JPH116957A - 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法 - Google Patents

投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法

Info

Publication number
JPH116957A
JPH116957A JP10106805A JP10680598A JPH116957A JP H116957 A JPH116957 A JP H116957A JP 10106805 A JP10106805 A JP 10106805A JP 10680598 A JP10680598 A JP 10680598A JP H116957 A JPH116957 A JP H116957A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens group
refractive power
optical system
lens
image plane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10106805A
Other languages
English (en)
Inventor
Kotaro Yamaguchi
弘太郎 山口
Kiyoshi Hayashi
清志 林
Yuuto Takahashi
友刀 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP10106805A priority Critical patent/JPH116957A/ja
Priority to US09/067,771 priority patent/US6008884A/en
Publication of JPH116957A publication Critical patent/JPH116957A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70241Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/24Optical objectives specially designed for the purposes specified below for reproducing or copying at short object distances
    • G02B13/26Optical objectives specially designed for the purposes specified below for reproducing or copying at short object distances for reproducing with unit magnification

Abstract

(57)【要約】 【課題】非球面形状のレンズ面を使用することによって
大きなNAと広い露光領域を確保し、諸収差を極めて良
好に補正し得るコンパクトで高性能な投影光学系を提供
する。 【解決手段】物体側から像面側へ向かって順に、正の屈
折力の第1レンズ群と、負の屈折力の第2レンズ群と、
少なくとも3枚以上の正屈折力のレンズを有し、全体と
して正の屈折力の第3レンズ群と、少なくとも3枚以上
の負屈折力のレンズを有し、全体として負の屈折力の第
4レンズ群と、少なくとも3枚以上の正屈折力のレンズ
を有し、全体として正の屈折力の第5レンズ群と、正の
屈折力の第6レンズ群と、を含み、前記第4レンズ群ま
たは前記第5レンズ群に非球面を少なくとも1面以上含
むように構成したことを特徴とする投影光学系を提供す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、物体のパターンを
像面に投影するための投影光学系に関するものであり、
特に、物体としてレチクル(マスク)上に形成された半
導体用または液晶用のパターンを、像面としての基板
(ウェハ、プレート等)上に投影露光するのに好適な投
影光学系に係るものである。
【0002】
【従来の技術】レチクル上のパターンをウェハ上に投影
露光するための投影光学系において、複数のレンズ面を
非球面形状で構成した場合には、使用されるレンズ枚数
を低減することができ、これによってより高い透過率を
有し、より軽い光学系を得ることが可能となる。このよ
うな技術として、特開平1−315709号公報、特開
平5−34593号公報、特開平7−128592号公
報に開示された投影光学系が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、集積
回路のパターンの微細化が進むに従って、ウェハへのパ
ターン焼き付けに用いられる投影光学系に対して要求さ
れる性能もますます厳しくなってきている。このような
状況の中で、投影光学系の解像力の向上のためには、投
影光学系の開口数(NA)を大きくすることが考えられ
ている。
【0004】上記各特許公報に開示された光学系では、
光学系の硝材総肉厚を薄くして透過率を向上させる目的
で非球面形状のレンズ面を使用しており、十分大きなN
Aではなく、露光領域も広いものではない。本発明はこ
のような問題点に鑑みてなされたものであり、非球面形
状のレンズ面を使用することによって大きなNAと広い
露光領域を確保し、諸収差を極めて良好に補正し得るコ
ンパクトで高性能な投影光学系を提供することを目的と
している。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、物体側から像面側へ向かって順に、正
の屈折力の第1レンズ群と、負の屈折力の第2レンズ群
と、少なくとも3枚以上の正屈折力のレンズを有し、全
体として正の屈折力の第3レンズ群と、少なくとも3枚
以上の負屈折力のレンズを有し、全体として負の屈折力
の第4レンズ群と、少なくとも3枚以上の正屈折力のレ
ンズを有し、全体として正の屈折力の第5レンズ群と、
正の屈折力の第6レンズ群と、を含み、前記第4レンズ
群または前記第5レンズ群に非球面を少なくとも1面以
上含むように構成したことを特徴とする投影光学系を提
供する。
【0006】また、本発明では、上記投影光学系を搭載
した投影露光装置も提供する。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の投影光学系では、物体側
から順に、正屈折力の第1レンズ群G1、負屈折力の第
2レンズ群G2、正屈折力の第3レンズ群G3、負屈折
力の第4レンズ群G4、正屈折力の第5レンズ群G5、
及び正屈折力の第6レンズ群G6を少なくとも有する構
成としている。
【0008】正の屈折力を持つ第1レンズ群G1は、テ
レセントリック性を維持しながら主に歪曲収差の補正に
寄与している。第1レンズ群G1では正の歪曲収差を発
生させることにより、第2レンズ群G2以降のレンズ群
にて発生する負の歪曲収差をバランス良く補正してい
る。負の屈折力を持つ第2レンズ群G2及び正の屈折力
を持つ第3レンズ群G3では、この2つの群において逆
望遠系を形成し、投影光学系の全長を短くすることに寄
与している。
【0009】また、負の屈折力を持つ第2レンズ群G2
及び第4レンズ群G4は、主にペッツバール和の補正に
寄与し、像面の平坦化を図っている。それぞれ正の屈折
力を持つ第5レンズ群G5及び第6レンズ群G6は、負
の歪曲収差の発生を抑えつつ、像面側での高NA化に対
応するために特に球面収差の発生を極力抑えることに寄
与している。
【0010】上述のように、第2レンズ群G2及び第3
レンズ群G3によって逆望遠系を形成しているが、本発
明では、特に、第3レンズ群G3によって発生するコマ
収差を良好に補正するために、第3レンズ群G3で3枚
以上の正屈折力のレンズを用いている。また、ペッツバ
ール和をゼロに近づけるために、第4レンズ群G4で3
枚以上の負屈折力のレンズを用い、球面収差を良好に補
正するために、第5レンズ群G5で3枚以上の正屈折力
のレンズを用いている。
【0011】さらに、第4レンズ群G4中に非球面を配
置することによって、屈折系の球面レンズのみで構成さ
れた明るい光学系で残存しがちな画角に関する収差、特
にサジタル方向のコマ収差を抑えることが可能となる。
この場合、非球面としては、凹面にレンズ周辺で光軸近
傍の屈折力を弱める形状の非球面を設けることが好まし
い。
【0012】また、第5レンズ群G5中に非球面を配置
することによって、高NAに関する収差、特に高次の球
面収差を補正することが可能となる。これは、第4レン
ズ群G4中のレンズ面であっても、より像面側のレンズ
面に非球面を配置すれば同じ効果を得ることができる。
この場合、非球面化を行うレンズ面が凸面ならば、レン
ズ周辺で光軸近傍の屈折力を弱める形状にすることが好
ましく、非球面化を行うレンズ面が凹面ならば、レンズ
周辺で光軸近傍の屈折力を強める形状にすることが好ま
しい。つまり高NAで広い露光領域の投影光学系を構成
するには、少なくとも第4レンズ群G4中又は第5レン
ズ群G5中に非球面形状のレンズ面を配置することが収
差補正上好ましい。
【0013】また、第4レンズ群G4及び第5レンズ群
G5以外のレンズ群のレンズ面に非球面を配置しても収
差補正に有効である。例えば、第1レンズ群G1に非球
面を配置すると主に歪曲収差を補正でき、第2レンズ群
G2に非球面を配置すれば主に入射瞳の収差(物体高に
対応する入射瞳位置のずれ)を小さくできる。また、第
3レンズ群G3又は第6レンズ群G6に非球面を配置す
ると、主にコマ収差を補正することが可能である。尚、
上記各群の光学要素の一部が平行平面板のように屈折力
を持たない光学要素であっても非球面形状にすれば同様
の効果を得ることができる。
【0014】また、本発明では、以下の条件を満足する
ことが好ましい。 0.1 < f1/f3 < 15 (1) 0.05 < f2/f4 < 6 (2) 0.01 < f5/L < 1.2 (3) 0.02 < f6/L < 1.8 (4) ここで、f1は第1レンズ群G1の焦点距離、f2は第
2レンズ群G2の焦点距離、f3は第3レンズ群G3の
焦点距離、f4は第4レンズ群G4の焦点距離、f5は
第5レンズ群G5の焦点距離、f6は第6レンズ群G6
の焦点距離、及びLは物体から像面までの距離とする。
【0015】条件(1)では、正の屈折力の第1レンズ
群G1の焦点距離f1と正の屈折力の第3レンズ群G3
の焦点距離f3との最適な比率を規定している。この条
件(1)は主に歪曲収差をバランス良く補正するための
ものであり、この条件(1)の下限を越えると、第3レ
ンズ群G3の屈折力が第1レンズ群G1の屈折力に対し
て相対的に弱くなるため、負の歪曲収差が大きく発生す
る。また条件(1)の上限を越えると、第1レンズ群G
1の屈折力が第3レンズ群G3の屈折力に対して相対的
に弱くなるため、負の歪曲収差が大きく発生する。
【0016】条件(2)では、負の屈折力の第2レンズ
群G2の焦点距離f2と負の屈折力の第4レンズ群G4
の焦点距離f4との最適な比率を規定している。この条
件(2)は、主にペッツバール和を小さく(0に近く)
して、広い露光領域を確保しつつ像面湾曲を良好に補正
するためのものである。条件(2)の下限を越えると、
第4レンズ群の屈折力が第2レンズ群の屈折力に対して
相対的に弱くなるため正のペッツバール和が大きく発生
する。この条件(2)の上限を越えると、第2レンズ群
の屈折力が第4レンズ群の屈折力に対して相対的に弱く
なるため正のペッツバール和が大きく発生する。
【0017】条件(3)では、第5レンズ群G5の最適
な屈折力を規定している。この条件(3)は、大きな開
口数を保ちながら球面収差、歪曲収差及びペッツバール
和をバランス良く補正するためのものである。この条件
(3)の下限を越えると、第5レンズ群G5の屈折力が
大きくなり過ぎ、この第5レンズ群G5にて負の歪曲収
差のみならず負の球面収差が甚大に発生するようにな
る。また、この条件(3)の上限を越えると、第5レン
ズ群G5の屈折力が弱くなり過ぎ、これに伴って負の屈
折力の第4レンズ群G4の屈折力も必然的に弱くなり、
この結果、ペッツバール和を良好に補正することができ
ない。
【0018】条件(4)では、第6レンズ群G6の最適
な屈折力を規定している。この条件(4)は、大きな開
口数を保ちながら高次の球面収差及び負の歪曲収差の発
生を抑えるためのものである。この条件(4)の下限を
越えると、第6レンズ群G6自身にて負の歪曲収差が大
きく発生し、この条件(4)の上限を越えると、高次の
球面収差が発生する。
【0019】また、第4レンズ群G4は、次の条件を満
足することが好ましい。 −0.3 < f4/L < −0.005 (5) 条件(5)では、第4レンズ群G4の最適な屈折力を規
定している。条件(5)の下限を越えると、球面収差の
補正が困難となるため好ましくない。また、条件(5)
の上限を越えると、コマ収差が発生するため好ましくな
い。球面収差及びペッツバール和を良好に補正するため
には、条件(5)の下限値を−0.078とすることが
好ましく、さらにコマ収差の発生を抑えるためには条件
(5)の上限値を−0.047とすることが好ましい。
【0020】また、第2レンズ群G2は、次の条件を満
足することが好ましい。 −0.5 < f2/L < −0.005 (6) 条件(6)では、第2レンズ群G2の最適な屈折力を規
定している。ここで、条件(6)の下限を越えると、ペ
ッツバール和が正の大きな値になるため好ましくない。
また、条件(6)の上限を越えると、負の歪曲収差が発
生するため好ましくない。なお、ペッツバール和をさら
に良好に補正するためには、条件(6)の下限値を−
0.16とすることが好ましく、負のディストーション
とコマ収差とをさらに良好に補正するためには、条件
(6)の上限値を−0.0710とすることが好まし
い。
【0021】さらに、ペッツバール和の値と歪曲収差と
をより良好に補正するためには、第2レンズ群G2は、
負の屈折力を持つレンズを少なくとも3枚以上含み、第
2レンズ群G2中の第3レンズから第5レンズまでの合
成焦点距離をf2nとし、物体から像面までの距離をL
とするとき、以下の条件を満足することが好ましい。 −0.3 < f2n/L < −0.01 (7) ここで、条件(7)の下限を越えると、ペッツバール和
が正の大きな値になるため好ましくない。また、条件
(7)の上限を越えると、負の歪曲収差が発生するため
好ましくない。
【0022】また、第5レンズ群G5は、負メニスカス
レンズを含み、第5レンズ群G5中の負メニスカスレン
ズにおける凹面の曲率半径をR5nとし、物体から像面
までの距離をLとするとき、以下の条件を満足すること
が好ましい。 0.1 < |R5n|/L <0.5 (8) 第5レンズ群中の少なくとも1枚負メニスカスレンズを
配置することにより、高NAに応じて発生する高次の球
面収差を補正することができる。
【0023】ここで、条件(8)の下限を越えると、球
面収差が補正過剰の方向に大きく発生するため好ましく
ない。また、条件(8)の上限を越えると、球面収差は
補正不足の方向に大きく発生するため好ましくない。よ
り良好に収差補正を行うためには、上限を0.3とし、
下限を0.15とすることが好ましい。さらに、第6レ
ンズ群G6は、負メニスカスレンズを含み、第6レンズ
群G6中の負メニスカスレンズにおける凹面の曲率半径
をR6nとし、物体から像面までの距離をLとすると
き、以下の条件を満足することが好ましい。
【0024】 0.03 < |R6n|/L <0.15 (9) 第6レンズ群中に少なくとも1枚の負メニスカスレンズ
を配置することにより、第6レンズ群中の正レンズから
発生する負の球面収差及び負の歪曲収差を補正すること
が可能になる。この条件(9)の下限を越えると、歪曲
収差及び球面収差を共に補正することが困難となり、こ
の条件(9)の上限を越えると、コマ収差が大きく発生
するため好ましくない。収差を良好に補正するために
は、条件(9)の下限値を0.05とすることが好まし
い。
【0025】さらに、前記第1レンズ群G1は、負の屈
折力を持つレンズを含み、第1レンズ群G1中の負の屈
折力を持つレンズの像面側の曲率半径をR1nとすると
き、以下の条件を満足することが好ましい。 0.1 < |R1n|/L < 0.5 (10) この条件(10)の下限を越えると、負の歪曲収差が大
きく発生し、この条件(10)の上限を越えると、像面
湾曲の補正が困難となるため好ましくない。
【0026】
【実施例】以下に、本発明による各実施例を示す。ここ
で、各実施例中、非球面形状は、以下の式で与えられる
ものとする。
【0027】
【数1】
【0028】また、各実施例における諸元表で、rは曲
率半径を表し、dは面間隔を表し、nは波長248.4
nmでの屈折率を表している。 〔第1実施例〕第1実施例で示す投影光学系は、NAが
0.75で、倍率が1/4倍で、物体から像面までの距
離が1200で、物体から第1面までの光軸上の距離が
60.0で、最終面から像面までの距離が12.805
970で、最大像高が14.5である。
【0029】 〔諸元〕 面番号 r d n 1 -552.07638 18.000000 1.50839 G1 2 265.90878 3.120094 3 303.56674 25.392455 1.50839 4 -350.79337 0.500000 5 290.31959 23.811936 1.50839 6 -624.97721 0.500000 7 312.56146 21.494338 1.50839 8 -797.18857 0.500000 9 261.54552 29.172376 1.50839 G2 10 125.42248 18.785151 11 624.94963 13.000000 1.50839 12 168.74192 19.573060 13 -425.29079 13.000000 1.50839 14 305.76133 20.876454 15 -199.33811 13.000000 1.50839 16 856.47160 28.817472 17 -133.88550 13.515883 1.50839 18 -1224.09463 12.256929 19 -424.87732 25.795588 1.50839 G3 20 -190.54844 1.165877 21 -1188.77588 34.579068 1.50839 22 -245.12631 0.500000 23 -17375.73600 39.303374 1.50839 24 -300.00000 0.500000 25 619.48904 39.230416 1.50839 26 -600.00000 0.500000 27 333.78553 38.548189 1.50839 28 -3403.39561 0.834915 29 200.00000 35.678083 1.50839 30 595.18114 18.729269 31 1345.40672 15.064622 1.50839 G4 32 150.40751 33.085337 33 -2376.89219 13.177083 1.50839 34 153.73077 46.252835 非球面 35 -154.61578 13.177083 1.50839 36 -693.63984 27.484948 37 -151.27474 23.185494 1.50839 38 -41891.41764 18.186222 39 -780.08694 25.875000 1.50839 G5 非球面 40 -216.11014 2.191161 41 0.00000 12.650000 絞り 42 11593.32693 39.563021 1.50839 43 -286.19552 0.500000 44 449.04044 49.373870 1.50839 45 -449.10638 19.592109 46 -285.87741 21.961806 1.50839 47 -400.00000 4.525940 48 404.59626 28.919442 1.50839 49 2500.00000 3.401017 50 278.77327 34.590495 1.50839 51 1210.33063 0.500000 52 161.00000 37.613837 1.50839 53 344.55156 1.726253 54 149.63156 28.524224 1.50839 G6 55 292.14056 9.604067 56 550.00000 13.000000 1.50839 57 88.88938 27.500000 58 85.56699 65.287238 1.50839 59 492.74526 〔非球面データ〕 34面 κ : 0.090293 A :-.697976E-08 B :-.581788E-12 C :-.238374E-16 D :-.634191E-21 39面 κ : 4.380884 A :-.197323E-08 B :0.451378E-13 C :-.151975E-17 D :0.174755E-21 E :-.741606E-26 F :0.143029E-30 G :-.390455E-36 〔条件対応値〕 f1/f3 = 1.622 f2/f4 = 0.960 f5/L = 0.116 f6/L = 0.351 f4/L =−0.050 f2/L =−0.048 f2n/L =−0.093 |R5n|/L = 0.238 |R6n|/L = 0.074 |R1n|/L = 0.222 図1として、本実施例の光学系の断面図を示す。図中、
ASは非球面を表している。また、図2に本実施例の光
学系の横収差を、図3に本実施例の光学系の球面収差、
非点収差及び歪曲収差を示す。収差図中、NAは開口数
を表し、Yは像高を表している。 〔第2実施例〕第2実施例で示す投影光学系は、NAが
0.75で、倍率が1/4倍で、物体から像面までの距
離が1200で、物体から第1面までの光軸上の距離が
60.0で、最終面から像面までの距離が14.728
158で、最大像高が14.5である。
【0030】 〔諸元〕 r d n 1: -417.40181 18.000000 1.50839 G1 2: 294.54444 3.333675 3: 334.45870 24.993761 1.50839 4: -339.46258 0.500000 5: 388.46405 22.695257 1.50839 6: -475.96837 0.500000 7: 261.49728 22.822544 1.50839 8: -1115.97742 0.500000 9: 212.83142 29.172376 1.50839 G2 10: 124.37798 17.392876 11: 398.03023 13.000000 1.50839 12: 147.41084 19.332678 13: -791.18158 13.000000 1.50839 14: 201.19761 21.922400 15: -247.90314 13.000000 1.50839 16: 465.71573 30.747889 非球面 17: -130.57945 13.011599 1.50839 18: -934.63444 12.339136 19: -407.40602 25.381972 1.50839 G3 20: -188.40893 1.223561 21: -1400.47996 34.176948 1.50839 22: -252.53836 0.500000 23: -17379.23724 39.131937 1.50839 24: -300.00000 0.500000 25: 606.80606 39.230416 1.50839 26: -600.00000 0.500000 27: 353.96511 38.782843 1.50839 28: -2125.11370 2.168618 29: 208.12823 34.974979 1.50839 30: 681.68307 18.204990 31: 1293.20817 14.087040 1.50839 G4 32: 150.44667 33.112502 33: -2376.89219 13.177083 1.50839 34: 157.22015 46.101506 非球面 35: -155.71365 13.177083 1.50839 36: -849.18622 27.476866 37: -152.68796 20.775187 1.50839 38: -8671.69720 16.726849 39: -661.58711 25.875000 1.50839 G5 非球面 40: -204.76811 2.156136 41: 0.00000 12.650000 絞り 42: 5120.14440 41.798891 1.50839 43: -294.95271 0.500000 44: 446.90928 49.373870 1.50839 45: -451.25900 18.201385 46: -280.36427 21.961806 1.50839 47: -400.00000 4.804497 48: 387.56604 34.446973 1.50839 49: 2500.00000 4.429387 50: 273.26334 35.779749 1.50839 51: 1264.70932 0.500000 52: 161.00000 35.902736 1.50839 53: 324.49673 0.500000 54: 144.97966 30.031914 1.50839 G6 55: 292.80624 9.288710 56: 550.00000 13.000000 1.50839 57: 88.32098 26.733677 58: 86.45884 61.662542 1.50839 59: 502.09604 〔非球面データ〕 16面 κ : -2.932132 A :-.264382E-08 B :-.678762E-12 C :-.836895E-17 D :-.537613E-21 34面 κ : 0.122316 A :-.747792E-08 B :-.577389E-12 C :-.256679E-16 D :-.256545E-21 39面 κ : 2.181635 A :-.108977E-08 B :0.154837E-13 C :-.107182E-17 D :0.935404E-22 E :0.174717E-26 F :-.388438E-30 G :0.118356E-34 〔条件対応値〕 f1/f3 = 1.666 f2/f4 = 1.000 f5/L = 0.117 f6/L = 0.349 f4/L =−0.050 f2/L =−0.050 f2n/L =−0.090 |R5n|/L = 0.234 |R6n|/L = 0.074 |R1n|/L = 0.245 図4として、本実施例の光学系の断面図を示す。図中、
ASは非球面を表している。また、図5に本実施例の光
学系の横収差を、図6に本実施例の光学系の球面収差、
非点収差及び歪曲収差を示す。収差図中、NAは開口数
を表し、Yは像高を表している。 〔第3実施例〕第3実施例で示す投影光学系は、NAが
0.75で、倍率が1/4倍で、物体から像面までの距
離が1200で、物体から第1面までの光軸上の距離が
60.0で、最終面から像面までの距離が14.571
124で、最大像高が14.5である。
【0031】 〔諸元〕 r d n 1: -444.41905 18.000000 1.50839 G1 2: 263.95589 3.115278 3: 306.30710 25.595388 1.50839 非球面 4: -353.72876 0.500000 5: 401.53161 22.629592 1.50839 6: -458.32974 0.500000 7: 260.42411 22.384483 1.50839 8: -1332.14165 0.500000 9: 201.56696 29.172376 1.50839 G2 10: 123.44572 17.498236 11: 391.40156 13.000000 1.50839 12: 148.83020 19.339575 13: -756.35940 13.000000 1.50839 14: 199.64333 21.883300 15: -251.99565 13.000000 1.50839 16: 457.35347 30.933422 非球面 17: -130.24344 13.000000 1.50839 18: -920.27012 12.350072 19: -409.12942 25.374524 1.50839 G3 20: -188.90615 1.181273 21: -1424.75959 34.047906 1.50839 22: -253.26753 0.500000 23: -17379.22377 39.132597 1.50839 24: -300.00000 0.500000 25: 606.80606 39.230416 1.50839 26: -600.00000 0.500000 27: 354.99225 38.635587 1.50839 28: -2087.99596 2.226818 29: 207.60159 35.002784 1.50839 30: 675.59635 18.256602 31: 1287.29080 14.110578 1.50839 G4 32: 150.42360 33.005885 33: -2376.89219 13.177083 1.50839 34: 157.03647 46.068055 非球面 35: -155.91252 13.177083 1.50839 36: -866.58591 27.490041 37: -153.16663 20.801532 1.50839 38: -8493.66686 16.758746 39: -660.86379 25.875000 1.50839 G5 非球面 40: -205.11225 2.176870 41: 0.00000 12.650000 絞り 42: 4630.94239 0.000000 1.50839 43: -296.67705 0.612232 44: 450.13834 49.373870 1.50839 45: -448.11047 18.090639 46: -280.56579 21.961806 1.50839 47: -400.00000 4.069219 48: 387.42237 34.838224 1.50839 49: 2500.00000 4.694122 50: 273.67184 35.838683 1.50839 51: 1255.46173 0.539463 52: 161.00000 35.919890 1.50839 53: 325.11630 0.500000 54: 144.91170 30.069410 1.50839 55: 293.52341 9.245852 G6 56: 550.00000 13.000000 1.50839 57: 88.42714 26.801733 58: 86.53412 61.790454 1.50839 59: 498.55162 〔非球面データ〕 3面 κ : 0.651961 A :0.288809E-08 B :-.142241E-12 C :0.138026E-16 D :-.260214E-20 E :0.163779E-24 F :0.112908E-28 G :-.964063E-33 16面 κ : -2.416851 A :-.203332E-08 B :-.639430E-12 C :-.155725E-16 D :-.489171E-22 34面 κ : 0.129246 A :-.729364E-08 B :-.586956E-12 C :-.260844E-16 D :-.284984E-21 39面 κ : 2.269617 A :-.113325E-08 B :0.135572E-13 C :-.115763E-17 D :0.101617E-21 E :0.188022E-27 F :-.278178E-30 G :0.871254E-35 〔条件対応値〕 f1/f3 = 1.705 f2/f4 = 1.017 f5/L = 0.117 f6/L = 0.349 f4/L =−0.050 f2/L =−0.051 f2n/L =−0.091 |R5n|/L = 0.234 |R6n|/L = 0.074 |R1n|/L = 0.220 図7として、本実施例の光学系の断面図を示す。図中、
ASは非球面を表している。また、図8に本実施例の光
学系の横収差を、図9に本実施例の光学系の球面収差、
非点収差及び歪曲収差を示す。収差図中、NAは開口数
を表し、Yは像高を表している。 〔第4実施例〕第4実施例で示す投影光学系は、NAが
0.75で、倍率が1/4倍で、物体から像面までの距
離が1200で、物体から第1面までの光軸上の距離が
60.0で、最終面から像面までの距離が14.412
672で、最大像高が14.5である。
【0032】 〔諸元〕 r d n 1: -468.68095 18.000000 1.50839 G1 2: 252.77895 3.233640 3: 298.24991 25.839827 1.50839 非球面 4: -360.06032 0.500000 5: 417.93565 22.562122 1.50839 6: -441.51797 0.500000 7: 263.82049 22.126107 1.50839 8: -1375.42189 0.500000 9: 198.61141 29.172376 1.50839 G2 10: 125.13733 17.593360 11: 416.27288 13.000000 1.50839 12: 154.18091 19.238100 13: -668.92020 13.000000 1.50839 14: 199.41335 21.813538 15: -256.36164 13.000000 1.50839 16: 444.96150 31.095384 非球面 17: -130.59220 13.000000 1.50839 18: -921.24542 12.380140 19: -411.14738 25.384580 1.50839 G3 20: -189.32775 1.174238 21: -1445.99115 33.934711 1.50839 22: -253.88856 0.500000 23: -17379.37023 39.125426 1.50839 24: -300.00000 0.500000 25: 596.09906 39.230416 1.50839 26: -610.85050 0.500000 27: 355.24038 38.551690 1.50839 28: -2079.35584 2.303654 29: 207.42218 35.035451 1.50839 30: 673.51306 18.314100 非球面 31: 1277.16954 14.138411 1.50839 G4 32: 150.32702 32.930730 33: -2376.89219 13.177083 1.50839 34: 156.56831 46.042396 非球面 35: -155.65637 13.177083 1.50839 36: -845.75387 27.494867 37: -151.25828 20.850589 1.50839 38: -4346.25296 16.782509 39: -616.99314 25.875000 1.50839 G5 非球面 40: -202.18912 2.221807 41: INFINITY 12.650000 絞り 42: 4310.61591 41.857209 1.50839 43: -298.03165 0.760827 44: 448.01359 49.373870 1.50839 45: -450.13834 18.123926 46: -280.66611 21.961806 1.50839 47: -400.00000 3.771463 48: 388.15249 35.013919 1.50839 49: 2500.00000 4.945986 50: 274.68742 35.755123 1.50839 51: 1268.22336 0.500000 52: 161.00000 35.804931 1.50839 53: 325.39957 0.500000 54: 144.80153 30.033841 1.50839 G6 55: 293.86133 9.204704 56: 550.00000 13.000000 1.50839 57: 89.52230 26.819022 58: 87.53044 61.711363 1.50839 59: 495.57398 〔非球面データ〕 3面 κ : 0.965373 A :0.469769E-08 B :-.190197E-12 C :0.112631E-16 D :-.355099E-20 E :0.709289E-24 F :-.916514E-28 G :0.586833E-32 16面 κ : -2.033092 A :-.153014E-08 B :-.574525E-12 C :-.170686E-16 D :0.650293E-21 30面 κ : -0.023006 A :-.104624E-10 B :0.152933E-14 C :0.581088E-18 D :-.550392E-22 E :0.124756E-26 34面 κ : 0.135728 A :-.715391E-08 B :-.607874E-12 C :-.350272E-16 D :0.234373E-21 39面 κ : 2.262632 A :-.112080E-08 B :0.686428E-14 C :-.143140E-17 D :0.112838E-21 E :-.714641E-27 F :-.208714E-30 G :0.705742E-35 〔条件対応値〕 f1/f3 = 1.722 f2/f4 = 1.023 f5/L = 0.117 f6/L = 0.350 f4/L =−0.050 f2/L =−0.052 f2n/L =−0.090 |R5n|/L = 0.234 |R6n|/L = 0.075 |R1n|/L = 0.211 図10として、本実施例の光学系の断面図を示す。図
中、ASは非球面を表している。また、図11に本実施
例の光学系の横収差を、図12に本実施例の光学系の球
面収差、非点収差及び歪曲収差を示す。収差図中、NA
は開口数を表し、Yは像高を表している。 〔第5実施例〕第5実施例で示す投影光学系は、NAが
0.75で、倍率が1/4倍で、物体から像面までの距
離が1200で、物体から第1面までの光軸上の距離が
60.0で、最終面から像面までの距離が14.165
006で、最大像高が14.5である。
【0033】 〔諸元〕 r d n 1: -468.07699 18.000000 1.50839 G1 2: 250.12651 3.380259 3: 300.99856 25.794382 1.50839 非球面 4: -362.12163 0.500000 5: 400.86991 22.811466 1.50839 6: -450.23466 0.500000 7: 268.97200 22.038806 1.50839 8: -1313.26659 0.500000 9: 197.05591 29.172376 1.50839 G2 10: 124.31498 17.663331 11: 407.81022 13.000000 1.50839 12: 161.89912 19.175412 13: -566.17721 13.000000 1.50839 14: 197.37620 21.758555 15: -263.68269 13.000000 1.50839 16: 429.32073 31.288348 非球面 17: -131.12939 13.039244 1.50839 18: -917.99488 12.437120 19: -413.92024 25.461495 1.50839 G3 20: -189.63472 1.144736 21: -1419.86877 33.734236 1.50839 22: -253.10206 0.500000 23: -17379.50305 39.118922 1.50839 24: -300.00000 0.500000 25: 585.23935 39.230416 1.50839 26: -622.70279 0.500000 27: 352.49897 38.565268 1.50839 28: -2181.80512 2.424434 29: 208.28348 35.119714 1.50839 30: 683.31272 18.431385 非球面 31: 1260.29479 14.211733 1.50839 G4 32: 150.00119 32.620701 33: -2376.89219 13.177083 1.50839 34: 154.81553 45.778399 非球面 35: -157.58025 13.177083 1.50839 36: -865.39866 27.070384 37: -153.61567 20.819650 1.50839 38: -64924.10051 16.788651 39: -712.18966 25.875000 1.50839 G5 非球面 40: -206.41949 2.097883 41: INFINITY 12.650000 絞り 42: 3973.02616 41.592649 1.50839 43: -299.72179 0.500000 44: 447.61811 49.373870 1.50839 45: -450.53837 19.003149 46: -279.78056 21.961806 1.50839 47: -404.06473 6.780768 48: 379.72454 33.386064 1.50839 49: 2500.00000 4.142460 50: 283.16075 35.076227 1.50839 51: 1489.01547 0.500000 52: 164.88650 35.591626 1.50839 53: 339.88457 0.500000 54: 144.51257 30.264029 1.50839 G6 55: 294.74328 9.221153 56: 550.00000 13.000000 1.50839 非球面 57: 92.59167 25.876306 58: 90.49578 63.008413 1.50839 59: 487.58159 〔非球面データ〕 3面 κ : 1.188206 A :0.616724E-08 B :-.261943E-12 C :0.117836E-16 D :-.276255E-20 E :0.421652E-24 F :-.526812E-28 G :0.415909E-32 16面 κ : -1.301521 A :-.465204E-09 B :-.629003E-12 C :-.166260E-16 D :0.121986E-20 30面 κ : -0.350261 A :-.149448E-09 B :0.999815E-14 C :0.678281E-18 D :-.619666E-22 E :0.152611E-26 34面 κ : 0.145290 A :-.672935E-08 B :-.638504E-12 C :-.369923E-16 D :0.382079E-21 39面 κ : 2.321086 A :-.116397E-08 B :0.107347E-13 C :-.124164E-17 D :0.119458E-21 E :-.185166E-26 F :-.163469E-30 G :0.519016E-35 56面 κ : -0.669816 A :-.531655E-09 B :0.331972E-13 C :-.471706E-17 D :0.347702E-21 E :-.101574E-25 〔条件対応値〕 f1/f3 = 1.734 f2/f4 = 1.036 f5/L = 0.118 f6/L = 0.357 f4/L =−0.050 f2/L =−0.052 f2n/L =−0.091 |R5n|/L = 0.233 |R6n|/L = 0.077 |R1n|/L = 0.208 図13として、本実施例の光学系の断面図を示す。図
中、ASは非球面を表している。また、図14に本実施
例の光学系の横収差を、図15に本実施例の光学系の球
面収差、非点収差及び歪曲収差を示す。収差図中、NA
は開口数を表し、Yは像高を表している。 〔第6実施例〕第6実施例で示す投影光学系は、NAが
0.75で、倍率が1/4倍で、物体から像面までの距
離が1200で、物体から第1面までの光軸上の距離が
60.0で、最終面から像面までの距離が12.647
270で、最大像高が14.5である。
【0034】 〔諸元〕 r d n 1: -420.30684 18.000000 1.50839 G1 2: 304.38947 4.844904 3: 409.93724 25.000000 1.50839 4: -345.79137 0.500000 5: 344.48673 24.000000 1.50839 6: -492.43913 0.500000 7: 268.47429 22.000000 1.50839 8: -561.19048 0.500000 9: 228.49034 29.172376 1.50839 G2 10: 124.66129 21.915174 11: 2782.29168 13.000000 1.50839 12: 168.55342 21.234352 13: -322.47044 13.000000 1.50839 14: 323.01386 22.100306 15: -182.39320 13.000000 1.50839 16: 1378.53916 26.743800 17: -144.71537 13.000000 1.50839 18: -834.60001 13.279960 19: -543.83120 27.401869 1.50839 G3 20: -205.14464 0.500000 21: -800.01554 34.638631 1.50839 22: -224.70509 0.500000 23: -25065.93947 39.466543 1.50839 24: -301.52652 0.500000 25: 345.26248 39.230416 1.50839 26: -2517.70773 0.500000 27: 314.76800 38.166279 1.50839 28: -17038.75030 0.500000 29: 200.00000 34.537615 1.50839 30: 557.24026 17.007268 31: 2180.25083 13.025262 1.50839 G4 32: 123.59069 61.421633 33: -205.98730 13.177083 1.50839 34: 202.28713 68.572390 非球面 35: -159.41306 24.495231 1.50839 36: -3005.44394 14.667092 37: -697.48612 25.875000 1.50839 G5 非球面 38: -225.08993 0.500000 39: 0.00000 12.650000 絞り 40: 1639.18095 38.602593 1.50839 41: -334.50135 0.500000 42: 578.12145 49.373870 1.50839 43: -367.69622 15.341733 44: -266.45720 21.961806 1.50839 45: -400.63356 0.733794 46: 387.43403 35.000000 1.50839 47: 2408.33297 0.500000 48: 250.43557 35.000000 1.50839 49: 806.42950 0.500000 50: 175.00000 35.921145 1.50839 51: 377.77144 1.715742 52: 146.02491 30.182778 1.50839 G6 53: 302.71543 10.356697 54: 550.00000 13.000000 1.50839 55: 88.62882 21.641507 56: 89.87518 67.897884 1.50839 57: 610.57068 〔非球面データ〕 34面 κ : 0.022695 A :-.127712E-07 B :-.986372E-12 C :0.160059E-16 D :0.143506E-20 37面 κ : -6.954337 A :0.176680E-09 B :0.544891E-13 C :0.110204E-17 D :0.158373E-21 E :-.249194E-26 F :0.166870E-30 G :-.294689E-36 〔条件対応値〕 f1/f3 = 1.584 f2/f4 = 0.930 f5/L = 0.117 f6/L = 0.361 f4/L =−0.052 f2/L =−0.048 f2n/L =−0.082 |R5n|/L = 0.222 |R6n|/L = 0.074 |R1n|/L = 0.254 図16として、本実施例の光学系の断面図を示す。図
中、ASは非球面を表している。また、図17に本実施
例の光学系の横収差を、図18に本実施例の光学系の球
面収差、非点収差及び歪曲収差を示す。収差図中、NA
は開口数を表し、Yは像高を表している。 〔第7実施例〕第7実施例で示す投影光学系は、NAが
0.75で、倍率が1/4倍で、物体から像面までの距
離が1200で、物体から第1面までの光軸上の距離が
60.0で、最終面から像面までの距離が12.598
236で、最大像高が14.5である。
【0035】 〔諸元〕 r d n 1: -394.79113 18.000000 1.50839 G1 2: 316.86963 3.432096 3: 385.17199 23.971420 1.50839 4: -332.08412 0.500000 5: 385.76588 23.018363 1.50839 6: -462.41329 0.500000 7: 261.83315 24.873425 1.50839 8: -662.07882 0.500000 9: 217.44326 26.470552 1.50839 G2 10: 130.19538 18.160493 11: 577.89686 13.000000 1.50839 12: 151.58758 21.170084 13: -399.45469 13.000000 1.50839 14: 213.97370 23.645709 15: -198.33421 13.000000 1.50839 16: 596.96132 28.357042 非球面 17: -145.18221 13.000000 1.50839 18: -662.45369 12.854593 19: -556.70481 27.433961 1.50839 G3 20: -204.71209 0.500000 21: -1365.15240 34.520424 1.50839 22: -251.45530 0.500000 23: 16097.83839 39.574978 1.50839 24: -310.66803 0.500000 25: 443.70292 39.230416 1.50839 26: -946.94062 0.500000 27: 322.23157 38.264073 1.50839 28: -5486.68682 0.500000 29: 217.22460 34.776707 1.50839 30: 799.91884 18.173304 31: 12387.52204 13.000000 1.50839 G4 32: 125.69696 61.545246 33: -192.59778 13.177083 1.50839 34: 191.97054 68.673889 非球面 35: -173.96143 23.724806 1.50839 36: -1430.00455 12.091296 37: -518.50264 25.875000 1.50839 G5 非球面 38: -213.41585 0.500095 39: 0.00000 12.650000 絞り 40: 1394.83283 38.762785 1.50839 41: -348.55455 0.514756 42: 589.68098 49.373870 1.50839 43: -363.24607 18.952009 44: -261.91151 21.961806 1.50839 45: -400.00000 0.500000 46: 380.51168 35.000000 1.50839 47: 2500.00000 0.500000 48: 255.67104 35.000000 1.50839 49: 850.67403 0.500000 50: 175.00000 33.349227 1.50839 51: 354.54268 0.500000 52: 147.57414 30.804902 1.50839 G6 53: 309.21683 8.726274 54: 550.00000 13.000000 1.50839 55: 92.71485 21.778859 56: 94.51983 75.002069 1.50839 57: 660.56474 12.598236 〔非球面データ〕 16面 κ : -0.080829 A :0.257830E-08 B :-.623179E-12 C :-.103089E-17 D :0.254598E-21 34面 κ : -0.091698 A :-.162846E-07 B :-.980291E-12 C :0.203271E-16 D :0.178089E-20 37面 κ : -6.872295 A :0.413563E-09 B :0.166773E-12 C :0.144211E-17 D :0.194986E-21 E :-.432989E-27 F :0.197137E-30 G :-.735338E-36 〔条件対応値〕 f1/f3 = 1.602 f2/f4 = 0.933 f5/L = 0.119 f6/L = 0.361 f4/L =−0.052 f2/L =−0.049 f2n/L =−0.079 |R5n|/L = 0.218 |R6n|/L = 0.077 |R1n|/L = 0.264 図19として、本実施例の光学系の断面図を示す。図
中、ASは非球面を表している。また、図20に本実施
例の光学系の横収差を、図21に本実施例の光学系の球
面収差、非点収差及び歪曲収差を示す。収差図中、NA
は開口数を表し、Yは像高を表している。 〔第8実施例〕第8実施例で示す投影光学系は、NAが
0.80で、倍率が1/4倍で、物体から像面までの距
離が1500で、物体から第1面までの光軸上の距離が
92.0で、最終面から像面までの距離が27.74
で、最大像高が14.5である。
【0036】 〔諸元〕 r d n 1: 718.85125 20.000000 1.50839 G1 2: 419.76270 10.000000 3: 37714.38709 22.138562 1.50839 4: -310.65200 0.100000 5: 350.56680 25.585801 1.50839 6: -839.94573 0.100000 7: 187.27742 15.000000 1.50839 8: 129.63561 10.193899 9: 185.52772 37.726567 1.50839 10: -359.67498 10.000000 11: -380.92840 10.032688 1.50839 G2 12: 117.09613 32.010931 13: -287.93550 10.000000 1.50839 14: 194.76378 32.284079 非球面 15: -158.72745 10.003793 1.50839 16: -1178.65823 36.540933 17: -123.26109 29.351802 1.50839 G3 18: -133.12159 1.000000 19: -502.15858 25.000000 1.50839 20: -302.23345 0.100000 21: 7363.85681 43.843308 1.50839 22: -425.68991 0.100000 23: 1729.87203 45.555947 1.50839 24: -600.00000 0.200000 25: 865.80263 40.012505 1.50839 26: -1554.86289 2.156975 27: 509.31991 43.360383 1.50839 28: 99999.00000 3.749801 29: 378.69505 44.864067 1.50839 30: 3000.00000 0.000001 31: 308.96606 53.780418 1.50839 32: 506.87544 5.000000 33: 802.31214 13.801460 1.50839 G4 34: 146.21750 72.358454 35: -229.01266 15.000000 1.50839 非球面 36: 241.96265 73.389500 37: -309.06925 10.000000 1.50839 38: 551.94211 6.102207 39: 752.97283 45.581180 1.50839 G5 40: -416.05599 15.000000 非球面 41: INFINITY 15.000000 絞り 42: -4226.71251 38.697035 1.50839 43: -420.41230 0.100000 44: 546.12722 57.018027 1.50839 45: -752.79962 36.208246 46: -292.99042 25.000000 1.50839 47: -526.52023 4.113016 48: 1204.71132 54.118430 1.50839 49: -639.03474 0.100000 50: 556.47285 50.363514 1.50839 51: -1972.93848 0.100000 52: 244.15849 53.094475 1.50839 53: 700.00000 0.100000 54: 192.23824 49.559672 1.50839 G6 55: 568.53429 14.794053 56 : 99999.00000 30.754870 1.50839 57: 307.32702 11.653900 58: 186.45334 68.559500 1.50839 59: 1043.98610 〔非球面データ〕 14面 κ : 0.000000 A :-.825926E-07 B :-.220422E-11 C :-.447231E-16 D :-.146561E-19 E :0.184702E-23 F :-.287752E-27 35面 κ : 0.000000 A :-.502044E-08 B :-.264019E-12 C :-.964365E-17 D :-.133885E-23 E :-.303209E-25 F :0.972304E-30 40面 κ : 0.000000 A :0.295553E-08 B :0.182366E-12 C :0.650083E-17 D :0.376932E-21 E :-.240887E-26 F :0.849451E-30 〔条件対応値〕 f1/f3 = 1.134 f2/f4 = 0.836 f5/L = 0.133 f6/L = 0.280 f4/L =−0.052 f2/L =−0.043 f2n/L =−0.043 |R5n|/L = 0.195 |R1n|/L = 0.280 図22として、本実施例の光学系の断面図を示す。図
中、ASは非球面を表している。また、図23に本実施
例の光学系の横収差を、図24に本実施例の光学系の球
面収差、非点収差及び歪曲収差を示す。収差図中、NA
は開口数を表し、Yは像高を表している。 〔第9実施例〕第9実施例で示す投影光学系は、NAが
0.78で、倍率が1/4倍で、物体から像面までの距
離が1500で、物体から第1面までの光軸上の距離が
92.0で、最終面から像面までの距離が19.095
569で、最大像高が14.5である。
【0037】 〔諸元〕 r d n 1: 500.00000 20.000000 1.50839 G1 2: 430.00000 10.000000 3: 931.80900 23.718892 1.50839 4: -362.97952 O.100000 5: 332.06640 25.995825 1.50839 6: -732.52220 13.842797 7: 206.89029 15.000000 1.50839 G2 8: 149.50025 15.414059 9: 511.22833 39.506945 1.50839 10: 149.73196 30.626199 11: -187.69536 10.000000 1.50839 12: 215.87573 24.165184 非球面 13: -280.84891 15.000000 1.50839 14: -1495.99441 32.241853 15: -132.56240 23.125310 1.50839 16: -193.90245 O.536304 17: -246.39953 33.677028 1.50839 G3 18: -170.42850 O.449647 19: -18093.58705 52.266017 1.50839 20: -307.72240 O.100000 21: 1028.99344 52.040848 1.50839 22: -564.72447 O.200000 23: 463.92013 47.252819 1.50839 24: -5413.06676 10.736526 25: 565.81685 37.800000 1.50839 26: 2892.95526 6.361992 27: 298.99587 75.000000 1.50839 28: -3000.00000 5.000000 29: INFINITY 24.356049 1.50839 G4 非球面 30: 164.11897 50.949748 31: -357.71936 10.000000 1.50839 32: 195.03967 58.555088 33: -182.56313 41.236081 1.50839 34: 5843.26761 11.029510 35: -883.21453 48.737208 1.50839 G5 36: -295.17959 5.000000 非球面 37: INFINITY 25.000000 絞り 38: -5542.32804 44.564616 1.50839 39: -367.50993 O.100000 40: 443.75606 75.000000 1.50839 41: -1085.66088 30.000000 42: -400.26612 25.000000 1.50839 43: -525.63201 4.113016 44: 658.76285 48.097310 1.50839 45: -5983.44019 O.100000 46: 345.33254 43.329194 1.50839 47: 1409.15145 O.100000 48: 262.42521 46.228330 1.50839 49: 750.00000 O.100000 50: 198.86479 48.865418 1.50839 G6 51: 623.68097 17.416378 52: -942.86893 30.754870 1.50839 非球面 53: 625.62224 11.553900 54: 196.70372 68.559500 1.50839 55: 860.93535 〔非球面データ〕 12面 κ : 0.000000 A :-.415050E-07 B :-.756052E-12 C :0.260560E-16 D :0.209992E-20 E :-.237405E-24 F :0.483178E-29 29面 κ : 0.000000 A :0.102099E-09 B :-.188042E-13 C :0.267234E-17 D :-.475339E-22 E :-.256151E-27 F :0.160661E-31 36面 κ : 0.000000 A :0.403820E-09 B :0.262131E-13 C :0.256593E-18 D :-.436766E-22 E :-.138744E-26 F :0.520594E-31 52面 κ : 0.000000 A :0.118684E-07 B :-.447939E-12 C :0.245274E-16 D :-.116536E-20 E :0.385264E-25 F :-.631033E-30 〔条件対応値〕 f1/f3 = 1.658 f2/f4 = 1.033 f5/L = 0.128 f6/L = 0.280 f4/L =−0.053 f2/L =−0.055 f2n/L =−0.070 |R5n|/L = 0.267 |R1n|/L = 0.287 図25として、本実施例の光学系の断面図を示す。図
中、ASは非球面を表している。また、図26に本実施
例の光学系の横収差を、図27に本実施例の光学系の球
面収差、非点収差及び歪曲収差を示す。収差図中、NA
は開口数を表し、Yは像高を表している。
【0038】なお、上記各実施例では、硝材として、石
英ガラスのみを使用した投影光学系を開示したが、硝材
としては、石英ガラスに限らず、蛍石やフッ化リチウム
等も使用可能である。続いて、上記各実施例の投影光学
系を搭載することのできる投影露光装置の実施例を、図
28を参照しながら、説明する。
【0039】投影光学系PLの物体面には所定の回路パ
ターンが形成された投影原版としてのレチクルRが配置
されており、投影光学系PLの像面には、基板としての
ウェハWが配置されている。レチクルRはレチクルステ
ージRSに保持されており、ウェハWはウェハステージ
WSに保持されている。また、レチクルRの上方には、
レチクルRを均一に照明するための照明光学系ISが配
置されている。
【0040】以上の構成により、照明光学系ISから供
給される光は、レチクルRを照明し、投影光学系PLの
瞳位置(上記各実施例の投影光学系では、開口絞りDF
位置とすることが好ましい。)には照明光学系IS中の
光源の像が形成され、所謂ケーラー照明がなされる。そ
して、投影光学系PLによって、ケーラー照明されたレ
チクルRのパターン像が、投影光学系PLによりウェハ
W上に露光(転写)される。
【0041】本実施例では、照明光学系ISの光源とし
て、248.4nmの露光波長のKrFエキシマレーザ
ーを使用したが、投影光学系PLを適宜修正すること
で、KrFエキシマレーザーに限らず、例えば、ArF
エキシマレーザー、半導体高調波レーザー、水銀ランプ
等が使用可能となる。また、上記で開示した投影露光装
置は、所謂ステップアンドリピート方式やステップアン
ドスキャン方式に好適なものである。
【0042】
【発明の効果】以上に示したように、本発明によって、
大きなNAと広い露光領域を確保し、諸収差を極めて良
好に補正し得るコンパクトで高性能な投影光学系を提供
することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、第1実施例の投影光学系の断面図であ
る。
【図2】図2は、第1実施例の投影光学系の横収差図で
ある。
【図3】図3は、第1実施例の投影光学系の諸収差図で
ある。
【図4】図4は、第2実施例の投影光学系の断面図であ
る。
【図5】図5は、第2実施例の投影光学系の横収差図で
ある。
【図6】図6は、第2実施例の投影光学系の諸収差図で
ある。
【図7】図7は、第3実施例の投影光学系の断面図であ
る。
【図8】図8は、第3実施例の投影光学系の横収差図で
ある。
【図9】図9は、第3実施例の投影光学系の諸収差図で
ある。
【図10】図10は、第4実施例の投影光学系の断面図
である。
【図11】図11は、第4実施例の投影光学系の横収差
図である。
【図12】図12は、第4実施例の投影光学系の諸収差
図である。
【図13】図13は、第5実施例の投影光学系の断面図
である。
【図14】図14は、第5実施例の投影光学系の横収差
図である。
【図15】図15は、第5実施例の投影光学系の諸収差
図である。
【図16】図16は、第6実施例の投影光学系の断面図
である。
【図17】図17は、第6実施例の投影光学系の横収差
図である。
【図18】図18は、第6実施例の投影光学系の諸収差
図である。
【図19】図19は、第7実施例の投影光学系の断面図
である。
【図20】図20は、第7実施例の投影光学系の横収差
図である。
【図21】図21は、第7実施例の投影光学系の諸収差
図である。
【図22】図22は、第8実施例の投影光学系の断面図
である。
【図23】図23は、第8実施例の投影光学系の横収差
図である。
【図24】図24は、第8実施例の投影光学系の諸収差
図である。
【図25】図25は、第9実施例の投影光学系の断面図
である。
【図26】図26は、第9実施例の投影光学系の横収差
図である。
【図27】図27は、第9実施例の投影光学系の諸収差
図である。
【図28】図28は、本発明による投影露光装置の概略
図である。
【符号の説明】 G1 第1レンズ群 G2 第2レンズ群 G3 第3レンズ群 G4 第4レンズ群 G5 第5レンズ群 G6 第6レンズ群 AS 非球面 DF 開口絞り PL 投影光学系 IS 照明光学系 R レチクル RS レチクルステージ W ウェハ WS ウェハステージ

Claims (25)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】物体側から像面側へ向かって順に、 正の屈折力の第1レンズ群と、 負の屈折力の第2レンズ群と、 少なくとも3枚以上の正屈折力のレンズを有し、全体と
    して正の屈折力の第3レンズ群と、 少なくとも3枚以上の負屈折力のレンズを有し、全体と
    して負の屈折力の第4レンズ群と、 少なくとも3枚以上の正屈折力のレンズを有し、全体と
    して正の屈折力の第5レンズ群と、 正の屈折力の第6レンズ群と、を含み、 前記第4レンズ群または前記第5レンズ群に非球面を少
    なくとも1面以上含むように構成したことを特徴とする
    投影光学系。
  2. 【請求項2】前記第1レンズ群の焦点距離をf1とし、
    前記第2レンズ群の焦点距離をf2とし、前記第3レン
    ズ群の焦点距離をf3とし、前記第4レンズ群の焦点距
    離をf4とし、前記第5レンズ群の焦点距離をf5と
    し、前記第6レンズ群の焦点距離をf6とし、前記物体
    から前記像面までの距離をLとするとき、以下の条件を
    満足することを特徴とする請求項1記載の投影光学系。 0.1 < f1/f3 < 15 0.05 < f2/f4 < 6 0.01 < f5/L < 1.2 0.02 < f6/L < 1.8
  3. 【請求項3】前記第4レンズ群の焦点距離をf4とし、
    前記物体から前記像面までの距離をLとするとき、以下
    の条件を満足することを特徴とする請求項1又は2記載
    記載の投影光学系。 −0.3 < f4/L < −0.005
  4. 【請求項4】前記第2レンズ群の焦点距離をf2とし、
    前記物体から前記像面までの距離をLとするとき、以下
    の条件を満足することを特徴とする請求項1乃至3の何
    れか一項に記載の投影光学系。 −0.5 < f2/L < −0.005
  5. 【請求項5】前記第2レンズ群は、負の屈折力を持つレ
    ンズを少なくとも3枚以上含み、 前記第2レンズ群中の第3レンズから第5レンズまでの
    合成焦点距離をf2nとし、前記物体から前記像面まで
    の距離をLとするとき、以下の条件式を満足することを
    特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の投影光
    学系。 −0.3 < f2n/L < −0.01
  6. 【請求項6】前記第2レンズ群中に非球面を少なくとも
    1面以上含むことを特徴とする請求項1乃至5の何れか
    一項に記載の投影光学系。
  7. 【請求項7】前記第1レンズ群中に非球面を少なくとも
    1面以上含むことを特徴とする請求項1乃至6の何れか
    一項に記載の投影光学系。
  8. 【請求項8】前記第3レンズ群中に非球面を少なくとも
    1面以上含むことを特徴とする請求項1乃至7の何れか
    一項に記載の投影光学系。
  9. 【請求項9】前記第6レンズ群中に非球面を少なくとも
    1面以上含むことを特徴とする請求項1乃至8の何れか
    一項に記載の投影光学系。
  10. 【請求項10】前記第5レンズ群は、負メニスカスレン
    ズを含み、 前記第5レンズ群中の前記負メニスカスレンズにおける
    凹面の曲率半径をR5nとし、前記物体から前記像面ま
    での距離をLとするとき、以下の条件式を満足すること
    を特徴とする請求項1乃至9の何れか一項に記載の投影
    光学系。 0.1 < |R5n|/L <0.5
  11. 【請求項11】前記第6レンズ群は、負メニスカスレン
    ズを含み、 前記第6レンズ群中の前記負メニスカスレンズにおける
    凹面の曲率半径をR6nとし、前記物体から前記像面ま
    での距離をLとするとき、以下の条件式を満足すること
    を特徴とする請求項1乃至10記載の何れか一項に記載
    の投影光学系。 0.03 < |R6n|/L <0.15
  12. 【請求項12】前記第1レンズ群は、負の屈折力を持つ
    レンズを含み、 前記第1レンズ群中の前記負の屈折力を持つレンズの像
    面側の曲率半径をR1nとし、前記物体から前記像面ま
    での距離をLとするとき、以下の条件式を満足すること
    を特徴とする請求項1乃至11記載の何れか一項に記載
    の投影光学系。 0.1 < |R1n|/L < 0.5
  13. 【請求項13】物体と、該物体を照明するための照明光
    学系と、該照明光学系によって照明された前記物体を投
    影するための投影光学系と、を有する投影露光装置にお
    いて、 前記投影光学系は、前記物体側から像面側へ向かって順
    に、 正の屈折力の第1レンズ群と、 負の屈折力の第2レンズ群と、 少なくとも3枚以上の正屈折力のレンズを有し、全体と
    して正の屈折力の第3レンズ群と、 少なくとも3枚以上の負屈折力のレンズを有し、全体と
    して負の屈折力の第4レンズ群と、 少なくとも3枚以上の正屈折力のレンズを有し、全体と
    して正の屈折力の第5レンズ群と、 正の屈折力の第6レンズ群と、を含み、 前記第4レンズ群または前記第5レンズ群に非球面を少
    なくとも1面以上含むように構成したことを特徴とする
    投影露光装置。
  14. 【請求項14】前記第1レンズ群の焦点距離をf1と
    し、前記第2レンズ群の焦点距離をf2とし、前記第3
    レンズ群の焦点距離をf3とし、前記第4レンズ群の焦
    点距離をf4とし、前記第5レンズ群の焦点距離をf5
    とし、前記第6レンズ群の焦点距離をf6とし、前記物
    体から前記像面までの距離をLとするとき、以下の条件
    を満足することを特徴とする請求項13記載の投影露光
    装置。 0.1 < f1/f3 < 15 0.05 < f2/f4 < 6 0.01 < f5/L < 1.2 0.02 < f6/L < 1.8
  15. 【請求項15】前記第4レンズ群の焦点距離をf4と
    し、前記物体から前記像面までの距離をLとするとき、
    以下の条件を満足することを特徴とする請求項13又は
    14記載記載の投影露光装置。 −0.3 < f4/L < −0.005
  16. 【請求項16】前記第2レンズ群の焦点距離をf2と
    し、前記物体から前記像面までの距離をLとするとき、
    以下の条件を満足することを特徴とする請求項13乃至
    15の何れか一項に記載の投影露光装置。 −0.5 < f2/L < −0.005
  17. 【請求項17】前記第2レンズ群は、負の屈折力を持つ
    レンズを少なくとも3枚以上含み、 前記第2レンズ群中の第3レンズから第5レンズまでの
    合成焦点距離をf2nとし、前記物体から前記像面まで
    の距離をLとするとき、以下の条件式を満足することを
    特徴とする請求項13乃至16の何れか一項に記載の投
    影露光装置。 −0.3 < f2n/L < −0.01
  18. 【請求項18】前記第2レンズ群中に非球面を少なくと
    も1面以上含むことを特徴とする請求項13乃至17の
    何れか一項に記載の投影露光装置。
  19. 【請求項19】前記第1レンズ群中に非球面を少なくと
    も1面以上含むことを特徴とする請求項13乃至18の
    何れか一項に記載の投影露光装置。
  20. 【請求項20】前記第3レンズ群中に非球面を少なくと
    も1面以上含むことを特徴とする請求項13乃至19の
    何れか一項に記載の投影露光装置。
  21. 【請求項21】前記第6レンズ群中に非球面を少なくと
    も1面以上含むことを特徴とする請求項13乃至20の
    何れか一項に記載の投影露光装置。
  22. 【請求項22】前記第5レンズ群は、負メニスカスレン
    ズを含み、 前記第5レンズ群中の前記負メニスカスレンズにおける
    凹面の曲率半径をR5nとし、前記物体から前記像面ま
    での距離をLとするとき、以下の条件式を満足すること
    を特徴とする請求項13乃至21の何れか一項に記載の
    投影露光装置。 0.1 < |R5n|/L <0.5
  23. 【請求項23】前記第6レンズ群は、負メニスカスレン
    ズを含み、 前記第6レンズ群中の前記負メニスカスレンズにおける
    凹面の曲率半径をR6nとし、前記物体から前記像面ま
    での距離をLとするとき、以下の条件式を満足すること
    を特徴とする請求項13乃至22記載の何れか一項に記
    載の投影露光装置。 0.03 < |R6n|/L <0.15
  24. 【請求項24】前記第1レンズ群は、負の屈折力を持つ
    レンズを含み、 前記第1レンズ群中の前記負の屈折力を持つレンズの像
    面側の曲率半径をR1nとし、前記物体から前記像面ま
    での距離をLとするとき、以下の条件式を満足すること
    を特徴とする請求項13乃至22記載の何れか一項に記
    載の投影露光装置。 0.1 < |R1n|/L < 0.5
  25. 【請求項25】請求項13乃至24記載の何れか一項に
    記載の投影露光装置を用いて、物体上に形成されたパタ
    ーンを、像面としての基板上に投影露光することを特徴
    とする投影露光方法。
JP10106805A 1997-04-25 1998-04-16 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法 Pending JPH116957A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10106805A JPH116957A (ja) 1997-04-25 1998-04-16 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法
US09/067,771 US6008884A (en) 1997-04-25 1998-04-27 Projection lens system and apparatus

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9-123456 1997-04-25
JP12345697 1997-04-25
JP10106805A JPH116957A (ja) 1997-04-25 1998-04-16 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH116957A true JPH116957A (ja) 1999-01-12

Family

ID=26446916

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10106805A Pending JPH116957A (ja) 1997-04-25 1998-04-16 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6008884A (ja)
JP (1) JPH116957A (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6459534B1 (en) 1999-06-14 2002-10-01 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method
US6606144B1 (en) 1999-09-29 2003-08-12 Nikon Corporation Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems
US6621555B1 (en) 1999-06-14 2003-09-16 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method
US6674513B2 (en) 1999-09-29 2004-01-06 Nikon Corporation Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems
US6791761B2 (en) 1999-10-21 2004-09-14 Zeiss Smt Ag Optical projection lens system
US6867922B1 (en) 1999-06-14 2005-03-15 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus using the same
JP2007515660A (ja) * 2003-10-22 2007-06-14 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 浸漬リソグラフィー用屈折性投影対物レンズ
KR100792652B1 (ko) * 1999-05-14 2008-01-09 칼 짜이스 에스엠테 아게 마이크로 리소그래피용 투영 대물렌즈
US7339743B2 (en) 2002-03-01 2008-03-04 Carl Zeiss Smt Ag Very-high aperture projection objective
US7495840B2 (en) 2002-03-08 2009-02-24 Karl-Heinz Schuster Very high-aperture projection objective
JP2020535482A (ja) * 2017-09-29 2020-12-03 シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド 投影対物レンズ

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3925576B2 (ja) 1997-07-24 2007-06-06 株式会社ニコン 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法
JPH1195095A (ja) 1997-09-22 1999-04-09 Nikon Corp 投影光学系
US6700645B1 (en) * 1998-01-22 2004-03-02 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus and method
JPH11214293A (ja) 1998-01-22 1999-08-06 Nikon Corp 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法
JP2001083419A (ja) * 1999-09-09 2001-03-30 Canon Inc 投影光学系および画像投影装置
KR100866818B1 (ko) * 2000-12-11 2008-11-04 가부시키가이샤 니콘 투영광학계 및 이 투영광학계를 구비한 노광장치
DE10064685A1 (de) * 2000-12-22 2002-07-04 Zeiss Carl Lithographieobjektiv mit einer ersten Linsengruppe, bestehend ausschließlich aus Linsen positiver Brechkraft
JP2002244034A (ja) 2001-02-21 2002-08-28 Nikon Corp 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
JP2002323652A (ja) 2001-02-23 2002-11-08 Nikon Corp 投影光学系,該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法
JP2002287029A (ja) * 2001-03-28 2002-10-03 Fuji Photo Optical Co Ltd 投影光学系およびこれを用いた投影露光装置
DE10229249A1 (de) 2002-03-01 2003-09-04 Zeiss Carl Semiconductor Mfg Refraktives Projektionsobjektiv mit einer Taille
DE10212343A1 (de) * 2002-03-15 2003-10-09 Traub Drehmaschinen Gmbh Schlittensystem
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US6906866B2 (en) 2003-10-15 2005-06-14 Carl Zeiss Smt Ag Compact 1½-waist system for sub 100 nm ArF lithography
US20080151365A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
KR101639964B1 (ko) 2004-05-17 2016-07-14 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈를 포함하는 투사 노광 시스템
US9429736B2 (en) * 2012-09-10 2016-08-30 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Optical system
JP6351171B2 (ja) * 2014-09-30 2018-07-04 カンタツ株式会社 7枚の光学素子構成の撮像レンズ
US10001633B1 (en) * 2016-12-19 2018-06-19 Newmax Technology Co., Ltd. Six-piece microscope lens system
CN109856915B (zh) * 2017-11-30 2020-07-14 上海微电子装备(集团)股份有限公司 光刻投影物镜、边缘曝光系统和边缘曝光装置
CN114563866B (zh) * 2022-03-14 2024-02-20 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) 投影物镜系统

Family Cites Families (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3504961A (en) * 1968-04-01 1970-04-07 Perkin Elmer Corp Modified double gauss objective
US3897138A (en) * 1971-11-24 1975-07-29 Canon Kk Projection lens for mask pattern printing
JPS5336326B2 (ja) * 1972-12-26 1978-10-02
JPS581763B2 (ja) * 1978-06-19 1983-01-12 旭光学工業株式会社 回折限界の解像力を有する等倍複写用レンズ
US4666273A (en) * 1983-10-05 1987-05-19 Nippon Kogaku K. K. Automatic magnification correcting system in a projection optical apparatus
GB2153543B (en) * 1983-12-28 1988-09-01 Canon Kk A projection exposure apparatus
US4811055A (en) * 1984-02-27 1989-03-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
US4619508A (en) * 1984-04-28 1986-10-28 Nippon Kogaku K. K. Illumination optical arrangement
US4939630A (en) * 1986-09-09 1990-07-03 Nikon Corporation Illumination optical apparatus
US4772107A (en) * 1986-11-05 1988-09-20 The Perkin-Elmer Corporation Wide angle lens with improved flat field characteristics
JPH0812329B2 (ja) * 1986-11-06 1996-02-07 株式会社シグマ 投影レンズ
US4770477A (en) * 1986-12-04 1988-09-13 The Perkin-Elmer Corporation Lens usable in the ultraviolet
JPH0786647B2 (ja) * 1986-12-24 1995-09-20 株式会社ニコン 照明装置
DE68916451T2 (de) * 1988-03-11 1994-11-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optisches Projektionssystem.
US5307207A (en) * 1988-03-16 1994-04-26 Nikon Corporation Illuminating optical apparatus
JP2699433B2 (ja) * 1988-08-12 1998-01-19 株式会社ニコン 投影型露光装置及び投影露光方法
US5105075A (en) * 1988-09-19 1992-04-14 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JP3041939B2 (ja) * 1990-10-22 2000-05-15 株式会社ニコン 投影レンズ系
US5473410A (en) * 1990-11-28 1995-12-05 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
JP3353902B2 (ja) * 1990-12-12 2002-12-09 オリンパス光学工業株式会社 投影レンズ系
US5172275A (en) * 1990-12-14 1992-12-15 Eastman Kodak Company Apochromatic relay lens systems suitable for use in a high definition telecine apparatus
JP3360686B2 (ja) * 1990-12-27 2002-12-24 株式会社ニコン 照明光学装置および投影露光装置並びに露光方法および素子製造方法
JPH0534593A (ja) * 1991-05-22 1993-02-12 Olympus Optical Co Ltd 縮小投影レンズ
JP3298131B2 (ja) * 1991-10-24 2002-07-02 株式会社ニコン 縮小投影レンズ
JP3158691B2 (ja) * 1992-08-07 2001-04-23 株式会社ニコン 露光装置及び方法、並びに照明光学装置
US5477304A (en) * 1992-10-22 1995-12-19 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
DE4331635C2 (de) * 1992-12-22 2001-03-15 Zeiss Carl Fa Beleuchtungseinrichtung für ein Operationsmikroskop mit optisch-mechanisch gekoppelten Beobachtertuben
JPH06313845A (ja) * 1993-04-28 1994-11-08 Olympus Optical Co Ltd 投影レンズ系
JPH06331941A (ja) * 1993-05-19 1994-12-02 Olympus Optical Co Ltd 投影レンズ系
JPH07128590A (ja) * 1993-10-29 1995-05-19 Olympus Optical Co Ltd 縮小投影レンズ
JPH07128592A (ja) * 1993-11-04 1995-05-19 Olympus Optical Co Ltd 縮小投影レンズ
JP3360387B2 (ja) * 1993-11-15 2002-12-24 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
JP3396935B2 (ja) * 1993-11-15 2003-04-14 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
US5617182A (en) * 1993-11-22 1997-04-01 Nikon Corporation Scanning exposure method
US5437946A (en) * 1994-03-03 1995-08-01 Nikon Precision Inc. Multiple reticle stitching for scanning exposure system
JPH0817719A (ja) * 1994-06-30 1996-01-19 Nikon Corp 投影露光装置
JPH08179204A (ja) * 1994-11-10 1996-07-12 Nikon Corp 投影光学系及び投影露光装置
JP3500745B2 (ja) * 1994-12-14 2004-02-23 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JP3454390B2 (ja) * 1995-01-06 2003-10-06 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JP3819048B2 (ja) * 1995-03-15 2006-09-06 株式会社ニコン 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びに露光方法
JPH08259230A (ja) * 1995-03-24 1996-10-08 Kokusai Chodendo Sangyo Gijutsu Kenkyu Center 酸化物超電導体およびその製造方法
JP3624973B2 (ja) * 1995-10-12 2005-03-02 株式会社ニコン 投影光学系
JP3750123B2 (ja) * 1996-04-25 2006-03-01 株式会社ニコン 投影光学系
US5808814A (en) * 1996-07-18 1998-09-15 Nikon Corporation Short wavelength projection optical system
US5717518A (en) * 1996-07-22 1998-02-10 Kla Instruments Corporation Broad spectrum ultraviolet catadioptric imaging system
US5834770A (en) * 1997-03-21 1998-11-10 Leybold Inficon, Inc. Ion collecting electrode for total pressure collector

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100792652B1 (ko) * 1999-05-14 2008-01-09 칼 짜이스 에스엠테 아게 마이크로 리소그래피용 투영 대물렌즈
KR100511360B1 (ko) * 1999-06-14 2005-08-31 캐논 가부시끼가이샤 투영광학계 및 그것을 사용한 투영노광장치, 및디바이스제조방법
US6621555B1 (en) 1999-06-14 2003-09-16 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method
US6459534B1 (en) 1999-06-14 2002-10-01 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method
US6867922B1 (en) 1999-06-14 2005-03-15 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus using the same
KR100507558B1 (ko) * 1999-06-14 2005-08-17 캐논 가부시끼가이샤 투영광학시스템 및 이를 이용한 투영노광장치
US6606144B1 (en) 1999-09-29 2003-08-12 Nikon Corporation Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems
US6674513B2 (en) 1999-09-29 2004-01-06 Nikon Corporation Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems
US6864961B2 (en) 1999-09-29 2005-03-08 Nikon Corporation Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems
US6791761B2 (en) 1999-10-21 2004-09-14 Zeiss Smt Ag Optical projection lens system
US6930837B2 (en) 1999-10-21 2005-08-16 Carl Zeiss Smt Ag Optical projection lens system
US7450312B2 (en) 1999-10-21 2008-11-11 Carl Zeiss Smt Ag Optical projection lens system
US7339743B2 (en) 2002-03-01 2008-03-04 Carl Zeiss Smt Ag Very-high aperture projection objective
US7495840B2 (en) 2002-03-08 2009-02-24 Karl-Heinz Schuster Very high-aperture projection objective
JP2007515660A (ja) * 2003-10-22 2007-06-14 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 浸漬リソグラフィー用屈折性投影対物レンズ
US7751129B2 (en) 2003-10-22 2010-07-06 Carl Zeiss Smt Ag Refractive projection objective for immersion lithography
US7969663B2 (en) 2003-10-22 2011-06-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective for immersion lithography
JP2020535482A (ja) * 2017-09-29 2020-12-03 シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド 投影対物レンズ

Also Published As

Publication number Publication date
US6008884A (en) 1999-12-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH116957A (ja) 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法
JP3454390B2 (ja) 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JP3500745B2 (ja) 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JP3624973B2 (ja) 投影光学系
JP3819048B2 (ja) 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びに露光方法
KR100573913B1 (ko) 투영광학계및노광장치
JPH09292568A (ja) 投影光学系
JP3823436B2 (ja) 投影光学系
JPH07140384A (ja) 投影光学系及び投影露光装置
JP2001141995A (ja) 光学的投影レンズ系
JPH07128592A (ja) 縮小投影レンズ
KR100511360B1 (ko) 투영광학계 및 그것을 사용한 투영노광장치, 및디바이스제조방법
KR100522503B1 (ko) 투영광학계 및 이것을 가진 투영노광장치, 그리고디바이스제조방법
JP2002055277A (ja) リレー結像光学系、および該光学系を備えた照明光学装置並びに露光装置
JP2000121934A (ja) 投影光学系
JP2005114881A (ja) 投影光学系、露光装置、および露光方法
JP2000121933A (ja) 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びにデバイス製造方法
JP2003202494A (ja) 投影光学系、露光装置及びデバイスの製造方法
JP2000056219A (ja) 投影光学系
JP2004219501A (ja) 投影光学系、露光装置、および露光方法
USRE38465E1 (en) Exposure apparatus
JPH0821955A (ja) 反射屈折縮小投影光学系
JP2000131607A (ja) 投影光学系
JPH0748089B2 (ja) 精密投影光学系
JPH11142744A (ja) 近紫外対物レンズ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050317

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070704

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070717

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070809

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070911