、被照射面であるマスクおよびウエハと
共役になっているので、点Ｐに入射するビームと点Ｑに
入射するビームとの間に干渉性がないように入射ビーム
の光軸に対する角度すなわち入射角度θを変化させれば
よいことになる。
明光学系の動作原理について説明する。図４において、
フライアイレンズ５１の隣接する２つのレンズエレメン
ト５１ａおよび５１ｂの入射面において対応する点Ｐお
よびＱに入射するビームに着目する。フライアイレンズ
５１の入射面は、被照射面であるマスクおよびウエハと
共役になっているので、点Ｐに入射するビームと点Ｑに
入射するビームとの間に干渉性がないように入射ビーム
の光軸に対する角度すなわち入射角度θを変化させれば
よいことになる。
【００１３】従来技術では、１回の露光に際してビーム
の入射角度θがθ１からθ２まで変化する場合、ビーム
の入射角変化総量（θ１−θ２）による位相差が２πの
整数倍になるように構成している。すなわち、次の式
（１）に示す関係が成立するように構成している。ただ
し、式（１）においてθ１およびθ２は十分小さいもの
とする。 Ｎ（θ１−θ２）・ｄ／（Ｎ−１）＝ｍλ （１）
の入射角度θがθ１からθ２まで変化する場合、ビーム
の入射角変化総量（θ１−θ２）による位相差が２πの
整数倍になるように構成している。すなわち、次の式
（１）に示す関係が成立するように構成している。ただ
し、式（１）においてθ１およびθ２は十分小さいもの
とする。 Ｎ（θ１−θ２）・ｄ／（Ｎ−１）＝ｍλ （１）
【００１４】ここで、 Ｎ：露光パルス数（１回の露光に必要なパルス数） ｄ：点Ｐと点Ｑとの距離すなわち各レンズエレメントの
中心間距離 λ：入射ビームの波長 ｍ：任意の自然数 である。
中心間距離 λ：入射ビームの波長 ｍ：任意の自然数 である。
【００１５】そして、ビームの入射角変化総量（θ１−
θ２）を（Ｎ−１）で等分割した値すなわち（θ１−θ
２）／（Ｎ−１）だけ、ビームの入射角度が各パルスご
とに単調変化するように設定している。なお、図４の紙
面内においてＭ個だけ離れた２つのレンズエレメントす
なわち中心間距離がＭ・ｄである２つのレンズエレメン
トの間の干渉性を低減するためには、１パルスごとの位
相変化が２π（＝λ）の整数倍でなければよい。すなわ
ち、すべてのレンズエレメント間の干渉性を低減するた
めには、次の式（２）に示す関係が、すべてのＭ（１〜
Ｍ）について成立すればよい。 Ｍ・ｄ（θ１−θ２）／（Ｎ−１）≠ｋλ （２） ここで、 ｋ：任意の自然数 である。
θ２）を（Ｎ−１）で等分割した値すなわち（θ１−θ
２）／（Ｎ−１）だけ、ビームの入射角度が各パルスご
とに単調変化するように設定している。なお、図４の紙
面内においてＭ個だけ離れた２つのレンズエレメントす
なわち中心間距離がＭ・ｄである２つのレンズエレメン
トの間の干渉性を低減するためには、１パルスごとの位
相変化が２π（＝λ）の整数倍でなければよい。すなわ
ち、すべてのレンズエレメント間の干渉性を低減するた
めには、次の式（２）に示す関係が、すべてのＭ（１〜
Ｍ）について成立すればよい。 Ｍ・ｄ（θ１−θ２）／（Ｎ−１）≠ｋλ （２） ここで、 ｋ：任意の自然数 である。
【００１６】したがって、式（１）を式（２）に代入す
ると、次の式（３）に示す関係が得られる。 Ｍ・ｍλ／Ｎ≠ｋλ （３） 式（３）より、すべてのＭについてＭ・ｍ／Ｎが自然数
とならないように構成すればよいことがわかる。そこ
で、従来技術では、すべてのレンズエレメント間の干渉
性を低減するために、Ｍ・ｍ／Ｎ＜１（式（４））とな
るように設定している。すなわち、すべてのＭについて
次の式（５）に示す関係が成立するように構成してい
る。 Ｍ・ｄ（θ１−θ２）／（Ｎ−１）＜λ （５）
ると、次の式（３）に示す関係が得られる。 Ｍ・ｍλ／Ｎ≠ｋλ （３） 式（３）より、すべてのＭについてＭ・ｍ／Ｎが自然数
とならないように構成すればよいことがわかる。そこ
で、従来技術では、すべてのレンズエレメント間の干渉
性を低減するために、Ｍ・ｍ／Ｎ＜１（式（４））とな
るように設定している。すなわち、すべてのＭについて
次の式（５）に示す関係が成立するように構成してい
る。 Ｍ・ｄ（θ１−θ２）／（Ｎ−１）＜λ （５）
【００１７】もちろん、式（４）の条件以外にも、式
（２）を満足するＭ、ｍおよびＮの理論解は存在する。
しかしながら、式（２）を満足するＭ、ｍおよびＮを設
定することが必ずしも現実的に可能であるとは限らな
い。Ｍ、ｍおよびＮが式（４）の条件を満たす場合に
は、ビームの入射角変化総量（θ１−θ２）を小さくす
ることによって走査ミラーの負担も小さくすることがで
きる。
（２）を満足するＭ、ｍおよびＮの理論解は存在する。
しかしながら、式（２）を満足するＭ、ｍおよびＮを設
定することが必ずしも現実的に可能であるとは限らな
い。Ｍ、ｍおよびＮが式（４）の条件を満たす場合に
は、ビームの入射角変化総量（θ１−θ２）を小さくす
ることによって走査ミラーの負担も小さくすることがで
きる。
【００１８】一般的に、照度むらを少なくするために
は、フライアイレンズを構成するレンズエレメントの数
を多くする必要がある。換言すれば、フライアイレンズ
の所定方向に沿ったレンズエレメントの個数Ｍを多くす
る必要がある。一方、式（４）を参照すると、レンズエ
レメントの個数Ｍを多くすると、すべてのレンズエレメ
ント間の干渉性を低減するためには露光パルス数Ｎも多
くしなければならないことがわかる。
は、フライアイレンズを構成するレンズエレメントの数
を多くする必要がある。換言すれば、フライアイレンズ
の所定方向に沿ったレンズエレメントの個数Ｍを多くす
る必要がある。一方、式（４）を参照すると、レンズエ
レメントの個数Ｍを多くすると、すべてのレンズエレメ
ント間の干渉性を低減するためには露光パルス数Ｎも多
くしなければならないことがわかる。
【００１９】そこで、本発明では、光源からの光を複数
の光に分割し、分割された複数の光のうち任意に選択さ
れた２つの光に対して光の可干渉距離以上の光路差を付
与することによって、分割された複数の光を互いにイン
コヒーレントにする。そして、互いにインコヒーレント
な複数の分割光の各々を、フライアイレンズの複数のレ
ンズエレメントにそれぞれ入射させている。つまり、一
つの分割光に対してフライアイレンズの複数のエレメン
トを対応させている。したがって、フライアイレンズに
対する複数の分割光の各々の入射角度を適宜変化させる
ことにより、フライアイレンズを介して形成される多数
の光源像を互いにインコヒーレントにすることができ
る。その結果、各光源像からの光が被照射面において干
渉することなく、被照射面における干渉ノイズの発生を
回避することができる。
の光に分割し、分割された複数の光のうち任意に選択さ
れた２つの光に対して光の可干渉距離以上の光路差を付
与することによって、分割された複数の光を互いにイン
コヒーレントにする。そして、互いにインコヒーレント
な複数の分割光の各々を、フライアイレンズの複数のレ
ンズエレメントにそれぞれ入射させている。つまり、一
つの分割光に対してフライアイレンズの複数のエレメン
トを対応させている。したがって、フライアイレンズに
対する複数の分割光の各々の入射角度を適宜変化させる
ことにより、フライアイレンズを介して形成される多数
の光源像を互いにインコヒーレントにすることができ
る。その結果、各光源像からの光が被照射面において干
渉することなく、被照射面における干渉ノイズの発生を
回避することができる。
【００２０】このように、本発明では、フライアイレン
ズへの入射角度を変化させることによって、フライアイ
レンズを構成する多数のレンズエレメントのうち分割さ
れた複数の光の各々に対応する複数のレンズエレメント
間の干渉性を低減すればよく、すべてのレンズエレメン
ト間の干渉性を低減する必要はない。したがって、フラ
イアイレンズを介して形成される多数の光源像のすべて
を互いにインコヒーレントにするために必要な入射角度
の所要変化量を小さくすることができる。その結果、本
発明では、コヒーレンスの高い光源に対しても、構成を
大型化することなく、所望の空間的コヒーレンスで照度
むらの少ない照明が可能となる。
ズへの入射角度を変化させることによって、フライアイ
レンズを構成する多数のレンズエレメントのうち分割さ
れた複数の光の各々に対応する複数のレンズエレメント
間の干渉性を低減すればよく、すべてのレンズエレメン
ト間の干渉性を低減する必要はない。したがって、フラ
イアイレンズを介して形成される多数の光源像のすべて
を互いにインコヒーレントにするために必要な入射角度
の所要変化量を小さくすることができる。その結果、本
発明では、コヒーレンスの高い光源に対しても、構成を
大型化することなく、所望の空間的コヒーレンスで照度
むらの少ない照明が可能となる。
【００２１】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説
明する。図１は、本発明の第１実施例にかかる照明光学
系の構成を概略的に示す図である。図１の照明光学系
は、たとえばＹＡＧレーザの５倍高調波（波長２１３ｎ
ｍ）を供給する固体レーザ光源１を備えている。光源１
からのビームは、光路差発生部材２を構成する各導光エ
レメントに入射する。図１に示すように、光路差発生部
材２は、図面の紙面内において４つの導光エレメント２
ａ〜２ｄを有する。そして、各導光エレメント２ａ〜２
ｄは、光軸ＡＸに沿って互いに異なる長さを有する。そ
の結果、各導光エレメント２ａ〜２ｄを介したビームに
は互いに５倍高調波の可干渉距離以上の光路差が付与さ
れ、互いにインコヒーレントな４つのビームとなる。
明する。図１は、本発明の第１実施例にかかる照明光学
系の構成を概略的に示す図である。図１の照明光学系
は、たとえばＹＡＧレーザの５倍高調波（波長２１３ｎ
ｍ）を供給する固体レーザ光源１を備えている。光源１
からのビームは、光路差発生部材２を構成する各導光エ
レメントに入射する。図１に示すように、光路差発生部
材２は、図面の紙面内において４つの導光エレメント２
ａ〜２ｄを有する。そして、各導光エレメント２ａ〜２
ｄは、光軸ＡＸに沿って互いに異なる長さを有する。そ
の結果、各導光エレメント２ａ〜２ｄを介したビームに
は互いに５倍高調波の可干渉距離以上の光路差が付与さ
れ、互いにインコヒーレントな４つのビームとなる。
【００２２】光路差発生部材２を介した４つのビーム
は、走査ミラー３で反射された後、アフォーカル光学系
４を介してフライアイレンズ５に入射する。図示のよう
に、フライアイレンズ５は、図面の紙面内において８つ
のレンズエレメント５ａ〜５ｈを有する。したがって、
光路差発生部材２の導光エレメント２ａを介したビーム
は、フライアイレンズ５のレンズエレメント５ａおよび
５ｂに入射する。また、導光エレメント２ｂを介したビ
ームはレンズエレメント５ｃおよび５ｄに、導光エレメ
ント２ｃを介したビームはレンズエレメント５ｅおよび
５ｆに、導光エレメント２ｄを介したビームはレンズエ
レメント５ｇおよび５ｈにそれぞれ入射する。
は、走査ミラー３で反射された後、アフォーカル光学系
４を介してフライアイレンズ５に入射する。図示のよう
に、フライアイレンズ５は、図面の紙面内において８つ
のレンズエレメント５ａ〜５ｈを有する。したがって、
光路差発生部材２の導光エレメント２ａを介したビーム
は、フライアイレンズ５のレンズエレメント５ａおよび
５ｂに入射する。また、導光エレメント２ｂを介したビ
ームはレンズエレメント５ｃおよび５ｄに、導光エレメ
ント２ｃを介したビームはレンズエレメント５ｅおよび
５ｆに、導光エレメント２ｄを介したビームはレンズエ
レメント５ｇおよび５ｈにそれぞれ入射する。
【００２３】こうして、フライアイレンズ５に入射した
光は、複数のレンズエレメントにより波面分割され、フ
ライアイレンズ５の後側焦点位置（すなわち射出面近
傍）に多数の光源像からなる二次光源を形成する。二次
光源からの光束は、図示を省略した開口絞りにより制限
された後、コンデンサーレンズ６に入射する。コンデン
サーレンズ６を介した光束は、被照射面であるマスク７
のパターン面を重畳的に照明する。
光は、複数のレンズエレメントにより波面分割され、フ
ライアイレンズ５の後側焦点位置（すなわち射出面近
傍）に多数の光源像からなる二次光源を形成する。二次
光源からの光束は、図示を省略した開口絞りにより制限
された後、コンデンサーレンズ６に入射する。コンデン
サーレンズ６を介した光束は、被照射面であるマスク７
のパターン面を重畳的に照明する。
【００２４】なお、説明を簡略化するために、光路差発
生部材２およびフライアイレンズ５の構成を紙面内にお
いて二次元的に示しているが、光路差発生部材２および
フライアイレンズ５が三次元的な構成を有することはい
うまでもない。また、走査ミラー３は、その反射面と光
軸ＡＸとの交点を中心として回転することによって、フ
ライアイレンズ５へのビームの入射角度を適宜変化させ
ることができるように構成されている。さらに、アフォ
ーカル光学系４は、フライアイレンズ５の入射面におけ
る光量損失を低減するために、走査ミラー３の反射面と
フライアイレンズ５の入射面とを共役にしている。
生部材２およびフライアイレンズ５の構成を紙面内にお
いて二次元的に示しているが、光路差発生部材２および
フライアイレンズ５が三次元的な構成を有することはい
うまでもない。また、走査ミラー３は、その反射面と光
軸ＡＸとの交点を中心として回転することによって、フ
ライアイレンズ５へのビームの入射角度を適宜変化させ
ることができるように構成されている。さらに、アフォ
ーカル光学系４は、フライアイレンズ５の入射面におけ
る光量損失を低減するために、走査ミラー３の反射面と
フライアイレンズ５の入射面とを共役にしている。
【００２５】上述したように、隣接する２つのレンズエ
レメント５ａおよび５ｂ、５ｃおよび５ｄ、５ｅおよび
５ｆ、５ｇおよび５ｈにそれぞれ入射するビームは、互
いにインコヒーレントである。したがって、レンズエレ
メント５ａおよび５ｂ、５ｃおよび５ｄ、５ｅおよび５
ｆ、５ｇおよび５ｈを介してそれぞれ形成される光源像
は、互いにインコヒーレントである。したがって、第１
実施例では、走査ミラー３の作用により、互いに隣接す
る２つのレンズエレメント（たとえば５ａと５ｂ）の間
の干渉性を低減すればよく、すべてのレンズエレメント
間の干渉性を低減する必要はない。換言すれば、走査ミ
ラー３の角度変化量が小さくても、フライアイレンズ５
を介して形成される多数の光源像のすべてを互いにイン
コヒーレントにすることができる。その結果、各光源像
からの光が被照射面であるマスク７上において干渉する
ことなく、マスク７上における干渉ノイズの発生を回避
することができる。
レメント５ａおよび５ｂ、５ｃおよび５ｄ、５ｅおよび
５ｆ、５ｇおよび５ｈにそれぞれ入射するビームは、互
いにインコヒーレントである。したがって、レンズエレ
メント５ａおよび５ｂ、５ｃおよび５ｄ、５ｅおよび５
ｆ、５ｇおよび５ｈを介してそれぞれ形成される光源像
は、互いにインコヒーレントである。したがって、第１
実施例では、走査ミラー３の作用により、互いに隣接す
る２つのレンズエレメント（たとえば５ａと５ｂ）の間
の干渉性を低減すればよく、すべてのレンズエレメント
間の干渉性を低減する必要はない。換言すれば、走査ミ
ラー３の角度変化量が小さくても、フライアイレンズ５
を介して形成される多数の光源像のすべてを互いにイン
コヒーレントにすることができる。その結果、各光源像
からの光が被照射面であるマスク７上において干渉する
ことなく、マスク７上における干渉ノイズの発生を回避
することができる。
【００２６】このように、第１実施例では、光路差発生
部材２と走査ミラー３との協働作用により、コヒーレン
スの高い光源に対しても、構成を大型化することなく且
つ露光パルス数を大きくすることなく、所望の空間的コ
ヒーレンスで照度むらの少ない照明が可能となる。な
お、第１実施例では、走査ミラー３とフライアイレンズ
５との間の光路中にアフォーカル光学系４を介在させて
光量損失を低減している。しかしながら、第１実施例に
おいて、アフォーカル光学系４は必須の構成要素ではな
く、省略することが可能なことはいうまでもない。
部材２と走査ミラー３との協働作用により、コヒーレン
スの高い光源に対しても、構成を大型化することなく且
つ露光パルス数を大きくすることなく、所望の空間的コ
ヒーレンスで照度むらの少ない照明が可能となる。な
お、第１実施例では、走査ミラー３とフライアイレンズ
５との間の光路中にアフォーカル光学系４を介在させて
光量損失を低減している。しかしながら、第１実施例に
おいて、アフォーカル光学系４は必須の構成要素ではな
く、省略することが可能なことはいうまでもない。
【００２７】図２は、本発明の第２実施例にかかる照明
光学系の構成を概略的に示す図である。第２実施例は第
１実施例の構成と類似の構成を有するが、第２実施例で
は走査ミラー３と光路差発生部材２との位置関係および
光路差発生部材２の構成だけが第１実施例と基本的に相
違する。したがって、図２において、第１実施例の構成
要素と同じ機能を有する要素には図１と同じ参照符号を
付している。以下、第１実施例との相違点に着目して、
第２実施例を説明する。
光学系の構成を概略的に示す図である。第２実施例は第
１実施例の構成と類似の構成を有するが、第２実施例で
は走査ミラー３と光路差発生部材２との位置関係および
光路差発生部材２の構成だけが第１実施例と基本的に相
違する。したがって、図２において、第１実施例の構成
要素と同じ機能を有する要素には図１と同じ参照符号を
付している。以下、第１実施例との相違点に着目して、
第２実施例を説明する。
【００２８】図２の照明光学系では、光源１からのビー
ムが走査ミラー３で反射された後、光路差発生部材２に
入射する。光路差発生部材２は、互いに対向した２つの
面２ａおよび２ｂからなる。面２ａは全反射面であっ
て、全反射面２ａに入射したビームは透過することな
く、すべて反射される。面２ｂは半透過面であって、半
透過面２ｂに入射したビームの一部は透過し、残部は反
射される。なお、半透過面２ｂの透過率は、入射ビーム
の位置によって変化していることが望ましい。
ムが走査ミラー３で反射された後、光路差発生部材２に
入射する。光路差発生部材２は、互いに対向した２つの
面２ａおよび２ｂからなる。面２ａは全反射面であっ
て、全反射面２ａに入射したビームは透過することな
く、すべて反射される。面２ｂは半透過面であって、半
透過面２ｂに入射したビームの一部は透過し、残部は反
射される。なお、半透過面２ｂの透過率は、入射ビーム
の位置によって変化していることが望ましい。
【００２９】したがって、走査ミラー３を介して光路差
発生部材２の半透過面２ｂに第１回目に入射したビーム
のうちの１／４は半透過面２ｂを透過し、残部は半透過
面２ｂで反射される。半透過面２ｂで反射されたビーム
は全反射面２ａで反射された後、半透過面２ｂに入射す
る。半透過面２ｂに第２回目に入射したビームのうちの
１／３は半透過面２ｂを透過し、残部は半透過面２ｂで
反射される。半透過面２ｂで反射されたビームは全反射
面２ａで反射された後、半透過面２ｂに入射する。半透
過面２ｂに第３回目に入射したビームのうちの１／２は
半透過面２ｂを透過し、残部は半透過面２ｂで反射され
る。半透過面２ｂで反射されたビームは全反射面２ａで
反射された後、光路差発生部材２から射出される。こう
して、光路差発生部材２を介して分割された４つのビー
ムには互いに可干渉距離以上の光路差が付与され、互い
にインコヒーレントとなる。また、光路差発生部材２を
介して分割された４つのビームは、互いに同じ光量を有
する。ただし、光路差発生部材２を介して分割された４
つのビームが互いに同じ光量を有することは、第２実施
例において必ずしも必須の要件ではない。
発生部材２の半透過面２ｂに第１回目に入射したビーム
のうちの１／４は半透過面２ｂを透過し、残部は半透過
面２ｂで反射される。半透過面２ｂで反射されたビーム
は全反射面２ａで反射された後、半透過面２ｂに入射す
る。半透過面２ｂに第２回目に入射したビームのうちの
１／３は半透過面２ｂを透過し、残部は半透過面２ｂで
反射される。半透過面２ｂで反射されたビームは全反射
面２ａで反射された後、半透過面２ｂに入射する。半透
過面２ｂに第３回目に入射したビームのうちの１／２は
半透過面２ｂを透過し、残部は半透過面２ｂで反射され
る。半透過面２ｂで反射されたビームは全反射面２ａで
反射された後、光路差発生部材２から射出される。こう
して、光路差発生部材２を介して分割された４つのビー
ムには互いに可干渉距離以上の光路差が付与され、互い
にインコヒーレントとなる。また、光路差発生部材２を
介して分割された４つのビームは、互いに同じ光量を有
する。ただし、光路差発生部材２を介して分割された４
つのビームが互いに同じ光量を有することは、第２実施
例において必ずしも必須の要件ではない。
【００３０】光路差発生部材２を介して分割された４つ
のビームは、フライアイレンズ５に入射する。図示のよ
うに、フライアイレンズ５は、図２の紙面内において８
つのレンズエレメント５ａ〜５ｈを有する。したがっ
て、光路差発生部材２を介した４つのビームは、互いに
隣接する２つのレンズエレメント５ａおよび５ｂ、５ｃ
および５ｄ、５ｅおよび５ｆ、５ｇおよび５ｈにそれぞ
れ入射する。こうして、フライアイレンズ５に入射した
光は、８つのレンズエレメントにより波面分割され、フ
ライアイレンズ５の後側焦点位置（すなわち射出面近
傍）に複数の光源像からなる二次光源を形成する。二次
光源からの光束は、図示を省略した開口絞りにより制限
された後、コンデンサーレンズ６に入射する。コンデン
サーレンズ６を介した光束は、被照射面であるマスク７
のパターン面を重畳的に照明する。
のビームは、フライアイレンズ５に入射する。図示のよ
うに、フライアイレンズ５は、図２の紙面内において８
つのレンズエレメント５ａ〜５ｈを有する。したがっ
て、光路差発生部材２を介した４つのビームは、互いに
隣接する２つのレンズエレメント５ａおよび５ｂ、５ｃ
および５ｄ、５ｅおよび５ｆ、５ｇおよび５ｈにそれぞ
れ入射する。こうして、フライアイレンズ５に入射した
光は、８つのレンズエレメントにより波面分割され、フ
ライアイレンズ５の後側焦点位置（すなわち射出面近
傍）に複数の光源像からなる二次光源を形成する。二次
光源からの光束は、図示を省略した開口絞りにより制限
された後、コンデンサーレンズ６に入射する。コンデン
サーレンズ６を介した光束は、被照射面であるマスク７
のパターン面を重畳的に照明する。
【００３１】上述したように、隣接する２つのレンズエ
レメント５ａおよび５ｂ、５ｃおよび５ｄ、５ｅおよび
５ｆ、５ｇおよび５ｈにそれぞれ入射するビームは、互
いにインコヒーレントである。したがって、レンズエレ
メント５ａおよび５ｂ、５ｃおよび５ｄ、５ｅおよび５
ｆ、５ｇおよび５ｈを介してそれぞれ形成される光源像
は、互いにインコヒーレントである。したがって、第２
実施例においても、走査ミラー３の作用により、互いに
隣接する２つのレンズエレメント（たとえば５ａと５
ｂ）の間の干渉性を低減すればよく、すべてのレンズエ
レメント間の干渉性を低減する必要はない。その結果、
フライアイレンズ５を介して形成される多数の光源像の
すべてを互いにインコヒーレントにするために必要な走
査ミラー３の角度変化量を小さくすることができる。
レメント５ａおよび５ｂ、５ｃおよび５ｄ、５ｅおよび
５ｆ、５ｇおよび５ｈにそれぞれ入射するビームは、互
いにインコヒーレントである。したがって、レンズエレ
メント５ａおよび５ｂ、５ｃおよび５ｄ、５ｅおよび５
ｆ、５ｇおよび５ｈを介してそれぞれ形成される光源像
は、互いにインコヒーレントである。したがって、第２
実施例においても、走査ミラー３の作用により、互いに
隣接する２つのレンズエレメント（たとえば５ａと５
ｂ）の間の干渉性を低減すればよく、すべてのレンズエ
レメント間の干渉性を低減する必要はない。その結果、
フライアイレンズ５を介して形成される多数の光源像の
すべてを互いにインコヒーレントにするために必要な走
査ミラー３の角度変化量を小さくすることができる。
【００３２】このように、第２実施例においても、光路
差発生部材２と走査ミラー３との協働作用により、コヒ
ーレンスの高い光源に対しても、構成を大型化すること
なく且つ露光パルス数を大きくすることなく、所望の空
間的コヒーレンスで照度むらの少ない照明が可能とな
る。第２実施例においても、走査ミラー３、光路差発生
部材２およびフライアイレンズ５の構成を紙面内におい
て二次元的に示しているが、これらの構成要素が実際に
は三次元的な構成を有することはいうまでもない。な
お、光路差発生部材を三次元的に構成するには、光路差
発生部材を２段構成とし、第１段の光路差発生部材で紙
面方向にビーム分割し、第２段の光路差発生部材で紙面
直交方向にビーム分割することができる。
差発生部材２と走査ミラー３との協働作用により、コヒ
ーレンスの高い光源に対しても、構成を大型化すること
なく且つ露光パルス数を大きくすることなく、所望の空
間的コヒーレンスで照度むらの少ない照明が可能とな
る。第２実施例においても、走査ミラー３、光路差発生
部材２およびフライアイレンズ５の構成を紙面内におい
て二次元的に示しているが、これらの構成要素が実際に
は三次元的な構成を有することはいうまでもない。な
お、光路差発生部材を三次元的に構成するには、光路差
発生部材を２段構成とし、第１段の光路差発生部材で紙
面方向にビーム分割し、第２段の光路差発生部材で紙面
直交方向にビーム分割することができる。
【００３３】
【効果】以上説明したように、本発明の照明光学系によ
れば、固体レーザ光源のようにコヒーレンスの高い光源
に対しても、照明光学系の構成を大型化することなく且
つ露光パルス数を大きくすることなく、所望の空間的コ
ヒーレンスで照度むらの少ない照明が可能となる。
れば、固体レーザ光源のようにコヒーレンスの高い光源
に対しても、照明光学系の構成を大型化することなく且
つ露光パルス数を大きくすることなく、所望の空間的コ
ヒーレンスで照度むらの少ない照明が可能となる。
【図１】本発明の第１実施例にかかる照明光学系の構成
を概略的に示す図である。
を概略的に示す図である。
【図２】本発明の第２実施例にかかる照明光学系の構成
を概略的に示す図である。
を概略的に示す図である。
【図３】第１の従来例にかかる照明光学系を備えた露光
装置の構成を概略的に示す図である。
装置の構成を概略的に示す図である。
【図４】図３の第１の従来例にかかる照明光学系の動作
原理について説明する図である。
原理について説明する図である。
【図５】第２の従来例にかかる照明光学系の要部構成を
概略的に示す図である。
概略的に示す図である。
１ 光源 ２ 光路差発生部材 ３ 走査ミラー ４ アフォーカル光学系 ５ フライアイレンズ ６ コンデンサーレンズ ７ マスク
Claims (3)
- 【請求項１】 空間的にコヒーレントでほぼ平行な光を
供給するための光源手段と、 前記光源手段からの光を複数の光に分割し、該分割され
た複数の光のうち任意に選択された２つの光に対して前
記光の可干渉距離以上の光路差を付与するための光路差
発生手段と、 前記光路差発生手段を介した前記複数の光の各々に基づ
いて複数の光源像を形成するため、前記光路差発生手段
を構成する１個のエレメントに対して複数個のエレメン
トが対応するように構成されたフライアイレンズと、 前記複数の光の各々に基づいて形成された前記複数の光
源像からの光束を集光して被照射面を重畳的に照明する
ためのコンデンサー光学系と、 前記フライアイレンズに対する前記複数の光の入射角度
を変化させるための走査手段とを備えていることを特徴
とする照明光学系。 - 【請求項２】 前記走査手段は、前記フライアイレンズ
に対する前記複数の光の入射角度を変化させるために、
前記光路差発生手段を介した前記複数の光を所定の光路
に沿って反射して前記フライアイレンズに導くための走
査ミラーであることを特徴とする請求項１に記載の照明
光学系。 - 【請求項３】 前記走査手段は、前記フライアイレンズ
に対する前記複数の光の入射角度を変化させるために、
前記光源手段からの光を所定の光路に沿って反射して前
記光路差発生手段に導くための走査ミラーであることを
特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8239789A JPH1062710A (ja) | 1996-08-22 | 1996-08-22 | 照明光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8239789A JPH1062710A (ja) | 1996-08-22 | 1996-08-22 | 照明光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1062710A true JPH1062710A (ja) | 1998-03-06 |
Family
ID=17049910
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8239789A Pending JPH1062710A (ja) | 1996-08-22 | 1996-08-22 | 照明光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1062710A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6704095B2 (en) | 1999-07-30 | 2004-03-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Control of a distribution of illumination in an exit pupil of an EUV illumination system |
| JP2005229013A (ja) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 窒化物半導体の成長方法 |
| JP2007179039A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-07-12 | Asml Netherlands Bv | 照明光学システム |
| WO2010090190A1 (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-12 | 株式会社ブイ・テクノロジー | レーザ露光装置 |
| JP2015192079A (ja) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 光照射装置および描画装置 |
| JP2015192080A (ja) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 光照射装置および描画装置 |
| US10133187B2 (en) | 2015-05-29 | 2018-11-20 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Light irradiation apparatus and drawing apparatus |
-
1996
- 1996-08-22 JP JP8239789A patent/JPH1062710A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6704095B2 (en) | 1999-07-30 | 2004-03-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Control of a distribution of illumination in an exit pupil of an EUV illumination system |
| JP2005229013A (ja) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 窒化物半導体の成長方法 |
| JP2007179039A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-07-12 | Asml Netherlands Bv | 照明光学システム |
| JP2010199605A (ja) * | 2005-12-02 | 2010-09-09 | Asml Netherlands Bv | 照明光学システム |
| WO2010090190A1 (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-12 | 株式会社ブイ・テクノロジー | レーザ露光装置 |
| JP2010182731A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | V Technology Co Ltd | レーザ露光装置 |
| KR20110120872A (ko) * | 2009-02-03 | 2011-11-04 | 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디 | 레이저 노광 장치 |
| CN102308364A (zh) * | 2009-02-03 | 2012-01-04 | 株式会社V技术 | 激光曝光装置 |
| TWI463270B (zh) * | 2009-02-03 | 2014-12-01 | V Technology Co Ltd | 雷射曝光裝置 |
| JP2015192079A (ja) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 光照射装置および描画装置 |
| JP2015192080A (ja) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 光照射装置および描画装置 |
| US10133187B2 (en) | 2015-05-29 | 2018-11-20 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Light irradiation apparatus and drawing apparatus |
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