JPH10115779A - 投影光学系 - Google Patents

投影光学系

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JPH10115779A
JPH10115779A JP9193996A JP19399697A JPH10115779A JP H10115779 A JPH10115779 A JP H10115779A JP 9193996 A JP9193996 A JP 9193996A JP 19399697 A JP19399697 A JP 19399697A JP H10115779 A JPH10115779 A JP H10115779A
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lens group
lens
optical system
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negative refractive
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JP9193996A
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Shintaro Kudo
慎太郎 工藤
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Nikon Corp
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70241Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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    • GPHYSICS
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】光学系で使用できる光学材料が限られた場合
で、しかも限られた全長の中で、両側テレセントリック
な光学系としながら、諸収差を良好に補正して所望の高
解像力と広い露光領域の確保とを両立させることのでき
る投影光学系を提供する。 【解決手段】物体側から像側へ順に、第1のレンズ群
と、正の屈折力を有する第2のレンズ群と、負の屈折力
を有する第3のレンズ群と、正の屈折力を有する第4の
レンズ群と、前記第3のレンズ群と前記第4のレンズ群
との間に配置された開口絞りとを備える投影光学系にお
いて、入射瞳の位置及び射出瞳の位置を特定の場所に設
定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般に光学系に関
し、より詳しくは半導体製造に用いる投影光学系に関
し、さらにより詳しくは集積回路の図形をレチクルから
ウェハに転写するために用いる短波長用縮小投影光学系
に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイス製造の際、投影光学系
は、大規模集積回路(LSI)のような集積回路(I
C)の図形を、マスクとして知られているレチクルから
ウェハすなわち半導体基板上に転写するのに用いられ、
この半導体基板上に半導体デバイスが形成されてゆく。
このレチクルとダイすなわち半導体チップとしても知ら
れている最終半導体デバイスとの相対的寸法には差があ
るため、この投影光学系は縮小投影光学系でなければな
らない。最新の集積回路は、一層集積化が進んでおり、
一層多くの機能を回路に集積化して単一のチップ上に設
けてある。ところが、他方ではチップの寸法がこれ以上
拡大しないよう最大限の努力が払われており、これは製
造中の半導体デバイスの性能と速度とを維持ないし改善
するためである。したがって、同一ないしさらに縮小し
たチップ寸法にするために、縮小投影光学系は一層広い
露光面積と一層高い分解能とを保有することが好まし
い。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】光学系の分解能を向上
させる一つの方法は、レチクルを短波長照明で照射する
ことである。実際に、波長を短くすれば、分解能は向上
する。より短い波長の照明光源を求めたところ、使用可
能な2種類のエキシマレ−ザが見いだされている。それ
は、波長248nmを有するフッ化クリプトンエキシマ
レ−ザと、波長193nmを有するフッ化アルゴンエキ
シマレ−ザである。これらエキシマレ−ザで、半導体製
造用照明光源としての水銀ア−クランプを置換すること
ができる。水銀ア−クランプは、波長436nmを有す
るg線と、波長365nmを有するi線とを水銀ア−ク
ランプの紫外線スペクトルから供給する。これら2本の
紫外線の線スペクトルは、現在、半導体ウェ−ハ製造の
主要照明光源である。
【0004】エキシマレ−ザによって供給される短波長
を用いる場合の最大の難点は、エキシマレ−ザの波長範
囲での使用に適した光学材料の入手が限られていること
である。大部分の光学材料が適しない主要な理由は、透
過率が短波長側で制限されてしまうからであり、これに
よって短波長での使用が不可能になる。通常、つぎの2
種類の光学材料が短波長で使えるとみなされている。そ
れは溶融石英(SiO 2 )及び蛍石(CaF2 )であ
る。けれども、これらの光学材料は、他の光学材料と較
べて屈折率が低い。屈折率が低い光学材料を用いると必
要な高い分解能を有する光学系を設計する場合、収差の
補正が一層難しくなる。
【0005】また、これら投影光学系の多くは、像側で
ほぼテレセントリックであり、これは射出瞳がほぼ無限
遠にあることを意味する。像側でテレセントリックない
し準テレセントリックな光学系を使用する利点は、投影
倍率の変動が無視できるか容易に補正できるかの点にあ
る。これらの変動は、露光中の合焦誤差や、ウェハであ
る像面の平坦性の変動によって引き起こされる。これま
では、マスクの平坦性の変動は無視できていたけれど
も、回路図形が一層細かくなればマスク内の変動も今ま
でのように無視し得なくなる。
【0006】要求されているのは、物体側でも像側でも
テレセントリックであって広い露光面積に亘って高い分
解能を有し、かつ収差を良好に補正してあって、他方現
行の全長は維持する縮小投影光学系である。縮小光学系
の全長が延長できないのは、設備と全システムの寸法と
で限定されているからである。本発明は、上記問題点に
鑑みてなされたものであり、光学系で使用できる光学材
料が限られた場合で、しかも限られた全長の中で、両側
テレセントリックな光学系としながら、諸収差を良好に
補正して所望の高解像力と広い露光領域の確保とを両立
させることのできる投影光学系を提供することを目的と
する。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、物体側から像側に順次、第1のレンズ群
と、正の屈折力を有する第2のレンズ群と、負の屈折力
を有する第3のレンズ群と、正の屈折力を有する第4の
レンズ群とを有する投影光学系を構成する。開口絞り
は、第3のレンズ群と第4のレンズ群との間に配置され
る。全光学系は以下の条件; |En|>Lおよび|Ex|>|L/β| を満足し、ここに、Enは光学系の物体側の最初のレン
ズ面から測った光学系の入射瞳までの距離であり、Lは
光学系の物体と像との距離であり、Exは光学系の像側
の最終レンズ面から測った光学系の射出瞳までの距離で
あり、βは光学系全系の倍率である。
【0008】前記光学系はまた、以下の条件: −2.3<β1/β<−1.6および|f1|>L を満足することが好ましい。ここで、β1とf1とはそ
れぞれ第1のレンズ群の倍率と焦点距離とである。前記
光学系はまた、以下の条件: 2<β4/β<3およびδ34/L>0.05 を満足することが好ましい。ここで、β4は第4のレン
ズ群の倍率であり、δ34は第3のレンズ群の最終レン
ズ面から前記第4のレンズ群の最初のレンズ面までの軸
方向距離である。
【0009】光学系中の第4のレンズ群は、以下の条
件: 0.09<f4/L<0.16 を満足することが好ましい。ここで、f4は前記第4の
レンズ群の焦点距離である。光学系中の第2のレンズ群
は、以下の条件: 0.1<f2/L<0.2 を満足することが好ましい。ここで、f2は前記第2の
レンズ群の焦点距離である。
【0010】光学系中の第3のレンズ群は、以下の条
件: −0.12<f3/L<−0.06 を満足することが好ましい。ここで、f3は前記第3の
レンズ群の焦点距離である。光学系中の第3のレンズ群
は、互いに向合う一対の凹レンズ面を含み、かつ本発明
の1実施例では、該一対の凹レンズ面間に配置した負の
屈折力レンズを有することが好ましい。この負の屈折力
レンズは以下の条件: q32<−0.2 を満足することが望ましい。ここで、q32は形状係数
であって、以下の方程式: q32=(C1+C2)/(C1−C2) によって決定される。ここで、C1は該負の屈折力レン
ズの物体側の面の曲率であり、C2は該負の屈折力レン
ズの像側の面の曲率である。
【0011】光学系中の第1のレンズ群は、正の屈折力
を有する前側レンズ群と、負の屈折力を有する後側レン
ズ群とを有することが好ましい。本発明の第1の実施例
では、前側レンズ群が正の屈折力レンズを2個、後側レ
ンズ群が負の屈折力レンズを2個有する。本発明の第2
の実施例では、該後側レンズ群が負の屈折力レンズを3
個、該前側レンズ群が正の屈折力レンズを2個有する。
本発明の第3の実施例では、第4のレンズ群が付随的な
負の屈折力レンズを有する。本発明の第4の実施例で
は、該前側レンズ群が正の屈折力レンズを3個、該後側
レンズ群が負の屈折力レンズを3個有する。本発明の第
5の実施例では、該第1のレンズ群の該前側レンズ群が
正の屈折力レンズを3個、該第1のレンズ群の該後側レ
ンズ群が負の屈折力レンズを4個有する。本発明の第6
の実施例では、該第2のレンズ群が正の屈折力レンズを
5個有する。本発明の第7の実施例では、該第1のレン
ズ群の該前側レンズ群が正の屈折力レンズを4個、該第
1のレンズ群の該後側レンズ群が負の屈折力レンズを4
個有し、かつ第4のレンズ群が付随的な負の屈折力レン
ズを有する。
【0012】
【発明の実施の形態】ここで、図面を参照しながら本発
明の実施例をこれから説明することとする。図1は、本
発明の第1の実施例による光学系のレンズ配置を示す。
図1で例示されているのは、物空間内の物体12と像空
間内の像14である。図1のレンズ配置10は、物体側
から眺めて順次、第1のレンズ群G1と、正の屈折力か
らなる第2のレンズ群G2と、負の屈折力からなる第3
のレンズ群G3と、正の屈折力からなる第4のレンズ群
G4と、レンズ群G3とレンズ群G4との間に配置され
た開口絞りASとを含んでいる。
【0013】図1のレンズ系10を像空間でも物空間で
もテレセントリックにするためには、以下の条件: |En|>L |Ex|>|L/β| を満足し、ここに、Lは光学系10の物体12と像14
との距離であり、Enは光学系10の物体側の第1レン
ズ面から測った入射瞳までの距離であり、Exは光学系
10の像側の最終レンズ面から測った(図示していな
い)射出瞳までの距離であり、βは光学系10全系の倍
率である。
【0014】前記条件|En|>Lで、入射瞳を物空間
から眺めた開口絞りAS16の像として定義する入射瞳
の位置が確定される。該条件|En|>Lが満足されな
ければ、物空間から投射される主光線の角度が小さくな
らず、したがって、物体面での平坦性の乱れによって引
き起こされる像面上のディスト−ションが無視できず、
補正が難しい。主光線とは、入射瞳の中心を通過する任
意の光線である。
【0015】条件|Ex|>|L/β|で、光学系の射
出瞳として知られる、像空間から眺めた開口絞りAS1
6の像である射出瞳の位置が確定される。条件|Ex|
>|L/β|が満足されなければ、ウェ−ハでの平坦性
の乱れによって引き起こされる像のディスト−ションを
無視することができなくなり、補正が難しい。像空間で
も物空間でもテレセントリックにするためには、間に開
口絞りを有し、光学系の物体側に配置された正の屈折力
を有するレンズ群と、像側に配置された正の屈折力を有
するレンズ群とが必要である。開口絞りの物体側と像側
のレンズ群の位置決めで入射瞳と射出瞳とを、正の屈折
力レンズ群双方と光学系内の残りレンズとの適当なレン
ズ選択によってほぼ無限遠に配置することができる。
【0016】高い分解能と広い露光面積とを同時に得る
ため、像面湾曲は実質的に除去されなければならない。
レンズを球面収差とコマとに対して補正するとアプラナ
−トと呼ばれる。非点収差に関しても補正するとアナス
チグマ−トと呼ばれる。これら3個の主要収差が補正さ
れても、光学系は未だ像面湾曲と呼ばれる収差を有す
る。アナスチグマ−トでは、メリジオナル面とサジタル
面とが、ペツバル面と呼ばれる単一像面に折り畳まれる
が、通常平坦でとりわけ半導体工業では物体視野がレチ
クルである物体面の形状には似ていない。像面湾曲を有
する正の屈折力レンズ系では、実像は物体に向って湾曲
した表面上に見いだされる。
【0017】像面の曲率はペツバル半径と呼ばれ、この
収差はペツバル湾曲ないし像面湾曲と呼ばれる。ペツバ
ルの定理の式は、光学技術の当業者にはよく知られれて
おり、さまざまな光学の教科書に見いだすことができる
が、たとえば、ドナルド C.オ−シャ著エレメンツ
オブ モダン オプチカル デザイン(ウイリ− イン
タ−サイエンスシリ−ズ、ジョン ウイリ− アンド
サン社、ニュ−ヨ−ク、1985年)の198ペ−ジか
ら202ペ−ジまでにはペツバル和として知られる総和
の項が含まれている。像面湾曲とペツバル和とは密接に
関係していて、像面湾曲収差はペツバル和の減少によっ
て低減させることができる。
【0018】ペツバル和は、軸上物点からの周辺光線の
高さが低くなる辺りで負の屈折力を強めることによって
低減することができる。周辺光線はレンズ系の外縁近傍
を通過する軸上物点からの光線として定義される。軸上
物点からの光線は、物空間内の光軸から或る角度で出発
する光線として定義される。従って、周辺光線は、物体
面内の光軸上で光学系をまさに貫通し得る角度で出発す
る光線である。もっと大きな角度で出発する光線は、開
口絞りのような光学系内のなんらかの要素によって遮断
される。図1に示したレンズ配置は、負の屈折力を有す
るレンズ群G3が開口絞りAS16の近傍に所在するよ
うに構築してある。レンズ群G3は正の屈折力レンズ群
G2と正の屈折力レンズ群G4との間に配置してある。
【0019】けれども、単純に負の屈折力を有するレン
ズ群を、該負の屈折力レンズ群の両方に正の屈折力レン
ズ群を有する高い投影倍率比を有する光学系にすると、
物体と像との距離は益々長くなってしまい、このような
縮小投影レンズ系を半導体製造工業に使うのは無理にな
ろう。したがって、半導体製造システム内で使えるよう
投影光学系に要求される実際的な物像間距離を維持する
には別のレンズ群が必要である。
【0020】このような付加レンズ群は、光学系のもっ
とも物体側に所在しており、図1Aではこの付加レンズ
群はG1である。レンズ群G1は、光軸にほとんど平行
な物体から出発する主光線に対して縮小無限焦点リレ−
系として作用する。無限焦点系は、物体と像との双方が
無限遠に在る光学系である。準無限焦点レンズ群G1
は、光軸との準平行条件は維持しながら、入射光線高と
射出光線高とでは大いに縮小し易くしている。これこ
そ、付加レンズ群G1が実質的に屈折力を持たずに設計
され、したがって全体として光学系の屈折力にほとんど
寄与しない理由である。レンズ群G1は、主光線の高さ
を著しく変更することができ、所望の物像距離すなわち
レチクル・ウェ−ハ距離を維持しつつ光学系に大なる投
影倍率比を与えることができる。
【0021】第1のレンズ群G1で必要な低い屈折力を
得るため、以下の条件: −2.3<β1/β<−1.6 |f1|>L を満足することが望ましく、ここで、β1は前記第1の
レンズ群の倍率であり、f1は前記第1のレンズ群の焦
点距離である。
【0022】後述の都合上、第1のレンズ群G1を二つ
のレンズ群に分割する。物体側から順次、正の屈折力を
有する前側レンズ群G1fと、負の屈折力を有する後側
レンズ群G1rとが置かれる。条件−2.3<β1/β
<−1.6は、第1のレンズ群G1の全光学系の倍率β
に対する倍率β1の比を提供する。条件−2.3<β1
/β<−1.6の上限の上では、第1のレンズ群G1の
倍率比は小さくなり、主光線の高さの大きな差を得るこ
とができず、物像距離Lが過大になることになる。他
方、条件−2.3<β1/β<−1.6の下限以下で
は、主光線の高さの差別化はできるが、前側レンズ群G
1fと後側レンズ群G1rとの屈折力が強くなりすぎ
て、ディスト−ションとコマ収差とを充分補正すること
ができない。そのため、第1のレンズ群G1の倍率は、
条件−2.3<β1/β<−1.6を満足するように設
定されている。
【0023】加うるに、本発明の光学系は像側と物体側
との双方でほぼテレセントリックであるから、条件|f
1|>Lは、直接的焦点距離f1を提供するものである
けれども、間接的には第1のレンズ群G1から出発する
主光線の角度を提供する。条件|f1|>Lの範囲を超
えて、第1のレンズ群G1の屈折力が負側で強くなりす
ぎると、主光線の角度の第1のレンズ群G1内での変動
が大きくなりすぎる。そのことでディスト−ションを適
切に補正することが難しくなる。他方、条件|f1|>
Lの範囲を超えると、焦点距離では、第1のレンズ群G
1の屈折力が正の側で強くなりすぎてしまい、前とは逆
にディスト−ションの補正は容易になるけれども、第1
のレンズ群G1から出発する主光線の屈折角と周辺光線
の屈折角との差が大きくなりすぎてコマを補正すること
が難しくなる。
【0024】図1で示した第1の実施例では、G1fは
正の屈折力を有する2個のレンズを含み、G1rは負の
屈折力を有する2個のレンズを含んでいる。各レンズ群
を1個のレンズで構成することを考えた場合、G1fに
ただ1個の正の屈折力レンズを用いたとき、単一レンズ
の各レンズ面の曲率が強くなりすぎて、物体側ができる
だけテレセントリックに近い光学系を得るため主光線の
角度を制御しながら、ディスト−ションを適度に補正す
ることはできない。1個のレンズだけが第1のレンズ群
G1の後側レンズ群G1rに用いられるた場合、各レン
ズ面の曲率は強くなりすぎて、コマを適切に補正するこ
とができない。これは軸外物体からの周辺光線の入射角
が大きくなりすぎることに起因する。
【0025】ここで、第2のレンズ群G2が、正の屈折
力を有し、以下の条件: 0.1<f2/L<0.2 を満足することが望ましく、ここで、f2は前記第2の
レンズ群の焦点距離である。0.1<f2/L<0.2
の下限以下では、第2のレンズ群G2の正の屈折力が強
くなりすぎて、それと平衡させるのに充分な、第1のレ
ンズ群G1の後側レンズ群G1rの負の屈折力と第3の
レンズ群G3の負の屈折力とを増加させる必要ができよ
う。正の屈折力と負の屈折力とを平衡させる必要性は前
述のとおりペツバル和を相殺することである。このと
き、強くした曲面で発生するディストーションやコマ収
差の補正が難しくなる。条件0.1<f2/L<0.2
の上限より上では、第2のレンズ群G2の正の屈折力が
弱くなりすぎ、しかも第1のレンズ群G1の後側レンズ
群G1rとG3との負の屈折力とが、G2の正の屈折力
の減少を補償するほど充分強くできないため、ペツバル
和は大きくなる。この点が像面湾曲を適切に補正するの
を難しくしている。
【0026】図1で示したレンズ系の第1の実施例で、
第2のレンズ群G2は正の屈折力レンズ3個を含み第2
のレンズ群G2の第1のレンズに物体側に面して凹面に
なっている第1のレンズ面S21を有する。第2のレン
ズ群G2中の正の屈折力レンズ3個を減らすことは可能
かもしれないけれども、もし正の屈折力レンズが3個以
下になれば、各レンズ面の曲率は強くなりすぎて第2の
レンズ群G2の正の屈折力を条件0.1<f2/L<
0.2を満足するように維持することができない。加う
るに、これらレンズ面の強い曲率から惹起されるであろ
うコマと球面収差とを補正するのが難しくなる。そのた
め、第2のレンズ群G2に必要な正の屈折力は、正の屈
折力レンズ少なくとも3個に分割するのが望ましい。第
2のレンズ群G2の第1のレンズ面が凹面で物体側に面
している理由は、第1のレンズ群G1から第2のレンズ
群G2への光束の入射角を低減させるためである。入射
角が小さければ、コマと球面収差とを小さく維持するの
に役立つ。
【0027】図1で示した第1の実施例で、第3のレン
ズ群G3は開口絞りAS16の物体側に配置された負の
屈折力を有するレンズ群である。レンズ群G3は条件: −0.12<f3/L<−0.06 を満足するように配置されているのが望ましく、ここ
で、f3は第3のレンズ群の焦点距離である。条件−
0.12<f3/L<−0.06の上限より上では、第
3のレンズ群G3の負の屈折力が強くなりすぎ、ペツバ
ル和を相殺するには都合が良いけれども、コマと球面収
差との補正を一層難しくする。他方、条件−0.12<
f3/L<−0.06の下限以下では、第3のレンズ群
G3の負の屈折力が弱くなりすぎ、ペツバル和の相殺は
不十分になる。このことは像面湾曲の補正が一層難しく
なることを意味する。図1Aに示した実施例は、2個の
凹レンズ面S32とS35との間に負の屈折力レンズ2
2を伴う一対の凹レンズ面S32とS35とを示してい
る。
【0028】負の屈折力を有する第3のレンズ群G3
を、それぞれが正の屈折力を有する第2のレンズ群G2
と第4のレンズ群G4との間に配置することは、軸上物
点からの周辺光線が低い高さを取ることになる。かつ、
この低い高さを維持するように互いに向い合わせて凹レ
ンズ面を配置することは、負の屈折力を有する面の曲率
を強めながら、入射角を光束に関して小さくすることを
可能にする。この面を強くすることによって、ペツバル
和は小さくなり、そのためこれらのレンズによって引き
起こされたコマを、できるだけ小さくすることができ
る。一対の凹レンズ面S32とS35との間に所在する
少なくとも1個の負の屈折力レンズ22を有することに
よって、ペツバル和を相殺するのに必要な個々のレンズ
面によって生じた負の屈折力は低減される。このことは
さらに、コマ収差に対する個々のレンズ面の寄与を低減
する。
【0029】前述の収差の低減化に加えて、負の屈折力
レンズ22の形状係数qが、条件: q<−0.2 但し、 q=(C1+C2)/(C1−C2) を満足すれば、非点収差を低減化することが可能であ
る。ここで、各レンズの物体側の第1のレンズ面の曲率
がC1であり、第2のレンズ面の曲率がC2である。
【0030】開口絞りAS16の物体側のレンズ群の合
成焦点距離と、開口絞りAS16の像側のレンズ群の合
成焦点距離との比率は、できるだけ所望の投影倍率に近
くして光学系の構造によって引き起こされる収差を低減
させる。したがって、第3のレンズ群G3は、開口絞り
AS16の物体側に設置して高い倍率にも適応させる。
一対の凹レンズ面S32とS35との間に配置された負
の屈折力レンズは、開口絞りAS16を中心とする対称
的な配置により、それら構成要素の屈折力を弱めること
ができ、その結果、第4のレンズ群G4の物体側に在る
凹レンズ面S41の曲率をある程度弱くすることができ
る。これによって、メリジオナル像点とサジタル像点と
の差を低減するのに寄与して非点収差の補正に役立つ。
【0031】できれば、負の屈折力レンズ22の形状係
数qが、条件q>−1を満足させるのが望ましい。この
下限以下では、レンズの対称性は開口絞りAS16の物
体側又は像側のどちらの側でも改善されるが、ペツバル
和とコマ収差との補正は一層難しくなる。図1に示した
第1の実施例で、レンズ群G4は、開口絞りAS16の
像側に配置された正の屈折力を有するレンズ群である。
ペツバル和を適切に相殺するため、投影光学系は以下の
条件: 2<β4/β<3 δ34/L>0.05 を満足することが一層望ましく、ここで、β4は第4の
レンズ群G4の倍率であり、δ34は第3のレンズ群G
3の最終レンズ面S36と第4のレンズ群G4の最初の
レンズ面S41との間の軸上空隙である。第3のレンズ
群G3の負の屈折力は増加させることができ、ペツバル
和は、負の屈折力を有する第3のレンズ群G3と、正の
屈折力を有するレンズ群G4との周辺光線の高さに大い
に差を付けることによって相殺することができる。条件
δ34/L>0.05は、近軸周辺光線のこう配の入射
角が適当な範囲に入っていて近軸周辺光線の高さに充分
差を付けられれば、条件2<β4/β<3とともに、軸
上距離δ34を設定する。
【0032】条件2<β4/β<3は、第4のレンズ群
G4の倍率β4と光学系10の倍率βとの比率を直接的
には提供する。けれども、倍率βと像側の開口数とは既
に確定されており、条件2<β4/β<3は、第4のレ
ンズ群G4への入射光束の近軸周辺光線の角度を提供す
る。条件2<β4/β<3の下限以下では、第4のレン
ズ群G4への入射光束の近軸周辺光線の角度が小さすぎ
て近軸周辺光線の高さに充分な差が得られない。したが
って、第3のレンズ群G3の周辺光線の高さは負の屈折
力を強めるのに充分なほど小さくなく、ペツバル和は充
分に相殺できないため像面湾曲も適切に補正できない。
【0033】条件2<β4/β<3の上限より上では、
第4のレンズ群G4への入射光束の近軸周辺光線の角度
が大きすぎて、ペツバル和の相殺には有利であるけれど
も、そこで引き起こされたコマ収差は、第3のレンズ群
G3の負の屈折力が強すぎるため、適切に補正すること
ができない。条件δ34/L>0.05の下限より下で
は、ペツバル和が近軸周辺光線の高さに差がないため適
切に相殺されない。さらに、物像距離Lの限定と収差群
の補正とのバランスを一層適性化するためには、条件δ
34/L>0.05の上限を0.1に設定するのが望ま
しい。
【0034】第4のレンズ群G4が、第3のレンズ群G
3が発散させる光束を受容するためには、第4のレンズ
群G4内の光束の角度を漸次変化させて、第4のレンズ
群G4の各レンズ面の入射角を極力小さくする。したが
って、第4のレンズ群G4は、条件: 0.09<f4/L<0.16 を満足するように配置することが望ましく、ここで、f
4は第4のレンズ群の焦点距離である。
【0035】条件0.09<f4/L<0.16の下限
以下の比率では、第4のレンズ群G4の焦点距離f4は
短すぎ、第4のレンズ群G4は短くて光学系10の全体
の寸法を縮小するには有利であるけれども、第4のレン
ズ群の正の屈折力が強くなりすぎるため、各種収差、と
りわけコマと球面収差とを補正するのが困難であろう。
【0036】条件0.09<f4/L<0.16の上限
より上の比率では、第4のレンズ群G4の焦点距離f4
が長すぎ、開口絞りAS16から像面までの距離が一層
長くなり、光学系の寸法が一層大きくなることとなって
望ましくない。図1に示した第1の実施例は、第4のレ
ンズ群G4中に6個の正の屈折力レンズと像側に向いた
凹レンズ面24を有する負の屈折力レンズL4bとを含
んでいる。この6個の正の屈折力レンズで、必要な強い
正の屈折力を分担させ、第4のレンズ群G4内部の光束
の角度を漸次変化させ、第4のレンズ群G4内の各レン
ズ面での入射角を極力小さくさせる。即ち、少なくとも
6個の正の屈折力レンズを第4のレンズ群中に有する理
由は、第4のレンズ群G4が、第3のレンズ群G3から
発散した光束を受容するため、第4のレンズ群G4の球
面収差に対する影響が著しくなり、第4のレンズ群G4
中に正の屈折力レンズが相当数なければ適切に補正する
ことができないからである。像側に向け負の屈折力レン
ズL4bの凹レンズ面を設けることによって、像点で収
束する大開口数を有する光束に関係する入射角は、小さ
くすることができて各種収差も小さくなる。
【0037】これを達成するため、レンズL4bは以下
の条件: |f4b/L|<0.13 を満足するように配置することが一層望ましく、ここ
に、f4bは負の屈折力レンズL4bの焦点距離であ
る。条件|f4b/L|<0.13の範囲を超えた場
合、負の屈折力は弱くなりすぎ、コマと球面収差とを適
切に補正するのは難しい。
【0038】
【実施例】
〔第1実施例〕表1は図1に示した実施例1の数値表で
ある。レンズ面は、各レンズが2面を有することを考慮
して、物体側から像側へ番号を付してある。全ての実施
例では、単一の硝子材料たる波長λが248nmで屈折
率1.5084を有する溶融シリカ(各表中'SiO2'と記
載してある。)を、投影光学系の全レンズに光学材料と
して用いていることに留意されたい。尚、図8として、
本実施例の投影光学系の収差図を示す。
【0039】
【表1】 曲率半径 面間隔 硝材 OBJ: INFINITY 100.000038 1: INFINITY 21.972000 'SiO2' 2: -219.53430 0.500000 3: 418.14390 22.903000 'SiO2' 4: -372.14870 55.092000 5: 228.26890 13.200000 'SiO2' 6: 92.95740 20.901000 7: -242.86830 13.200000 'SiO2' 8: 152.73880 35.238000 9: -83.65960 54.246000 'SiO2' 10: -137.09180 0.500000 11: -527.70390 22.786000 'SiO2' 12: -211.50840 0.500000 13: 305.19960 39.999000 'SiO2' 14: -309.05860 0.500000 15: 326.38510 27.483000 'SiO2' 16: -1029.31430 0.500000 17: 101.22180 20.693000 'SiO2' 18: 90.63540 39.144000 19: -267.53630 13.200000 'SiO2' 20: 131.31860 35.422000 21: -113.10860 22.457000 'SiO2' 22: -743.88030 65.268000 STO: INFINITY 18.503000 24: -377.60710 23.981000 'SiO2' 25: -215.14200 0.500000 26: -2352.64250 27.858000 'SiO2' 27: -316.80950 0.500000 28: 500.02540 36.719000 'SiO2' 29: -566.93460 0.500000 30: 201.84720 42.566000 'SiO2' 31: 1337.83020 0.500000 32: 196.16270 32.164000 'SiO2' 33: 598.11940 0.500000 34: 139.36710 50.074000 'SiO2' 35: 213.19260 11.440000 36: 9000.00000 54.040000 'SiO2' 37: 49.55170 18.833000 38: 48.07030 20.415000 'SiO2' 39: 1571.05010 15.203000 IMG: INFINITY
【0040】
【表2】
【0041】表2中、Enは光学系の物体側の第1レン
ズ面から測った光学系の入射瞳までの距離であり、Ex
は光学系の像側の最終レンズ面から測った光学系の射出
瞳までの距離であり、f1は第1のレンズ群G1の焦点
距離であり、f2は第2のレンズ群G2の焦点距離であ
り、f3は第3のレンズ群G3の焦点距離であり、f4
は第4のレンズ群G4の焦点距離であり、β1は第1の
レンズ群G1の倍率であり、β4は第4のレンズ群G4
の倍率であり、q32は第3のレンズ群中の負の屈折力
レンズの形状係数であり、f4bは第4のレンズ群中の
負の屈折力レンズの焦点距離であり、δ34は第3のレ
ンズ群の最終レンズ面から第4のレンズ群の最初のレン
ズ面までの軸上間隙であり、βは光学系全系の倍率であ
り、Lは光学系の物像距離である。
【0042】また、以下に、表2中で示すことのできな
かった本実施例の条件対応値を示す。 |L/β|=3290 β1/β=−2.16 β4/β=2.51 δ34/L=0.0855 f4/L=0.145 f2/L=0.151 f3/L=−0.102 |f4b/L|=0.100 図1〜7までに示した本発明の実施例が、7種類の実施
例それぞれの収差値とともに示してある。本発明の実施
例では、波長248nmのフッ化クリプトンエキシマレ
−ザを用いる投影光学系として、投影倍率0.25、像
側開口数0.6、像側露光範囲直径26.4mmであ
る。
【0043】以下では、図2から図7までを参照しなが
ら、ここでは第2から第7にいたる実施例を説明するこ
ととする。図それぞれで類似な数字指名は、図1に示し
たのと類似な構成要素では同じ数字にしてある。また、
第2から第7にいたる実施例の収差図を図9から14ま
でに示す。 〔第2実施例〕図2には、本発明の第2の実施例を示し
てある。実施例2が実施例1と異なるのは、実施例2が
第1のレンズ群G1の後側レンズ群G1rに負の屈折力
レンズを3個有し、実施例1の方は、負の屈折力レンズ
を2個有する点である。負の屈折力レンズを付加したこ
とで、改善された収差補正を提供する。図9は図2で図
示したレンズ配置の収差値を示す。表3は、図2で図示
した実施例2の数値表である。
【0044】
【表3】 曲率半径 面間隔 硝材 OBJ: INFINITY 100.004608 1: 2885.75780 22.338000 'SiO2' 2: -225.86250 0.500000 3: 292.32140 23.235000 'SiO2' 4: -570.99090 32.507000 5: 171.99830 13.200000 'SiO2' 6: 102.73550 15.520000 7: 247.79470 13.200000 'SiO2' 8: 112.85540 17.339000 9: -285.11550 19.524000 'SiO2' 10: 184.72780 30.188000 11: -82.86260 55.022000 'SiO2' 12: -133.28160 0.500000 13: -558.75880 23.285000 'SiO2' 14: -211.86460 0.500000 15: 287.99330 38.933000 'SiO2' 16: -360.61540 0.500000 17: 291.91080 29.232000 'SiO2' 18: -1047.25630 0.500000 19: 101.29610 20.417000 'SiO2' 20: 90.45080 38.782000 21: -272.88780 13.200000 'SiO2' 22: 129.00100 34.605000 23: -115.40780 22.894000 'SiO2' 24: -1276.19600 65.482000 STO: INFINITY 17.768000 26: -390.05790 23.653000 'SiO2' 27: -217.67740 0.500000 28: 5786.72680 30.606000 'SiO2' 29: -324.33660 0.500000 30: 528.21300 34.304000 'SiO2' 31: -596.42220 0.500000 32: 195.35670 42.014000 'SiO2' 33: 1173.48080 0.500000 34: 195.05000 30.775000 'SiO2' 35: 544.85550 0.500000 36: 136.84210 47.721000 'SiO2' 37: 209.94880 11.371000 38: 4581.92710 51.322000 'SiO2' 39: 50.27850 19.402000 40: 48.98320 22.014000 'SiO2' 41: 2090.61820 15.146000 IMG: INFINITY
【0045】
【表4】
【0046】表4中、Enは光学系の物体側の第1レン
ズ面から測った光学系の入射瞳までの距離であり、Ex
は光学系の像側の最終レンズ面から測った光学系の射出
瞳までの距離であり、f1は第1のレンズ群G1の焦点
距離であり、f2は第2のレンズ群G2の焦点距離であ
り、f3は第3のレンズ群G3の焦点距離であり、f4
は第4のレンズ群G4の焦点距離であり、β1は第1の
レンズ群G1の倍率であり、β4は第4のレンズ群G4
の倍率であり、q32は第3のレンズ群中の負の屈折力
レンズの形状係数であり、f4bは第4のレンズ群中の
負の屈折力レンズの焦点距離であり、δ34は第3のレ
ンズ群の最終レンズ面から第4のレンズ群の最初のレン
ズ面までの軸方向距離であり、βは光学系全系の倍率で
あり、Lは光学系の物像距離である。
【0047】また、以下に、表4中で示すことのできな
かった本実施例の条件対応値を示す。 |L/β|=3290 β1/β=−2.13 β4/β=2.51 δ34/L=0.0850 f4/L=0.143 f2/L=−0.147 f3/L=−0.0989 |f4b/L|=0.102〔第3実施例〕図3には、
本発明の第3の実施例を示してある。第3の実施例で
は、第2のレンズ群G2が正の屈折力レンズを4個含ん
でいる。実施例3に正の屈折力レンズを付加すること
で、正の屈折力レンズ各面の曲率が弱められ、各面で引
き起こされた収差が減少する。負の屈折力レンズ26
が、第4のレンズ群G4に光束幅最大位置で追加され、
反対方向の収差を惹起して屈折力のバランスを改善す
る。表5は、図3に図示した実施例3の数値表である。
【0048】
【表5】 曲率半径 面間隔 硝材 OBJ: INFINITY 100.022075 1: 1035.49180 23.355000 'SiO2' 2: -243.88380 0.882000 3: 202.54200 26.395000 'SiO2' 4: -583.47690 18.415000 5: 189.22600 13.827000 'SiO2' 6: 109.24120 14.229000 7: 260.54930 13.200000 'SiO2' 8: 112.28780 21.138000 9: -129.39240 13.200000 'SiO2' 10: 162.72340 70.326000 11: -93.72550 35.314000 'SiO2' 12: -130.63050 0.500000 13: -434.51270 24.568000 'SiO2' 14: -189.60520 0.500000 15: 3472.02930 29.708000 'SiO2' 16: -332.90380 0.500000 17: 279.04220 44.078000 'SiO2' 18: -424.55600 0.500000 19: 233.30570 24.361000 'SiO2' 20: 693.76850 0.500000 21: 147.22760 29.622000 'SiO2' 22: 102.98360 35.341000 23: -223.26870 13.200000 'SiO2' 24: 133.96120 31.903000 25: -126.47860 14.396000 'SiO2' 26: -9000.00000 36.951000 STO: INFINITY 14.768000 28: -490.93080 24.929000 'SiO2' 29: -190.85270 0.500000 30: 698.51030 28.798000 'SiO2' 31: -406.12880 0.500000 32: 261.70710 38.226000 'SiO2' 33: -823.48780 18.270000 34: -233.83630 13.200000 'SiO2' 35: -408.96720 0.500000 36: 353.56770 38.745000 'SiO2' 37: -415.45980 0.500000 38: 138.14350 37.331000 'SiO2' 39: 794.21090 0.500000 40: 121.69150 23.093000 'SiO2' 41: 169.53660 13.835000 42: -980.22050 41.588000 'SiO2' 43: 49.95660 12.423000 44: 49.40980 19.963000 'SiO2' 45: 763.15610 15.401000 IMG: INFINITY
【0049】
【表6】
【0050】表6中、Enは光学系の物体側の第1レン
ズ面から測った光学系の入射瞳までの距離であり、Ex
は光学系の像側の最終レンズ面から測った光学系の射出
瞳までの距離であり、f1は第1のレンズ群G1の焦点
距離であり、f2は第2のレンズ群G2の焦点距離であ
り、f3は第3のレンズ群G3の焦点距離であり、f4
は第4のレンズ群G4の焦点距離であり、β1は第1の
レンズ群G1の倍率であり、β4は第4のレンズ群G4
の倍率であり、q32は第3のレンズ群中の負の屈折力
レンズの形状係数であり、f4bは第4のレンズ群中の
負の屈折力レンズの焦点距離であり、δ34は第3のレ
ンズ群の最終レンズ面から第4のレンズ群の最初のレン
ズ面までの軸方向距離であり、h4aは第4のレンズ群
中の第2の負の屈折力レンズの各面の近軸周辺光線の最
大高さであり、h4maxは第4のレンズ群内の近軸周
辺光線の最大高さであり、f4aは第4のレンズ群の第
2の負の屈折力レンズの焦点距離であり、βは光学系全
系の倍率であり、Lは光学系の物像距離である。
【0051】また、以下に、表6中で示すことのできな
かった本実施例の条件対応値を示す。 |L/β|=3290 β1/β=−1.91 β4/β=2.51 δ34/L=0.0528 f4/L=0.125 f2/L=0.136 f3/L=−0.0848 |f4b/L|=0.0941 h4a/h4max=0.928 f4a/L=−1.12 負の屈折力レンズ26を付加した第4のレンズ群G4
は、以下の条件: h4a/h4max≧0.9 を満足するこが望ましい。ここで、h4aは負の屈折力
レンズL4a26の各レンズ面の近軸周辺光線の最大高
さであり、h4maxは第4のレンズ群中の近軸周辺光
線の最大高さである。
【0052】負の屈折力レンズL4a26を条件h4a
/h4max≧0.9の範囲内で配置することによっ
て、近軸周辺光線の高さはその負の屈折力を制御して強
くなりすぎないように用いられ、コマと球面収差とを効
果的に調節することを可能にする。さらに、以下の条
件: f4a/L<−1 3<q4a<5 を満足することが望ましく、ここで、f4aはレンズL
4aの焦点距離であり、q4aはレンズL4aの形状係
数である。条件f4a/L<−1の範囲を超えると、近
軸周辺光線の高さが高くて負の屈折力の全光学系の屈折
力に対する影響が強くなりすぎるため、屈折力は強くな
りすぎ、さらに正の屈折力をバランスするため一層強く
することが必要になる。個々のレンズ面の曲率を一層強
くすると、高次の収差の補正を一層難しくすることにな
る。条件3<q4a<5の上限を超えると、L4aのメ
ニスカスの程度が一層強くなって負の屈折力レンズL4
aでの周辺光線の入射角と屈折角とが大きくなりすぎて
高次の収差を補正することができない。条件3<q4a
<5の下限以下では、収差が負の屈折力が低いので適切
に補正することができず、その結果条件f4a/L<−
1を満足させるのが一層難しくなる。図10で図3に図
示したレンズ配置の収差値を示す。 〔第4実施例〕図4には本発明の第4の実施例を示して
ある。第4の実施例では、第1のレンズ群G1の前側レ
ンズ群G1f中に正の屈折力レンズを3個含んでいる。
正の屈折力レンズを3個にしたことで、3個の正の屈折
力レンズの間で正の屈折力を分割することによって収差
の補正が一層良好にできる。図11に、図4で図示した
レンズ配置の収差計測値を示す。表7は、図4に図示し
た実施例の数値表である。
【0053】
【表7】 曲率半径 面間隔 硝材 OBJ: INFINITY 114.249802 1: 734.34060 21.818000 'SiO2' 2: -340.26430 0.500000 3: 285.40380 22.862000 'SiO2' 4: -805.28780 0.560000 5: 200.39270 22.916000 'SiO2' 6: -5488.59290 2.017000 7: 175.95180 13.200000 'SiO2' 8: 89.36710 23.506000 9: -251.29400 13.200000 'SiO2' 10: 117.63770 17.782000 11: -385.38130 13.200000 'SiO2' 12: 202.42070 45.924000 13: -91.07020 37.285000 'SiO2' 14: -127.34320 1.121000 15: -328.05130 21.515000 'SiO2' 16: -189.78830 0.500000 17: 586.24800 32.616000 'SiO2' 18: -361.86880 0.500000 19: 245.84470 42.666000 'SiO2' 20: -473.15170 0.500000 21: 264.63740 23.142000 'SiO2' 22: 1048.38730 0.500000 23: 148.47370 29.015000 'SiO2' 24: 103.09840 32.942000 25: -206.32820 13.200000 'SiO2' 26: 123.79690 32.915000 27: -131.63990 21.033000 'SiO2' 28: 7701.88570 36.508000 STO: INFINITY 16.112000 30: -464.55460 22.943000 'SiO2' 31: -196.35890 0.500000 32: 550.67760 31.300000 'SiO2' 33: -389.36370 0.500000 34: 267.44900 35.966000 'SiO2' 35: -973.87040 16.994000 36: -249.55090 13.200000 'SiO2' 37: -422.73250 0.651000 38: 292.44680 39.221000 'SiO2' 39: -482.47550 0.500000 40: 142.31140 33.754000 'SiO2' 41: 562.90710 0.500000 42: 127.04630 21.871000 'SiO2' 43: 203.42670 12.627000 44: -1103.35180 49.378000 'SiO2' 45: 49.28010 10.479000 46: 47.77280 20.357000 'SiO2' 47: 657.30740 15.455000 IMG: INFINITY
【0054】
【表8】
【0055】表8中、Enは光学系の物体側の第1レン
ズ面から測った光学系の入射瞳までの距離であり、Ex
は光学系の像側の最終レンズ面から測った光学系の射出
瞳までの距離であり、f1は第1のレンズ群G1の焦点
距離であり、f2は第2のレンズ群G2の焦点距離であ
り、f3は第3のレンズ群G3の焦点距離であり、f4
は第4のレンズ群G4の焦点距離であり、β1は第1の
レンズ群G1の倍率であり、β4は第4のレンズ群G4
の倍率であり、q32は第3のレンズ群中の負の屈折力
レンズの形状係数であり、f4bは第4のレンズ群中の
負の屈折力レンズの焦点距離であり、δ34は第3のレ
ンズ群の最終レンズ面から第4のレンズ群の最初のレン
ズ面までの軸方向距離であり、h4aは第4のレンズ群
中の第2の負の屈折力レンズの各面の近軸周辺光線の最
大高さであり、h4maxは第4のレンズ群内の近軸周
辺光線の最大高さであり、f4aは第4のレンズ群の第
2の負の屈折力レンズの焦点距離であり、βは光学系全
系の倍率であり、Lは光学系の物像距離である。
【0056】また、以下に、表8中で示すことのできな
かった本実施例の条件対応値を示す。 |L/β|=3290 β1/β=−1.93 β4/β=2.51 δ34/L=0.0537 f4/L=0.122 f2/L=0.129 f3/L=−0.0806 |f4b/L|=0.0933 h4a/h4max=0.934 f4a/L=−1.25 〔第5実施例〕図5には本発明の第5の実施例を示して
ある。第5の実施例では、第1のレンズ群G1の後側レ
ンズ群G1r中に負の屈折力レンズを4個含んでいる。
負の屈折力レンズを4個にしたことで、4個のレンズの
間で必要な負の屈折力の分割が可能になる。。図12
に、図5で図示したレンズ配置の収差値を示す。表9
は、図5に図示した実施例の数値表である。
【0057】
【表9】 曲率半径 面間隔 硝材 OBJ: INFINITY 109.083928 1: 1429.44660 23.206000 'SiO2' 2: -237.88250 2.679000 3: 284.94900 18.564000 'SiO2' 4: 2543.19080 0.901000 5: 182.93450 22.354000 'SiO2' 6: 1843.77710 0.500000 7: 156.91090 13.200000 'SiO2' 8: 92.20050 10.950000 9: 195.36800 13.200000 'SiO2' 10: 99.62770 20.263000 11: -205.80660 13.200000 'SiO2' 12: 170.31340 22.789000 13: -2041.91050 13.200000 'SiO2' 14: 250.83590 39.135000 15: -101.01710 38.918000 'SiO2' 16: -138.94550 0.500000 17: -371.93550 21.216000 'SiO2' 18: -208.54220 0.500000 19: 456.00900 37.838000 'SiO2' 20: -334.27890 0.500000 21: 260.28190 40.620000 'SiO2' 22: -571.10820 0.500000 23: 253.69730 22.836000 'SiO2' 24: 738.85430 0.500000 25: 151.19630 30.931000 'SiO2' 26: 103.40860 33.478000 27: -216.08940 13.200000 'SiO2' 28: 129.65360 29.657000 29: -140.36220 15.849000 'SiO2' 30: 1464.50720 31.048000 STO: INFINITY 19.657000 32: -717.89630 25.457000 'SiO2' 33: -195.63050 0.500000 34: 481.03960 28.100000 'SiO2' 35: -570.06580 0.500000 36: 277.78410 35.703000 'SiO2' 37: -762.94260 17.046000 38: -229.42750 13.200000 'SiO2' 39: -390.78740 0.500000 40: 300.16200 38.930000 'SiO2' 41: -450.25100 0.500000 42: 129.34650 37.088000 'SiO2' 43: 623.57950 0.500000 44: 115.79120 20.137000 'SiO2' 45: 153.21060 14.003000 46: -1346.72790 35.923000 'SiO2' 47: 49.81990 11.440000 48: 49.62630 23.992000 'SiO2' 49: 591.89560 15.508000 IMG: INFINITY
【0058】
【表10】
【0059】表10中、Enは光学系の物体側の第1レ
ンズ面から測った光学系の入射瞳までの距離であり、E
xは光学系の像側の最終レンズ面から測った光学系の射
出瞳までの距離であり、f1は第1のレンズ群G1の焦
点距離であり、f2は第2のレンズ群G2の焦点距離で
あり、f3は第3のレンズ群G3の焦点距離であり、f
4は第4のレンズ群G4の焦点距離であり、β1は第1
のレンズ群G1の倍率であり、β4は第4のレンズ群G
4の倍率であり、q32は第3のレンズ群中の負の屈折
力レンズの形状係数であり、f4bは第4のレンズ群中
の負の屈折力レンズの焦点距離であり、δ34は第3の
レンズ群の最終レンズ面から第4のレンズ群の最初のレ
ンズ面までの軸方向距離であり、h4aは第4のレンズ
群中の第2の負の屈折力レンズの各面の近軸周辺光線の
最大高さであり、h4maxは第4のレンズ群内の近軸
周辺光線の最大高さであり、f4aは第4のレンズ群の
第2の負の屈折力レンズの焦点距離であり、βは光学系
全系の倍率であり、Lは光学系の物像距離である。
【0060】また、以下に、表10中で示すことのでき
なかった本実施例の条件対応値を示す。 |L/β|=3290 β1/β=−1.87 β4/β=2.51 δ34/L=0.0517 f4/L=0.118 f2/L=0.131 f3/L=−0.0828 |f4b/L|=0.0956 h4a/h4max=0.935 f4a/L=−1.15 〔第6実施例〕図6には本発明の第6の実施例を示して
ある。第6の実施例では、第1のレンズ群G1の後側レ
ンズ群G1r中に負の屈折力レンズを4個含んでいる。
負の屈折力レンズを4個にしたことで、4個のレンズの
間で必要な負の屈折力の分割が可能になる。図13に、
図6で図示したレンズ配置の収差値を示す。表11は、
図6に図示した実施例の数値表である。
【0061】
【表11】 曲率半径 面間隔 硝材 OBJ: INFINITY 116.329483 1: -9940.00000 21.075000 'SiO2' 2: -248.48870 8.198000 3: 336.55030 20.761000 'SiO2' 4: -1124.29380 0.788000 5: 183.75850 21.971000 'SiO2' 6: 1033.12600 0.500000 7: 134.21050 13.200000 'SiO2' 8: 87.40100 9.239000 9: 137.95890 13.200000 'SiO2' 10: 89.74490 16.813000 11: -4452.54830 13.200000 'SiO2' 12: 121.25190 19.897000 13: -147.68440 13.200000 'SiO2' 14: 1164.52370 27.243000 15: -128.33770 13.200000 'SiO2' 16: -1059.81580 11.076000 17: -240.45260 20.904000 'SiO2' 18: -151.43610 0.736000 19: -990.54250 24.776000 'SiO2' 20: -234.08130 0.500000 21: 412.67430 39.639000 'SiO2' 22: -303.60650 0.500000 23: 259.02670 37.787000 'SiO2' 24: -670.62070 0.500000 25: 237.37120 22.511000 'SiO2' 26: 627.50330 0.500000 27: 154.05420 30.365000 'SiO2' 28: 106.38500 31.852000 29: -213.54930 13.200000 'SiO2' 30: 128.02730 27.700000 31: -147.83480 15.548000 'SiO2' 32: 797.84700 33.038000 STO: INFINITY 21.098000 34: -810.38770 25.016000 'SiO2' 35: -203.87560 0.500000 36: 446.17910 30.359000 'SiO2' 37: -489.38650 0.500000 38: 256.90210 35.758000 'SiO2' 39: -987.12420 16.957000 40: -242.80930 13.200000 'SiO2' 41: -432.77110 0.500000 42: 297.67190 38.256000 'SiO2' 43: -445.58880 0.500000 44: 130.69780 33.678000 'SiO2' 45: 467.22910 0.500000 46: 125.44060 20.743000 'SiO2' 47: 181.59100 12.694000 48: -1066.63820 37.762000 'SiO2' 49: 51.41830 9.830000 50: 50.20580 26.738000 'SiO2' 51: 643.23800 15.465000 IMG: INFINITY
【0062】
【表12】
【0063】表12中、Enは光学系の物体側の第1レ
ンズ面から測った光学系の入射瞳までの距離であり、E
xは光学系の像側の最終レンズ面から測った光学系の射
出瞳までの距離であり、f1は第1のレンズ群G1の焦
点距離であり、f2は第2のレンズ群G2の焦点距離で
あり、f3は第3のレンズ群G3の焦点距離であり、f
4は第4のレンズ群G4の焦点距離であり、β1は第1
のレンズ群G1の倍率であり、β4は第4のレンズ群G
4の倍率であり、q32は第3のレンズ群中の負の屈折
力レンズの形状係数であり、f4bは第4のレンズ群中
の負の屈折力レンズの焦点距離であり、δ34は第3の
レンズ群の最終レンズ面から第4のレンズ群の最初のレ
ンズ面までの軸方向距離であり、h4aは第4のレンズ
群中の第2の負の屈折力レンズの各面の近軸周辺光線の
最大高さであり、h4maxは第4のレンズ群内の近軸
周辺光線の最大高さであり、f4aは第4のレンズ群の
第2の負の屈折力レンズの焦点距離であり、q4aは第
2の負の屈折力レンズの形状係数であり、βは光学系全
系の倍率であり、Lは光学系の物像距離である。
【0064】また、以下に、表12中で示すことのでき
なかった本実施例の条件対応値を示す。 |L/β|=3290 β1/β=−1.87 β4/β=2.51 δ34/L=0.0552 f4/L=0.117 f2/L=0.128 f3/L=−0.0820 |f4b/L|=0.0973 h4a/h4max=0.924 f4a/L=−1.14〔第7実施例〕図7には本発明
の第7の実施例を示してある。第7の実施例では、第1
のレンズ群G1の前側レンズ群G1fは、負の屈折力レ
ンズ28を含み、第4のレンズ群G4は負の付加屈折力
レンズ30を含んでいる。図14に、図7で図示したレ
ンズ配置の収差値を示す。表13は、図7に図示した実
施例7の数値表である。
【0065】
【表13】 曲率半径 面間隔 硝材 OBJ: INFINITY 101.314570 1: 406.80040 13.200000 'SiO2' 2: 261.70010 7.790000 3: 419.34180 22.077000 'SiO2' 4: -487.57620 0.888000 5: 302.60920 22.271000 'SiO2' 6: -970.54390 0.500000 7: 188.36390 24.131000 'SiO2' 8: INFINITY 0.500000 9: 156.40660 13.200000 'SiO2' 10: 91.40230 11.070000 11: 176.17400 13.242000 'SiO2' 12: 98.51910 18.147000 13: 486.45380 13.200000 'SiO2' 14: 128.34360 19.474000 15: -148.93590 13.200000 'SiO2' 16: 282.03490 21.168000 17: -113.34270 13.205000 'SiO2' 18: -591.51830 9.481000 19: -241.09860 20.757000 'SiO2' 20: -149.13010 1.343000 21: -767.12610 25.531000 'SiO2' 22: -208.17460 0.500000 23: 496.17500 40.582000 'SiO2' 24: -251.64790 0.500000 25: 250.54060 36.133000 'SiO2' 26: -915.02110 0.509000 27: 215.21700 23.766000 'SiO2' 28: 566.54590 0.947000 29: 163.92590 32.534000 'SiO2' 30: 104.21150 32.160000 31: -237.23290 14.394000 'SiO2' 32: 142.33970 30.267000 33: -135.25600 14.803000 'SiO2' 34: 772.29370 29.959000 STO: INFINITY 21.994000 36: -1226.20550 25.988000 'SiO2' 37: -204.89520 0.500000 38: 734.44890 26.659000 'SiO2' 39: -430.44490 0.500000 40: 314.37880 33.736000 'SiO2' 41: -613.80780 15.134000 42: -224.87190 13.200000 'SiO2' 43: -362.54270 1.771000 44: 321.34050 36.356000 'SiO2' 45: -462.89950 0.500000 46: 121.85320 37.127000 'SiO2' 47: 444.12220 0.500000 48: 107.25850 22.132000 'SiO2' 49: 149.32500 12.346000 50: 1314.49920 13.555000 'SiO2' 51: 60.23300 10.045000 52: 92.20380 25.386000 'SiO2' 53: 66.77390 1.132000 54: 52.62550 21.574000 'SiO2' 55: 1108.85300 17.121000 IMG: INFINITY 0.000000
【0066】
【表14】
【0067】表14中、Enは光学系の物体側の第1レ
ンズ面から測った光学系の入射瞳までの距離であり、E
xは光学系の像側の最終レンズ面から測った光学系の射
出瞳までの距離であり、f1は第1のレンズ群G1の焦
点距離であり、f2は第2のレンズ群G2の焦点距離で
あり、f3は第3のレンズ群G3の焦点距離であり、f
4は第4のレンズ群G4の焦点距離であり、β1は第1
のレンズ群G1の倍率であり、β4は第4のレンズ群G
4の倍率であり、q32は第3のレンズ群中の負の屈折
力レンズの形状係数であり、f4bは第4のレンズ群中
の負の屈折力レンズの焦点距離であり、δ34は第3の
レンズ群の最終レンズ面から第4のレンズ群の最初のレ
ンズ面までの軸方向距離であり、h4aは第4のレンズ
群中の第2の負の屈折力レンズの各面の近軸周辺光線の
最大高さであり、h4maxは第4のレンズ群内の近軸
周辺光線の最大高さであり、f4aは第4のレンズ群の
第2の負の屈折力レンズの焦点距離であり、q4aは第
2の負の屈折力レンズの形状係数であり、βは光学系全
系の倍率であり、Lは光学系の物像距離である。
【0068】また、以下に、表14中で示すことのでき
なかった本実施例の条件対応値を示す。 |L/β|=3290 β1/β=−1.76 β4/β=2.51 f4/L=0.114 f2/L=0.122 f3/L=0.0804 h4a/h4max=0.955 f4a/L=−1.23 図15には、本発明による投影光学系が使用し得る走査
型露光装置の模式的組立体を示す。図8に示した露光装
置で、レチクル34は、この場合所定の回路図形を形成
したフォトマスクであって、投影光学系36の物体面1
2上に配置し、感光性基板たるウェ−ハ38は投影光学
系36の像面14上に配置してある。レチクル34は露
光中X方向に移動するよう配備されたレチクルステ−ジ
42上に保持され、かつウェ−ハ38はレチクルステ−
ジ42の運動とは逆に−X方向に運動するよう配備した
ウェ−ハステ−ジ44上に保持してある。矩形スリット
は、レチクル34上にY方向に延在する照明領域47を
形成し、照明光学系48はレチクル34の上方に配置し
てある。
【0069】照明光学系48は、光源50を備えてい
る。この配置では、光源50から照明光学系48に供給
される光線は、レチクル34をスリット図形の形に照射
する。照明光学系48内の光源50の像は、投影光学系
36のひとみ(開口絞り16の位置)の位置に形成され
る。この配置はケ−ラ−照明を提供する。ケ−ラ−照明
されている間、レチクル34の図形像は、投影光学系3
6を介してウェ−ハ38上に投影(ないし転写)され
る。ウェ−ハステ−ジ44上に置かれた感光性基板と
は、図16に示すとおり、シリコンウェ−ハ、硝子板な
いしはフォトレジストのような感光性材料を伴う類似の
もののような露光される物体52の全表面をコ−ティン
グすることによって得られる。ウェ−ハ38上に形成さ
れる図形像は、図8の56に指定される通り、Y方向に
延在する(矩形の)スリット図形である。
【0070】こうして、投影光学系36の投影倍率係数
が1/M=βであれば、レチクルステ−ジ42とウェ−
ハステ−ジ44とはX方向に沿ってM:1の速度比で互
いに逆方向に移動し、そのことによって、レチクル34
の全表面の図形像がウェ−ハ38上に転写される。上述
の実施例では、露光波長λが248nmの光線を供給す
るエキシマレ−ザを、照明光学系48内部に配置される
光源50として使用し得る投影光学系の例を示してあ
る。図1Aから7Eまでで、本発明による投影光学系の
第1の実施例から第7の実施例までのレンズ配置を示し
てある。
【0071】上記実施例では、それぞれ248nmに等
しい波長λを有するフッ化クリプトンエキシマレ−ザを
光源として用いる例を示した。さらに、各実施例に使用
し得る光源には、193nmの波長の光線を使用するフ
ッ化アルゴンエキシマレ−ザのような極紫外線光源、g
線(436nm)およびi線(365nm)の光線を使
用する水銀ア−クランプ、および上記以外の紫外線領域
の光線を供給する光源が含まれる。
【0072】各実施例で、投影光学系を構築するレンズ
類は、接合せず全て単一光学材料であるシリカ(SiO
2)からなる。上記のような各実施例は、単一光学材料
から構成されているので、費用低減は達せられている。
けれども、露光光線が或る程度の波長幅を有する場合に
は、色収差を補正するため、投影光学系をシリカ(Si
O2)のレンズと蛍石(CaF2)のレンズとの組合せ
で、あるいは多様な形式の異なる材料からなる組合 せ
で構築することが望ましい。とりわけ、露光光源が広い
帯域幅を有する場合には、投影光学系を複数の種類のレ
ンズやそれらレンズの組合せで作製することによって構
築し、色収差を補正すると有効である。
【0073】さらに、第1の実施例から第7の実施例ま
での投影光学系の諸例は、図15に示したとおり、走査
型露光装置への応用として説明してある。けれども、本
発明の投影光学系を適用し得る露光装置は、たとえば図
17で図示したとおり、ワンショットでレチクル34の
図形をウェ−ハ38上に焼付けるワンショット露光法の
露光装置も含まれている。図15と図17との差は、図
17での露光領域46の形状がレチクル34の全面積を
含んでいるのに、図15の露光領域47の形状はレチク
ル34の面積全体を走査しなければならない矩形スリッ
トであるとの違いである。
【0074】本発明の実施例の前述の説明は、図示と説
明との目的で陳述されたものである。本発明を正確に開
示した詳細な構成に限定したり、それで網羅してあると
する意図はない。明白な修正や変種が上記教示によって
可能である。ここでの実施例は、本発明の原理の最善の
例示とその実際の応用とを提供するため選択し説明する
ことによって、当業者が、本発明をよく考え抜いた上で
特定の用途に適するようにさまざまな具体化と修正とを
加えて使えるようにしてある。当業者が公平かつ合法的
で公正に資格を取得するとの見方に従って理解する限
り、このような修正や変種は全て出願請求項によって規
定されたとおり本発明の範囲内にある。
【0075】たとえば、上記の例では溶融シリカ(Si
O2)である単一の硝子材料が、投影光学系のための光
学材料として使われたが、露光光線のスペクトルの帯域
幅を狭くするのが不充分であれば、溶融シリカ(SiO
2)と蛍石(CaF2)とを用いることによって色収差
を補正することも可能である。さらに、たとえば紫外線
領域で優れた透過率を有する他の光学材料を用いること
によって、色収差を補正できる他の変種も製造すること
ができる。この事実は、上記のような投影光学系が他の
光源を用いる場合にも応用可能であることを許容するも
のである。本発明は、エキシマレ−ザを用いる投影光学
系に限定することを意図していない。
【0076】
【本発明の効果】上記の通り、本発明による投影光学系
は、両テレセントリック光学系であって、比較的広い露
光範囲を保証しながら、多様な収差を良好に平衡させて
補正しかつ大開口数を有する高解像力光学系を実現して
いる。
【図面の簡単な説明】
明細書に組み込まれかつその一部を形成する添付図面
は、本発明を例示しかつ明細書とともに本発明の原理を
説明するために用いるものである。
【図1】図1は、本発明の第1実施例によるレンズ配置
を示す。
【図2】図2は、本発明の第2実施例によるレンズ配置
を示す。
【図3】図3は、本発明の第3実施例によるレンズ配置
を示す。
【図4】図4は、本発明の第4実施例によるレンズ配置
を示す。
【図5】図5は、本発明の第5実施例によるレンズ配置
を示す。
【図6】図6は、本発明の第6実施例によるレンズ配置
を示す。
【図7】図7は、本発明の第7実施例によるレンズ配置
を示す。
【図8】図8は、図1に示したレンズ配置の収差値を示
す。
【図9】図9は、図2に示したレンズ配置の収差値を示
す。
【図10】図10は、図3に示したレンズ配置の収差値
を示す。
【図11】図11は、図4に示したレンズ配置の収差値
を示す。
【図12】図12は、図5に示したレンズ配置の収差値
を示す。
【図13】図13は、図6に示したレンズ配置の収差値
を示す。
【図14】図14は、図7に示したレンズ配置の収差値
を示す。
【図15】図15は、本発明による投影光学系が使用し
得る走査型露光装置の模式的組立体を示す。
【図16】図16は、感光性基板の断面構造を示す。
【図17】図17は、本発明による投影光学系が使用し
得るワンショット型露光法の露光装置の模式的組立体を
示す。
【符号の説明】
12 物体 14 像 16 開口絞りAS 18 光学系の物体側の最初のレンズ面 20 光学系の像側の最終レンズ面 22 第3のレンズ群の一対の凹レンズ面間の負の屈
折力レンズ 24 レンズL4bの像側凹レンズ面 26 第4のレンズ群の第2の負の屈折力レンズL4
a G1 第1のレンズ群 G2 第2のレンズ群 G3 第3のレンズ群 G4 第4のレンズ群 S21 第2のレンズ群の第1のレンズの第1のレン
ズ面 S32 第3のレンズ群の一対の凹レンズ面の一方 S35 第3のレンズ群の一対の凹レンズ面の一方 S36 第3のレンズ群の最終レンズ面 S41 第4のレンズ群の物体側の凹レンズ面 L4b 第4のレンズ群中の負の屈折力レンズ

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】物体側から像側へ順に、第1のレンズ群
    と、正の屈折力を有する第2のレンズ群と、負の屈折力
    を有する第3のレンズ群と、正の屈折力を有する第4の
    レンズ群と、前記第3のレンズ群と前記第4のレンズ群
    との間に配置された開口絞りとを備える投影光学系にお
    いて、Lを前記光学系の物像距離とし、Enを前記光学
    系の物体側の第1レンズ面から測った前記光学系の入射
    ひとみまでの距離とし、Exを前記光学系の像側の最終
    レンズ面から測った前記光学系の射出ひとみまでの距離
    とし、βを前記光学系全系の倍率としたとき、以下の条
    件を満足することを特徴とする投影光学系。 |En|>L |Ex|>|L/β|
  2. 【請求項2】β1を前記第1のレンズ群の倍率とし、f
    1を前記第1のレンズ群の焦点距離としたとき、以下の
    条件を満足することを特徴とする請求項1に記載の投影
    光学系。 −2.3<β1/β<−1.6 |f1|>L
  3. 【請求項3】β4を前記第4のレンズ群の倍率とし、δ
    34を前記第3のレンズ群の最終レンズ面から前記第4
    のレンズ群の最初のレンズ面までの軸方向距離としたと
    き、以下の条件を満足することを特徴とする請求項1又
    は2に記載の投影光学系。 2<β4/β<3 δ34/L>0.05
  4. 【請求項4】f4を前記第4のレンズ群の焦点距離とし
    たとき、以下の条件を満足することを特徴とする請求項
    1乃至3に記載の投影光学系。 0.09<f4/L<0.16
  5. 【請求項5】f2を前記第2のレンズ群の焦点距離とし
    たとき、以下の条件を満足することを特徴とする請求項
    1乃至4に記載の投影光学系。 0.1<f2/L<0.2
  6. 【請求項6】f3を前記第3のレンズ群の焦点距離とし
    たとき、以下の条件を満足することを特徴とする請求項
    1乃至5に記載の投影光学系。 −0.12<f3/L<−0.06
  7. 【請求項7】前記第3のレンズ群が、互いに向合う一対
    の凹レンズ面と、前記一対の凹レンズ面間に配置した負
    の屈折力レンズを少なくとも1個含むことを特徴とする
    請求項1乃至6に記載の投影光学系。
  8. 【請求項8】C1を前記負の屈折力レンズの物体側の面
    の曲率とし、C2を前記負の屈折力レンズの像側の面の
    曲率としたとき、前記一対の凹レンズ面間に配置した前
    記負の屈折力レンズのうち少なくとも1個は、以下の条
    件を満足することを特徴とする請求項7に記載の投影光
    学系。 q32<−0.2 但し、q32は形状係数であって、q32=(C1+C
    2)/(C1−C2)によって決定される。
  9. 【請求項9】前記第1のレンズ群は、前記物体側から順
    に、正の屈折力を有する前側レンズ群と、負の屈折力を
    有する後側レンズ群と、を含むことを特徴とする請求項
    1乃至8に記載の投影光学系。
  10. 【請求項10】前記第1のレンズ群の前記前側レンズ群
    は、正の屈折力レンズを少なくとも2個含み、かつ、前
    記第1のレンズ群の後側レンズ群は、負の屈折力レンズ
    を少なくとも2個含むことを特徴とする請求項9に記載
    の投影光学系。
  11. 【請求項11】前記第2のレンズ群は、正の屈折力レン
    ズを少なくとも3個含み、かつ、前記第2のレンズ群の
    最初のレンズ面は、前記物体側に面する凹レンズ面であ
    ることを特徴とする請求項1乃至10に記載の投影光学
    系。
  12. 【請求項12】前記第4のレンズ群は、正の屈折力レン
    ズを少なくとも6個含み、かつ、前記光学系の前記像側
    に面する凹レンズ面を有する負の屈折力レンズを少なく
    とも1個含むことを特徴とする請求項1乃至11に記載
    の投影光学系。
  13. 【請求項13】f4bを前記第4のレンズ群中の前記少
    なくとも1個の負の屈折力レンズの焦点距離としたと
    き、以下の条件を満足することを特徴とする請求項12
    記載の投影光学系。 |f4b/L|<0.13
  14. 【請求項14】前記第1のレンズ群の前記後側レンズ群
    は、負の屈折力レンズを少なくとも3個含むことを特徴
    とする請求項9又は10に記載の投影光学系。
  15. 【請求項15】前記第2のレンズ群は、正の屈折力レン
    ズを少なくとも4個含むことを特徴とする請求項1乃至
    14に記載の投影光学系。
  16. 【請求項16】前記第4のレンズ群は、第2の負の屈折
    力レンズを少なくとも1個含むことを特徴とする請求項
    12に記載の投影光学系。
  17. 【請求項17】前記第4のレンズ群の前記第2の負の屈
    折力レンズのうち少なくとも1個は、前記第4のレンズ
    群の少なくとも1個の前記負の屈折力レンズの前記物体
    側に配置され、h4aを前記第2の負の屈折力レンズ少
    なくとも1個の各レンズ面の周辺近軸光線中最大の高さ
    とし、h4maxを前記第4のレンズ群での前記周辺近
    軸光線中最大の高さとしたとき、前記第4のレンズ群の
    前記第2の負の屈折力レンズ少なくとも1個は、以下の
    条件を満足することを特徴とする請求項16記載の投影
    光学系。 h4a/h4max≧0.9
  18. 【請求項18】f4aを前記第2の負の屈折力レンズ少
    なくとも1個の焦点距離とし、C3を前記第2の負の屈
    折力レンズ少なくとも1個の物体側の面の曲率とし、C
    4を前記第2の負の屈折力レンズ少なくとも1個の像側
    の面の曲率としたとき、前記第4のレンズ群の第2の負
    の屈折力レンズのうち少なくとも1個は、以下の条件を
    満足すことを特徴とする請求項16乃至17記載の投影
    光学系。 f4a/L<−1 3<q4a<5 但し、q4aは、q4a=(C3+C4)/(C3−C
    4)によって定義される形状係数である。
  19. 【請求項19】前記第1のレンズ群の前記前側レンズ群
    は、正の屈折力レンズを少なくとも3個含むことを特徴
    とする請求項9に記載の投影光学系。
  20. 【請求項20】前記第1のレンズ群の前記後側レンズ群
    は、負の屈折力レンズを少なくとも4個含むことを特徴
    とする請求項9に記載の投影光学系。
  21. 【請求項21】前記第2のレンズ群は、正の屈折力レン
    ズを少なくとも5個含むことを特徴とする請求項1乃至
    20に記載の投影光学系。
  22. 【請求項22】前記第1のレンズ群中の前記前側レンズ
    群は、負の屈折力レンズを少なくとも1個含むことを特
    徴とする請求項19に記載の投影光学系。
  23. 【請求項23】前記第4のレンズ群は、負の屈折力レン
    ズを少なくとも3個含むことを特徴とする請求項1乃至
    22に記載の投影光学系。
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