JPH03252122A - 照明装置 - Google Patents
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- JPH03252122A JPH03252122A JP2050587A JP5058790A JPH03252122A JP H03252122 A JPH03252122 A JP H03252122A JP 2050587 A JP2050587 A JP 2050587A JP 5058790 A JP5058790 A JP 5058790A JP H03252122 A JPH03252122 A JP H03252122A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70583—Speckle reduction, e.g. coherence control or amplitude/wavefront splitting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は照明装置に関し、特に半導体製造用の露光装置
に搭載して、マスクやレチクル等の回路パターンを照明
するのに好適な照明装置に関するものである。
に搭載して、マスクやレチクル等の回路パターンを照明
するのに好適な照明装置に関するものである。
（従来の技術）
従来より半導体素子の高集積化及高解像力化を目的とし
、エキシマレーザ−等の強出力のコヒーレント光源を用
いた露光装置の開発が盛んに行なわれている。コヒーレ
ント光源からの光束でマスクやレチクル等の回路パター
ンを照明する場合に生じる間濁点の１つとして、マスク
やレチクル上での照度分布の不均一性が挙げられる。こ
の不均性が生ずる原因の１つとしてコヒーレント光源か
らの光束が形成する干渉縞に起因するものがある。この
干渉縞による頻度分布の不均一性を解消するために、従
来から様々なタイプの照明装置が提案されてきた。
、エキシマレーザ−等の強出力のコヒーレント光源を用
いた露光装置の開発が盛んに行なわれている。コヒーレ
ント光源からの光束でマスクやレチクル等の回路パター
ンを照明する場合に生じる間濁点の１つとして、マスク
やレチクル上での照度分布の不均一性が挙げられる。こ
の不均性が生ずる原因の１つとしてコヒーレント光源か
らの光束が形成する干渉縞に起因するものがある。この
干渉縞による頻度分布の不均一性を解消するために、従
来から様々なタイプの照明装置が提案されてきた。
（光明が解決しようとする問題点ン
従来より照度分布の不均一性を解消するようにした照明
装置は種々と提案されているが、これらの照明装置は照
度分布の不均一性を解消することはできても、照明装置
内の光路中に形成される有効光源（２次光源の分布）が
満足できるものではなかった為、マスクやレチクルを良
好に照明することが難しいという問題点があった。
装置は種々と提案されているが、これらの照明装置は照
度分布の不均一性を解消することはできても、照明装置
内の光路中に形成される有効光源（２次光源の分布）が
満足できるものではなかった為、マスクやレチクルを良
好に照明することが難しいという問題点があった。
本発明は光源からの光束を適切に構成した光学手段を介
した後に被照射面上に導光するようにし、コヒーレント
光源を用いても被照射面上の照度分布を容易に均一化す
ることが出来る照明装置に提供を目的とする。
した後に被照射面上に導光するようにし、コヒーレント
光源を用いても被照射面上の照度分布を容易に均一化す
ることが出来る照明装置に提供を目的とする。
Ｃ問題点を解決するための手段）
本発明の照明装置はコヒーレント光を発する光源からの
コヒーレント光を光学手段により複数の光束に振幅分割
し、該複数のコヒーレント光を互いにインコヒーレント
な光束に変換し、該複数のコヒーレント光を互いに異な
る方向からオプティカルインテグレータの光入射面に入
射させて重畳し、該オプティカルインテグレータから射
出した光束を集光手段により被照明面に導光する照明装
置であって、該光学手段は入射光束を２つの光束に分割
する第１のビームスプリッタ−と該第１のビームスプリ
ッタ−で分割された２つの光束を更に２つの光束に分割
する第２、第３のビームスプリッタ−と順次入射光束を
２つの光束に分割する複数のビームスプリッタ−と複数
に分割した光束が該オプティカルインテグレータに相互
の位置が反転し、該複数の光束が基準点の回わりに放射
状方向に配置され、かつ該光源からの光束の位置が一方
向に移動したとき該複数の光束が該基準点を中心に放射
状方向の同一方向に移動するように構成した複数の反射
面とを有していることを特徴としている。
コヒーレント光を光学手段により複数の光束に振幅分割
し、該複数のコヒーレント光を互いにインコヒーレント
な光束に変換し、該複数のコヒーレント光を互いに異な
る方向からオプティカルインテグレータの光入射面に入
射させて重畳し、該オプティカルインテグレータから射
出した光束を集光手段により被照明面に導光する照明装
置であって、該光学手段は入射光束を２つの光束に分割
する第１のビームスプリッタ−と該第１のビームスプリ
ッタ−で分割された２つの光束を更に２つの光束に分割
する第２、第３のビームスプリッタ−と順次入射光束を
２つの光束に分割する複数のビームスプリッタ−と複数
に分割した光束が該オプティカルインテグレータに相互
の位置が反転し、該複数の光束が基準点の回わりに放射
状方向に配置され、かつ該光源からの光束の位置が一方
向に移動したとき該複数の光束が該基準点を中心に放射
状方向の同一方向に移動するように構成した複数の反射
面とを有していることを特徴としている。
本発明では、このようにオプティカルインチグレーター
の光入射面に互いにインコヒーレントな複数個・の光束
を互いに異なる方向から入射させて重畳することにより
オブティヵルインテグレターにより非常に多くの２次光
源を形成している。
の光入射面に互いにインコヒーレントな複数個・の光束
を互いに異なる方向から入射させて重畳することにより
オブティヵルインテグレターにより非常に多くの２次光
源を形成している。
これにより２次光源か密に分布した有効光源を得て被照
明面を良好に照明することを可能としている。又、光源
からの光束を振幅分割して複数側の光束を形成すること
により光源からオプティカルインテグレータ−に到る光
学系の小型化を図っている。
明面を良好に照明することを可能としている。又、光源
からの光束を振幅分割して複数側の光束を形成すること
により光源からオプティカルインテグレータ−に到る光
学系の小型化を図っている。
（実施例）
第１図は本発明の照明装置の一実施例を示す概略構成図
てあり、ステッパーと呼称される縮小投影型露光装置に
本発明を適用した例である。
てあり、ステッパーと呼称される縮小投影型露光装置に
本発明を適用した例である。
第１図において、１１は光源てあり比較的空間的コヒー
レンジイーか小さな（横モートの数か多い）ＫｒＦエキ
シマレーザ−１から成っている。光１ｉｔｌｌからはコ
ヒーレントな平行光束か放射されている。
レンジイーか小さな（横モートの数か多い）ＫｒＦエキ
シマレーザ−１から成っている。光１ｉｔｌｌからはコ
ヒーレントな平行光束か放射されている。
２は透明な平行板から成る光学部材てあり、傾動可能と
なっており、光１ｉ１１１からの光束の平行移動を行っ
ている。３は第１のビームスプリッタ−であり光学部材
２を通過したコヒーレント光束を反射光と透過光の２つ
の光束Ｌａ、Ｌｂに振幅分割している。第１のビームス
プリッタ−３で反射分割された光束Ｌａは第２のビーム
スプリッタ−４８で再度反射光と透過光の２つの光束Ｌ
ａ ＋ −Ｌ ａｔに振幅分割せしめられる。このう
ち反射分割された反射光束Ｌ ａ ＋は４つの模型プリ
ズム８ ａ ＋ 、８ ａ 、８ ｂ ＋ 、 ８ ｂ
ｍを有した、複数の入射光束を屈折偏向させて重ね合
わせる第１偏向部材８の１つの模型プリズム８ ａ Ｉ
ｊこ入射する。また、８ｃは４つの横型プリズム８ａ＋
、８ａｔ 、８ｂ＋、８ｂｔを機械的に連結する部材
である。
なっており、光１ｉ１１１からの光束の平行移動を行っ
ている。３は第１のビームスプリッタ−であり光学部材
２を通過したコヒーレント光束を反射光と透過光の２つ
の光束Ｌａ、Ｌｂに振幅分割している。第１のビームス
プリッタ−３で反射分割された光束Ｌａは第２のビーム
スプリッタ−４８で再度反射光と透過光の２つの光束Ｌ
ａ ＋ −Ｌ ａｔに振幅分割せしめられる。このう
ち反射分割された反射光束Ｌ ａ ＋は４つの模型プリ
ズム８ ａ ＋ 、８ ａ 、８ ｂ ＋ 、 ８ ｂ
ｍを有した、複数の入射光束を屈折偏向させて重ね合
わせる第１偏向部材８の１つの模型プリズム８ ａ Ｉ
ｊこ入射する。また、８ｃは４つの横型プリズム８ａ＋
、８ａｔ 、８ｂ＋、８ｂｔを機械的に連結する部材
である。
第２のビームスプリッタ−４ａで透過分割された透過光
束Ｌａ、は４反射ミラー５ａ、６ａ、７ａで順次反射せ
しめられ、光束Ｌａ、に対して光束断面に関して方向を
１８０度回転されて第１偏向部材８の１つの横型プリズ
ム８ａ、に入射する。
束Ｌａ、は４反射ミラー５ａ、６ａ、７ａで順次反射せ
しめられ、光束Ｌａ、に対して光束断面に関して方向を
１８０度回転されて第１偏向部材８の１つの横型プリズ
ム８ａ、に入射する。
一方、第１のビームスプリッタ−３で透過分割された透
過光束Ｌｂは１反射ミラー３１．３２で反射した後、第
３のビームスプリッタ−４ｂで、再度反射光と透過光の
２つの光束Ｌｂｌ 、Ｌｂ。
過光束Ｌｂは１反射ミラー３１．３２で反射した後、第
３のビームスプリッタ−４ｂで、再度反射光と透過光の
２つの光束Ｌｂｌ 、Ｌｂ。
に振幅分割せしめられる。
このうち反射分割された反射光束Ｌｂ、は、第１偏向部
材８の１つの模型プリズム８ｂ、に入射する。又、第３
のビームスプリッタ−４ｂで透過分割された透過光束Ｌ
ｂ、は、反射ミラー５ｂ、６ｂ、７ｂで順次反射して、
光束Ｌ ｂ Ｉに対して光束断面に関して方向を１８０
度回転されて第１偏向部材８の！っの模型プリズム８ｂ
宜に入射する。
材８の１つの模型プリズム８ｂ、に入射する。又、第３
のビームスプリッタ−４ｂで透過分割された透過光束Ｌ
ｂ、は、反射ミラー５ｂ、６ｂ、７ｂで順次反射して、
光束Ｌ ｂ Ｉに対して光束断面に関して方向を１８０
度回転されて第１偏向部材８の！っの模型プリズム８ｂ
宜に入射する。
第１偏向部材８に入射した４つの光束ＬａＬａｗ 、Ｌ
ｂ＋ 、Ｌｂｔは、各々、横型プリズム８ａ＋ 、８ａ
茸、８ｔ）＋ 、８ｂｔで屈折偏向して、模型プリズム
より成る第２偏向部材２１を通過し、複数のバーレンズ
より成るオプティカルインチグレーター２２の光入射面
に、互いに重畳して入射している。このとき４つの光束
ＬａＬ ａ−、Ｌ ｂ ７． Ｌ ｂｘは後述するよう
に互いにインコヒーレント光束となっている。尚、第２
偏向部材２】は後述するコンデンサーレンズ２３の光軸
を中心に回転可能となっている。
ｂ＋ 、Ｌｂｔは、各々、横型プリズム８ａ＋ 、８ａ
茸、８ｔ）＋ 、８ｂｔで屈折偏向して、模型プリズム
より成る第２偏向部材２１を通過し、複数のバーレンズ
より成るオプティカルインチグレーター２２の光入射面
に、互いに重畳して入射している。このとき４つの光束
ＬａＬ ａ−、Ｌ ｂ ７． Ｌ ｂｘは後述するよう
に互いにインコヒーレント光束となっている。尚、第２
偏向部材２】は後述するコンデンサーレンズ２３の光軸
を中心に回転可能となっている。
オプティカルインチグレーター２２の光射出面は２次光
源面となっており、オプティカルインテグレータ−２２
を構成するバーレンズの数とそこに入射する入射光束の
数とてその数か定まる多数債の２次光源か形成される。
源面となっており、オプティカルインテグレータ−２２
を構成するバーレンズの数とそこに入射する入射光束の
数とてその数か定まる多数債の２次光源か形成される。
オプティカルインテグレータ−２２の光射出面からの光
束をコンデンサーレンズ２３て集光し該光束て被照射面
であるレチクルＲを照明している。
束をコンデンサーレンズ２３て集光し該光束て被照射面
であるレチクルＲを照明している。
そして、投影レンズ系２４によりレチクル８面上の回路
パターンをウェハＷ面上に所定倍率て縮小投影している
。
パターンをウェハＷ面上に所定倍率て縮小投影している
。
本実施例ては、第１、第２．第３のビームスプリッタ−
３，４ａ、４ｂて光分割手段を構成し、又第１ど−ムス
ブリッター３から第１偏向部材８に至る光路に沿って配
列した各光学要素でコヒーレント光をインコヒーレント
光に変換する光学手段２０を構成している。
３，４ａ、４ｂて光分割手段を構成し、又第１ど−ムス
ブリッター３から第１偏向部材８に至る光路に沿って配
列した各光学要素でコヒーレント光をインコヒーレント
光に変換する光学手段２０を構成している。
第２図は第１図において矢印Ａ−Ｄて示す、各光路中の
光束断面と、レチクルＲ上における光強度分布を示す説
明図である。
光束断面と、レチクルＲ上における光強度分布を示す説
明図である。
本実施例において、光ｒｌ１１から発せられる光束断面
の基準の向きを第３図に示すＬとしたとき横型プリズム
８ ａ ＋ 、 ８ ａ ｘ −８ｂ ＋ −８ｂ ｚ
に入射する光束Ｌａ＋ 、［−ａｔ 、Ｌｂ＋ 、Ｌｂ
ｔの向きは第３図に示すように基準点Ｐ（コンデンサー
レンズ２３の光軸上に一致している。）を中心に放射状
に配置されるようになっている。
の基準の向きを第３図に示すＬとしたとき横型プリズム
８ ａ ＋ 、 ８ ａ ｘ −８ｂ ＋ −８ｂ ｚ
に入射する光束Ｌａ＋ 、［−ａｔ 、Ｌｂ＋ 、Ｌｂ
ｔの向きは第３図に示すように基準点Ｐ（コンデンサー
レンズ２３の光軸上に一致している。）を中心に放射状
に配置されるようになっている。
尚５第３図は第１偏向部材８に入射する４つの光束Ｌａ
＋ 、１．ａ宜、Ｉ−ｂｌ、Ｌ、ｂａの向きをウェハＷ
側から見たときを示している。
＋ 、１．ａ宜、Ｉ−ｂｌ、Ｌ、ｂａの向きをウェハＷ
側から見たときを示している。
第１偏向部材８の各模型プリズムに入射する４つの光束
Ｌａ＋ 、Ｌａ２．Ｌ、ｂ＋ 、Ｌｂｉは各々ｖ４１の
ビームスプリッタ−３から第１偏向部材８に至るまでの
光路長がξ［いに異っており、光源１１の波長幅で定め
られる時間的コヒーレント長ｉ以上となるように各要素
が設定されている。
Ｌａ＋ 、Ｌａ２．Ｌ、ｂ＋ 、Ｌｂｉは各々ｖ４１の
ビームスプリッタ−３から第１偏向部材８に至るまでの
光路長がξ［いに異っており、光源１１の波長幅で定め
られる時間的コヒーレント長ｉ以上となるように各要素
が設定されている。
本実施例では各光束Ｌａ＋ 、 Ｉ−ａｔ 、 １−ｂ
Ｌｂ、の光路長はＬｂｔ＞Ｌ−ａｍ＞Ｌｂ ＞Ｌａ、
で、かつ Ｌｂｘ −Ｌａｗ ：Ｌａｔ −ｔ、ｂｌ ＝
Ｌｂｌ −Ｌａ＋ ＝１２となるように構成されて
いる。
Ｌｂ、の光路長はＬｂｔ＞Ｌ−ａｍ＞Ｌｂ ＞Ｌａ、
で、かつ Ｌｂｘ −Ｌａｗ ：Ｌａｔ −ｔ、ｂｌ ＝
Ｌｂｌ −Ｌａ＋ ＝１２となるように構成されて
いる。
これにより４つの光束間のインコヒーレント化を図り、
４つの光束が互いにオプティカルインチグレーター２２
の光入射面で重なり合ったとき殆んど干渉しないように
している。
４つの光束が互いにオプティカルインチグレーター２２
の光入射面で重なり合ったとき殆んど干渉しないように
している。
本実施例では第１偏向部材８に入射する４つの光束Ｌａ
＋ 、Ｌａｇ 、Ｌｂｔ 、Ｌｂｔは略同強度のエネル
ギーを持っている。
＋ 、Ｌａｇ 、Ｌｂｔ 、Ｌｂｔは略同強度のエネル
ギーを持っている。
使用するビームスプリッタ−の数が２“−１（ｉ＝２．
３．４、・・・ｎ）であり、光学手段２０で分割する光
束の数が２ｉ （ｉ ＝２．３．４、・・・ｎ）のと
きはビームスプリッタの反射率と透過率は各々略５０％
となっている。これ以外の数のビームスプリッタ−と分
割光束を用いて構成する場合は、照度ムラ及び有効光源
子が生じないように第１偏向部材８に入射する各々の光
束のエネルギー強度が一定となるようにビームスプリッ
タ−の反射率と透過率の比率を調整する必要がある。
３．４、・・・ｎ）であり、光学手段２０で分割する光
束の数が２ｉ （ｉ ＝２．３．４、・・・ｎ）のと
きはビームスプリッタの反射率と透過率は各々略５０％
となっている。これ以外の数のビームスプリッタ−と分
割光束を用いて構成する場合は、照度ムラ及び有効光源
子が生じないように第１偏向部材８に入射する各々の光
束のエネルギー強度が一定となるようにビームスプリッ
タ−の反射率と透過率の比率を調整する必要がある。
尚、このとき第１偏向部材８の模型プリズムの数は分割
光束の数に応じて設けることは当然である。
光束の数に応じて設けることは当然である。
本実施例で光源として用いるエキシマレーザは空間的コ
ヒーレンス長が一般に比較的小さい、しかしながら、本
実施例では投影レンズ２４で生じる色収差を極力小さく
する為にエタロン、プリズム等の狭帯域化素子でレーザ
光の波長幅（バント幅）を非常に狭くしている為時間的
コヒーレンス長が大きくなっている。
ヒーレンス長が一般に比較的小さい、しかしながら、本
実施例では投影レンズ２４で生じる色収差を極力小さく
する為にエタロン、プリズム等の狭帯域化素子でレーザ
光の波長幅（バント幅）を非常に狭くしている為時間的
コヒーレンス長が大きくなっている。
本実施例ではエキシマレーザ−で生成される光束のうち
中心波長λ＝２４８．４ｎｍ、波長幅Δλ＝０．００３
ｎｍの光束を使用している為、各光束Ｌａ＋ 、Ｌａｗ
、Ｌｂｚ 、Ｌ、ｂ＊の時間的コヒーレンス長が比較
的長くなっている。
中心波長λ＝２４８．４ｎｍ、波長幅Δλ＝０．００３
ｎｍの光束を使用している為、各光束Ｌａ＋ 、Ｌａｗ
、Ｌｂｚ 、Ｌ、ｂ＊の時間的コヒーレンス長が比較
的長くなっている。
この為光学手段２０により各々の光束に所定の光路長差
を与えることにより互いにインコヒーレントな光束とし
てオプティカルインテグレータ２２の光入射面上に第１
偏向部材８で屈折偏向させ互いに重ね合わせて入射させ
たとき、各光束間の干渉で干渉縞が形成されないように
している。
を与えることにより互いにインコヒーレントな光束とし
てオプティカルインテグレータ２２の光入射面上に第１
偏向部材８で屈折偏向させ互いに重ね合わせて入射させ
たとき、各光束間の干渉で干渉縞が形成されないように
している。
又模型プリズムより成る第２偏向部材２１を駆動手段＋
０２でコンデンサーレンズ２３と投影レンズ系２４より
成る光学系の光軸を中心に回転させて第２偏向部材２１
を通過した４つの光束Ｌａ＋ 、Ｌａｇ 、Ｌ、ｂｌ、
Ｌｂｔのオプティカルインチグレーター２２の光入射面
への入射角と入射位置を時間的に変化させている。
０２でコンデンサーレンズ２３と投影レンズ系２４より
成る光学系の光軸を中心に回転させて第２偏向部材２１
を通過した４つの光束Ｌａ＋ 、Ｌａｇ 、Ｌ、ｂｌ、
Ｌｂｔのオプティカルインチグレーター２２の光入射面
への入射角と入射位置を時間的に変化させている。
第１、第２偏向部材８．２１は、光束ＬａＬａｇ 、ｌ
−ｂｌ 、Ｌｂｔがオプティカルインテグレータ−２２
の光入射面上で部分的に常に重なり合うように配列しで
ある。
−ｂｌ 、Ｌｂｔがオプティカルインテグレータ−２２
の光入射面上で部分的に常に重なり合うように配列しで
ある。
第２図（Ａ）に示すように、レーザー＋１からのレーザ
ー光の断面強度分布は、ガウス分布或いはこの分布に近
い分布であるため、第２図（Ｂ）に示すように、第１偏
向部材８に入射する光束ｆａｔ 、Ｌａｇ 、Ｌｂｔ
、Ｌｂｔの断面強度分布もほはガウス分布を呈する。さ
て、この光束Ｌａｔ 、Ｌａｇ 、Ｌｂｔ 、Ｌｂｔが
オプティカルインチグレーター２２の光入射面に入射し
て重なり合った時の光束の断面強度分布は、第２図（Ｃ
）に示すように光軸に関して対称で、しかもほぼ均一な
分布になる。これは、ｍｊ述のように光束Ｌａ１．Ｌａ
ｇ 、Ｌｂｌ、Ｌｂｚをオプティカルインチグレーター
２２の光入射面上で部分的に重なり合わせたことによる
効果である。又、この時のオプティカルインチグレータ
ー２２の光出射近傍（平面Ｄ）での光強度分布は第２図
（Ｄ）に示すような形である。光束Ｌ ａ １ 、
ｌ−ａ ２、Ｌｂｔ 、Ｌｂ、のモ面Ｂにおける断面強
度分布がガウス分布以外の場合にも、オプティカルイン
チグレーター２２の光入射面（平面Ｃ）での強度分布が
均一になるように、光束Ｌａ＋ 、ＬａｇＬｂ＋ 、Ｌ
ｂ、をオプティカルインテグレータ２２の光入射面上で
重ね合わせることが好ましい。
ー光の断面強度分布は、ガウス分布或いはこの分布に近
い分布であるため、第２図（Ｂ）に示すように、第１偏
向部材８に入射する光束ｆａｔ 、Ｌａｇ 、Ｌｂｔ
、Ｌｂｔの断面強度分布もほはガウス分布を呈する。さ
て、この光束Ｌａｔ 、Ｌａｇ 、Ｌｂｔ 、Ｌｂｔが
オプティカルインチグレーター２２の光入射面に入射し
て重なり合った時の光束の断面強度分布は、第２図（Ｃ
）に示すように光軸に関して対称で、しかもほぼ均一な
分布になる。これは、ｍｊ述のように光束Ｌａ１．Ｌａ
ｇ 、Ｌｂｌ、Ｌｂｚをオプティカルインチグレーター
２２の光入射面上で部分的に重なり合わせたことによる
効果である。又、この時のオプティカルインチグレータ
ー２２の光出射近傍（平面Ｄ）での光強度分布は第２図
（Ｄ）に示すような形である。光束Ｌ ａ １ 、
ｌ−ａ ２、Ｌｂｔ 、Ｌｂ、のモ面Ｂにおける断面強
度分布がガウス分布以外の場合にも、オプティカルイン
チグレーター２２の光入射面（平面Ｃ）での強度分布が
均一になるように、光束Ｌａ＋ 、ＬａｇＬｂ＋ 、Ｌ
ｂ、をオプティカルインテグレータ２２の光入射面上で
重ね合わせることが好ましい。
本実施例では、第３図に示すように４つの光束Ｌａ＋
、Ｌａｗ 、Ｌｂｔ 、Ｌｂｔの方向が第１偏向部材８
において基準点Ｐを中心に放射上に位置するように構成
している。そして光源１１からの出射時の光束りとその
相対位置関係か、↑印と印て示す如く、光束しか矢印（
↑）方向に移動したとき４つの光束Ｌａ１．Ｌａｔ 、
ＬｂｒＬｂ、か基準点Ｐに向かって移動するようにして
いる。これにより、駆動手段１０１て平行板より成る光
学部材２を光軸に対して傾けて光束りを光軸に関して平
行移動させたときオプティカルインテグレータ２２上の
４つの光束Ｌａ＋ 、Ｌａ。
、Ｌａｗ 、Ｌｂｔ 、Ｌｂｔの方向が第１偏向部材８
において基準点Ｐを中心に放射上に位置するように構成
している。そして光源１１からの出射時の光束りとその
相対位置関係か、↑印と印て示す如く、光束しか矢印（
↑）方向に移動したとき４つの光束Ｌａ１．Ｌａｔ 、
ＬｂｒＬｂ、か基準点Ｐに向かって移動するようにして
いる。これにより、駆動手段１０１て平行板より成る光
学部材２を光軸に対して傾けて光束りを光軸に関して平
行移動させたときオプティカルインテグレータ２２上の
４つの光束Ｌａ＋ 、Ｌａ。
Ｌｂ、、Ｌｂ、か基準点Ｐに対して中心に向かったりま
たは遠ざかったりしてオプティカルインテグレータ２２
に入射する光束の全体の大きさを変化させている。この
大きさの変更により、オプティカルインテグレータ２２
の射出面に設定された２次光源面の大きさを変化せしめ
ることかてきる。
たは遠ざかったりしてオプティカルインテグレータ２２
に入射する光束の全体の大きさを変化させている。この
大きさの変更により、オプティカルインテグレータ２２
の射出面に設定された２次光源面の大きさを変化せしめ
ることかてきる。
このことは照明系のσ値を照度ムラを変化させずに又効
率を低下させずに変化させることを意味している。
率を低下させずに変化させることを意味している。
そしてレジストの種類やレチクルＲの回路パターンの線
中等の露光条件にシして、駆動手段１０１により装置σ
値を種々変化させて最適条件て露光か出来る事を可能と
している。
中等の露光条件にシして、駆動手段１０１により装置σ
値を種々変化させて最適条件て露光か出来る事を可能と
している。
又４つの光束Ｌａ＋ 、Ｌａ、、Ｌｂ＋ 、Ｌｂ２の矢
印方向か第３図に示すように上、下、左、右方向に互い
に内側に向いていることにより各光束を重ね合わせたと
きビームプロファイルの形状をよりフラットにすること
か出来、照度ムラの低減化をより効果的に行うことかで
きるようにしている。
印方向か第３図に示すように上、下、左、右方向に互い
に内側に向いていることにより各光束を重ね合わせたと
きビームプロファイルの形状をよりフラットにすること
か出来、照度ムラの低減化をより効果的に行うことかで
きるようにしている。
本実施例においてレチクルＲ上での照度分布の均一性は
、通常、オプティカルインテグレータ−２２の光入射面
における光強度分布の均一性と、オプティカルインテグ
レータ−２２を構成するレンズエレメントの数とに比例
する。一方、光束Ｌａ＋ 、Ｌａ２．Ｌｂ、、Ｌｂｉの
ようなコヒーレントな光束かオプティカルインチグレー
ター２２に入射する場合、ある光束か入射するレンズエ
レメントの数が多い程、オプティカルインテグレータ−
２２の光射出近傍に、互いにコヒーレントな２次光源が
多く形成されるので、これらの２次光源からのコヒーレ
ント光同志の干渉によりレチクルＲ上にコントラストの
高い干渉縞が形成され易い、オプティカルインチグレー
ター２２は入射光束の波面を分割するように機能するの
で、この干渉縞のコントラストは、レーザー１１の空間
的コヒーレンシイの度合いにより決まる。
、通常、オプティカルインテグレータ−２２の光入射面
における光強度分布の均一性と、オプティカルインテグ
レータ−２２を構成するレンズエレメントの数とに比例
する。一方、光束Ｌａ＋ 、Ｌａ２．Ｌｂ、、Ｌｂｉの
ようなコヒーレントな光束かオプティカルインチグレー
ター２２に入射する場合、ある光束か入射するレンズエ
レメントの数が多い程、オプティカルインテグレータ−
２２の光射出近傍に、互いにコヒーレントな２次光源が
多く形成されるので、これらの２次光源からのコヒーレ
ント光同志の干渉によりレチクルＲ上にコントラストの
高い干渉縞が形成され易い、オプティカルインチグレー
ター２２は入射光束の波面を分割するように機能するの
で、この干渉縞のコントラストは、レーザー１１の空間
的コヒーレンシイの度合いにより決まる。
本実施例では、レーザー１１として空間的コヒーレンシ
イが小さいものを用いて、オプティカルインチグレータ
ー２２のレンズエレメントの数を増やす代わりにいくつ
かのレンズエレメントに光束Ｌａ＋ 、Ｌａｗ 、Ｌｂ
＋ 、Ｌｂｍを入射させて２次光源の数を増やし、レチ
クルＲ上に形成される干渉縞がレチクルＲ上での照度分
布の均一性を阻害しないようにしている。又、光束Ｌａ
Ｌａｇ 、Ｌｂ＋ 、Ｌｂｚは互いに異なる方向からオ
プティカルインチグレーター２２に向けられているので
、オプティカルインチグレーター２２を介して、光束Ｌ
ａ＋ 、Ｌａｇ 、Ｌｂ＋ 、Ｌｂｉの各々によりレチ
クルＲ上に形成されるコントラストの弱い各干渉縞の位
相は互いに異なる。従って、これらの干渉縞により定ま
る光強度分布はモ滑化されたものとなり、レチクルＲ上
での照度分布にあまり影響しない。
イが小さいものを用いて、オプティカルインチグレータ
ー２２のレンズエレメントの数を増やす代わりにいくつ
かのレンズエレメントに光束Ｌａ＋ 、Ｌａｗ 、Ｌｂ
＋ 、Ｌｂｍを入射させて２次光源の数を増やし、レチ
クルＲ上に形成される干渉縞がレチクルＲ上での照度分
布の均一性を阻害しないようにしている。又、光束Ｌａ
Ｌａｇ 、Ｌｂ＋ 、Ｌｂｚは互いに異なる方向からオ
プティカルインチグレーター２２に向けられているので
、オプティカルインチグレーター２２を介して、光束Ｌ
ａ＋ 、Ｌａｇ 、Ｌｂ＋ 、Ｌｂｉの各々によりレチ
クルＲ上に形成されるコントラストの弱い各干渉縞の位
相は互いに異なる。従って、これらの干渉縞により定ま
る光強度分布はモ滑化されたものとなり、レチクルＲ上
での照度分布にあまり影響しない。
更に、本実施例では、第２偏向部材２１を回転させるこ
とにより、光束Ｌａ＋、１．ａｚＬ ｂ １． Ｌ
ｂｓのオプティカルインテグレータ−２２に対する入射
角と入射位置を変化させているので、オプティカルイン
チグレーター２２の光入射面上での光強度分布は、順次
重じるいくつかの光強度分布を重畳させた形になり、更
に均一性が向上している。この時、光束Ｌａ１．Ｌａ□
、Ｌ ｂ −、Ｌ ｂｓによりオブティカルインテグレ
ターの光射出面近傍に形成される２次光源の分布〔有効
光源）も時々刻々と変化するので、２次光源の数が實質
的に増加することになる。
とにより、光束Ｌａ＋、１．ａｚＬ ｂ １． Ｌ
ｂｓのオプティカルインテグレータ−２２に対する入射
角と入射位置を変化させているので、オプティカルイン
チグレーター２２の光入射面上での光強度分布は、順次
重じるいくつかの光強度分布を重畳させた形になり、更
に均一性が向上している。この時、光束Ｌａ１．Ｌａ□
、Ｌ ｂ −、Ｌ ｂｓによりオブティカルインテグレ
ターの光射出面近傍に形成される２次光源の分布〔有効
光源）も時々刻々と変化するので、２次光源の数が實質
的に増加することになる。
エキシマレーザ−１１はパルスレーザ−であるため、所
定の間隔でパルスレーザ−先を放射する。レチクルＲ上
の回路パターンでウェハＷのレジスト層を露光するのに
必要なパルス数をＭとすると、露光中に第２偏向部材２
１が回転し続けるとすれば、オプティカルインチグレー
ター２２の光入射面での光強度分布はＭ個の光強度分布
が重なり合った形になる。又、光束Ｌａ＋ 、Ｌａｇ
。
定の間隔でパルスレーザ−先を放射する。レチクルＲ上
の回路パターンでウェハＷのレジスト層を露光するのに
必要なパルス数をＭとすると、露光中に第２偏向部材２
１が回転し続けるとすれば、オプティカルインチグレー
ター２２の光入射面での光強度分布はＭ個の光強度分布
が重なり合った形になる。又、光束Ｌａ＋ 、Ｌａｇ
。
Ｌｂｌ 、Ｌｂｔにより、１パルス当たりＮ個の２次光
源が形成されるとすると、ウェハＷＬｔＭ Ｘ Ｎ個の
２次光源からの光を用いて露光されることになる０次に
オプティカルインチグレーター２２以降の光学系に関し
て説明する。
源が形成されるとすると、ウェハＷＬｔＭ Ｘ Ｎ個の
２次光源からの光を用いて露光されることになる０次に
オプティカルインチグレーター２２以降の光学系に関し
て説明する。
コンデンサレンズ２３は複数のレンズエレメントを光軸
に沿って設けたレンズアセンブリであり、オプティカル
インチグレーター２２の光射出面近傍に形成した多数個
の２次光源からの光束をレチクルＲ上へ向ける。多数個
の２次光源はコンデンサレンズ２３の光軸に垂直な面内
に分布しており、この面（２次光源形成面）とコンデン
サレンズ２３の光入射側（前側）主平面との間隔はコン
デンサレンズ２３の焦点距離と等しい。
に沿って設けたレンズアセンブリであり、オプティカル
インチグレーター２２の光射出面近傍に形成した多数個
の２次光源からの光束をレチクルＲ上へ向ける。多数個
の２次光源はコンデンサレンズ２３の光軸に垂直な面内
に分布しており、この面（２次光源形成面）とコンデン
サレンズ２３の光入射側（前側）主平面との間隔はコン
デンサレンズ２３の焦点距離と等しい。
方、コンデンサレンズ２３の光射出側（後側）主平面と
レチクルＲとの間隔間もコンデンサレンズ２３の焦点距
離と等しくなるように設定しである。このような構成に
おいて、多数個の２次光源からの各光束はコンデンサレ
ンズ２３により平行光束にされレチクルＲ上で互いに効
率良く重ね合わせられる。この時のレチクルＲ上の照度
分布は、第２図（Ｅ）に示すように、均一である。
レチクルＲとの間隔間もコンデンサレンズ２３の焦点距
離と等しくなるように設定しである。このような構成に
おいて、多数個の２次光源からの各光束はコンデンサレ
ンズ２３により平行光束にされレチクルＲ上で互いに効
率良く重ね合わせられる。この時のレチクルＲ上の照度
分布は、第２図（Ｅ）に示すように、均一である。
投影レンズ２４も、複数のレンズエレメントを光軸に沿
って設けたレンズアセンブリであり、レチクルＨの回路
パターン面とウェハＷの被露光面とを光学系に共役にす
る０本実施例では、投影レンズ２４が１１５の縮小倍率
でレチクルＲの回路パターン像をウェハＷ上に形成する
ように設定しである。投影レンズ系２４の入射ｉｔ（不
図示）は、オプティカルインチグレーター２２の光射出
面近傍の２次光源形成面と光学的に共役であり、ウェハ
Ｗは、レチクルＲと同じ様に、ケーラー明朗される。
って設けたレンズアセンブリであり、レチクルＨの回路
パターン面とウェハＷの被露光面とを光学系に共役にす
る０本実施例では、投影レンズ２４が１１５の縮小倍率
でレチクルＲの回路パターン像をウェハＷ上に形成する
ように設定しである。投影レンズ系２４の入射ｉｔ（不
図示）は、オプティカルインチグレーター２２の光射出
面近傍の２次光源形成面と光学的に共役であり、ウェハ
Ｗは、レチクルＲと同じ様に、ケーラー明朗される。
又、オプティカルインチグレーター２２の光入射面とレ
チクルＲの回路パターン面が光学的に共役になるように
、オプティカルインチグレーター２２とコンデンサレン
ズ２３が構成されている。
チクルＲの回路パターン面が光学的に共役になるように
、オプティカルインチグレーター２２とコンデンサレン
ズ２３が構成されている。
本実施例の照明装置では、光源として空間的コヒーレン
ト光が小さなエキシマレーザ−１１を用い、光７手段２
０により、オプティカルインチグレー９−２２の光入射
面に、互いにインコヒーレントな光束Ｌａ＋ 、Ｌａｇ
、Ｌｔｚ 、Ｌｂｔを互いに異なる方向から入射させ
て重畳しているため、オプティカルインチグレーター２
２の光射出面近傍に非常に多くの２次光源を形成でき、
しかもオプティカルインチグレーター２２の光入射面の
強度分布を均一にすることができる。従って、２次光源
が密に分布した有効光源を形成することが可能になり、
レチクルＲの回路パターン面を良好に照明してレチクル
Ｒの回路パターン像をウェハＷ上に正確に投影する。
ト光が小さなエキシマレーザ−１１を用い、光７手段２
０により、オプティカルインチグレー９−２２の光入射
面に、互いにインコヒーレントな光束Ｌａ＋ 、Ｌａｇ
、Ｌｔｚ 、Ｌｂｔを互いに異なる方向から入射させ
て重畳しているため、オプティカルインチグレーター２
２の光射出面近傍に非常に多くの２次光源を形成でき、
しかもオプティカルインチグレーター２２の光入射面の
強度分布を均一にすることができる。従って、２次光源
が密に分布した有効光源を形成することが可能になり、
レチクルＲの回路パターン面を良好に照明してレチクル
Ｒの回路パターン像をウェハＷ上に正確に投影する。
又、光学手段２０は、エキシマレーザ−１１からのレー
ザー光を振幅分割して複数個の光束を形成するので、レ
ーザー光を波面分割するタイプの光学系に比べて、光学
系が小型になる。
ザー光を振幅分割して複数個の光束を形成するので、レ
ーザー光を波面分割するタイプの光学系に比べて、光学
系が小型になる。
回転可能な第２偏向部材２１の配置は、レザー１１とオ
プティカルインチグレーター２２との間に設けても良い
、又、光学手段２０内の光路中において光束の回折損失
が多い時には、アフォーカルコンバーターなどの結像系
を光路中に設けて、光束Ｌａ＋ 、ＬａｗとＬｂｌ、Ｌ
ｂｔを効率良くオプティカルインチグレーター２２まで
伝送すると良い、この結像系は光学手段２ｏを構成する
所定のエレメント光通過面同志を光学的に共役関係にす
るように設ける。
プティカルインチグレーター２２との間に設けても良い
、又、光学手段２０内の光路中において光束の回折損失
が多い時には、アフォーカルコンバーターなどの結像系
を光路中に設けて、光束Ｌａ＋ 、ＬａｗとＬｂｌ、Ｌ
ｂｔを効率良くオプティカルインチグレーター２２まで
伝送すると良い、この結像系は光学手段２ｏを構成する
所定のエレメント光通過面同志を光学的に共役関係にす
るように設ける。
本発明では、レーザーなどのコヒーレント光源からの光
束を振幅分割して複数個の光束を形成するが、この光束
の数は３個乃至２０個程度が好ましい、この範囲内に光
束数を定めることにより。
束を振幅分割して複数個の光束を形成するが、この光束
の数は３個乃至２０個程度が好ましい、この範囲内に光
束数を定めることにより。
光学系が比較的小型になり、且つ有効光源も満足できる
ものが得られる。
ものが得られる。
又、本発明では、横モードの数が多い、空間的コヒーレ
ンジイーが小さなレーザーを用いるのが有効であり、横
モード数が１００以上のレーザー（とりわけエキシマレ
ーザ−）を用いると効果的である、そして、このような
レーザーを光源とした照明装置を、第１図に示したよう
に縮小投影型露光装置に適用することにより、極めて転
写性能が優れた露光装置を提供できる。
ンジイーが小さなレーザーを用いるのが有効であり、横
モード数が１００以上のレーザー（とりわけエキシマレ
ーザ−）を用いると効果的である、そして、このような
レーザーを光源とした照明装置を、第１図に示したよう
に縮小投影型露光装置に適用することにより、極めて転
写性能が優れた露光装置を提供できる。
尚、以上の実施例では第１偏向部材８として透過型の模
型プリズムより成る場合を示したが、各光束毎に対応さ
せて設けた光反射方式の複数のミラーを用いて偏向部材
を構成しても良い、この場合には、各ミラーを独立して
駆動制御できる駆動手段を設ける。
型プリズムより成る場合を示したが、各光束毎に対応さ
せて設けた光反射方式の複数のミラーを用いて偏向部材
を構成しても良い、この場合には、各ミラーを独立して
駆動制御できる駆動手段を設ける。
（発明の効果）
本発明によれば
（イ）レチクル、ウェハなどの被照射面の照度分布を均
一にするだけでなく、装置の光路中に、多くの２次光源
が分布した有効光源を形成できるので、被興明面を良好
に照明できる。従って、本装置によりレチクル、ウェハ
を照明するようにすれば、レチクルの回路パターンを正
確にウェハ上へ転写することが可能になる。
一にするだけでなく、装置の光路中に、多くの２次光源
が分布した有効光源を形成できるので、被興明面を良好
に照明できる。従って、本装置によりレチクル、ウェハ
を照明するようにすれば、レチクルの回路パターンを正
確にウェハ上へ転写することが可能になる。
（ロ）光束をその断面に関して反転させて重ね合わせる
ことにより被照射面の照度ムラをより軽減することかで
きる。
ことにより被照射面の照度ムラをより軽減することかで
きる。
（ハ）複数に分割した光束を基準点を中心にその一方向
の向きかそろうように放射状に配置することにより光源
からの光束の一方向の移動によりσ値を変化させること
かできる。
の向きかそろうように放射状に配置することにより光源
からの光束の一方向の移動によりσ値を変化させること
かできる。
（ニ）インコヒーレント化の為の光学手段の小型化を効
果的に図ることかてきる。
果的に図ることかてきる。
等の特長を有した照明装置を達成することかてきる。
第１図は本発明をステラバーに適用したときの一実施例
の要部概略圀、第２図（Ａ）〜（Ｅ）は第１図の光路中
における光束断面強度分布を示す説明図、１４３図は第
１図の一部における光束の方向を示す説明図である。 図中１１は光源、３，４ａ、４ｂは第１．第２、＠３の
ビームスプリッタ−１３１，３２，５ａ、６ａ、７ａ、
５ｂ、６ｂ、７ｂはミラー２は光学部材、８はＩｆ偏向
部材、２ｏは光学手段、２１は第２偏向部材、２２はオ
プティカルインチグレーター、２３はコンデンサーレン
ズ、２４は投影レンズ、Ｒはレチクル、Ｗはウェハ、で
ある。 第 図 （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） （Ｄ） （Ｅ） 第 図
の要部概略圀、第２図（Ａ）〜（Ｅ）は第１図の光路中
における光束断面強度分布を示す説明図、１４３図は第
１図の一部における光束の方向を示す説明図である。 図中１１は光源、３，４ａ、４ｂは第１．第２、＠３の
ビームスプリッタ−１３１，３２，５ａ、６ａ、７ａ、
５ｂ、６ｂ、７ｂはミラー２は光学部材、８はＩｆ偏向
部材、２ｏは光学手段、２１は第２偏向部材、２２はオ
プティカルインチグレーター、２３はコンデンサーレン
ズ、２４は投影レンズ、Ｒはレチクル、Ｗはウェハ、で
ある。 第 図 （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） （Ｄ） （Ｅ） 第 図
Claims (4)
- （１）コヒーレント光を発する光源からのコヒーレント
光を、光学手段により複数の光束に振幅分割し、該複数
のコヒーレント光を互いにインコヒーレントな光束に変
換し、該複数のコヒーレント光を互いに異なる方向から
オプティカルインテグレータの光入射面に入射させて重
畳し、該オプティカルインテグレータから射出した光束
を集光手段により被照明面に導光する照明装置であって
、該光学手段は入射光束を２つの光束に分割する第１の
ビームスプリッターと該第１のビームスプリッターで分
割された２つの光束を更に２つの光束に分割する第２、
第３のビームスプリッターと順次入射光束を２つの光束
に分割する複数のビームスプリッターと複数に分割した
光束が該オプティカルインテグレータに相互の位置が反
転し、該複数の光束が基準点の回わりに放射状方向に配
置され、かつ該光源からの光束の位置が一方向に移動し
たとき該複数の光束が該基準点を中心に放射状方向の同
一方向に移動するように構成した複数の反射面とを有し
ていることを特徴とする照明装置。 - （２）前記光学手段は前記オプティカルインテグレータ
に入射する複数の光束の光路長が各々前記光源から発せ
られる光束の波長幅より決まる可干渉距離以上相互に異
なるように構成されていることを特徴とする請求項１記
載の照明装置。 - （３）前記オプティカルインテグレータに入射する複数
の光束の数をＮＯ、前記光学手段が有するビームスプリ
ッターの数をＮＢとしたとき ＮＯ：ＮＢ＝２＾ｉ：２＾ｉ−１ （ｉ＝２、３、・・・ｎ） であることを特徴とする請求項１記載の照明装置。 - （４）前記光源と前記第１ビームスプリッタとの間に光
束移動用の光学部材を設けσ値を変化させたことを特徴
とする請求項１記載の照明装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2050587A JP2765162B2 (ja) | 1990-03-01 | 1990-03-01 | 照明装置 |
| US07/534,246 US5153773A (en) | 1989-06-08 | 1990-06-07 | Illumination device including amplitude-division and beam movements |
| US08/261,229 US5463497A (en) | 1989-06-08 | 1994-06-16 | Illumination device including an optical integrator defining a plurality of secondary light sources and related method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2050587A JP2765162B2 (ja) | 1990-03-01 | 1990-03-01 | 照明装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03252122A true JPH03252122A (ja) | 1991-11-11 |
| JP2765162B2 JP2765162B2 (ja) | 1998-06-11 |
Family
ID=12863107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2050587A Expired - Lifetime JP2765162B2 (ja) | 1989-06-08 | 1990-03-01 | 照明装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2765162B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0689846A (ja) * | 1992-04-20 | 1994-03-29 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | リソグラフィ用の光学系 |
| EP0811499A3 (en) * | 1996-06-07 | 1999-06-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing nozzle member, and work apparatus |
| WO2022124211A1 (ja) * | 2020-12-09 | 2022-06-16 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
-
1990
- 1990-03-01 JP JP2050587A patent/JP2765162B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0689846A (ja) * | 1992-04-20 | 1994-03-29 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | リソグラフィ用の光学系 |
| EP0811499A3 (en) * | 1996-06-07 | 1999-06-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing nozzle member, and work apparatus |
| US6218081B1 (en) | 1996-06-07 | 2001-04-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing nozzle member, and work apparatus |
| WO2022124211A1 (ja) * | 2020-12-09 | 2022-06-16 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2765162B2 (ja) | 1998-06-11 |
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