JP3295956B2 - 露光装置及び半導体素子の製造方法 - Google Patents

露光装置及び半導体素子の製造方法

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JP3295956B2
JP3295956B2 JP04740992A JP4740992A JP3295956B2 JP 3295956 B2 JP3295956 B2 JP 3295956B2 JP 04740992 A JP04740992 A JP 04740992A JP 4740992 A JP4740992 A JP 4740992A JP 3295956 B2 JP3295956 B2 JP 3295956B2
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造用に好適な
露光装置及びその露光装置を用いた半導体素子の製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、LSIや超LSI等の半導体素子
の製造は、レチクル上に形成された回路パターンを投影
レンズを介してウエハ上に縮小投影する投影露光装置に
より行われている。しかしながら、より一層、微細なパ
ターンをウエハ上に転写することが切望されており、こ
れに対応するために多大な努力が続けられている。例え
ば、露光光の短波長化、及び投影レンズの開口数(以下
NAと称する)の増大により、投影レンズの解像力向上
への努力が続けられており、特に最近ではNAが0.5
を越える投影レンズが実現されている。
【0003】また、これに加えて、露光対象とするパタ
ーンの最小線幅等により照明条件を最適化することで投
影レンズの解像力、焦点深度に対する努力も続けられて
いる。例えば、特開昭59-155843 号公報では、投影レン
ズのNAに対する照明光学系のNAの比率、即ちσ値を
最適化することにより、所定パターンの解像力とコント
ラストとの適切なバランスを得るようにしたものが提案
されている。
【0004】また、近年においては、露光用照明光学装
置内に設けられたフライアイレンズにより形成される2
次的光源の形状を変化させることにより、投影レンズの
解像力、焦点深度をより一層向上させる試みが提案され
ており、例えば、特開昭61-91622号公報にて提案されて
いる。この公報には、2次的光源を形成するフライアイ
レンズの射出側の中央部を絞りにより遮光し、偏心光源
を形成することにより、パターン寸法、焼き付け条件に
より、投影レンズの解像力、焦点深度の大幅なる改善が
図られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】一般にこの種の露光用
照明光学装置では、微細なパターンをウエハ上に転写す
る際に、スループットの向上のために、被照射面として
のマスク(またはレチクル)上では、より高い照度のも
とでの均一な照明が要求される。ところが、特開昭61-9
1622号公報に提案されている照明装置では、輪帯状の2
次的光源を得るために、フライアイレンズの射出側の中
央部を遮光する絞りを配置している。このため、照射光
の総量が減少して被照射面としてのマスク(以下レチク
ルと称する)上での照度が大幅に低下する。
【0006】この結果、露光時間が長くなって、スルー
プットの低下を免れないという問題があった。本発明は
上記の問題を克服して、輪帯状の2次的光源を何ら遮光
することなく形成し、高い照明効率のもとで被照射面を
均一に照明できる高性能な露光装置、及びその露光装置
を用いた半導体素子の製造方法を提供することを目的と
している。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明による第1の露光装置は、ほぼ平行光束を
供給する光源手段と、複数の2次的な光源を形成するオ
プティカルインテグレータと、前記オプティカルインテ
グレータからの光束を集光してレチクルを照明するコン
デンサーレンズとを有し、前記レチクルのパターンをウ
エハに転写する露光装置において、前記光源手段と前記
オプティカルインテグレータとの光路間に、ほぼ平行な
光束を輪帯状光束に変換する輪帯状光束変換手段を設
け、前記輪帯状光束変換手段は、円錐状屈折面を持つ第
1及び第2屈折部材を有し、前記輪帯状光束の輪帯比を
変化させるために前記第1及び第2屈折部材は相対的な
間隔が可変に設けられるようにしたものである。これに
より、高い照明効率のもとで輪帯状光束の径(大きさ)
又は輪帯状光束の輪帯比を変化させることができる。
【0008】以上の構成に基づいて、前記光源手段は、
水銀アーク灯と、前記水銀アーク灯からの光を集光する
楕円鏡と、前記楕円鏡からの光をほぼ平行光束に変換す
るコリメータレンズとを有することが好ましい。
【0009】また、前記光源手段は、エキシマレーザ光
源と、前記エキシマレーザ光源からの光をビーム整形す
るビームエキスパンダとを有する構成としても良い。
【0010】また、本発明による第1の半導体素子の製
造方法は、上記の第1の露光装置を用いて前記レチクル
のパターンを前記ウエハに転写することが好ましい。
に、本発明による第2の露光装置は、レチクルを照明す
るために露光光を供給する光源手段と、前記レチクルの
パターンをウエハに投影する投影光学系とを有する露光
装置において、前記光源手段から供給される露光光の光
路中に配置されたオプティカルインテグレータと、前記
オプティカルインテグレータからの露光光を前記レチク
ルへ導く手段と、前記光源手段と前記オプティカルイン
テグレータとの間の光路中に配置されて前記露光光を輪
帯状光束に変換する輪帯状光束変換手段と、を有し、前
記輪帯状光束変換手段は、円錐状屈折面を持つ第1及び
第2屈折部材を有し、前記輪帯状光束の輪帯比を変化さ
せるために、前記第1及び第2屈折部材は相対的に間隔
が可変に設けられるようにしたものである。 また、本発
明による第2の半導体素子の製造方法は、露光光でレチ
クルを照明する工程と、前記レチクルのパターンをウエ
ハに転写する工程を有する半導体素子の製造方法におい
て、前記露光光でレチクルを照明する工程は、円錐状屈
折面を持つ第1及び第2屈折部材を用いて前記露光光を
輪帯状光束に変換する工程と、前記輪帯状光束をオプテ
ィカルインテグレータを介して前記レチクルへ導く工程
とを有し、前記露光光を輪帯状光束に変換する工程は、
前記輪帯状光束の輪帯比を変化させるために、前記第1
及び第2屈折部材の相対的に間隔を可変とする工程を有
するようにしたものである。
【0011】
【作 用】本発明の装置では、輪帯状光束変換手段(凸
の円錐状屈折面または凹の円錐状屈折面)の屈折作用に
よって、光源からの平行光束を何ら遮光することなく、
輪帯状光束に変換でき、その結果、オプティカルインテ
グレータによって輪帯状の2次光源が形成できるのでき
る。従って、被照射面としてのレチクルを高照度のもと
での均一に照明できるため、スループットの低下を招く
ことはない。
【0012】また、輪帯状光束変換手段が凸の円錐状屈
折面または凹の円錐状屈折面を持つ複数の部材を持つ構
成とし、この複数の部材を交換可能あるいはこの複数の
部材間の間隔を可変に設けることにより、高い照明効率
のもとで輪帯状平行光束の外径に対する内径の比率、所
謂輪帯比をに変化させることができる。従って、任意の
輪帯比を持つ2次光源を形成できるため、レチクルR上
のパターンを最適な線幅、焦点深度のもとでウエハ上に
転写することができる。
【0013】さらに、照明光学系内にアフォーカル変倍
光学系を設ければ、そのアフォーカル変倍光学系の変倍
により輪帯比を一定に維持しながら輪帯状平行光束の径
(外径)を可変にできる。従って、輪帯状光束変換手段
によって輪帯比を変化でき、アフォーカル変倍光学系に
よって輪帯比を変える事なく輪帯状平行光束を変化でき
るため、輪帯比と輪帯状平行光束の径(外径)を独立に
コントロールできる。
【0014】
【実施例】図1は、本発明の第1実施例による構成を示
したものであり、図1において(A)は第1の輪帯光束
変換状態、(B)は第2の輪帯光束変換状態を示してい
る。以下、図1を参照しながら第1実施例について詳述
する。図1(A)に示す如く、光源部1からほぼ平行な
光束を供給される。この光源部1は、水銀アーク灯、楕
円鏡及びコリメータレンズを有し、この水銀アーク灯か
らの光(例えば、g線(436nm) 、i線(365nm)等の光)
は、楕円鏡によって集光された後、コリメータレンズに
より平行光束に変換される。また、光源部1は、KrF
のレーザ光源としてのエキシマレーザ光源とビーム径を
整形するビームエキスパンダを有し、エキシマレーザ光
源からの光をビームエキスパンダを介してビーム整形さ
れた平行光束を供給するものでも良い。
【0015】光源部1から供給されるほぼ平行光束は、
斜線で示す如く、第1プリズム部材20を通過し、ここ
で輪帯状平行光束に変換される。この第1プリズム部材
20は、入射側に凹の円錐状屈折面を持つと共に射出側
に凸の円錐状屈折面を持ち、図1(B)に示す如く、第
1交換手段10によって第2プリズム部材21と交換可
能に設けられている。この第2プリズム部材21は、入
射側に凹の円錐状屈折面を持つと共に射出側に凸の円錐
状屈折面を持ち、第1プリズム部材20よりも軸上厚
(頂点間の距離)が薄くなる如く構成されている。
【0016】そして、第1プリズム部材20により変換
された図1(A)の輪帯状平行光束は、第1プリズム部
材20により変換された図1(B)の輪帯状平行光束と
比べると、輪帯の幅は一定であるが輪帯状平行光束の外
径が大きく変換される。このため、各プリズム部材(2
0,21)により形成される輪帯状平行光束の内径と外
径をそれぞれをr1 ,r2 とすると、図1(A)に示し
た第1プリズム部材20により変換された輪帯状平行光
束は、図1(B)に示した第2プリズム部材21により
変換された輪帯状平行光束よりも、輪帯比(r1
2 )が小さくなる。従って、各プリズム部材(20,
21)を光路内に挿入することによって、輪帯比が可変
にできることが分かる。なお、本実施例では、第1プリ
ズム部材20と第2プリズム部材21とで輪帯光束変換
部2が構成される。
【0017】さて、図1(A)に戻って、第1プリズム
部材20によって所定の輪帯比を持つ輪帯状平行光束に
変換された光束は、オプティカルインテグレータとして
のフライアイレンズ3により輪帯状の複数の2次的光源
が形成される。このフライアイレンズ3は、複数の棒状
レンズ素子の集合体で構成され、輪帯状光束がフライア
イレンズ3を通過すると、フライアイレンズ3の射出側
には各棒状レンズ素子によって輪帯状の複数の2次的な
光源像が形成され、ここには、実質的に輪帯状の面光源
が形成される。従って、プリズム部材(20,21)の
交換によってフライアイレンズ3に入射する輪帯平行光
束径並びに輪帯比が変化するため、輪帯状の2次的な光
源像の大きさ及び輪帯比が可変となる。
【0018】この輪帯状の2次的な光源像が形成される
フライアイレンズ3の射出側の位置には、輪帯状平行光
束を正確に規定する開口絞り手段4が設けられており、
この開口絞り手段4は、所定の輪帯状の口径を持つ開口
絞り41及び42を有しており、開口絞り41は、第2
プリズム部材21に挿入により連動して、第2交換手段
11によって別の輪帯状の口径並びに輪帯比を有する開
口絞り42と交換可能に設けられている。
【0019】さて、開口絞り41を介した輪帯状の2次
的な光源からの光束は、斜線で示す如く、コンデンサー
レンズ5により集光されて、レチクルR上のパターン領
域を斜め方向から重畳するように均一照明する。する
と、投影レンズ6(投影光学系)によってウエハW上に
は、レチクルR上の回路パターン像が形成される。従っ
て、ウエハW上に塗布されたレジストが感光されて、こ
こにはレチクルRの回路パターン像が転写される。投影
光学系6の瞳(入射瞳)位置には、口径可変な開口絞り
6aが設けられており、この開口絞り6aは、口径可変
手段12によって所定の口径に設定される。なお、開口
絞り6aは、図1の点線で示す如く、フライアイレンズ
3の射出側に設けられた開口絞り6と共役に設けられて
いる。
【0020】次に、本実施例による動作について説明す
ると、まずキーボード等の入力手段14を介して順番に
露光される各種のレチクルRに関する情報等が入力され
ると、この入力情報は制御手段13に入力される。この
制御手段13は、各種のレチクルに関する最適な線幅、
焦点深度等の情報を内部のメモリー部に記憶しており、
第1交換手段10、第2交換手段及び口径可変手段12
を制御する。
【0021】これらの第1交換手段10、第2交換手段
及び口径可変手段12は、内部に駆動系を含んでおり、
制御手段13からの制御信号に基づいて、最適な線幅、
焦点深度ともとでレチクルRを輪帯照明するために、プ
リズム部材(20,21)及び開口絞り(40,41)
が選択的に設定される共に、開口絞り6の口径が設定さ
れる。
【0022】なお、レチクルRのパターン領域外に最適
な線幅、焦点深度等の情報を含むバーコード等のマーク
を形成し、このマークを検知するマーク検知手段をレチ
クルRが設定される周辺部に設け、この検知情報を直接
的に制御手段13へ入力できるようにしても良い。この
ように、プリズム部材(20、21)を適宜交換して、
フライアイレンズ3の射出側に形成される輪帯状の2次
光源における大きさを及び輪帯比を変化させて、輪帯照
明(あるいは傾斜照明)状態を変えると、レチクルR上
のパターンを最適な線幅、焦点深度のもとでウエハ上に
転写することができる。
【0023】ここで、以上の構成によって得られる輪帯
照明の効果を十分に引き出すには、フライアイレンズ3
の射出側に形成される輪帯状の2次光源の内径をd1
フライアイレンズ3の射出側に形成される輪帯状の2次
光源の外径をd2 とするとき、 1/3≦d1 /d2 ≦2/3 (1) を満足するように輪帯光束径を設定することが望まし
い。これにより、投影光学系の焦点深度を向上させて実
用的な解像力の向上が達成となる。
【0024】条件(1)の下限値を越えると、輪帯状光
源の内径が小さくなり過ぎ、本発明による輪帯照明の効
果が薄れ、投影光学系の焦点深度と解像度とを向上させ
ることが困難となる。逆に条件(1)の上限を越える
と、レチクル上では同じ線幅のパターンでも周期性の有
無によりウエハ上に転写される線幅が異なり、レチクル
パターンを忠実にウエハ上に転写することができなくな
る。また、露光量変化に対する線幅の変化量が大きくな
るため、所望の線幅のパターンをウエハ上に形成するこ
とが難しくなる。
【0025】さらに、本発明の輪帯照明による効果を最
大限に得るためには、投影レンズ3のレチクルRの開口
数をNA1 、輪帯状の2次的な光源の外径により決定さ
れる照明光学系の開口数をNA2 とするとき、以下の条
件(2)を満足することが望ましい。 0.45≦NA2 /NA1 ≦0.8 (2) この条件(2)の下限を越えると、輪帯照明によりレチ
クルを傾斜照明する光の入射角度が小さくなり、本発明
による輪帯照明の効果を殆ど得ることができない。この
ため、輪帯照明を行うこと自体無意味となってしまう。
逆に条件(2)の上限を越えると、空間像としての解像
度は向上するものの、焦点深度が低下する。さらには、
ベストフォーカスでのコントラストが大幅に低下するた
め好ましくない。
【0026】以上の如く、図1に示した第1実施例で
は、輪帯状平行光束を形成するために輪帯光束変換部材
として、入射側に凹の円錐状屈折面を有すると共に射出
側に凸の円錐状屈折面を有すると共に軸上厚が異なるプ
リズム部材(20,21)を交換可能に設けたが、図4
に示す如く、入射側及び射出側に凸の円錐状屈折面を有
するプリズム部材20(図4(A)参照)と、これと軸
上厚が異なり入射側及び射出側に凸の円錐状屈折面を有
するプリズム部材21(図4(B)参照)とを互いに交
換可能に設けても良い。さらには、入射側に凹の円錐状
屈折面を有すると共に射出側に凸の円錐状屈折面を有す
るプリズム部材と、入射側及び射出側に凸の円錐状屈折
面を有するプリズム部材とを交換可能に設けても良い。
【0027】また、図1に示す本実施例では、2つのプ
リズム部材が互いに交換可能に設けられているが、2以
上のプリズム部材が交換可能に設けられても良く、さら
には、プリズムが光路内に挿入されないようにして、通
常の照明を行えるようにしても良い。次に、本発明によ
る第2実施例について図2を参照しながら説明する。本
実施例において、第1実施例と異なる所は、輪帯状光束
変換部2を間隔可変な2つのプリズム部材で構成して、
輪帯状平行光束の輪帯比を連続的に変化させるようにし
た点である。なお、図2において図1と同一の機能を持
つ部材には同じ符号を付してある。
【0028】図2に示す如く、輪帯状光束変換部2は、
入射側に凹の円錐状屈折面を持つと共に射出側に平面を
持つ第1プリズム部材22と、入射側に平面を持つと共
に射出側に凸の円錐状屈折面を持つ第2プリズム部材2
3とを有しており、この2つのプリズムは間隔可変手段
15により移動可能に設けられている。なお、この間隔
可変手段15は、駆動系を含んでおり、図1に示した第
1実施例と同様に、制御手段13により制御される。
【0029】ここで、双方のプリズム部材(22,2
3)の間隔が大きくなると、図2(A)に示す如く、こ
れに入射する光源部1からの平行光束は、輪帯光束の外
径が大きくなって輪帯比の小さい輪帯状平行光束に変換
され、逆に双方のプリズム部材(22,23)の間隔が
狭くなると、図2(B)に示す如く、これに入射する光
源部1からの平行光束は、輪帯光束の外径が小さくなっ
て輪帯比の大きい輪帯状平行光束に変換される。
【0030】従って、プリズム部材(22,23)の間
隔を適宜変化させることにより、フライアイレンズ3の
射出側に形成される輪帯状の2次光源における大きさ及
び輪帯比を連続的に変化させて、輪帯照明(あるいは傾
斜照明)状態を変えると、レチクルR上のパターンを最
適な線幅、焦点深度のもとでウエハ上に転写することが
できる。なお、本実施例においても、前述の条件(1)
及び条件(2)を満足するような輪帯状光束とすること
が望ましい。
【0031】なお、図5の(a)に示す如く、本実施例
の輪帯状光束変換部2としての第1プリズム部材22と
第2プリズム部材23との個々の向きを逆に配置し、こ
の2つの部材の間隔を変化させても良い。この場合、図
5の(b)に示す如く、2つのプリズム部材間の間隔が
完全に無くなるまで接近させれば、通常の照明を行うこ
とができる。
【0032】また、第1及び第2プリズム部材の形状は
これに限るものではなく、図6に示す如く、第2プリズ
ム部材は入射側に凸の円錐状屈折面を持つと共に射出側
に平面を持ち、第2プリズム部材は入射側に平面を持つ
と共に射出側に凸の円錐状屈折面を持つように構成して
も良く、さらには、図7に示す如く、この2つのプリズ
ムの個々の向きを逆に配置した構成でも良い。
【0033】次に、本発明による第3実施例について図
3を参照しながら説明する。本実施例において、第2実
施例と異なる所は、輪帯状光束変換部2としての2つの
プリズム部材とフライアイレンズ3との間にアフォーカ
ル変倍光学系30を配置して、輪帯状光束の輪帯比を連
続的に変化させるのみならず輪帯光束の径(外径)を連
続的に可変となるようにした点である。なお、図3にお
いて図1と同一の機能を持つ部材には同じ符号を付して
ある。
【0034】図3に示す如く、アフォーカル変倍光学系
30は、光源側から順に、正屈折力の第1群30aと、
負屈折力の第2群30bと、正屈折力の第3群30bと
から構成され、この第2群30bと第3群30bとは、
双方の間隔が変化するように移動可能に設けられてお
り、第2群30bと第3群30bとは、変倍手段31に
より移動する。なお、この変倍手段31は、駆動系を含
んでおり、図1及び図2に示した第1実施例と同様に、
制御手段13により制御される。
【0035】ここで、第2群30bと第3群30bとの
間隔が大きくなると(最大倍率状態)、図3(A)に示
す如く、これに入射する輪帯状平行光束は、輪帯光束の
外径が大きい光束に変換され、逆に第2群30bと第3
群30bとの間隔が狭くなると(最小倍率状態)、図3
(B)に示す如く、これに入射する輪帯状平行光束は、
輪帯光束の外径が狭い光束に変換される。
【0036】従って、第2群30bと第3群30bとの
間隔、即ちアフォーカル変倍光学系30を適宜変化する
ことによりフライアイレンズ3の射出側に形成される輪
帯状の2次光源の外径を連続的に変化させることができ
ると共に、プリズム部材(22,23)の間隔を適宜変
化することによりフライアイレンズ3の射出側に形成さ
れる輪帯状の2次光源の輪帯比を連続的に変化させるこ
とができる。よって、輪帯状の2次光源の輪帯比及び輪
帯状の2次光源の大きさ(外径)を連続的に独立制御で
きるため、最適な輪帯照明(あるいは傾斜照明)状態の
設定の自由度が向上する。この結果、レチクルR上のパ
ターンをより最適な線幅、焦点深度のもとでウエハ上に
転写することができる。このとき、本実施例において
も、前述の条件(1)及び条件(2)を満足するように
輪帯状光束を変化させることが望ましい。
【0037】なお、本実施例のアフォーカル変倍光学系
30は、図1及び図2に示した実施例においても適用で
きることは言うまでもない。ところで、図1〜図3に示
した各実施例のフライアイレンズ3の射出側に設けられ
た開口絞り手段4の具体的な切り換え機構の一例を図8
を参照しながら説明する。
【0038】図8に示す如く、円形の基板400上に
は、斜線で示す透過域を持つ8種類の絞りが円周方向に
沿って設けられており、基板400は、この基板400
内の1つの絞りが照明光路内に位置するようにOを中心
として回転可能に設けられている。この基板400上に
は3種類の異なる輪帯比を持つ輪帯状の絞りが形成され
ており、絞り401はr11/r21の輪帯比を持つ輪帯状
の透過領域を有し、絞り403はr12/r22の輪帯比を
持つ輪帯状の透過領域を有し、絞り405はr13/r21
の輪帯比を持つ輪帯状の透過領域を有している。
【0039】また、この基板400上には3種類の異な
る輪帯比のもとで効率良く4つの偏心光源を形成するた
めの絞りが形成されており、絞り402はr11/r21
輪帯比の輪帯光束内に4つの開口を有し、絞り404は
12/r22の輪帯比の輪帯光束内に4つの開口を有し、
絞り406はr13/r21の輪帯比の輪帯光束内に4つの
開口を有している。
【0040】さらに、この基板400上には2種類の通
常の照明を行うための円形の口径の絞りが形成されてお
り、絞り407は2r22の円形口径を有しており、絞り
408は2r21の円形口径を有している。従って、絞り
401、403及び405の内の一方を選択して照明光
路内へ位置させれば、3種類の異なる輪帯比を持つ輪帯
光束を正確に規定(制限)でき、絞り402、404及
び406の内の一方を選択して照明光路内へ位置させれ
ば、3種類の異なる輪帯比のもとで効率の良く4つの偏
心光源を形成することができるため、この4つの偏心光
源による効率の良い傾斜照明が行える。また、絞り40
7及び408の内の一方を選択して照明光路内へ位置さ
せれば、σ値の異なる通常照明を行うことができる。
【0041】なお、図8では、円形基板上の円周方向に
沿って複数の絞りを設け、これを任意に選択するターレ
ット式の切り換え機構の一例について説明したが、フラ
イアイレンズ3の射出側に設けられている開口絞り41
を開口絞り42と交換可能とせずに、開口絞り41自体
の口径可変に設けても良い。また、図1乃至図3に示し
た各実施例において2次光源を形成する手段としてフラ
イアイレンズを用いたが、ロッド状の光学部材(ロッド
状オプティカルインテグレータ)を用いても良い。
【0042】
【発明の効果】以上の如く、本発明によれば、輪帯状の
2次的光源を何ら遮光することなく形成し、高い照明効
率のもとで被照射面を均一に照明できる高性能な照明光
学装置を達成できる。しかも、各実施例に示した装置に
よれば、高い照明効率のもとで、輪帯状の2次光源の大
きさ及び輪帯比を可変にできるため、レチクルR上のパ
ターンを最適な線幅、焦点深度のもとでウエハ上に転写
することができる。
【0043】また、第3実施例に示した装置によれば、
輪帯状の2次光源の輪帯比と大きさを独立に可変にでき
るため、最適な輪帯照明(あるいは傾斜照明)状態の設
定の自由度が向上する。この結果、レチクルR上のパタ
ーンをより最適な線幅、焦点深度のもとでウエハ上に転
写することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の第1実施例の構成を示す図であ
る。
【図2】図2は本発明の第2実施例の構成を示す図であ
る。
【図3】図3は本発明の第3実施例の構成を示す図であ
る。
【図4】図4は本発明の第1実施例における第1及び第
2プリズム部材の変形例を示す図である。
【図5】図5は本発明の第2実施例における第1及び第
2プリズム部材の第1変形例を示す図である。
【図6】図5は本発明の第2実施例における第1及び第
2プリズム部材の第2変形例を示す図である。
【図7】図5は本発明の第2実施例における第1及び第
2プリズム部材の第3変形例を示す図である。
【図8】図8はフライアイレンズ3の射出側に設けられ
た開口絞りの切り換え機構の一例を示す図である。
【主要部分の符号の説明】
1・・・ 光源部 2・・・ 輪帯光束変換部 3・・・ フライアイレンズ 4、6a・・・ 開口絞り 5・・・ コンデンサーレンズ 6・・・ 投影レンズ R・・・ レチクル W・・・ ウエハ

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ほぼ平行光束を供給する光源手段と、複数
    の2次的な光源を形成するオプティカルインテグレータ
    と、前記オプティカルインテグレータからの光束を集光
    してレチクルを照明するコンデンサーレンズとを有し、
    前記レチクルのパターンをウエハに転写する露光装置に
    おいて、 前記光源手段と前記オプティカルインテグレータとの光
    路間に、ほぼ平行な光束を輪帯状光束に変換する輪帯状
    光束変換手段を設け、前記輪帯状光束変換手段は、円錐
    状屈折面を持つ第1及び第2屈折部材を有し、前記輪帯
    状光束の輪帯比を変化させるために前記第1及び第2屈
    折部材は相対的な間隔が可変に設けられることを特徴と
    する露光装置。
  2. 【請求項2】前記光源手段は、水銀アーク灯と、前記水
    銀アーク灯からの光を集光する楕円鏡と、前記楕円鏡か
    らの光をほぼ平行な光束に変換するコリメータレンズと
    を有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
  3. 【請求項3】前記光源手段は、エキシマレーザ光源と、
    前記エキシマレーザ光源からの光をビーム整形するビー
    ムエキスバンダとを有することを特徴とする請求項1に
    記載の露光装置。
  4. 【請求項4】 前記オプティカルインテグレータは、ロッ
    ド状光学部材を有することを特徴とする請求項1乃至請
    求項3のいずれか1項に記載の露光装置。
  5. 【請求項5】 前記輪帯状光束変換手段は、前記輪帯状光
    束の輪帯比を連続的に変化させることを特徴とする請求
    項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の露光装置。
  6. 【請求項6】 前記レチクルとウエハとの間の光路中に配
    置された投影光学系を有し、前記投影光学系は可変開口
    絞りを有することを特徴とする請求項1乃至請求項5の
    いずれか1項に記載の露光装置。
  7. 【請求項7】 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の露
    光装置を用いて前記レチクルのパターンを前記ウエハに
    転写することを特徴とする半導体素子の製造方法。
  8. 【請求項8】 レチクルを照明するために露光光を供給す
    る光源手段と、前記レチクルのパターンをウエハに投影
    する投影光学系とを有する露光装置において、 前記光源手段から供給される露光光の光路中に配置され
    たオプティカルインテグレータと、前記オプティカルイ
    ンテグレータからの露光光を前記レチクルへ導く手段
    と、前記光源手段と前記オプティカルインテグレータと
    の間の光路中に配置されて前記露光光を輪帯状光束に変
    換する輪帯状光束変換手段と、を有し、 前記輪帯状光束変換手段は、円錐状屈折面を持つ第1及
    び第2屈折部材を有し、 前記輪帯状光束の輪帯比を変化させるために、前記第1
    及び第2屈折部材は相対的に間隔が可変に設けられるこ
    とを特徴とする露光装置。
  9. 【請求項9】 前記オプティカルインテグレータは、ロッ
    ド状光学部材を有することを特徴とする請求項8に記載
    の露光装置。
  10. 【請求項10】 前記輪帯状光束の輪帯比を連続的に変化
    させるために、前記第1及び第2屈折部材は相対的に間
    隔が連続的に可変に設けられることを特徴とする請求項
    8又は請求項9に記載の露光装置。
  11. 【請求項11】 前記投影光学系は可変開口絞りを有する
    ことを特徴とする請求項8乃至請求項10のいずれか1
    項に記載の露光装置。
  12. 【請求項12】 露光光でレチクルを照明する工程と、前
    記レチクルのパターンをウエハに転写する工程を有する
    半導体素子の製造方法において、 前記露光光でレチクルを照明する工程は、円錐状屈折面
    を持つ第1及び第2屈折部材を用いて前記露光光を輪帯
    状光束に変換する工程と、前記輪帯状光束をオ プティカ
    ルインテグレータを介して前記レチクルへ導く工程とを
    有し、 前記露光光を輪帯状光束に変換する工程は、前記輪帯状
    光束の輪帯比を変化させるために、前記第1及び第2屈
    折部材の相対的に間隔を可変とする工程を有することを
    特徴とする半導体素子の製造方法。
  13. 【請求項13】 前記オプティカルインテグレータは、ロ
    ッド状光学部材を有することを特徴とする請求項12に
    記載の半導体素子の製造方法。
  14. 【請求項14】 前記輪帯状光束の輪帯比を変化させる工
    程は、前記輪帯状光束の輪帯比を連続的に変化させるた
    めに、前記第1及び第2屈折部材は相対的な間隔を連続
    的に可変とする工程であることを特徴とする請求項12
    又は請求項13に記載の半導体素子の製造方法。
  15. 【請求項15】 前記レチクルのパターンを前記ウエハに
    転写する工程は、前記レチクルと前記ウエハとの間の光
    路中に配置されて可変開口絞りを有する投影光学系を用
    いて前記レチクルのパターンを前記ウエハに投影する工
    程を有することを特徴とする請求項12乃至請求項14
    のいずれか1項に記載の半導体素子の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3278896B2 (ja) * 1992-03-31 2002-04-30 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
NL194929C (nl) * 1992-10-20 2003-07-04 Samsung Electronics Co Ltd Projectiebelichtingssysteem.
EP0687956B2 (de) * 1994-06-17 2005-11-23 Carl Zeiss SMT AG Beleuchtungseinrichtung
JP3264224B2 (ja) 1997-08-04 2002-03-11 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
EP1041606A4 (en) 1997-11-10 2005-02-09 Nikon Corp EXPOSURE APPARATUS
US6563567B1 (en) 1998-12-17 2003-05-13 Nikon Corporation Method and apparatus for illuminating a surface using a projection imaging apparatus
US6392742B1 (en) 1999-06-01 2002-05-21 Canon Kabushiki Kaisha Illumination system and projection exposure apparatus
TW498408B (en) * 2000-07-05 2002-08-11 Asm Lithography Bv Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
JP2002132986A (ja) * 2000-10-18 2002-05-10 Canon Inc 情報提供方法及び情報提供システム
JP4659223B2 (ja) * 2001-01-15 2011-03-30 キヤノン株式会社 照明装置及びこれに用いる投影露光装置並びにデバイスの製造方法
KR100431883B1 (ko) * 2001-11-05 2004-05-17 삼성전자주식회사 노광방법 및 투영 노광 장치
JP2004063988A (ja) 2002-07-31 2004-02-26 Canon Inc 照明光学系、当該照明光学系を有する露光装置及びデバイス製造方法
KR100487921B1 (ko) * 2002-10-08 2005-05-06 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 노광 장치
TW200508812A (en) * 2003-06-16 2005-03-01 Nikon Corp Optical illumination device, exposure device and exposure method
JP5139077B2 (ja) * 2005-01-16 2013-02-06 ベア,ステフェン,シー 単一波長誘導放出制御顕微鏡法
JP2009130091A (ja) 2007-11-22 2009-06-11 Canon Inc 照明光学装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP4991588B2 (ja) * 2008-02-08 2012-08-01 リコー光学株式会社 集光光学系および光加工装置
KR101782672B1 (ko) * 2013-04-23 2017-09-27 캐논 가부시끼가이샤 프리즘 광학계, 조명 광학계, 노광 장치 및 소자 제조 방법
CN114706211B (zh) * 2022-04-19 2023-07-07 江苏亮点光电科技有限公司 一种基于楔形镜对的光束传输方向调节装置

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