JP2765162B2

JP2765162B2 - 照明装置

Info

Publication number: JP2765162B2
Application number: JP2050587A
Authority: JP
Inventors: 真人村木; 俊三今井
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1990-03-01
Filing date: 1990-03-01
Publication date: 1998-06-11
Anticipated expiration: 2013-06-11
Also published as: JPH03252122A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は照明装置に関し、特に半導体製造用の露光装
置に搭載して、マスクやレチクル等の回路パターンを照
明するのに好適な照明装置に関するものである。

（従来の技術）従来より半導体素子の高集積化及高解像力化を目的と
し、エキシマレーザー等の強出力のコヒーレント光源を
用いた露光装置の開発が盛んに行なわれている。コヒー
レント光源からの光束でマスクやレチクル等の回路パタ
ーンを照明する場合に生じる問題点の１つとして、マス
クやレチクル上での照度分布の不均一性が挙げられる。
この不均一性が生ずる原因の１つとしてコヒーレント光
源からの光束が形成する干渉縞に起因するものがある。
この干渉縞による照度分布の不均一性を解消するため
に、従来から様々なタイプの照明装置が提案されてき
た。

（発明が解決しようとする問題点）従来より照度分布の不均一性を解消するようにした照
明装置は種々と提案されているが、これらの照明装置は
照度分布の不均一性を解消することはできても、照明装
置内の光路中に形成される有効光源（２次光源の分布）
が満足できるものではなかった為、マスクやレチクルを
良好に照明することが難しいという問題点があった。

本発明は光源からの光束を適切に構成した光学手段を
介した後に被照射面上に導光するようにし、コヒーレン
ト光源を用いても被照射面上の照度分布を容易に均一化
することが出来る照明装置に提供を目的とする。

（問題点を解決するための手段）本発明の照明装置は、（１−１）複数の光束をオプティカルインテグレーター
入射させる光学手段と、前記オプティカルインテグレー
ターからの光を被照明面に照射する照射手段と、を有す
る照明装置であって、前記光学手段は、前記複数の光束
を各光束の入射位置が前記オプティカルインテグレータ
ーの光入射面上の基準点の回りに円周方向に沿って等角
度になるように前記オプティカルインテグレーターに入
射させる光学系と前記複数の光束の入射位置を前記基準
点を中心として放射状に同一方向に変位させる変位手段
とを有することを特徴としている。

（１−２）光源からの光を複数の光束に分割し、該複数
の光束をオプティカルインテグレーター入射させる光学
手段と、前記オプティカルインテグレーターからの光を
被照明面に照射する照射手段と、を有する照明装置であ
って、前記光学手段を、前記複数の光束が各光束の入射
位置が前記オプティカルインテグレーターの光入射面上
の基準点の回りに円周方向に沿って等角度になるように
前記オプティカルインテグレーターに入射し且つ前記光
源からの光がある方向に変位した時に前記複数の光束が
前記オプティカルインテグレーターの光入射面上で前記
基準点を中心として放射状に同一方向に変位するように
構成したことを特徴としている。

（１−３）光源からのコヒーレント光を複数の光束に分
割し、該複数の光束を互いにインコヒーレントな複数の
光束にし、該互いにインコヒーレントな複数の光束を互
いに異なる方向からオプティカルインテグレーター入射
させる光学手段と、前記オプティカルインテグレーター
からの光を被照明面に照射する照射手段と、を有する照
明装置であって、前記光学手段を、前記互いにインコヒ
ーレントな複数の光束が各光束の入射位置が前記オプテ
ィカルインテグレーターの光入射面上の基準点の回りに
円周方向に沿って等角度になるように前記オプティカル
インテグレーターに入射し且つ前記光源からのコヒーレ
ント光がある方向に変位した時に前記互いにインコヒー
レントな複数の光束が前記オプティカルインテグレータ
ーの光入射面上で前記基準点を中心として放射状に同一
方向に変位するように構成したことを特徴としている。

この他構成（１−１），（１−２），（１−３）にお
いて、前記光学手段が前記光源からの光を４つの光束に振幅
分割するための複数の光分割器を有することを特徴とし
ている。

本発明では、このようにオプティカルインテグレータ
ーの光入射面に互いにインコヒーレントな複数個の光束
を互いに異なる方向から入射させて重畳することにより
オプティカルインテグレーターにより非常に多くの２次
光源を形成している。

これにより２次光源が密に分布した有効光源を得て被
照明面を良好に照明することを可能としている。又、光
源からの光束を振幅分割して複数個の光束を形成するこ
とにより光源からオプティカルインテグレーターに到る
光学系の小型化を図っている。

本発明の投影露光装置は、前述の構成（１−１）〜
（１−３）の何れか１項記載の照明装置からの光束で照
明されたレチクル面上の回路パターンをウエハ面上に投
影していることを特徴としている。

又、本発明のデバイスの製造方法は、該投影露光装置
により回路パターンを基板に転写する工程を含むことを
特徴としている。

（実施例）第１図は本発明の照明装置の一実施例を示す概略構成
図であり、ステッパーと呼称される縮小投影型露光装置
に本発明を適用した例である。

第１図において、11は光源であり比較的空間的コヒー
レンシィーが小さな（横モードの数が多い）KrFエキシ
マレーザー、から成っている。光源11からはコヒーレン
トな平行光束が放射されている。

２は透明な平行板から成る光学部材であり、傾動可能
となっており、光源11からの光束の平行移動を行ってい
る。３は第１のビームスプリッターであり光学部材２を
通過したコヒーレント光束を反射光と透過光の２つの光
束La、Lbに振幅分割している。第１のビームスプリッタ
ー３で反射分割された光束Laは第２のビームスプリッタ
ー4aで再度反射光と透過光の２つの光束La₁、La₂に振幅
分割せしめられる。このうち反射分割された反射光束La
₁は４つの楔型プリズム8a₁、8a₂、8b₁、8b₂を有した、
複数の入射光束を屈折偏向させて重ね合わせる第１偏向
部材８の１つの楔型プリズム8a₁に入射する。また、8c
は４つの楔型プリズム8a₁、8a₂、8b₁、8b₂を機械的に連
結する部材である。

第２のビームスプリッター4aで透過分割された透過光
束La₂は、反射ミラー5a、6a、7aで順次反射せしめら
れ、光束La₁に対して光束断面に関して方向を180度回転
されて第１偏向部材８の１つの楔型プリズム8a₂に入射
する。

一方、第１のビームスプリッター３で透過分割された
透過光束Lbは、反射ミラー31、32で反射した後、第３の
ビームスプリッター4bで、再度反射光と透過光の２つの
光束Lb₁、Lb₂に振幅分割せしめられる。

このうち反射分割された反射光束Lb₁は、第１偏向部
材８の１つの楔型プリズム8b₁に入射する。又、第３の
ビームスプリッター4bで透過分割された透過光束Lb
₂は、反射ミラー5b、6b、7bで順次反射して、光束Lb₁に
対して光束断面に関して方向を180度回転されて第１偏
向部材８の１つの楔型プリズム8b₂に入射する。

第１偏向部材８に入射した４つの光束La₁、La₂、L
b₁、Lb₂は、各々、楔型プリズム8a₁、8a₂、8b₁、8b₂で
屈折偏向して、楔型プリズムより成る第２偏向部材21を
通過し、複数のバーレンズより成るオプティカルインテ
グレーター22の光入射面に、互いに重畳して入射してい
る。このとき４つの光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂は後述する
ように互いにインコヒーレント光束となっている。尚、
第２偏向部材21は後述するコンデンサーレンズ23の光軸
を中心に回転可能となっている。

オプティカルインテグレーター22の光射出面は２次光
源面となっており、オプティカルインテグレーター22を
構成するバーレンズの数とそこに入射する入射光束の数
とでその数が定まる多数個の２次光源が形成される。オ
プティカルインテグレーター22の光射出面からの光束を
コンデンサーレンズ23で集光し該光束で被照射面である
レチクルＲを照明している。

そして、投影レンズ系24によりレチクルＲ面上の回路
パターンをウエハＷ面上に所定倍率で縮小投影してい
る。

そして該ウエハを公知の現像処理工程を介してデバイ
スを製造している。

本実施例では、第１、第２、第３のビームスプリッタ
ー３、4a、4bで光分割手段を構成し、又第１ビームスプ
リッター３から第１偏向部材８に至る光路に沿って配列
した各光学要素でコヒーレント光をインコヒーレント光
に変換する光学手段20を構成している。

第２図は第１図において矢印Ａ〜Ｄで示す、各光路中
の光束断面と、レチクルＲ上における光強度分布を示す
説明図である。

本実施例において、光源11から発せられる光束断面の
基準の向きを第３図に示すＬとしたとき楔型プリズム8a
₁、8a₂、8b₁、8b₂に入射する光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂の
向きは第３図に示すように基準点Ｐ（コンデンサーレン
ズ23の光軸上に一致している。）を中心に放射状に配置
されるようになっている。

尚、第３図は第１偏向部材８に入射する４つの光束La
₁、La₂、Lb₁、Lb₂の向きをウエハＷ側から見たときを示
している。

第１偏向部材８の各楔型プリズムに入射する４つの光
束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂は各々第１のビームスプリッター
３から第１偏向部材８に至るまでの光路長が互いに異っ
ており、光源11の波長幅で定められる時間的コヒーレン
ト長ｌ以上となるように各要素が設定されている。

本実施例では各光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂の光路長はLb
₂＞La₂＞Lb₁＞Lb₂で、かつ Lb₂−La₂＝La₂−Lb₁＝Lb₁−La₁＝ｌとなるように構成されている。

これにより４つの光束間のインコヒーレント化を図
り、４つの光束が互いにオプティカルインテグレーター
22の光入射面で重なり合ったとき殆んど干渉しないよう
にしている。

本実施例では第１偏向部材８に入射する４つの光束La
₁、La₂、Lb₁、Lb₂は略同強度のエネルギーを持ってい
る。

使用するビームスプリッターの数が2ⁱ−１（ｉ＝２、
３、４、・・・ｎ）であり、光学手段20で分割する光束
の数が2ⁱ（ｉ＝２、３、４、・・・ｎ）のときはビーム
スプリッタの反射率と透過率は各々略50％となってい
る。これ以外の数のビームスプリッターと分割光束を用
いて構成する場合は、照度ムラ及び有効光源歪が生じな
いように第１偏向部材８に入射する各々の光束のエネル
ギー強度が一定となるようにビームスプリッターの反射
率と透過率の比率を調整する必要がある。

尚、このとき第１偏向部材８の楔型プリズムの数は分
割光束の数に応じて設けることは当然である。

本実施例で光源として用いるエキシマレーザは空間的
コヒーレンシィが一般に比較的小さい。しかしながら、
本実施例では投影レンズ24で生じる色収差を極力小さく
する為にエタロン、プリズム等の狭帯域化素子でレーザ
光の波長幅（バンド幅）を非常に狭くしている為時間的
コヒーレンシィが大きくなっている。

本実施例ではエキシマレーザーで生成される光束のう
ち中心波長λ＝248.7nm、波長幅Δλ＝0.003nmの光束を
使用している為、各光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂の時間的コ
ヒーレンス長が比較的長くなっている。

この為光学手段20により各々の光束に所定の光路長差
を与えることにより互いにインコヒーレントな光束とし
てオプティカルインテグレータ22の光入射面上に第１偏
向部材８で屈折偏向させ互いに重ね合わせて入射させた
とき、各光束間の干渉で干渉縞が形成されないようにし
ている。

又楔型プリズムより成る第２偏向部材21を駆動手段10
2でコンデンサーレンズ23と投影レンズ系24より成る光
学系の光軸を中心に回転させて第２偏向部材21を通過し
た４つの光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂のオプティカルインテ
グレーター22の光入射面への入射角と入射位置を時間的
に変化させている。

第１、第２偏向部材８、21は、光束La₁、La₂、Lb₁、L
b₂がオプティカルインテグレーター22の光入射面上で部
分的に常に重なり合うように配列してある。

第２図（Ａ）に示すように、レーザー11からのレーザ
ー光の断面強度分布は、ガウス分布或いはこの分布に近
い分布であるため、第２図（Ｂ）に示すように、第１偏
向部材８に入射する光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂の断面強度
分布もほぼガウス分布を呈する。さて、この光束La₁、L
a₂、Lb₁、Lb₂がオプティカルインテグレーター22の光入
射面に入射して重なり合った時の光束の断面強度分布
は、第２図（Ｃ）に示すように光軸に関して対称で、し
かもほぼ均一な分布になる。これは、前述のように光束
La₁、La₂、Lb₁、Lb₂をオプティカルインテグレーター22
の光入射面上で部分的に重なり合わせたことによる効果
である。又、この時のオプティカルインテグレーター22
の光出射近傍（平面Ｄ）での光強度分布は第２図（Ｄ）
に示すような形である。光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂の平面
Ｂにおける断面強度分布がガウス分布以外の場合にも、
オプティカルインテグレーター22の光入射面（平面Ｃ）
での強度分布が均一になるように、光束La₁、La₂、L
b₁、Lb₂をオプティカルインテグレーター22の光入射面
上で重ね合わせることが好ましい。

本実施例では、第３図に示すように４つの光束La₁、L
a₂、Lb₁、Lb₂の方向が第１偏向部材８において基準点Ｐ
を中心に放射上に位置するように構成している。そして
光源11からの出射時の光束Ｌとその相対位置関係が、↑
印と印で示す如く、光束Ｌが矢印（↑）方向に移動した
とき４つの光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂が基準点Ｐに向かっ
て移動するようにしている。これにより、駆動手段101
で平行板より成る光学部材２を光軸に対して傾けて光束
Ｌを光軸に関して平行移動させたときオプティカルイン
テグレータ22上の４つの光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂が基準
点Ｐに対して中心に向かったりまたは遠ざかったりして
オプティカルインテグレータ22に入射する光束の全体の
大きさを変化させている。この大きさの変更により、オ
プティカルインテグレータ22の射出面に設定された２次
光源面の大きさを変化せしめることができる。

このことは照明系のσ値を照度ムラを変化させずに又
効率を低下させずに変化させることを意味している。

そしてレジストの種類やレチクルＲの回路パターンの
線巾等の露光条件に応じて、駆動手段101により装置σ
値を種々変化させて最適条件で露光が出来る事を可能と
している。

又４つの光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂の矢印方向が第３図
に示すように上、下、左、右方向に互いに内側に向いて
いることにより各光束を重ね合わせたときビームプロフ
ァイルの形状をよりフラットにすることが出来、照度ム
ラの低減化をより効果的に行うことができるようにして
いる。

本実施例においてレチクルＲ上での照度分布の均一性
は、通常、オプティカルインテグレーター22の光入射面
における光強度分布の均一性と、オプティカルインテグ
レーター22を構成するレンズエレメントの数とに比例す
る。一方、光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂のようなコヒーレン
トな光束がオプティカルインテグレーター22に入射する
場合、ある光束が入射するレンズエレメントの数が多い
程、オプティカルインテグレーター22の光射出近傍に、
互いにコヒーレントな２次光源が多く形成されるので、
これらの２次光源からのコヒーレント光同志の干渉によ
りレチクルＲ上にコントラストの高い干渉縞が形成され
易い。オプティカルインテグレーター22は入射光束の波
面を分割するように機能するので、この干渉縞のコント
ラストは、レーザー11の空間的コヒーレンシィの度合い
により決まる。

本実施例では、レーザー11として空間的コヒーレンシ
ィが小さいものを用いて、オプティカルインテグレータ
ー22のレンズエレメントの数を増やす代わりにいくつか
のレンズエレメントに光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂を入射さ
せて２次光源の数を増やし、レチクルＲ上に形成される
干渉縞がレチクルＲ上での照度分布の均一性を阻害しな
いようにしている。又、光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂は互い
に異なる方向からオプティカルインテグレーター22に向
けられているので、オプティカルインテグレーター22を
介して、光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂の各々によりレチクル
Ｒ上に形成されるコントラストの弱い各干渉縞の位相は
互いに異なる。従って、これらの干渉縞により定まる光
強度分布は平滑化されたものとなり、レチクルＲ上での
照度分布にあまり影響しない。

更に、本実施例では、第２偏向部材21を回転させるこ
とにより、光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂のオプティカルイン
テグレーター22に対する入射角と入射位置を変化させて
いるので、オプティカルインテグレーター22の光入射面
上での光強度分布は、順次生じるいくつかの光強度分布
を重畳させた形になり、更に均一性が向上している。こ
の時、光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂によりオプティカルイン
テグレーターの光射出面近傍に形成される２次光源の分
布（有効光源）も時々刻々と変化するので、２次光源の
数が実質的に増加することになる。

エキシマレーザー11はパルスレーザーであるため、所
定の間隔でパルスレーザー光を放射する。レチクルＲ上
の回路パターンでウエハＷのレジスト層を露光するのに
必要なパルス数をＭとすると、露光中に第２偏向部材21
が回転し続けるとすれば、オプティカルインテグレータ
ー22の光入射面での光強度分布はＭ個の光強度分布が重
なり合った形になる。又、光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂によ
り、１パルス当たりＮ個の２次光源が形成されるとする
と、ウエハＷはＭ×Ｎ個の２次光源からの光を用いて露
光されることになる。次にオプティカルインテグレータ
ー22以降の光学系に関して説明する。

コンデンサレンズ23は複数のレンズエレメントを光軸
に沿って設けたレンズアセンブリであり、オプティカル
インテグレーター22の光射出面近傍に形成した多数個の
２次光源からの光束をレチクルＲ上へ向ける。多数個の
２次光源はコンデンサレンズ23の光軸に垂直な面内に分
布しており、この面（２次光源形成面）とコンデンサレ
ンズ23の光入射側（前側）主平面との間隔はコンデンサ
レンズ23の焦点距離と等しい。一方、コンデンサレンズ
23の光射出側（後側）主平面とレチクルＲとの間隔間も
コンデンサレンズ23の焦点距離と等しくなるように設定
してある。このような構成において、多数個の２次光源
からの各光束はコンデンサレンズ23により平行光束にさ
れレチクルＲ上で互いに効率良く重ね合わせられる。こ
の時のレチクルＲ上の照度分布は、第２図（Ｅ）に示す
ように、均一である。

投影レンズ24も、複数のレンズエレメントを光軸に沿
って設けたレンズアセンブリであり、レチクルＲの回路
パターン面とウエハＷの被露光面とを光学系に共役にす
る。本実施例では、投影レンズ24が1/5の縮小倍率でレ
チクルＲの回路パターン像をウエハＷ上に形成するよう
に設定してある。投影レンズ系24の入射瞳（不図示）
は、オプティカルインテグレーター22の光射出面近傍の
２次光源形成面と光学的に共役であり、ウエハＷは、レ
チクルＲと同じ様に、ケーラー照明される。

又、オプティカルインテグレーター22の光入射面とレ
チクルＲの回路パターン面が光学的に共役になるよう
に、オプティカルインテグレーター22とコンデンサレン
ズ23が構成されている。

本実施例の照明装置では、光源として空間的コヒーレ
ンシィが小さなエキシマレーザー11を用い、光学手段20
により、オプティカルインテグレーター22の光入射面
に、互いにインコヒーレントな光束La₁、La₂、Lb₁、Lb₂
を互いに異なる方向から入射させて重畳しているため、
オプティカルインテグレーター22の光射出面近傍に非常
に多くの２次光源を形成でき、しかもオプティカルイン
テグレーター22の光入射面の強度分布を均一にすること
ができる。従って、２次光源が密に分布した有効光源を
形成することが可能になり、レチクルＲの回路パターン
面を良好に照明してレチクルＲの回路パターン像をウエ
ハＷ上に正確に投影する。

又、光学手段20は、エキシマレーザー11からのレーザ
ー光を振幅分割して複数個の光束を形成するので、レー
ザー光を波面分割するタイプの光学系に比べて、光学系
が小型になる。

回転可能な第２偏向部材21の配置は、レーザー11とオ
プティカルインテグレーター22との間に設けても良い。
又、光学手段20内の光路中において光束の回折損失が多
い時には、アフォーカルコンバーターなどの結像系を光
路中に設けて、光束La₁、La₂とLb₁、Lb₂を効率良くオプ
ティカルインテグレーター22まで伝送すると良い。この
結像系は光学手段20を構成する所定のエレメント光通過
面同志を光学的に共役関係にするように設ける。

本発明では、レーザーなどのコヒーレント光源からの
光束を振幅分割して複数個の光束を形成するが、この光
束の数は３個乃至20個程度が好ましい。この範囲内に光
束数を定めることにより、光学系が比較的小型になり、
且つ有効光源も満足できるものが得られる。

又、本発明では、横モードの数が多い、空間的コヒー
レンシィーが小さなレーザーを用いるのが有効であり、
横モード数が100以上のレーザー（とりわけエキシマレ
ーザー）を用いると効果的である。そして、このような
レーザーを光源とした照明装置を、第１図に示したよう
に縮小投影型露光装置に適用することにより、極めて転
写性能が優れた露光装置を提供できる。

尚、以上の実施例では第１偏向部材８として透過型の
楔型プリズムより成る場合を示したが、各光束毎に対応
させて設けた光反射方式の複数のミラーを用いて偏向部
材を構成しても良い。この場合には、各ミラーを独立し
て駆動制御できる駆動手段を設ける。

（発明の効果）本発明によれば（イ）レチクル、ウエハなどの被照射面の照度分布を均
一にするだけでなく、装置の光路中に、多くの２次光源
が分布した有効光源を形成できるので、被照明面を良好
に照明できる。従って、本装置によりレチクル、ウエハ
を照明するようにすれば、レチクルの回路パターンを正
確にウエハ上へ転写することが可能になる。

（ロ）光束をその断面に関して反転させて重ね合わせる
ことにより被照射面の照度ムラをより軽減することがで
きる。

（ハ）複数に分割した光束を基準点を中心にその一方向
の向きがそろうように放射状に配置することにより光源
からの光束の一方向の移動によりσ値を変化させること
ができる。

（ニ）インコヒーレント化の為の光学手段の小型化を効
果的に図ることができる。

等の特長を有した照明装置を達成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明をステッパーに適用したときの一実施例
の要部概略図、第２図（Ａ）〜（Ｅ）は第１図の光路中
における光束断面強度分布を示す説明図、第３図は第１
図の一部における光束の方向を示す説明図である。図中11は光源、３、4a、4bは第１、第２、第３のビーム
スプリッター、31、32、5a、6a、7a、5b、6b、7bはミラ
ー、２は光学部材、８は第１偏向部材、20は光学手段、
21は第２偏向部材、22はオプティカルインテグレータ
ー、23はコンデンサーレンズ、24は投影レンズ、Ｒはレ
チクル、Ｗはウエハ、である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/20,521

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の光束をオプティカルインテグレータ
ー入射させる光学手段と、前記オプティカルインテグレ
ーターからの光を被照明面に照射する照射手段と、を有
する照明装置であって、前記光学手段は、前記複数の光
束を各光束の入射位置が前記オプティカルインテグレー
ターの光入射面上の基準点の回りに円周方向に沿って等
角度になるように前記オプティカルインテグレーターに
入射させる光学系と前記複数の光束の入射位置を前記基
準点を中心として放射状に同一方向に変位させる変位手
段とを有することを特徴とする照明装置。
【請求項２】光源からの光を複数の光束に分割し、該複
数の光束をオプティカルインテグレーター入射させる光
学手段と、前記オプティカルインテグレーターからの光
を被照明面に照射する照射手段と、を有する照明装置で
あって、前記光学手段を、前記複数の光束が各光束の入
射位置が前記オプティカルインテグレーターの光入射面
上の基準点の回りに円周方向に沿って等角度になるよう
に前記オプティカルインテグレーターに入射し且つ前記
光源からの光がある方向に変位した時に前記複数の光束
が前記オプティカルインテグレーターの光入射面上で前
記基準点を中心として放射状に同一方向に変位するよう
に構成したことを特徴とする照明装置。
【請求項３】光源からのコヒーレント光を複数の光束に
分割し、該複数の光束を互いにインコヒーレントな複数
の光束にし、該互いにインコヒーレントな複数の光束を
互いに異なる方向からオプティカルインテグレーター入
射させる光学手段と、前記オプティカルインテグレータ
ーからの光を被照明面に照射する照射手段と、を有する
照明装置であって、前記光学手段を、前記互いにインコ
ヒーレントな複数の光束が各光束の入射位置が前記オプ
ティカルインテグレーターの光入射面上の基準点の回り
に円周方向に沿って等角度になるように前記オプティカ
ルインテグレーターに入射し且つ前記光源からのコヒー
レント光がある方向に変位した時に前記互いにインコヒ
ーレントな複数の光束が前記オプティカルインテグレー
ターの光入射面上で前記基準点を中心として放射状に同
一方向に変位するように構成したことを特徴とする照明
装置。
【請求項４】前記光学手段が前記光源からの光を４つの
光束に振幅分割するための複数の光分割器を有すること
を特徴とする請求項１〜３記載の照明装置。
【請求項５】前記光学手段は前記オプティカルインテグ
レータに入射する複数の光束の光路長が各々前記光源か
ら発せられる光束の波長幅より決まる可干渉距離以上相
互に異なるように構成されていることを特徴とする請求
項４記載の照明装置。
【請求項６】前記オプティカルインテグレータに入射す
る複数の光束の数をNO、前記光学手段が有するビームス
プリッターの数をNBとしたとき NO:NB＝2ⁱ:2ⁱ−１（ｉ＝２、３、・・・ｎ）であることを特徴とする請求項４記載の照明装置。
【請求項７】前記光源と前記第１ビームスプリッタとの
間に光束移動用の光学部材を設けσ値を変化させたこと
を特徴とする請求項４記載の照明装置。
【請求項８】請求項１〜７のいずれか１項記載の照明装
置からの光束で照明されたレチクル面上の回路パターン
をウエハ面上に投影していることを特徴とする投影露光
装置。
【請求項９】請求項８の投影露光装置により回路パター
ンを基板に転写する工程を含むことを特徴とするデバイ
スの製造方法。