JP2000121934A - 投影光学系 - Google Patents

投影光学系

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JP2000121934A
JP2000121934A JP10295556A JP29555698A JP2000121934A JP 2000121934 A JP2000121934 A JP 2000121934A JP 10295556 A JP10295556 A JP 10295556A JP 29555698 A JP29555698 A JP 29555698A JP 2000121934 A JP2000121934 A JP 2000121934A
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JP
Japan
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lens group
lens
positive
optical system
sio2
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JP10295556A
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Inventor
Yutaka Suenaga
豊 末永
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】狭帯化をあまり進めないレーザー光源を用いた
場合でも、設計性能を維持した上で、十分な色収差補正
が行われた投影光学系を提供する。 【解決手段】第1面Rの像を第2面W上に投影する投影
光学系において、投影光学系は、石英硝子または蛍石で
構成されており、少なくとも2枚の正レンズを有する正
屈折力の第1レンズ群G1と、少なくとも3枚の負レン
ズを有する負屈折力の第2レンズ群G2と、少なくとも
3枚の正レンズを有する正屈折力の第3レンズ群G3
と、少なくとも3枚の負レンズを有する負屈折力の第4
レンズ群G4と、少なくとも4枚の正レンズを有する部
分群と1枚の負レンズとを有する正屈折力の第5レンズ
群G5と、少なくとも1枚の正レンズを有する第6レン
ズ群G6と、を含み、第4レンズ群G4中に少なくとも
1面以上の非球面を有し、第5レンズ群G5または第6
レンズ群G6中に、蛍石からなる第1の正レンズLP1
を有し、所定の条件を満足する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、第1面のパターン
を第2面上に投影するための投影光学系に関するもの
で、特に、第1面としてのレチクル(マスク)上に形成
された半導体用のパターンを第2面としての基板(ウェ
ハ)上に縮小投影露光するのに適した投影光学系に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】集積回路のパターンの微細化が進むに従
って、ウェハーの焼き付けに用いられる投影光学系に対
して、高解像力化が求められている。この要求を満たし
ていくには、露光波長の短波長化、或いは投影光学系の
高NA化を進めていく必要がある。
【0003】近年においては、転写パターンの微細化に
対応するために、露光光源はg線(436nm) 発光光源から
i線(365nm) 発光光源が主として用いられるようになっ
てきており、さらには、より短波長の光源、例えばエキ
シマレーザ(248nm,193nm) が用いられようとしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】近年、特にArfレー
ザーについては、光学素子等を用いたレーザー光源の狭
帯化が進んできたとはいえ、数pm程度の半値幅をもっ
たレーザー光源を投影光学系の光源に用いる場合、屈折
投影光学系をすべて石英硝子で構成すると、色収差は、
無視できる量ではなくなってしまう。その結果、像のコ
ントラストの低下を招き、像の劣化の原因となり、非常
に狭い範囲へのレーザーの狭帯化が必要となる。
【0005】一方、レーザーの狭帯化は、狭帯化素子の
時間的劣化等、多数の問題を含み容易ではなく、限界が
ある。そこで、他の硝種を構成レンズに加える事で、光
学系を色消しとすることが一般的である。しかしなが
ら、特開昭63-121810 号公報に開示された実施例の様に
狭帯化をあまり進めないレーザーを使った場合、その光
学系の構成枚数の過半数が蛍石になってしまう。蛍石は
数10年前から硝材として、望遠鏡、顕微鏡対物レンズ
等に使われてきたが、加工性の悪さ、温度変動に依る面
変化が大きく光学系の性能劣化の一因となることが知ら
れている。それ故、特開昭63-121810 号公報に開示され
た実施例の様な、多数の蛍石を用いた光学系は、設計性
能を維持することが困難であるといえる。
【0006】従って、本発明は、上記問題点に鑑み、狭
帯化をあまり進めないレーザー光源を用いた場合でも、
設計性能を維持した上で、十分な色収差補正が行われた
投影光学系を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するめに、第1面Rの像を第2面W上に投影する投影
光学系において、投影光学系は、石英硝子または蛍石で
構成されており、少なくとも2枚の正レンズを有する正
屈折力の第1レンズ群G1と、少なくとも3枚の負レン
ズを有する負屈折力の第2レンズ群G2と、少なくとも
3枚の正レンズを有する正屈折力の第3レンズ群G3
と、少なくとも3枚の負レンズを有する負屈折力の第4
レンズ群G4と、少なくとも4枚の正レンズを有する部
分群と1枚の負レンズとを有する正屈折力の第5レンズ
群G5と、少なくとも1枚の正レンズを有する第6レン
ズ群G6と、を含み、第4レンズ群G4中に少なくとも
1面以上の非球面を有し、第5レンズ群G5または第6
レンズ群G6中に、蛍石からなる第1の正レンズLP1
を有し、以下に示す(1)から(6)までの条件を満足
する投影光学系を提供する。
【0008】 0.08 < f1/L<0.25 (1) 0.03 <−f2/L<0.1 (2) 0.05 < f3/L<0.3 (3) 0.035<−f4/L<0.11 (4) 0.08 <f5p/L<0.3 (5) 0.1 <fp1/L<0.4 (6) 但し、上記各条件中の記号は、第1面Wから第2面Rま
での距離をLとし、第1レンズ群G1の焦点距離をf1
とし、第2レンズ群G2の焦点距離をf2とし、第3レ
ンズ群G3の焦点距離をf3とし、第4レンズ群G4の
焦点距離をf4とし、第5レンズ群G5中の4枚の正レ
ンズを含む部分群G5pの焦点距離をf5pとし、第5
レンズ群G5または第6レンズ群G6中の蛍石からなる
第1の正レンズLP1の焦点距離をfp1としている。
【0009】
【発明の実施の形態】上述のように、本発明の投影光学
系は、少なくとも、第1面から順に、正の屈折力を持つ
第1レンズ群G1と、負の屈折力を持つ第2レンズ群G
2と、正の屈折力を持つ第3レンズ群G3と、負の屈折
力を持つ第4レンズ群G4と、正の屈折力を持つ第5レ
ンズ群G5と、第6レンズ群G5と、を含む構成を採用
している。
【0010】正の屈折力を持つ第1レンズ群G1は、第
1面Rから射出するテレセントリックな光束を第2レン
ズ群G2以降のレンズ群にリレーすると共に、正の歪曲
収差を予め発生させ、これより第2面W側の主に第2レ
ンズ群G2、第4レンズ群G4及び第5レンズ群G5で
発生する負の歪曲収差を補正している。また、正の屈折
力を持つ第3レンズ群G3も、正の歪曲収差を発生さ
せ、第2レンズ群G2、第4レンズ群G4及び第5レン
ズ群G5で発生する負の歪曲収差を補正する役割を担う
と共に、第2レンズ群G2と共に望遠系を形成して、系
の長大化を防いでいる。
【0011】負の屈折力を持つ第2レンズ群G2及び第
4レンズ群G4は、主にペッツバール和の補正に寄与し
て、平坦な像を実現する。正の屈折力を持つ第5レンズ
群G5は、第2面W上に球面収差の発生を極力避けて結
像させる役割をもつ。第6レンズ群G6は、第2面W上
にテレセントリックに像を投影する役割をもつ。
【0012】ここで、本発明では、第4レンズ群G4中
に少なくとも1面以上の非球面を配置し、第5レンズ群
G5または第6レンズ群G6中に蛍石からなる第1の正
レンズLP1を配置する。第4レンズ群G4中に非球面
を配置することで、光学系全体を小型化している。この
様にすると、軸上色収差も比例して小さくすることがで
きる。そこへ更に、色収差低減に最も効果を有する部分
の第5レンズ群G5または第6レンズ群G6中に、蛍石
からなる第1の正レンズLP1を配置することで、少な
い蛍石レンズの枚数でも、色収差を低減することができ
る。使用する蛍石レンズ枚数が少なくなるので、本発明
では、設計性能を従来の投影光学系同様に維持すること
ができるようになる。
【0013】更に、本発明では、上記(1)から(6)
までの条件を満たすようになっており、以下に各条件の
説明を行う。条件(1)は、全系に対する第1レンズ群
G1の適正な正の屈折力を規定するものである。条件
(1)の上限を越えると、第2レンズ群G2、第4レン
ズ群G4及び第5レンズ群G5で発生する負の歪曲収差
を補正できなくなり、下限を越えると、高次の正の歪曲
収差を発生する原因となる。
【0014】条件(2)は、全系に対する第2レンズ群
G2の適正な負の屈折力を規定するものである。条件
(2)の上限を越えると、ペッツバール和の補正が不十
分となり像の平坦性の悪化を招く。また下限を越える
と、正の歪曲収差の発生が大きくなり、第1レンズ群G
1及び第3レンズ群G3だけでは良好な補正が困難とな
る。
【0015】条件(3)は、全系に対する第3レンズ群
G3の適正な正の屈折力を規定するものである。条件
(3)の上限を越えると、第2レンズ群G2とで形成す
る望遠系のテレ比が大きくなり系の長大化を招くうえ、
正の歪曲収差の発生量が小さくなり、第2レンズ群G
2、第4レンズ群G4及び第5レンズ群G5で発生する
負の歪曲収差を良好には補正できない。また、条件
(3)の下限を越えると、高次の球面収差が発生し、良
好な結像性能を得る事ができなくなる。
【0016】条件(4)は、全系に対する第4レンズ群
G4の適正な負の屈折力を規定するものである。条件
(4)の上限を越えると、ペッツバール和の補正が不十
分となり像の平坦性の悪化を招き、下限を越えると、高
次の球面収差の発生の原因となり像のコントラストの悪
化を招く。条件(5)は、全系に対する第5レンズ群G
5の適正な正の屈折力を規定するものである。条件
(5)の上限を越えると、第5レンズ群G5の正の屈折
力が弱くなり過ぎ、結果的に系の長大化を招く。また、
条件(5)の下限を越えると、負の歪曲収差及び負の球
面収差の発生が大きくなり、像の悪化を招く。
【0017】条件(6)は、全系に対する第5レンズ群
G5または第6レンズ群G6中の、蛍石からなる第1の
正レンズLP1の屈折力を規定するものである。条件
(6)の上限を越えると、第1の正レンズLP1の屈折
力が小さく色消しが不十分となり、蛍石の枚数の増加を
招く。また、条件(6)の下限を越えると、第1の正レ
ンズLP1で発生する高次球面収差が増加して補正困難
になり像のコントラストを悪化させる原因となる。
【0018】より良い性能を得るためには、本発明で
は、更に、以下に示す条件(7)、(8)及び(9)を
満足することが好ましい。 0.1 <fp2/L<0.6 (7) (R/|R|)×(Ah4 +Bh6 +Ch8 +Dh10 +Eh12+Fh14+・・・)<0 (8) 0.1 <fp3/L<0.6 (9) 但し、fp2は、第5レンズ群G5または第6レンズ群
G6に配置された蛍石からなる第2の正レンズLP2の
焦点距離であり、fp3は、第5レンズ群G5の蛍石か
らなる第1の正レンズLP1及び第2の正レンズLP2
の他に配置された蛍石からなる第3の正レンズLP3の
焦点距離であり、A、B、C、D、E及びF・・・は、
非球面係数であり、hは、光軸からの距離であり、R
は、非球面の曲率半径である。
【0019】条件(7)は、条件(6)同様に、全系に
対する第5レンズ群G5または第6レンズ群G6中の、
蛍石からなる第2の正レンズLP2の屈折力を規定する
ものである。条件(7)の上限を越えると第2の正レン
ズLP2の屈折力が小さく、色消しが不十分となり、蛍
石の枚数の増加を招く。また、条件(7)の下限を越え
ると第2の正レンズLP2で発生する高次球面収差が増
加して補正困難になり、像のコントラストを悪化させる
原因となる 条件(8)は、第4レンズ群G4中の非球面の面形状を
規定するものである。通常、像面の平坦性を要求される
レンズでは、ペッツバール和を0に近づける為に比較的
強い曲率をもった凹面が必要である。しかしながら、強
い曲率の凹面はペッツバール和を補正するのみならず、
正の球面収差を発生し、結果的に軸外像を形成する光束
のサジタルコマを発生させてしまう。そこで、強い屈折
力をもった凹面を非球面化すれば、サジタルコマが低減
でき、より広い有効露光領域をもつことが可能となる。
言い換えれば、同じ有効露光領域をもった投影光学系な
ら、凹面を非球面化することで光学系全体を小さくする
ことが可能である。即ち、レンズ全体が比例縮小された
様な形になるので、当然、色収差も比例縮小されるの
で、球面のみのレンズに比べてより少ない蛍石で色消し
が可能となる。
【0020】条件(8)は、球面の場合に比べてサジタ
ルコマの発生がすくない条件を示しており、この条件を
満たさない非球面を使用しても、球面のみのレンズに比
べて、蛍石の枚数を削減できない。条件(9)は、全系
に対する第5レンズ群G5または第6レンズ群G6中
の、蛍石からなる第3の正レンズLP3の屈折力を規定
するものである。条件(9)の上限を越えると、第3の
正レンズLP3の屈折力がが小さく色消しが不十分とな
り、蛍石の枚数の増加を招く。また、条件(9)の下限
を越えると、第3の正レンズLP3で発生する高次球面
収差が増加して補正困難になり、像のコントラストを悪
化させる原因となる。
【0021】
【実施例】以下に本発明による実施例を示す。各実施例
では、硝材として、石英sio2及び蛍石caf2を使
用している。屈折率及びアッベ数は、以下に示す表の通
りである。但し、アッベ数は、193nm±0.39p
mでの値である。 また、非球面Z(r)は、以下の式で表される。
【0022】
【数1】 〔第1実施例〕以下に第1実施例を示す。本実施例の縮
小投影光学系の諸元を以下に示し、その光学系の断面図
を図1に示し、その収差図を図2に示す。本実施例の縮
小投影光学系の像面側NAは0.7で、使用波長は19
3.3nm±0.39pmで、物体から第1面までの間
隔は56.35で、最終面から像面までの間隔は8.7
8であり、使用倍率は−1/4倍で、露光領域は半径1
3.2mmの円である。図2中、Yは像高を表し、実線
は193.3nm、点線は193.3nm+0.39p
m、一点鎖線は193.3nm−0.39pmを表して
いる。 (諸元) 面番号 曲率半径 面間隔 硝材 1: -1200.07448 11.053636 'sio2' 2: 322.39773 11.066050 3: 574.81137 21.186136 'sio2' 4: -744.89177 2.253984 5: 665.26400 24.026819 'sio2' 6: -286.50927 0.921136 7: 195.38305 23.000000 'sio2' 8: -1963.77531 1.088458 9: 187.73308 20.265000 'sio2' 10: 106.07294 16.434311 11: 435.53316 19.970497 'sio2' 12: -322.39773 1.000000 13: -941.66525 10.000000 'sio2' 14: 143.28512 17.344023 15: -289.63765 10.000827 'sio2' 16: 220.07139 17.776125 17: -173.45213 11.394312 'sio2' 18: 666.42764 18.159570 19: -151.28805 15.373383 'sio2' 20: -342.35597 6.278512 21: -285.59145 25.005390 'sio2' 22: -176.85219 13.986462 23: -7599.99712 31.918538 'sio2' 24: -257.98441 1.740627 25: 693.69572 34.000000 'sio2' 26: -475.78815 15.988313 27: 429.42996 36.005851 'sio2' 28: -647.38135 1.104159 29: 200.99277 30.016700 'sio2' 30: 545.77159 32.819604 31: 288.90796 26.347712 'sio2' 32: 126.79938 32.483519 33: -184.01318 10.000000 'sio2' 34: 226.12475 33.455194 35: -114.26263 13.078083 'sio2' 36: -1440.84981 16.031950 37: -207.21925 26.721442 'sio2' 38: -150.12544 11.084133 39: 2802.87322 38.412469 'caf2' 40: -209.74937 9.550908 41: 404.34647 39.000000 'sio2' 42: -403.09198 15.920187 43: -237.86569 21.186136 'sio2' 44: -448.53657 6.955987 45: 353.59740 36.460171 'sio2' 46: -1360.33908 1.470075 47: 189.92895 36.198876 'sio2' 48: 563.59378 7.237956 49: 114.76387 41.928160 'caf2' 50: 570.81996 2.667815 51: 736.90909 24.152909 'sio2' 52: 65.61816 8.722913 53: 66.60726 29.879944 'caf2' 54: 649.91233 1.530956 55: 736.90909 36.780502 'sio2' 56: 759.82984 (非球面データ) 25面 κ : 1.126073 A : 0.161705E-07 B : -.576396E-11 C : -.714491E-16 D : 0.169981E-19 E : -.312818E-23 F : 0.226946E-27 22面 κ : 195.525086 A : 0.127508E-07 B : -.232370E-11 C : 0.965823E-16 D : -.680130E-20 E : 0.186829E-24 F : -.330254E-28 (条件対応値) f1/L=0.1626 −f2/L=0.0684 f3/L=0.1192 −f4/L=0.0654 f5p/L=0.1353 fp1/L=0.1355 fp2/L=0.2589 (R/|R|)×(Ah4 +Bh6 +Ch8 +Dh10+Eh12 +Fh14+・・・)=-0.366 fp3/L=0.3640 〔第2実施例〕以下に第2実施例を示す。
【0023】本実施例の縮小投影光学系の諸元を以下に
示し、その光学系の断面図を図3に示し、その収差図を
図4に示す。本実施例の縮小投影光学系の像面側NAは
0.7で、使用波長は193.3nm±0.39pm
で、物体から第1面までの間隔は51.40で、最終面
から像面までの間隔は9.64で、使用倍率は−1/4
倍で、露光領域は半径13.2mmの円である。図4
中、Yは像高を表し、実線は193.3nm、点線は1
93.3nm+0.39pm、一点鎖線は193.3n
m−0.39pmを表している。 (諸元) 面番号 曲率半径 面間隔 硝材 1: -916.44941 11.053636 'sio2' 2: 322.39773 12.010058 3: 653.10169 21.186136 'sio2' 4: -753.07169 2.648900 5: 756.97039 23.634204 'sio2' 6: -264.94044 0.921136 7: 187.16939 23.000000 'sio2' 8: -5170.13222 1.000000 9: 178.42770 20.265000 'sio2' 10: 107.35579 16.933647 11: 480.60898 19.242693 'sio2' 12: -322.39773 1.253752 13: -1417.12499 9.565770 'sio2' 14: 137.73714 18.356282 15: -282.23956 9.500000 'sio2' 16: 233.23421 18.839041 17: -157.64492 12.622901 'sio2' 18: 877.05026 18.979164 19: -146.41792 15.858946 'sio2' 20: -385.20826 6.660773 21: -324.68206 25.440763 'sio2' 22: -175.34922 14.643271 23: -5304.36667 34.068128 'sio2' 24: -252.72632 3.667647 25: 752.44792 36.000000 'sio2' 26: -429.11892 10.933110 27: 380.92826 37.000000 'sio2' 28: -853.77874 3.334340 29: 197.17003 30.772884 'caf2' 30: 521.55426 33.505475 31: 282.82765 27.006760 'sio2' 32: 125.64514 34.618111 33: -181.56287 12.351869 'sio2' 34: 230.01943 33.487264 35: -113.53304 12.826034 'sio2' 36: -1446.98403 15.894134 37: -203.39532 26.442542 'sio2' 38: -148.42375 10.754956 39: 2320.14958 37.582592 'caf2' 40: -213.54190 7.755261 41: 390.79977 39.000000 'sio2' 42: -397.74168 19.663115 43: -232.28386 21.186136 'sio2' 44: -447.15243 2.000000 45: 376.58115 37.313224 'sio2' 46: -1181.31893 2.813491 47: 192.14569 37.079200 'sio2' 48: 581.09054 8.248969 49: 114.46406 41.142733 'caf2' 50: 509.88873 3.893430 51: 736.90909 22.393379 'sio2' 52: 66.70059 8.543978 53: 68.24661 66.427056 'sio2' 54: 653.06474 (非球面データ) 19面 κ : 0.016241 A : 0.459545E-09 B : -.200647E-13 C : -.128671E-16 D : 0.101262E-20 E : -.606155E-24 F : 0.000000E+00 20面 κ : 191.327755 A : 0.130741E-07 B : -.256328E-11 C : 0.999220E-16 D : -.979957E-20 E : -.304584E-25 F : 0.272071E-29 23面 κ : 1.104552 A : 0.160014E-07 B : -.611742E-11 C : -.703892E-16 D : 0.574303E-20 E : -.847194E-24 F : 0.102100E-27 (条件対応値) f1/L=0.1658 −f2/L=0.0689 f3/L=0.1198 −f4/L=0.0643 f5p/L=0.1343 fp1/L=0.2628 fp2/L=0.3621 (R/|R|)×(Ah4 +Bh6 +Ch8 +Dh10+Eh12 +Fh14+・・・)=-0.3553 fp3/L=0.5661 〔第3実施例〕以下に第3実施例を示す。
【0024】本実施例の縮小投影光学系の諸元を以下に
示し、その光学系の断面図を図5に示し、その収差図を
図6に示す。本実施例の縮小投影光学系の像面側NAは
0.8で、使用波長は193.3nm±0.26pm
で、物体から第1面までの間隔は55.01で、最終面
から像面までの間隔は7.35で、使用倍率は−1/4
倍で、露光領域は半径13.2mmの円である。図6
中、Yは像高を表し、実線は193.3nm、点線は1
93.3nm+0.26pm、一点鎖線は193.3n
m−0.26pmを表している。 (諸元) 面番号 曲率半径 面間隔 硝材 1: -766.78300 11.326015 'sio2' 2: 431.65014 18.449246 3: 889.61779 19.294436 'sio2' 4: -468.68859 1.196796 5: 575.66006 27.400000 'sio2' 6: -225.19165 1.000000 7: 157.97906 22.800000 'sio2' 8: 724.97442 1.000000 9: 219.25382 19.371708 'sio2' 10: 118.93345 14.704600 11: 450.84093 10.892265 'sio2' 12: 143.80417 20.056603 13: -297.52512 10.714003 'sio2' 14: 186.73085 24.230317 15: -155.75621 10.882700 'sio2' 16: -4591.08123 18.657666 17: -147.94579 19.810311 'sio2' 18: -389.05840 6.237461 19: -571.35192 31.562994 'sio2' 20: -194.49751 1.000000 21: -2428.26188 36.900000 'sio2' 22: -237.38218 1.000000 23: 6593.61728 36.000000 'sio2' 24: -319.04406 1.000000 25: 283.93001 36.000000 'sio2' 26: 6709.06089 1.000000 27: 166.44466 35.700000 'sio2' 28: 380.49567 26.763163 29: 395.09904 21.105868 'sio2' 30: 122.03880 37.507382 31: -326.22056 10.271360 'sio2' 32: 166.52174 44.419428 33: -112.81953 11.038575 'sio2' 34: -1067.00755 16.542444 35: -204.76717 28.458513 'sio2' 36: -147.32548 11.000000 37: 862.11676 35.946489 'sio2' 38: -330.20111 1.000000 39: 415.32238 48.000000 'caf2' 40: -361.03239 13.592989 41: -238.00000 25.000000 'sio2' 42: -328.48749 20.446597 43: 815.59269 29.500000 'sio2' 44: -1055.69955 1.000000 45: 256.53354 33.200000 'sio2' 46: 937.13190 1.000000 47: 150.24996 36.029142 'sio2' 48: 334.59372 1.000000 49: 139.45195 34.729089 'caf2' 50: 444.46023 4.652695 51: 884.06205 23.382278 'sio2' 52: 97.38164 4.490676 53: 95.62395 57.996618 'caf2' 54: 747.69692 (非球面データ) 19面 κ : 1.939531 A : 0.814117E-09 B : 0.256018E-12 C : -.697178E-17 D : 0.260014E-23 E : 0.315119E-26 F : 0.000000E+00 25面 κ : 6.324681 A : 0.250651E-07 B : -.482429E-11 C : -.700819E-16 D : 0.118299E-19 E : -.663087E-24 F : 0.000000E+00 (条件対応値) f1/L=0.1430 −f2/L=0.0616 f3/L=0.1094 −f4/L=0.0600 f5p/L=0.2023 fp1/L=0.1969 fp2/L=0.3620 (R/|R|)×(Ah4 +Bh6 +Ch8 +Dh10+Eh12 +Fh14+・・・)=-0.933 fp3/L=0.3646 以上に示した各実施例の投影光学系では、ある程度の波
長領域で色収差を補正するこができる。
【0025】
【発明の効果】以上で示したように、本発明によって、
狭帯化をあまり進めないレーザー光源を用いた場合で
も、設計性能を維持した上で、十分な色収差補正が行わ
れた投影光学系を提供することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明による第1実施例の投影光学系
の断面図である。
【図2】図2は、第1実施例の投影光学系の収差図であ
る。
【図3】図3は、本発明による第2実施例の投影光学系
の断面図である。
【図4】図4は、第2実施例の投影光学系の収差図であ
る。
【図5】図5は、本発明による第3実施例の投影光学系
の断面図である。
【図6】図6は、第3実施例の投影光学系の収差図であ
る。
【符号の説明】
G1 第1レンズ群 G2 第2レンズ群 G3 第3レンズ群 G4 第4レンズ群 G5 第5レンズ群 G6 第6レンズ群 G5p 第5レンズ群中の部分群 LP1 第1の正レンズ LP2 第2の正レンズ LP3 第3の正レンズ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1面の像を第2面上に投影する投影光学
    系において、 該投影光学系は、石英硝子または蛍石で構成されてお
    り、 少なくとも2枚の正レンズを有する正屈折力の第1レン
    ズ群と、 少なくとも3枚の負レンズを有する負屈折力の第2レン
    ズ群と、 少なくとも3枚の正レンズを有する正屈折力の第3レン
    ズ群と、 少なくとも3枚の負レンズを有する負屈折力の第4レン
    ズ群と、 少なくとも4枚の正レンズを有する部分群と1枚の負レ
    ンズとを有する正屈折力の第5レンズ群と、 少なくとも1枚の正レンズを有する第6レンズ群と、を
    含み、 前記第4レンズ群中に少なくとも1面以上の非球面を有
    し、 前記第5レンズ群または前記第6レンズ群中に、蛍石か
    らなる第1の正レンズを有し、 前記第1面から前記第2面までの距離をLとし、前記第
    1レンズ群の焦点距離をf1とし、前記第2レンズ群の
    焦点距離をf2とし、前記第3レンズ群の焦点距離をf
    3とし、前記第4レンズ群の焦点距離をf4とし、前記
    第5レンズ群中の4枚の正レンズを含む部分群G5pの
    焦点距離をf5pとし、前記第5レンズ群または前記第
    6レンズ群中の蛍石からなる前記第1の正レンズの焦点
    距離をfp1としたとき、以下の条件を満たすことを特
    徴とする投影光学系。 0.08 < f1/L<0.25 0.03 <−f2/L<0.1 0.05 < f3/L<0.3 0.035<−f4/L<0.11 0.08 <f5p/L<0.3 0.1 <fp1/L<0.4
  2. 【請求項2】前記第5レンズ群または前記第6レンズ群
    は、更に、蛍石からなる第2の正レンズを含み、該第2
    の正レンズの焦点距離をfp2とするとき、以下の条件
    を満たすことを特徴とする請求項1記載の投影光学系。 0.1 <fp2/L<0.6
  3. 【請求項3】前記第4レンズ群の前記非球面は、負のパ
    ワーを有し、 非球面係数をA、B、C、D、E及びF・・・とし、最
    大入射高をhとし、前記非球面の曲率半径をRとしたと
    き、以下の条件を満たすことを特徴とする請求項1また
    は2記載の投影光学系。 (R/|R|)×(Ah4 +Bh6 +Ch8 +Dh10
    Eh12+Fh14+・・・)<0
  4. 【請求項4】前記第3、第5又は第6レンズ群は、前記
    蛍石からなる第1の正レンズ及び第2の正レンズの他
    に、更に、蛍石からなる第3の正レンズを含み、該第3
    の正レンズLP3の焦点距離をfp3とするとき、以下
    の条件を満たすことを特徴とする請求項2または3記載
    の投影光学系。 0.1 <fp3/L<0.6
  5. 【請求項5】前記第4レンズ群または第5レンズ群は、
    更に、少なくとも1面の非球面を含むことを特徴とする
    請求項1乃至4記載の投影光学系。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002531878A (ja) * 1998-11-30 2002-09-24 カール−ツアイス−スチフツング 最少絞り収差を有する大開口数の投影レンズ
US6556353B2 (en) 2001-02-23 2003-04-29 Nikon Corporation Projection optical system, projection exposure apparatus, and projection exposure method
US6606144B1 (en) 1999-09-29 2003-08-12 Nikon Corporation Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems
US6621555B1 (en) 1999-06-14 2003-09-16 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method
US6674513B2 (en) 1999-09-29 2004-01-06 Nikon Corporation Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems
US6714280B2 (en) 2001-02-23 2004-03-30 Nikon Corporation Projection optical system, projection exposure apparatus, and projection exposure method
US6844919B2 (en) 2000-12-11 2005-01-18 Yutaka Suenaga Projection optical system and exposure apparatus having the projection optical system
US6862078B2 (en) 2001-02-21 2005-03-01 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus with the same
US6867922B1 (en) 1999-06-14 2005-03-15 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus using the same

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002531878A (ja) * 1998-11-30 2002-09-24 カール−ツアイス−スチフツング 最少絞り収差を有する大開口数の投影レンズ
US6621555B1 (en) 1999-06-14 2003-09-16 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus with the same, and device manufacturing method
US6867922B1 (en) 1999-06-14 2005-03-15 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus using the same
US6606144B1 (en) 1999-09-29 2003-08-12 Nikon Corporation Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems
US6674513B2 (en) 1999-09-29 2004-01-06 Nikon Corporation Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems
US6864961B2 (en) 1999-09-29 2005-03-08 Nikon Corporation Projection exposure methods and apparatus, and projection optical systems
US6844919B2 (en) 2000-12-11 2005-01-18 Yutaka Suenaga Projection optical system and exposure apparatus having the projection optical system
US6862078B2 (en) 2001-02-21 2005-03-01 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus with the same
US6556353B2 (en) 2001-02-23 2003-04-29 Nikon Corporation Projection optical system, projection exposure apparatus, and projection exposure method
US6714280B2 (en) 2001-02-23 2004-03-30 Nikon Corporation Projection optical system, projection exposure apparatus, and projection exposure method

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