JPH1048517A - 投影光学系 - Google Patents
投影光学系Info
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- JPH1048517A JPH1048517A JP8208649A JP20864996A JPH1048517A JP H1048517 A JPH1048517 A JP H1048517A JP 8208649 A JP8208649 A JP 8208649A JP 20864996 A JP20864996 A JP 20864996A JP H1048517 A JPH1048517 A JP H1048517A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/14—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
- G02B13/143—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation for use with ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/22—Telecentric objectives or lens systems
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】光学系全体を実用的な大きさに留めたまま、特
に像面の平坦性を重視した高性能で広い露光領域を有す
る投影光学系を提供する。 【解決手段】物体側から順に、互いに向かいあった凸面
の対を少なくとも2つ以上含む正屈折力の第1要素群E
1と、互いに向かいあった凹面の対を少なくとも2つ以
上含む負屈折力の第2要素群E2と、互いに向かいあっ
た凸面の対を少なくとも2つ以上含む正屈折力の第3要
素群E3と、互いに向かいあった凹面の対を少なくとも
2つ以上含む負屈折力の第4要素群E4と、互いに向か
いあった凸面の対を少なくとも2つ以上含む正屈折力の
第5要素群E5と、を含み、所定の条件を満足する。
に像面の平坦性を重視した高性能で広い露光領域を有す
る投影光学系を提供する。 【解決手段】物体側から順に、互いに向かいあった凸面
の対を少なくとも2つ以上含む正屈折力の第1要素群E
1と、互いに向かいあった凹面の対を少なくとも2つ以
上含む負屈折力の第2要素群E2と、互いに向かいあっ
た凸面の対を少なくとも2つ以上含む正屈折力の第3要
素群E3と、互いに向かいあった凹面の対を少なくとも
2つ以上含む負屈折力の第4要素群E4と、互いに向か
いあった凸面の対を少なくとも2つ以上含む正屈折力の
第5要素群E5と、を含み、所定の条件を満足する。
Description
【0001】〔語彙の定義〕本明細書中で「凸面」と
は、「硝材周辺部より硝材中心部の方が、空間に対し膨
らんでいる面」を意味する。また、本明細書中で「凹
面」とは、「硝材周辺部より硝材中心部の方が、空間に
対しへこんでいる面」を意味する。
は、「硝材周辺部より硝材中心部の方が、空間に対し膨
らんでいる面」を意味する。また、本明細書中で「凹
面」とは、「硝材周辺部より硝材中心部の方が、空間に
対しへこんでいる面」を意味する。
【0002】更に、「要素群」とは、「屈折面からなる
集合」を意味し、必ずしも空気等の媒質でかこまれたも
のであるとは限らない。
集合」を意味し、必ずしも空気等の媒質でかこまれたも
のであるとは限らない。
【0003】
【産業上の利用分野】本発明は、電子回路パターン等が
描かれているレチクル等を半導体ウエハー等の表面上に
転写する投影露光装置に用いられる投影光学系に関す
る。
描かれているレチクル等を半導体ウエハー等の表面上に
転写する投影露光装置に用いられる投影光学系に関す
る。
【0004】
【従来の技術】従来より、ICやLSI等の集積回路や
液晶用フラットディスプレー等の製造において、投影露
光装置を使用した投影露光方法がかなり一般的に行なわ
れている。この種の投影露光装置では、良好な解像力及
び広い露光領域を達成するために、例えば、USP−
5,260,832号や特開平7−140384号公報
に開示されているような投影光学系が用いられている。
液晶用フラットディスプレー等の製造において、投影露
光装置を使用した投影露光方法がかなり一般的に行なわ
れている。この種の投影露光装置では、良好な解像力及
び広い露光領域を達成するために、例えば、USP−
5,260,832号や特開平7−140384号公報
に開示されているような投影光学系が用いられている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】近年、特に半導体の集
積回路のパターンは、ますます微細化してきており、ま
た、液晶用フラットディスプレーは、投影面積がより広
くなっている。このように、近年のIC露光用投影光学
系に要求される光学性能はさらに良いものが求められて
きているが、USP−5,260,832号に開示され
ているような従来からの高性能なガウスタイプでも不十
分なものとなっている。
積回路のパターンは、ますます微細化してきており、ま
た、液晶用フラットディスプレーは、投影面積がより広
くなっている。このように、近年のIC露光用投影光学
系に要求される光学性能はさらに良いものが求められて
きているが、USP−5,260,832号に開示され
ているような従来からの高性能なガウスタイプでも不十
分なものとなっている。
【0006】このような5群構成の投影光学系は、これ
までにも、特開平7−140384号にも開示されてい
るが、この場合、3群ある正屈折力の凸レンズ群のう
ち、互いに逆向きの対の2組みの凸面の何れかの屈折力
が弱く、負屈折力の凹レンズ群で発生する光束を収束し
きれないため、光学系全体を小型化を達成できにくいも
のとなっている。
までにも、特開平7−140384号にも開示されてい
るが、この場合、3群ある正屈折力の凸レンズ群のう
ち、互いに逆向きの対の2組みの凸面の何れかの屈折力
が弱く、負屈折力の凹レンズ群で発生する光束を収束し
きれないため、光学系全体を小型化を達成できにくいも
のとなっている。
【0007】本発明は、上記の問題点に鑑み、光学系全
体を実用的な大きさに留めたまま、特に像面の平坦性を
重視した高性能で広い露光領域を有する投影光学系を提
供することを目的とする。
体を実用的な大きさに留めたまま、特に像面の平坦性を
重視した高性能で広い露光領域を有する投影光学系を提
供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、物体側から順に、互いに向かいあった
凸面の対を少なくとも2つ以上含む正屈折力の第1要素
群E1と、互いに向かいあった凹面の対を少なくとも2
つ以上含む負屈折力の第2要素群E2と、互いに向かい
あった凸面の対を少なくとも2つ以上含む正屈折力の第
3要素群E3と、互いに向かいあった凹面の対を少なく
とも2つ以上含む負屈折力の第4要素群E4と、互いに
向かいあった凸面の対を少なくとも2つ以上含む正屈折
力の第5要素群E5と、を含み、前記第2要素群E2及
び前記第4要素群E4の向かいあった凹面の屈折力をφ
凹、前記第1要素群E1、前記第3要素群E3及び前記
第5要素群E5の向かいあった凸面の屈折力をφ凸と
し、物像間距離をLとするとき、 0.5<|L×φ凹|<15 0.5<|L×φ凸|<15 を満足することを特徴とする投影光学系を提供する。
に、本発明では、物体側から順に、互いに向かいあった
凸面の対を少なくとも2つ以上含む正屈折力の第1要素
群E1と、互いに向かいあった凹面の対を少なくとも2
つ以上含む負屈折力の第2要素群E2と、互いに向かい
あった凸面の対を少なくとも2つ以上含む正屈折力の第
3要素群E3と、互いに向かいあった凹面の対を少なく
とも2つ以上含む負屈折力の第4要素群E4と、互いに
向かいあった凸面の対を少なくとも2つ以上含む正屈折
力の第5要素群E5と、を含み、前記第2要素群E2及
び前記第4要素群E4の向かいあった凹面の屈折力をφ
凹、前記第1要素群E1、前記第3要素群E3及び前記
第5要素群E5の向かいあった凸面の屈折力をφ凸と
し、物像間距離をLとするとき、 0.5<|L×φ凹|<15 0.5<|L×φ凸|<15 を満足することを特徴とする投影光学系を提供する。
【0009】また、物体側から順に、少なくとも2枚の
正レンズを有し全体として正屈折力の第1レンズ群G1
と、少なくとも2枚の負レンズを有し全体として負屈折
力の第2レンズ群G2と、少なくとも2枚の正レンズを
有し全体として正屈折力の第3レンズ群G3と、少なく
とも2枚の負レンズを有し全体として負屈折力の第4レ
ンズ群G4と、少なくとも2枚の正レンズを有し全体と
して正屈折力の第5レンズ群G5と、少なくとも2枚の
負レンズを有し全体として負屈折力の第6レンズ群G6
と、少なくとも2枚の正レンズを有し全体として正屈折
力の第7レンズ群G7と、を含むことを特徴とする投影
光学系も提供する。
正レンズを有し全体として正屈折力の第1レンズ群G1
と、少なくとも2枚の負レンズを有し全体として負屈折
力の第2レンズ群G2と、少なくとも2枚の正レンズを
有し全体として正屈折力の第3レンズ群G3と、少なく
とも2枚の負レンズを有し全体として負屈折力の第4レ
ンズ群G4と、少なくとも2枚の正レンズを有し全体と
して正屈折力の第5レンズ群G5と、少なくとも2枚の
負レンズを有し全体として負屈折力の第6レンズ群G6
と、少なくとも2枚の正レンズを有し全体として正屈折
力の第7レンズ群G7と、を含むことを特徴とする投影
光学系も提供する。
【0010】
【発明の実施の形態】図1上段に示される、正屈折力
(φ1>0)の凸レンズ群、負屈折力(φ2<0)の凹
レンズ群、正屈折力(φ3>0)の凸レンズ群によって
構成された従来のガウスタイプでは、凹レンズ群に2枚
の凹レンズを使用している。しかし、さらに高い光学性
能を求めるには、この2枚の凹レンズに入射する光線の
入射角が大き過ぎ、発生した収差が他の面で補正しきれ
ない状況になっていることが分かった。
(φ1>0)の凸レンズ群、負屈折力(φ2<0)の凹
レンズ群、正屈折力(φ3>0)の凸レンズ群によって
構成された従来のガウスタイプでは、凹レンズ群に2枚
の凹レンズを使用している。しかし、さらに高い光学性
能を求めるには、この2枚の凹レンズに入射する光線の
入射角が大き過ぎ、発生した収差が他の面で補正しきれ
ない状況になっていることが分かった。
【0011】そこで、この状況を打開するために、図1
下段に示すようにそれぞれの凹レンズを前後を入れ換え
分割して、更に互いに逆向きの凹面を向い合わせに配置
する。こうすれば、以前と同じ屈折力を保持したまま、
凹面の曲率半径はほぼ2倍大きくできるので、図1下段
及び図2に示すように、それぞれの面に入射する入射角
i2cもほぼ1/2倍に減少させることができる。ま
た、図3に示すように、レンズの屈折力は同じでも、面
の向きにより入射角が変わるので、互いに逆向きの凹面
を向い合わせに配置することにより一面で発生する収差
を小さく抑えることができる。このように、曲率半径を
大きくし、凹面を向かい合わせに配置することにより、
各面で発生する収差を小さく抑えることができる。
下段に示すようにそれぞれの凹レンズを前後を入れ換え
分割して、更に互いに逆向きの凹面を向い合わせに配置
する。こうすれば、以前と同じ屈折力を保持したまま、
凹面の曲率半径はほぼ2倍大きくできるので、図1下段
及び図2に示すように、それぞれの面に入射する入射角
i2cもほぼ1/2倍に減少させることができる。ま
た、図3に示すように、レンズの屈折力は同じでも、面
の向きにより入射角が変わるので、互いに逆向きの凹面
を向い合わせに配置することにより一面で発生する収差
を小さく抑えることができる。このように、曲率半径を
大きくし、凹面を向かい合わせに配置することにより、
各面で発生する収差を小さく抑えることができる。
【0012】前述のUSP−5,260,832号で開
示されている投影光学系では、互いに逆向きの1対の凹
面のみで、凹レンズ群で発生する収差を補正しようとす
るものであった。また、これらの互いに逆向きの1対の
凹面の間にレンズが挿入されている場合においても、こ
の挿入レンズの形状は単純な構成であるので、それほど
収差補正には寄与しないため、これよりさらに性能を上
げることは非常に困難であった。
示されている投影光学系では、互いに逆向きの1対の凹
面のみで、凹レンズ群で発生する収差を補正しようとす
るものであった。また、これらの互いに逆向きの1対の
凹面の間にレンズが挿入されている場合においても、こ
の挿入レンズの形状は単純な構成であるので、それほど
収差補正には寄与しないため、これよりさらに性能を上
げることは非常に困難であった。
【0013】本発明においては、この欠点を除去するた
めに、互いに逆向きの凹面の間に挿入したレンズにも負
の屈折力をもたせ、両側の凹面の屈折力の負担を軽くし
た構成にする。この様に、向かい合わせに配置した互い
に逆向きの凹面を2つ連続して配置するようにする。特
にこのように2つ以上連続して配置すると、負の屈折力
を分散させる効果は顕著にあらわれるのである。
めに、互いに逆向きの凹面の間に挿入したレンズにも負
の屈折力をもたせ、両側の凹面の屈折力の負担を軽くし
た構成にする。この様に、向かい合わせに配置した互い
に逆向きの凹面を2つ連続して配置するようにする。特
にこのように2つ以上連続して配置すると、負の屈折力
を分散させる効果は顕著にあらわれるのである。
【0014】この変換により2枚の凹レンズが4枚の凹
レンズで形成されることになるが、さらにレンズ枚数を
増やし、互いに逆向きの凹面を増やすことにより、凹面
で発生する収差をさらに抑えることも可能である。更
に、図1下段に示すように、前述の従来のガウスタイプ
の両側の凸レンズ成分についても同様の処置を行なう。
つまりそれぞれのの凸レンズ成分をさらに分割して、前
後を入れ換え互いに逆向きの凸面を向い合わせに配置す
るのである。こうすれば、以前と同じ屈折力を保持した
まま、凸面の曲率半径はほぼ2倍大きくできるので、図
1下段及び図2に示すように、それぞれの面に入射する
入射角i1cもほぼ1/2倍に減少させることができ、
各面で発生する収差も抑えることができるのである。
レンズで形成されることになるが、さらにレンズ枚数を
増やし、互いに逆向きの凹面を増やすことにより、凹面
で発生する収差をさらに抑えることも可能である。更
に、図1下段に示すように、前述の従来のガウスタイプ
の両側の凸レンズ成分についても同様の処置を行なう。
つまりそれぞれのの凸レンズ成分をさらに分割して、前
後を入れ換え互いに逆向きの凸面を向い合わせに配置す
るのである。こうすれば、以前と同じ屈折力を保持した
まま、凸面の曲率半径はほぼ2倍大きくできるので、図
1下段及び図2に示すように、それぞれの面に入射する
入射角i1cもほぼ1/2倍に減少させることができ、
各面で発生する収差も抑えることができるのである。
【0015】互いに逆向きの凸面の対を2つ配置した任
意の中に、負の屈折力を持つ面を挿入すると、多少正の
屈折力を弱める働きがあるが、この場合は球面収差やコ
マ収差の補正に効果があり有効である。正の屈折力の低
下に対しては、他の部分に正の屈折面を増やすことによ
りカバーすることになる。この変換により4枚の凸レン
ズが8枚のレンズで形成されることになるが、さらにレ
ンズ枚数を増やし、形成される逆向きの面の対を増やし
ても良く、その場合はさらに収差発生を抑えることがで
きる。ただしこの場合、レンズ枚数が多くなることか
ら、各レンズの屈折面に反射防止膜を施したとしても、
反射光が増えフレアーを増加させる可能性がある。また
レンズ研磨のコストも増えることから、レンズ枚数を減
少させる意味で、互いに平面を向い合わせた部分はレン
ズ同士を結合させることにより、1枚のレンズにしてし
まうことも有効である。この処置により、入射光線の入
射角が増えたりすることは無い。例えば図1下段で、2
枚目及び3枚目のレンズを結合して1つの凸レンズにし
てしまうのである。4枚目及び5枚目、6枚目及び7枚
目、8枚目及び9枚目、10枚目及び11枚目について
も同様の処置が可能である。
意の中に、負の屈折力を持つ面を挿入すると、多少正の
屈折力を弱める働きがあるが、この場合は球面収差やコ
マ収差の補正に効果があり有効である。正の屈折力の低
下に対しては、他の部分に正の屈折面を増やすことによ
りカバーすることになる。この変換により4枚の凸レン
ズが8枚のレンズで形成されることになるが、さらにレ
ンズ枚数を増やし、形成される逆向きの面の対を増やし
ても良く、その場合はさらに収差発生を抑えることがで
きる。ただしこの場合、レンズ枚数が多くなることか
ら、各レンズの屈折面に反射防止膜を施したとしても、
反射光が増えフレアーを増加させる可能性がある。また
レンズ研磨のコストも増えることから、レンズ枚数を減
少させる意味で、互いに平面を向い合わせた部分はレン
ズ同士を結合させることにより、1枚のレンズにしてし
まうことも有効である。この処置により、入射光線の入
射角が増えたりすることは無い。例えば図1下段で、2
枚目及び3枚目のレンズを結合して1つの凸レンズにし
てしまうのである。4枚目及び5枚目、6枚目及び7枚
目、8枚目及び9枚目、10枚目及び11枚目について
も同様の処置が可能である。
【0016】この処置を全て行なえば、図2に示すよう
に、光学系は7枚のレンズで構成されることになるが、
これはもとのレンズが6枚で構成されていたことを考え
ると、僅か1枚のレンズが増えたに過ぎない。ところが
中央の負屈折の要素群に含まれる互いに逆向きの凹面の
対は1個から2個に増え、両側の正屈折力の要素群に含
まれる互いに逆向きの凸面の対も1個から2個に増やす
ことができるのである。
に、光学系は7枚のレンズで構成されることになるが、
これはもとのレンズが6枚で構成されていたことを考え
ると、僅か1枚のレンズが増えたに過ぎない。ところが
中央の負屈折の要素群に含まれる互いに逆向きの凹面の
対は1個から2個に増え、両側の正屈折力の要素群に含
まれる互いに逆向きの凸面の対も1個から2個に増やす
ことができるのである。
【0017】以上の様な面配置をとることにより、従来
のガウスタイプの2つの正レンズ群で発生する正のペッ
ツバール和を中央の凹レンズの成分で相殺することがで
きるようになる。以上が本発明の第1点目である。ま
た、本発明では、光学系全体を実用的な大きさに留める
ため、つまり光学系の小型化を達成するために、図4に
も示したような従来のこれまでの正屈折力群、負屈折力
群、正屈折力群の3群配置に代わって、図5に示すよう
な、物体側から順に、正屈折力群、負屈折力群、正屈折
力群、負屈折力群、正屈折力群という5群配置を採る。
この意味するところは、3群配置の場合、分かりやすく
簡明に説明するために、今仮に両側の正屈折力群の屈折
力がそれぞれほぼ等しい値と仮定すると、中央の負屈折
力群の屈折力は正屈折力群の2倍の屈折力にしておけ
ば、ペッツバール和は相殺する。つまり負屈折力群の屈
折力を正規化して1とすると、負屈折力群の屈折力はそ
の絶対値が2倍となる−2としておかなければならな
い。ところがこれを、正屈折力群、負屈折力群、正屈折
力群、負屈折力群、正屈折力群という5群配置とする
と、各正屈折力群の屈折力を同じ1とすればその総和は
3、これを2つの負屈折力群で相殺するので、1つの負
屈折力群の屈折力は−1.5で良いことになる。これは
負屈折力群を構成する各レンズの屈折角の減少を意味し
ており、発生収差の減少にもつながるのである。
のガウスタイプの2つの正レンズ群で発生する正のペッ
ツバール和を中央の凹レンズの成分で相殺することがで
きるようになる。以上が本発明の第1点目である。ま
た、本発明では、光学系全体を実用的な大きさに留める
ため、つまり光学系の小型化を達成するために、図4に
も示したような従来のこれまでの正屈折力群、負屈折力
群、正屈折力群の3群配置に代わって、図5に示すよう
な、物体側から順に、正屈折力群、負屈折力群、正屈折
力群、負屈折力群、正屈折力群という5群配置を採る。
この意味するところは、3群配置の場合、分かりやすく
簡明に説明するために、今仮に両側の正屈折力群の屈折
力がそれぞれほぼ等しい値と仮定すると、中央の負屈折
力群の屈折力は正屈折力群の2倍の屈折力にしておけ
ば、ペッツバール和は相殺する。つまり負屈折力群の屈
折力を正規化して1とすると、負屈折力群の屈折力はそ
の絶対値が2倍となる−2としておかなければならな
い。ところがこれを、正屈折力群、負屈折力群、正屈折
力群、負屈折力群、正屈折力群という5群配置とする
と、各正屈折力群の屈折力を同じ1とすればその総和は
3、これを2つの負屈折力群で相殺するので、1つの負
屈折力群の屈折力は−1.5で良いことになる。これは
負屈折力群を構成する各レンズの屈折角の減少を意味し
ており、発生収差の減少にもつながるのである。
【0018】また別の見方をするすると、負屈折力群の
屈折力を以前と同じ−2とすれば、2つある負屈折力群
の屈折力の総和は−4であり、これに対応する正屈折力
群の屈折力の総和は4となる。これを3つの正屈折力群
で分配すれば、1つの正屈折力群あたり、4/3=1.
333で、正屈折力群への光線の入射角を一定のまま、
その収差の発生をそれほど変えずに、屈折力を約3割大
きくることができ、これは全体の光学系をそれだけ小型
化することができることになる。
屈折力を以前と同じ−2とすれば、2つある負屈折力群
の屈折力の総和は−4であり、これに対応する正屈折力
群の屈折力の総和は4となる。これを3つの正屈折力群
で分配すれば、1つの正屈折力群あたり、4/3=1.
333で、正屈折力群への光線の入射角を一定のまま、
その収差の発生をそれほど変えずに、屈折力を約3割大
きくることができ、これは全体の光学系をそれだけ小型
化することができることになる。
【0019】以上の説明では、簡単のため、両側の正屈
折力群の屈折力を等しいと仮定したが、これは何もこれ
に限定するものではなく、一般的に言えることである。
両者の例の全長と径の違いを分かり易く示すため、今仮
に、結像倍率が等倍で構成されており、光学系全体の結
像倍率も等倍の場合を調べてみる。図4に示す3群配置
の負屈折力群では、負屈折力群の屈折力を正規化して1
とすると、焦点距離はその逆数で1となり、また負屈折
力群の屈折力は−2で、その焦点距離は−0.5となる
ので、図7に示すように物像間距離は6となり、またN
Aを0.5とすると有効半径は1となることが分かる。
折力群の屈折力を等しいと仮定したが、これは何もこれ
に限定するものではなく、一般的に言えることである。
両者の例の全長と径の違いを分かり易く示すため、今仮
に、結像倍率が等倍で構成されており、光学系全体の結
像倍率も等倍の場合を調べてみる。図4に示す3群配置
の負屈折力群では、負屈折力群の屈折力を正規化して1
とすると、焦点距離はその逆数で1となり、また負屈折
力群の屈折力は−2で、その焦点距離は−0.5となる
ので、図7に示すように物像間距離は6となり、またN
Aを0.5とすると有効半径は1となることが分かる。
【0020】これに対して図5に示す正屈折力群、負屈
折力群、正屈折力群、負屈折力群、正屈折力群という5
群配置では、収差の発生し易い負屈折力群の屈折力を3
群配置の場合と同じ値の−2にしておくと、2つの負屈
折力群が存在するので、全体での負屈折力群の屈折力は
−4となる。これから発生するペッツバール和を3つの
正屈折力群で相殺しなければならないので、1つの正屈
折力群の屈折力は4/3でなければならない。よって焦
点距離は3/4となる。やはり同様に各群の結像倍率を
等倍であると仮定すると、図5に示す通り物像間距離は
5、また同じNAでは有効半径は3/4となり、光学系
を小型化することができるのである。
折力群、正屈折力群、負屈折力群、正屈折力群という5
群配置では、収差の発生し易い負屈折力群の屈折力を3
群配置の場合と同じ値の−2にしておくと、2つの負屈
折力群が存在するので、全体での負屈折力群の屈折力は
−4となる。これから発生するペッツバール和を3つの
正屈折力群で相殺しなければならないので、1つの正屈
折力群の屈折力は4/3でなければならない。よって焦
点距離は3/4となる。やはり同様に各群の結像倍率を
等倍であると仮定すると、図5に示す通り物像間距離は
5、また同じNAでは有効半径は3/4となり、光学系
を小型化することができるのである。
【0021】以上の説明では、簡単のため各群や全体光
学系が等倍で結像されている場合であったが、これらが
一般の倍率の場合でも、同様の傾向であることは明らか
である。以上のように5群配置にすることにより、原理
的に正屈折力群の有効径を小さくすることができるが、
有効径が小さいとこれにともなって、それほど収差を発
生させずに互いに逆向きの面の曲率を強めることができ
る。同様のことは余裕ができる負屈折力群においても言
え、互いに逆向きの曲率を強くすることができる。しか
し、あまり曲率を強くすると収差補正が困難になるた
め、本発明においては、凹面の屈折力をφ凹、凸面の屈
折力をφ凸とし、物像間距離をLとするとき、 0.5<|L×φ凹|<15 ・・・(1) 0.5<|L×φ凸|<15 ・・・(2) の条件を満足することが必要である。
学系が等倍で結像されている場合であったが、これらが
一般の倍率の場合でも、同様の傾向であることは明らか
である。以上のように5群配置にすることにより、原理
的に正屈折力群の有効径を小さくすることができるが、
有効径が小さいとこれにともなって、それほど収差を発
生させずに互いに逆向きの面の曲率を強めることができ
る。同様のことは余裕ができる負屈折力群においても言
え、互いに逆向きの曲率を強くすることができる。しか
し、あまり曲率を強くすると収差補正が困難になるた
め、本発明においては、凹面の屈折力をφ凹、凸面の屈
折力をφ凸とし、物像間距離をLとするとき、 0.5<|L×φ凹|<15 ・・・(1) 0.5<|L×φ凸|<15 ・・・(2) の条件を満足することが必要である。
【0022】条件(1)の上限を越えると、凹面での負
の屈折力が強まり、ペッツバール和の補正には良いが、
コマ収差の発生が大きすぎ、他の面での補正が困難とな
る。また条件(1)の下限を越えると、凹面での負の屈
折力が弱まり、ペッツバール和の補正が不十分で像面が
湾曲し、広いフィールド(露光領域)が得られない。
尚、下限値を1.5とし、上限値を10とすると更によ
い結果が得られる。
の屈折力が強まり、ペッツバール和の補正には良いが、
コマ収差の発生が大きすぎ、他の面での補正が困難とな
る。また条件(1)の下限を越えると、凹面での負の屈
折力が弱まり、ペッツバール和の補正が不十分で像面が
湾曲し、広いフィールド(露光領域)が得られない。
尚、下限値を1.5とし、上限値を10とすると更によ
い結果が得られる。
【0023】また、条件(2)の上限を越えると、凸面
での正の屈折力が強まるためコマ収差の発生が大きす
ぎ、ペッツバール和の補正が不十分で像面が湾曲し、広
いフィールド(露光領域)が得られない。また条件
(2)の下限を越えると、凸面での正の屈折力が弱まる
ため、ペッツバール和の補正には良いが、正屈折力群を
構成するレンズの有効半径が増大し、またレンズ全長も
増えるため、光学系の大型化をもたらす。尚、下限値を
1.5とし、上限値を10とすると更によい結果が得ら
れる。
での正の屈折力が強まるためコマ収差の発生が大きす
ぎ、ペッツバール和の補正が不十分で像面が湾曲し、広
いフィールド(露光領域)が得られない。また条件
(2)の下限を越えると、凸面での正の屈折力が弱まる
ため、ペッツバール和の補正には良いが、正屈折力群を
構成するレンズの有効半径が増大し、またレンズ全長も
増えるため、光学系の大型化をもたらす。尚、下限値を
1.5とし、上限値を10とすると更によい結果が得ら
れる。
【0024】特開平7−140384号に開示された投
影光学系では、3群ある正屈折力群のうち、互いに逆向
きの対の2組みの凸面の何れかの屈折力が弱く、本発明
の条件を満たしていない。それゆえ、負屈折力群で発生
する光束を収束しきれず、小型化を達成できにくいもの
となっている。また2群ある負屈折力群のうち、互いに
逆向きの対の2組みの凹面の何れかの屈折力が弱く、本
発明の条件を満たしていない。これでは正屈折力群から
収束する光束を発散しきれないため、光学系の全長が長
くなり、小型化を達成できにくいものとなっている。
影光学系では、3群ある正屈折力群のうち、互いに逆向
きの対の2組みの凸面の何れかの屈折力が弱く、本発明
の条件を満たしていない。それゆえ、負屈折力群で発生
する光束を収束しきれず、小型化を達成できにくいもの
となっている。また2群ある負屈折力群のうち、互いに
逆向きの対の2組みの凹面の何れかの屈折力が弱く、本
発明の条件を満たしていない。これでは正屈折力群から
収束する光束を発散しきれないため、光学系の全長が長
くなり、小型化を達成できにくいものとなっている。
【0025】同様に本発明の考え方を更に発展させ、物
体側に負屈折力群を追加して6群構成を採ることもで
き、また負屈折力群及び正屈折力群を追加して7群構成
とすると、図6に示すように、物像間距離は4.67と
なり、凸レンズ群のレンズ有効径は0.67と更に小型
化することができる。この場合、これらの物体側に追加
する負屈折力群及び正屈折力群は、NAの小さい場所で
の使用なので、レンズ枚数は少なくても良く、また互い
に逆向きの面を持つ必要は必ずしもない。
体側に負屈折力群を追加して6群構成を採ることもで
き、また負屈折力群及び正屈折力群を追加して7群構成
とすると、図6に示すように、物像間距離は4.67と
なり、凸レンズ群のレンズ有効径は0.67と更に小型
化することができる。この場合、これらの物体側に追加
する負屈折力群及び正屈折力群は、NAの小さい場所で
の使用なので、レンズ枚数は少なくても良く、また互い
に逆向きの面を持つ必要は必ずしもない。
【0026】以上の説明では、分かり易くするために、
各群の屈折率を一定とし、各群の結像倍率を等倍と限定
し、各負屈折力群の屈折力は一定、各正屈折力群の屈折
力も一定、各群間隔も一定、全体光学系の結像倍率も等
倍と限定した場合の説明であるが、実際の仕様の光学系
において、厳密な計算を行なっても、この傾向はそう大
きくは変わらない。
各群の屈折率を一定とし、各群の結像倍率を等倍と限定
し、各負屈折力群の屈折力は一定、各正屈折力群の屈折
力も一定、各群間隔も一定、全体光学系の結像倍率も等
倍と限定した場合の説明であるが、実際の仕様の光学系
において、厳密な計算を行なっても、この傾向はそう大
きくは変わらない。
【0027】以上に述べた本発明の原理は、何も5群や
7群構成のものに限らず、物体側に正屈折力群、負屈折
力群を対にして交互に配置することが良い結果をもたら
すものであるが、特に図9に示すような、正屈折力群、
負屈折力群、正屈折力群、負屈折力群、正屈折力群、負
屈折力群、正屈折力群の7群構成にすると、レンズ枚数
を抑えつつ良好な性能をうることができる。レンズ枚数
の増加がゆるされれば、9群、11群構成等にしても良
い。
7群構成のものに限らず、物体側に正屈折力群、負屈折
力群を対にして交互に配置することが良い結果をもたら
すものであるが、特に図9に示すような、正屈折力群、
負屈折力群、正屈折力群、負屈折力群、正屈折力群、負
屈折力群、正屈折力群の7群構成にすると、レンズ枚数
を抑えつつ良好な性能をうることができる。レンズ枚数
の増加がゆるされれば、9群、11群構成等にしても良
い。
【0028】このように交互に配置させることが、負屈
折力群によって発散する光束をあまり広がらないうちに
正屈折力凸群で収束させ、これを繰り返すことで、負屈
折力群の屈折力を分散させ、ペッツバール和を良好な値
にすることができるのである。以上が本発明の第2点目
である。
折力群によって発散する光束をあまり広がらないうちに
正屈折力凸群で収束させ、これを繰り返すことで、負屈
折力群の屈折力を分散させ、ペッツバール和を良好な値
にすることができるのである。以上が本発明の第2点目
である。
【0029】本発明では、上述の本発明の第1点目と第
2点目とを互いに連携させることにより、本発明の利点
が有効に発揮される。すなわち、図7に示すように、物
体から順に、正屈折力群(φ1>0)、負屈折力群(φ
2<0)、正屈折力群(φ3>0)、負屈折力群(φ4
<0)、正屈折力群(φ5>0)という屈折力配置に、
向かいあった凸面の対及び向かいあった凹面の対を適宜
配置する。より具体的には、正屈折力群には、互いに向
かいあった凸面の対を2つ以上含ませ、負屈折力群に
は、互いに向かいあった凹面の対を2つ以上含ませ、条
件(1)及び(2)を満足させるようにする。このと
き、屈折力群は、面によって群分けされ、要素群とす
る。
2点目とを互いに連携させることにより、本発明の利点
が有効に発揮される。すなわち、図7に示すように、物
体から順に、正屈折力群(φ1>0)、負屈折力群(φ
2<0)、正屈折力群(φ3>0)、負屈折力群(φ4
<0)、正屈折力群(φ5>0)という屈折力配置に、
向かいあった凸面の対及び向かいあった凹面の対を適宜
配置する。より具体的には、正屈折力群には、互いに向
かいあった凸面の対を2つ以上含ませ、負屈折力群に
は、互いに向かいあった凹面の対を2つ以上含ませ、条
件(1)及び(2)を満足させるようにする。このと
き、屈折力群は、面によって群分けされ、要素群とす
る。
【0030】ここで、もし、本発明の第1点目のみしか
満足しないと、負屈折力群の屈折力を収差の発生を抑え
ながら大きくすることができるが、負屈折力群からの光
束の発散角が大きくなりすぎ、正屈折力群の有効径を大
きくしてしまう。結局この正屈折力群のレンズ径を大き
く出来ないことから、負屈折力群の屈折力をある程度ま
でしか大きくできなくなってしまう。また、本発明の第
2点のみしか満足しないと、互いに逆向きの凸面を含ま
ない正屈折力群と、互いに逆向きの凹面を含まない負屈
折力群を、順番に交互に配列することになるが、極端に
は図8に示したような、正レンズと負レンズを交互に配
置した、いわばロッドレンズ状のような光学系となり、
これは1本のロッドと1個の正レンズの組み合せと同等
の光学系と言わねばならない。このような光学系では、
なるほど屈折面は多く存在し、収差補正の自由度が多い
ように見えるが、実は各レンズ群に入る光線の入射角を
小さくできず、収差補正が困難となるのである。
満足しないと、負屈折力群の屈折力を収差の発生を抑え
ながら大きくすることができるが、負屈折力群からの光
束の発散角が大きくなりすぎ、正屈折力群の有効径を大
きくしてしまう。結局この正屈折力群のレンズ径を大き
く出来ないことから、負屈折力群の屈折力をある程度ま
でしか大きくできなくなってしまう。また、本発明の第
2点のみしか満足しないと、互いに逆向きの凸面を含ま
ない正屈折力群と、互いに逆向きの凹面を含まない負屈
折力群を、順番に交互に配列することになるが、極端に
は図8に示したような、正レンズと負レンズを交互に配
置した、いわばロッドレンズ状のような光学系となり、
これは1本のロッドと1個の正レンズの組み合せと同等
の光学系と言わねばならない。このような光学系では、
なるほど屈折面は多く存在し、収差補正の自由度が多い
ように見えるが、実は各レンズ群に入る光線の入射角を
小さくできず、収差補正が困難となるのである。
【0031】また前述のUSP−5,260,832号
に開示されているように、互いに逆向きの凹面の組みの
後に正屈折力群を配し、さらに互いに逆向きの凹面の組
みを含むように構成したものの一例を図10に示す。図
10からもわかるように、光線の入射角i2bは、図8
で示した光学系ほど大きくはないが、本発明による図9
に示した光学系よりも大きくなっている。
に開示されているように、互いに逆向きの凹面の組みの
後に正屈折力群を配し、さらに互いに逆向きの凹面の組
みを含むように構成したものの一例を図10に示す。図
10からもわかるように、光線の入射角i2bは、図8
で示した光学系ほど大きくはないが、本発明による図9
に示した光学系よりも大きくなっている。
【0032】この様に、本発明の第1点と第2点を連携
させることで、本発明の効果を有効に発揮させることが
できる。以上では、要素群に関して説明を行ったが、上
述のように要素群は屈折面で分けるものであるから、こ
れをレンズで分けるようにすると、物体側から順に、少
なくとも2枚の正レンズを有し全体として正屈折力の第
1レンズ群G1と、少なくとも2枚の負レンズを有し全
体として負屈折力の第2レンズ群G2と、少なくとも2
枚の正レンズを有し全体として正屈折力の第3レンズ群
G3と、少なくとも2枚の負レンズを有し全体として負
屈折力の第4レンズ群G4と、少なくとも2枚の正レン
ズを有し全体として正屈折力の第5レンズ群G5と、少
なくとも2枚の負レンズを有し全体として負屈折力の第
6レンズ群G6と、少なくとも2枚の正レンズを有し全
体として正屈折力の第7レンズ群G7と、を含む投影光
学系になる。
させることで、本発明の効果を有効に発揮させることが
できる。以上では、要素群に関して説明を行ったが、上
述のように要素群は屈折面で分けるものであるから、こ
れをレンズで分けるようにすると、物体側から順に、少
なくとも2枚の正レンズを有し全体として正屈折力の第
1レンズ群G1と、少なくとも2枚の負レンズを有し全
体として負屈折力の第2レンズ群G2と、少なくとも2
枚の正レンズを有し全体として正屈折力の第3レンズ群
G3と、少なくとも2枚の負レンズを有し全体として負
屈折力の第4レンズ群G4と、少なくとも2枚の正レン
ズを有し全体として正屈折力の第5レンズ群G5と、少
なくとも2枚の負レンズを有し全体として負屈折力の第
6レンズ群G6と、少なくとも2枚の正レンズを有し全
体として正屈折力の第7レンズ群G7と、を含む投影光
学系になる。
【0033】本発明の第2点目より、正屈折力の第1レ
ンズ群G1から正屈折力の第5レンズ群G5までは、上
述の説明により、必要となる。また、2対の向かい合っ
た凹面或いは凸面を含ませるために、最低限2枚の負レ
ンズ或いは正レンズが必要になる。そして、要素群の分
け方では条件(1)及び(2)が必要になったが、これ
をレンズで分けによる投影光学系で達成しようとする
と、条件(1)及び(2)を満足する代わりとして、更
に、負屈折力の第6レンズ群G6及び正屈折力の第7レ
ンズ群G7が必要になるのである。
ンズ群G1から正屈折力の第5レンズ群G5までは、上
述の説明により、必要となる。また、2対の向かい合っ
た凹面或いは凸面を含ませるために、最低限2枚の負レ
ンズ或いは正レンズが必要になる。そして、要素群の分
け方では条件(1)及び(2)が必要になったが、これ
をレンズで分けによる投影光学系で達成しようとする
と、条件(1)及び(2)を満足する代わりとして、更
に、負屈折力の第6レンズ群G6及び正屈折力の第7レ
ンズ群G7が必要になるのである。
【0034】尚、本発明の投影光学系は、物体(レチク
ル)および像(ウエハー)の平坦性の悪化に起因する像
の歪みを防ぐために、物体側の入射瞳と像側の射出瞳を
無限遠近くにする、いわゆる両テレセントリックにする
ことが望ましい。以下に示す実施例では、物体側および
像側に正屈折力群を配置することにより、テレセン性を
確保している。
ル)および像(ウエハー)の平坦性の悪化に起因する像
の歪みを防ぐために、物体側の入射瞳と像側の射出瞳を
無限遠近くにする、いわゆる両テレセントリックにする
ことが望ましい。以下に示す実施例では、物体側および
像側に正屈折力群を配置することにより、テレセン性を
確保している。
【0035】
【実施例】以下に、本発明の数値実施例を示す。 〔第1実施例〕第1実施例は、1/4倍の倍率を持つ投
影光学系であり、像側の開口数NAは0.6、最大物体
高は52.8であり、これはレチクルのサイズで、7
4.5×74.5(一括露光)、または90×55(ス
キャン露光)等の面積を露光できる。
影光学系であり、像側の開口数NAは0.6、最大物体
高は52.8であり、これはレチクルのサイズで、7
4.5×74.5(一括露光)、または90×55(ス
キャン露光)等の面積を露光できる。
【0036】光学ガラスは屈折率は1.50839の溶
融石英であり、全29枚のレンズと開口絞り付近にフィ
ルター1枚を使用し、紫外線エキシマレーザーの248
nmの単色波長における球面収差、コマ収差、非点収
差、歪曲収差を良好に補正し、優れた性能の光学系を提
供している。レンズの最大有効径は220以下でありな
がら、物体像間距離は1144という、非常に小型の光
学系を達成することができたものである。
融石英であり、全29枚のレンズと開口絞り付近にフィ
ルター1枚を使用し、紫外線エキシマレーザーの248
nmの単色波長における球面収差、コマ収差、非点収
差、歪曲収差を良好に補正し、優れた性能の光学系を提
供している。レンズの最大有効径は220以下でありな
がら、物体像間距離は1144という、非常に小型の光
学系を達成することができたものである。
【0037】表1に本実施例の諸元を示し、図11に本
実施例の光学系の断面図、図12に本実施例の光学系の
横収差図、図13に本実施例の光学系の非点収差及び歪
曲収差図をそれぞれ示す。表1中で、溶融石英はQUARTZ
と記載してある。また、横収差図は、像高Yが13.
2、12.0、8.05及び3.96のときを示した。
非点収差図は、原点を最良像面としており、ガウス像面
を基準としていない。
実施例の光学系の断面図、図12に本実施例の光学系の
横収差図、図13に本実施例の光学系の非点収差及び歪
曲収差図をそれぞれ示す。表1中で、溶融石英はQUARTZ
と記載してある。また、横収差図は、像高Yが13.
2、12.0、8.05及び3.96のときを示した。
非点収差図は、原点を最良像面としており、ガウス像面
を基準としていない。
【0038】尚、第1要素群E1の互いに向かいあった
凸面をS11〜S14とし、第2要素群E2の互いに向
かいあった凹面をS21〜S24とし、第3要素群E3
の互いに向かいあった凸面をS31〜S34とし、第4
要素群E4の互いに向かいあった凹面をS41〜S44
とし、第5要素群E5の互いに向かいあった凸面をS5
1〜S54とする。第6要素群E6の互いに向かいあっ
た凹面をS61〜S64とし、第7要素群E7の互いに
向かいあった凸面をS71〜S74とする。
凸面をS11〜S14とし、第2要素群E2の互いに向
かいあった凹面をS21〜S24とし、第3要素群E3
の互いに向かいあった凸面をS31〜S34とし、第4
要素群E4の互いに向かいあった凹面をS41〜S44
とし、第5要素群E5の互いに向かいあった凸面をS5
1〜S54とする。第6要素群E6の互いに向かいあっ
た凹面をS61〜S64とし、第7要素群E7の互いに
向かいあった凸面をS71〜S74とする。
【0039】また、条件対応値を表2に示す。
【0040】
【表1】 面番号 曲率半径 面間隔 硝材 0.0 105.268 レチクル 1 -669.68334 20.0 QUARTZ E7 G1 2 -309.99459 0.1 S71 3 210.29663 27.886 QUARTZ S72 4 -516.37585 0.100 S73 5 270.30754 19.249 QUARTZ S74 6 -7567.33941 0.100 7 182.90544 11.000 QUARTZ G2 8 104.85643 20.500 E6 S61 9 -264.44547 11.000 QUARTZ S62 10 172.70392 16.000 S63 11 -249.30625 11.000 QUARTZ S64 12 235.21985 35.766 13 -111.29536 23.005 QUARTZ 14 -133.32390 0.100 E1 S11 15 -460.00737 30.000 QUARTZ G3 16 -223.26007 0.100 17 1915.62813 30.000 QUARTZ 18 -211.75310 0.100 S12 19 161.95905 40.000 QUARTZ S13 20 -3974.64491 22.406 21 -745.39682 10.000 QUARTZ 22 -9743.67518 26.532 23 268.27626 11.000 QUARTZ S14 G4 24 114.96474 27.000 E2 S21 25 -228.25526 11.000 QUARTZ S22 26 167.51021 34.000 S23 27 -130.00000 11.000 QUARTZ S24 28 -1300.88357 7.742 29 -311.67129 25.000 QUARTZ E3 G5 30 -190.88633 0.100 S31 31 2674.55282 37.000 QUARTZ 32 -228.59122 0.100 S32 33 1317.72265 35.000 QUARTZ 34 -317.60710 0.100 35 193.21354 50.000 QUARTZ S33 36 -1045.73820 0.100 37 165.16413 24.000 QUARTZ S34 38 308.29209 7.565 39 856.28379 11.000 QUARTZ E4 G6 40 130.37900 35.000 S41 41 -249.45861 11.000 QUARTZ S42 42 175.52447 32.000 S43 43 -144.77608 11.000 QUARTZ S44 44 -740.78121 3.986 45 0.00000 5.000 QUARTZ 46 0.00000 3.986 47 0.00000 5.986 絞り S 48 -613.66107 25.598 QUARTZ E5 G7 49 -187.65130 0.100 S51 50 602.78505 35.000 QUARTZ 51 -295.54740 0.100 S52 52 213.08484 35.000 QUARTZ 53 -2955.27523 0.100 54 173.99718 33.578 QUARTZ S53 55 1169.89682 0.100 56 151.76291 32.183 QUARTZ S54 57 296.12642 10.384 58 -963.67753 26.400 QUARTZ 59 1673.62416 1.909 60 787.04410 63.396 QUARTZ 61 -773.03300 20.467 0.00000 ウェハー
【0041】
【表2】 面番号 |L×φ凸| |L×φ凹| 14 S11 4.36 18 S12 2.75 19 S13 3.59 23 S14 2.17 24 S21 5.06 25 S22 2.55 26 S23 3.47 27 S24 4.47 30 S31 3.05 32 S32 2.54 35 S33 3.01 37 S34 3.52 40 S41 4.46 41 S42 2.33 42 S43 3.31 43 S44 4.02 49 S51 3.10 51 S52 1.97 54 S53 3.34 56 S54 3.83 〔第2実施例〕第2実施例は1/4倍の倍率を持つ投影
光学系であり、像側の開口数NAは0.6、最大物体高
は52.8であり、これはレチクルのサイズで、74.
5×74.5(一括露光)、または90×55(スキャ
ン露光)等の面積を露光できる。
光学系であり、像側の開口数NAは0.6、最大物体高
は52.8であり、これはレチクルのサイズで、74.
5×74.5(一括露光)、または90×55(スキャ
ン露光)等の面積を露光できる。
【0042】光学ガラスは屈折率は1.50839の溶
融石英であり、全30枚のレンズを使用し、紫外線エキ
シマレーザーの248nmの単色波長における球面収
差、コマ収差、非点収差、歪曲収差を良好に補正し、優
れた性能の光学系を提供している。レンズの最大有効径
は220以下でありながら、物体像間距離は1200と
いう、非常に小型の光学系を達成することができたもの
である。
融石英であり、全30枚のレンズを使用し、紫外線エキ
シマレーザーの248nmの単色波長における球面収
差、コマ収差、非点収差、歪曲収差を良好に補正し、優
れた性能の光学系を提供している。レンズの最大有効径
は220以下でありながら、物体像間距離は1200と
いう、非常に小型の光学系を達成することができたもの
である。
【0043】表3に本実施例の諸元を示し、図14に本
実施例の光学系の断面図、図15に本実施例の光学系の
横収差図、図16に本実施例の光学系の非点収差及び歪
曲収差図をそれぞれ示す。表3中で、溶融石英はQUARTZ
と記載してある。また、横収差図は、像高Yが13.
2、12.0、8.05及び3.96のときを示した。
非点収差図は、原点を最良像面としており、ガウス像面
を基準としていない。
実施例の光学系の断面図、図15に本実施例の光学系の
横収差図、図16に本実施例の光学系の非点収差及び歪
曲収差図をそれぞれ示す。表3中で、溶融石英はQUARTZ
と記載してある。また、横収差図は、像高Yが13.
2、12.0、8.05及び3.96のときを示した。
非点収差図は、原点を最良像面としており、ガウス像面
を基準としていない。
【0044】尚、第1要素群E1の互いに向かいあった
凸面をS11〜S14とし、第2要素群E2の互いに向
かいあった凹面をS21〜S24とし、第3要素群E3
の互いに向かいあった凸面をS31〜S34とし、第4
要素群E4の互いに向かいあった凹面をS41〜S44
とし、第5要素群E5の互いに向かいあった凸面をS5
1〜S54とする。
凸面をS11〜S14とし、第2要素群E2の互いに向
かいあった凹面をS21〜S24とし、第3要素群E3
の互いに向かいあった凸面をS31〜S34とし、第4
要素群E4の互いに向かいあった凹面をS41〜S44
とし、第5要素群E5の互いに向かいあった凸面をS5
1〜S54とする。
【0045】また、条件対応値を表4に示す。
【0046】
【表3】 面番号 曲率半径 面間隔 硝材 0.00000 92.000 レチクル 1 2493.23732 25.000 QUARTZ E7 G1 2 -236.58134 10.000 S71 3 -148.11147 15.000 QUARTZ 4 -148.34915 0.100 S72 5 119.90171 35.000 QUARTZ S73 6 1824.15576 0.100 7 274.63898 15.000 QUARTZ S74 G2 8 106.93904 13.726 E6 S61 9 671.60093 11.000 QUARTZ 10 110.28695 25.000 S62 11 -125.90464 11.000 QUARTZ S63 12 172.41263 64.790 13 -1143.55993 23.000 QUARTZ S64 G3 14 -307.74033 0.100 E1 15 -8562.31817 30.000 QUARTZ 16 -290.74206 0.100 S11 17 1020.26237 45.000 QUARTZ 18 -255.59916 0.100 S12 19 171.99888 45.000 QUARTZ S13 20 -14811.05009 0.100 21 193.20293 15.000 QUARTZ S14 G4 22 118.39968 34.814 E2 S21 23 -818.52074 15.000 QUARTZ 24 6209.59730 9.300 25 -335.94897 11.000 QUARTZ S22 26 140.10037 40.000 S23 27 -153.76519 11.000 QUARTZ S24 28 1508.16730 9.572 29 -482.58926 20.000 QUARTZ E3 G5 30 -251.12791 0.100 S31 31 -3776.08034 23.000 QUARTZ 32 -458.90305 0.100 33 707.19806 40.000 QUARTZ 34 -249.98389 0.100 S32 35 196.24303 50.000 QUARTZ S33 36 -761.51138 0.100 37 228.86296 15.000 QUARTZ G6 38 159.74733 0.100 39 145.33393 20.000 QUARTZ S34 40 141.86524 35.000 E4 S41 41 -271.75071 11.000 QUARTZ S42 42 155.67524 20.000 S43 43 -744.49686 15.000 QUARTZ 44 -729.49976 14.697 45 -153.05350 11.000 QUARTZ S44 46 -47484.19937 5.000 47 0.00000 7.000 絞り S 48 -897.96322 23.906 QUARTZ E5 G7 49 -210.31265 0.100 S51 50 701.37353 35.000 QUARTZ 51 -310.76514 0.100 S52 52 262.98965 35.000 QUARTZ 53 -1180.57855 0.100 54 181.39870 40.000 QUARTZ S53 55 1390.24765 0.100 56 154.33848 26.840 QUARTZ S54 57 456.12487 12.730 58 -494.82949 44.682 QUARTZ 59 -455.26201 0.100 60 692.73137 66.877 QUARTZ 61 1914.75411 20.467 0.00000 ウェハー
【0047】
【表4】 面番号 |L×φ凸| |L×φ凹| 16 S11 2.10 18 S12 2.39 19 S13 3.55 21 S14 3.16 22 S21 5.15 25 S22 1.82 26 S23 4.35 27 S24 3.97 30 S31 2.43 34 S32 2.44 35 S33 3.11 39 S34 4.20 40 S41 4.30 41 S42 2.24 42 S43 3.92 45 S44 3.99 49 S51 2.90 51 S52 1.96 54 S53 3.36 56 S54 3.95
【0048】
【発明の効果】正屈折力の要素群、負屈折力の要素群と
いう交互の構成を採ること及び互いに逆向きの対の面を
2組み持つ構成とすることにより、光学系の原理的な全
長とレンズ径を縮小すると共に、収差の発生を抑えるこ
とができる。特に、ペッツバール和を低い値に保つこと
が可能である。これにより、小型でありながら、高い解
像力と広い露光領域の両者を満足する投影光学系を得る
ことができた。
いう交互の構成を採ること及び互いに逆向きの対の面を
2組み持つ構成とすることにより、光学系の原理的な全
長とレンズ径を縮小すると共に、収差の発生を抑えるこ
とができる。特に、ペッツバール和を低い値に保つこと
が可能である。これにより、小型でありながら、高い解
像力と広い露光領域の両者を満足する投影光学系を得る
ことができた。
【図1】 図1は、本発明の第1の作用の基本概念を示
した図である。
した図である。
【図2】 図2は、図1に示した例の平面部を結合した
図である。
図である。
【図3】 図3は、入射光線が同一で入射面が異なる場
合を示した図である。
合を示した図である。
【図4】 図4は、従来の投影光学系の屈折力配置を示
した図である。
した図である。
【図5】 図5は、本発明の投影光学系の屈折力配置
(第2の作用の基本概念)を示した図である。
(第2の作用の基本概念)を示した図である。
【図6】 図6は、図5に示した例を更に発展させた投
影光学系の屈折力配置を示した図である。
影光学系の屈折力配置を示した図である。
【図7】 図7は、本発明の投影光学系の基本概念を示
した図である。
した図である。
【図8】 図8は、従来の投影光学系のレンズ配置を表
した図である。
した図である。
【図9】 図9は、図6に示した屈折力配置をレンズ配
置として示した図である。
置として示した図である。
【図10】 図10は、別の従来の投影光学系のレンズ
配置を表した図である。
配置を表した図である。
【図11】 図11は、第1実施例の投影光学系の断面
図である。
図である。
【図12】 図12は、第1実施例の投影光学系の横収
差図である。
差図である。
【図13】 図13は、第1実施例の投影光学系の非点
収差及び歪曲収差図である。
収差及び歪曲収差図である。
【図14】 図14は、第2実施例の投影光学系の断面
図である。
図である。
【図15】 図15は、第2実施例の投影光学系の横収
差図である。
差図である。
【図16】 図16は、第2実施例の投影光学系の非点
収差及び歪曲収差図である。
収差及び歪曲収差図である。
S 絞り E1〜7 各要素群 S11〜S74 各向かいあった面 G1〜7 各レンズ群
Claims (6)
- 【請求項1】物体側から順に、 互いに向かいあった凸面の対を少なくとも2つ以上含む
正屈折力の第1要素群E1と、 互いに向かいあった凹面の対を少なくとも2つ以上含む
負屈折力の第2要素群E2と、 互いに向かいあった凸面の対を少なくとも2つ以上含む
正屈折力の第3要素群E3と、 互いに向かいあった凹面の対を少なくとも2つ以上含む
負屈折力の第4要素群E4と、 互いに向かいあった凸面の対を少なくとも2つ以上含む
正屈折力の第5要素群E5と、を含み、 前記第2要素群E2及び前記第4要素群E4の向かいあ
った凹面の屈折力をφ凹、前記第1要素群E1、前記第
3要素群E3及び前記第5要素群E5の向かいあった凸
面の屈折力をφ凸とし、物像間距離をLとするとき、 0.5<|L×φ凹|<15 0.5<|L×φ凸|<15 を満足することを特徴とする投影光学系。 - 【請求項2】物体側に、更に、負屈折力の第6要素群E
6を有することを特徴とする請求項1記載の投影光学
系。 - 【請求項3】前記第6要素群E6は凹面を少なくとも2
つ以上有することを特徴とする請求項2記載の投影光学
系。 - 【請求項4】物体側に、更に、正屈折力の第7要素群E
7を有することを特徴とする請求項1乃至3記載の投影
光学系。 - 【請求項5】前記第7要素群E7は凸面を少なくとも2
つ以上有することを特徴とする請求項4記載の投影光学
系。 - 【請求項6】物体側から順に、 少なくとも2枚の正レンズを有し全体として正屈折力の
第1レンズ群G1と、 少なくとも2枚の負レンズを有し全体として負屈折力の
第2レンズ群G2と、 少なくとも2枚の正レンズを有し全体として正屈折力の
第3レンズ群G3と、 少なくとも2枚の負レンズを有し全体として負屈折力の
第4レンズ群G4と、 少なくとも2枚の正レンズを有し全体として正屈折力の
第5レンズ群G5と、 少なくとも2枚の負レンズを有し全体として負屈折力の
第6レンズ群G6と、 少なくとも2枚の正レンズを有し全体として正屈折力の
第7レンズ群G7と、を含むことを特徴とする投影光学
系。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8208649A JPH1048517A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 投影光学系 |
US08/906,981 US5956182A (en) | 1996-08-07 | 1997-08-06 | Projection optical system |
EP97113554A EP0828171A3 (en) | 1996-08-07 | 1997-08-06 | Projection optical system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8208649A JPH1048517A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 投影光学系 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1048517A true JPH1048517A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16559751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8208649A Pending JPH1048517A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 投影光学系 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5956182A (ja) |
EP (1) | EP0828171A3 (ja) |
JP (1) | JPH1048517A (ja) |
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JP2014030044A (ja) * | 2006-05-05 | 2014-02-13 | Corning Inc | 疑似テレセントリック結像レンズの歪調整 |
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JPH1195095A (ja) | 1997-09-22 | 1999-04-09 | Nikon Corp | 投影光学系 |
US6700645B1 (en) | 1998-01-22 | 2004-03-02 | Nikon Corporation | Projection optical system and exposure apparatus and method |
JPH11214293A (ja) | 1998-01-22 | 1999-08-06 | Nikon Corp | 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法 |
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DE19855108A1 (de) * | 1998-11-30 | 2000-05-31 | Zeiss Carl Fa | Mikrolithographisches Reduktionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und -Verfahren |
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KR100319455B1 (ko) * | 1999-12-24 | 2002-01-05 | 오길록 | 결정화 장비용 광학 시스템 |
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JP2002323652A (ja) | 2001-02-23 | 2002-11-08 | Nikon Corp | 投影光学系,該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法 |
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US20080151364A1 (en) | 2004-01-14 | 2008-06-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective |
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