JPH1054936A - 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法 - Google Patents
投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法Info
- Publication number
- JPH1054936A JPH1054936A JP8209892A JP20989296A JPH1054936A JP H1054936 A JPH1054936 A JP H1054936A JP 8209892 A JP8209892 A JP 8209892A JP 20989296 A JP20989296 A JP 20989296A JP H1054936 A JPH1054936 A JP H1054936A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- lens group
- negative
- positive
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/7025—Size or form of projection system aperture, e.g. aperture stops, diaphragms or pupil obscuration; Control thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/24—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for reproducing or copying at short object distances
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】両側テレセントリックでありながら、広い露光
領域にわたって諸収差を極めて良好に補正し得る高性能
な投影光学系を提供する。 【解決手段】第１物体Ｍの像を第２物体Ｐ上に投影する
投影光学系は、第１物体側から順に、正の屈折力を有す
る第１レンズ群Ｇ１と；負の屈折力を有し、互いに向き
合った凹面の組を形成する一対の負レンズ成分を持つ第
２レンズ群Ｇ２と；正の屈折力を有し、最も第２物体側
に配置されて第２物体側に凹面を向けたレンズ成分を持
つ第３レンズ群Ｇ３と；開口絞りＡＳと；正の屈折力を
有し、最も第１物体側に配置されて第１物体側に凹面を
向けたレンズ成分を持つ第４レンズ群Ｇ４と；負の屈折
力を有し、互いに向き合った凹面の組を形成する一対の
負レンズ成分を持つ第５レンズ群Ｇ５と；正の屈折力を
持つ第６レンズ群とを有する。
領域にわたって諸収差を極めて良好に補正し得る高性能
な投影光学系を提供する。 【解決手段】第１物体Ｍの像を第２物体Ｐ上に投影する
投影光学系は、第１物体側から順に、正の屈折力を有す
る第１レンズ群Ｇ１と；負の屈折力を有し、互いに向き
合った凹面の組を形成する一対の負レンズ成分を持つ第
２レンズ群Ｇ２と；正の屈折力を有し、最も第２物体側
に配置されて第２物体側に凹面を向けたレンズ成分を持
つ第３レンズ群Ｇ３と；開口絞りＡＳと；正の屈折力を
有し、最も第１物体側に配置されて第１物体側に凹面を
向けたレンズ成分を持つ第４レンズ群Ｇ４と；負の屈折
力を有し、互いに向き合った凹面の組を形成する一対の
負レンズ成分を持つ第５レンズ群Ｇ５と；正の屈折力を
持つ第６レンズ群とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、第１物体のパター
ンを第２物体としての基板等に投影するための投影光学
系に関するものであり、特に、第１物体としてのレチク
ル（マスク）上に形成された半導体用または液晶用のパ
ターンを第２物体としての基板（ウェハ、プレート等）
上に投影露光するのに好適な投影光学系に係るものであ
る。
ンを第２物体としての基板等に投影するための投影光学
系に関するものであり、特に、第１物体としてのレチク
ル（マスク）上に形成された半導体用または液晶用のパ
ターンを第２物体としての基板（ウェハ、プレート等）
上に投影露光するのに好適な投影光学系に係るものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】集積回路のパターンの微細化が進むに従
って、ウェハの焼付けに用いられる投影光学系に対し要
求される性能もますます厳しくなってきている。このよ
うな状況の中で、投影光学系の解像力の向上について
は、露光波長λをより短くするか、あるいは投影光学系
の開口数（ＮＡ）を大きくする事が考えられる。
って、ウェハの焼付けに用いられる投影光学系に対し要
求される性能もますます厳しくなってきている。このよ
うな状況の中で、投影光学系の解像力の向上について
は、露光波長λをより短くするか、あるいは投影光学系
の開口数（ＮＡ）を大きくする事が考えられる。
【０００３】このような投影露光装置では、ｇ線(436n
m)からｉ線(365nm)の露光光を供給する光源を用いて露
光が行われている。投影光学系においては、解像力の向
上と共に要求されるのは、像歪を少なくすることであ
る。ここで、像歪とは、投影光学系に起因するディスト
ーション（歪曲収差）によるものの他、投影光学系の像
側で焼き付けられるウェハの反り等によるものと、投影
光学系の物体側で回路パターン等が描かれているレチク
ルの反り等によるものがある。
m)からｉ線(365nm)の露光光を供給する光源を用いて露
光が行われている。投影光学系においては、解像力の向
上と共に要求されるのは、像歪を少なくすることであ
る。ここで、像歪とは、投影光学系に起因するディスト
ーション（歪曲収差）によるものの他、投影光学系の像
側で焼き付けられるウェハの反り等によるものと、投影
光学系の物体側で回路パターン等が描かれているレチク
ルの反り等によるものがある。
【０００４】近年ますます転写パターンの微細化が進
み、像歪の低減要求も一段と厳しくなってきている。そ
こで、ウェハの反りによる像歪への影響を少なくするた
めには、投影光学系の像側での射出瞳位置を遠くに位置
させる、所謂像側テレセントリック光学系が従来より用
いられてきた。
み、像歪の低減要求も一段と厳しくなってきている。そ
こで、ウェハの反りによる像歪への影響を少なくするた
めには、投影光学系の像側での射出瞳位置を遠くに位置
させる、所謂像側テレセントリック光学系が従来より用
いられてきた。
【０００５】一方、レチクルの反りによる像歪の軽減に
ついても、投影光学系の入射瞳位置を物体面から遠くに
位置させる、所謂物体側テレセントリック光学系にする
ことが考えられ、またそのように投影光学系の入射瞳位
置を物体面から比較的遠くに位置させる提案がなされて
いる。
ついても、投影光学系の入射瞳位置を物体面から遠くに
位置させる、所謂物体側テレセントリック光学系にする
ことが考えられ、またそのように投影光学系の入射瞳位
置を物体面から比較的遠くに位置させる提案がなされて
いる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】近年、投影光学系にお
いては、解像力の向上もさることながら、広い露光領域
が要求されてきている。そこで、本発明は、両側テレセ
ントリックでありながら、広い露光領域にわたって諸収
差を極めて良好に補正し得る高性能な投影光学系を提供
することを一つの目的としている。
いては、解像力の向上もさることながら、広い露光領域
が要求されてきている。そこで、本発明は、両側テレセ
ントリックでありながら、広い露光領域にわたって諸収
差を極めて良好に補正し得る高性能な投影光学系を提供
することを一つの目的としている。
【０００７】また、短波長の露光光を用いる投影露光装
置では、紫外線吸収による蛍光放射やソラリゼーション
を起こしにくく、紫外域での透過率が高い硝材の使用が
要求されるため、使用できる硝材の自由度が少なく、し
かもこれらの硝材は、屈折率が低いため、収差補正を行
うことが困難である。この問題点を解決するために従来
の露光装置では、光源からの光を波長選択フィルタを通
過させて色収差を実質的に無視しうる程度の狭いスペク
トル幅に限定し、色収差補正のための設計上の制約を軽
減させ、他の諸収差を良好に補正させている。
置では、紫外線吸収による蛍光放射やソラリゼーション
を起こしにくく、紫外域での透過率が高い硝材の使用が
要求されるため、使用できる硝材の自由度が少なく、し
かもこれらの硝材は、屈折率が低いため、収差補正を行
うことが困難である。この問題点を解決するために従来
の露光装置では、光源からの光を波長選択フィルタを通
過させて色収差を実質的に無視しうる程度の狭いスペク
トル幅に限定し、色収差補正のための設計上の制約を軽
減させ、他の諸収差を良好に補正させている。
【０００８】しかしながら、露光光のスペクトル幅を狭
めれば狭めるほどエネルギーロスが大きくなり、露光時
間の短縮化を図ることが困難であった。そこで、比較的
広い露光領域において、広いスペクトル幅について色消
しされた投影光学系を提供することを別の目的とする。
めれば狭めるほどエネルギーロスが大きくなり、露光時
間の短縮化を図ることが困難であった。そこで、比較的
広い露光領域において、広いスペクトル幅について色消
しされた投影光学系を提供することを別の目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の一つの態様にかかる投影光学系は、第１
物体の像を第２物体上に投影するものであって、第１物
体側から順に、正の屈折力を有する第１レンズ群と、負
の屈折力を有し、互いに向き合った凹面の組を形成する
一対の負レンズ成分を持つ第２レンズ群と、正の屈折力
を有し、最も第２物体側に配置されて第２物体側に凹面
を向けたレンズ成分を持つ第３レンズ群と、開口絞り
と、正の屈折力を有し、最も第１物体側に配置されて第
１物体側に凹面を向けたレンズ成分を持つ第４レンズ群
と、負の屈折力を有し、互いに向き合った凹面の組を形
成する一対の負レンズ成分を持つ第５レンズ群と、正の
屈折力を持つ第６レンズ群とを有するように構成される
ものである。
めに、本発明の一つの態様にかかる投影光学系は、第１
物体の像を第２物体上に投影するものであって、第１物
体側から順に、正の屈折力を有する第１レンズ群と、負
の屈折力を有し、互いに向き合った凹面の組を形成する
一対の負レンズ成分を持つ第２レンズ群と、正の屈折力
を有し、最も第２物体側に配置されて第２物体側に凹面
を向けたレンズ成分を持つ第３レンズ群と、開口絞り
と、正の屈折力を有し、最も第１物体側に配置されて第
１物体側に凹面を向けたレンズ成分を持つ第４レンズ群
と、負の屈折力を有し、互いに向き合った凹面の組を形
成する一対の負レンズ成分を持つ第５レンズ群と、正の
屈折力を持つ第６レンズ群とを有するように構成される
ものである。
【００１０】本発明の好ましい態様によれば、以下の条
件を満足するように構成される。 （１） ０．５＜｜ｆ１／ｆ２｜＜３．０ （２） ０．５＜｜ｆ６／ｆ５｜＜３．０ （３） ０．２５＜ ｆ３／ｆ４ ＜４．０ 但し、 ｆ１：第１レンズ群の焦点距離、 ｆ２：第２レンズ群の焦点距離、 ｆ３：第３レンズ群の焦点距離、 ｆ４：第４レンズ群の焦点距離、 ｆ５：第５レンズ群の焦点距離、 ｆ６：第６レンズ群の焦点距離、である。
件を満足するように構成される。 （１） ０．５＜｜ｆ１／ｆ２｜＜３．０ （２） ０．５＜｜ｆ６／ｆ５｜＜３．０ （３） ０．２５＜ ｆ３／ｆ４ ＜４．０ 但し、 ｆ１：第１レンズ群の焦点距離、 ｆ２：第２レンズ群の焦点距離、 ｆ３：第３レンズ群の焦点距離、 ｆ４：第４レンズ群の焦点距離、 ｆ５：第５レンズ群の焦点距離、 ｆ６：第６レンズ群の焦点距離、である。
【００１１】また、本発明の別の好ましい態様によれ
ば、以下の条件を満足するように構成される。 （４） ０．５≦｜β｜≦１．１ （５） １．０＜｜ｆ１／ｆ２｜＜３．０ （６） ０．５＜｜ｆ６／ｆ５｜＜２．０ （７） ０．２５＜ ｆ３／ｆ４ ＜２．０ 但し、 β ：前記投影光学系の横倍率、 ｆ１：前記第１レンズ群の焦点距離、 ｆ２：前記第２レンズ群の焦点距離、 ｆ３：前記第３レンズ群の焦点距離、 ｆ４：前記第４レンズ群の焦点距離、 ｆ５：前記第５レンズ群の焦点距離、 ｆ６：前記第６レンズ群の焦点距離、である。
ば、以下の条件を満足するように構成される。 （４） ０．５≦｜β｜≦１．１ （５） １．０＜｜ｆ１／ｆ２｜＜３．０ （６） ０．５＜｜ｆ６／ｆ５｜＜２．０ （７） ０．２５＜ ｆ３／ｆ４ ＜２．０ 但し、 β ：前記投影光学系の横倍率、 ｆ１：前記第１レンズ群の焦点距離、 ｆ２：前記第２レンズ群の焦点距離、 ｆ３：前記第３レンズ群の焦点距離、 ｆ４：前記第４レンズ群の焦点距離、 ｆ５：前記第５レンズ群の焦点距離、 ｆ６：前記第６レンズ群の焦点距離、である。
【００１２】また、本発明のさらに別の好ましい態様に
よれば、以下の条件を満足するように構成される。 （８） １．１＜｜β｜≦２．０ （９） ０．５＜｜ｆ１／ｆ２｜＜２．０ （１０） １．０＜｜ｆ６／ｆ５｜＜３．０ （１１） １．０＜ ｆ３／ｆ４ ＜４．０ 但し、 β ：前記投影光学系の横倍率、 ｆ１：前記第１レンズ群の焦点距離、 ｆ２：前記第２レンズ群の焦点距離、 ｆ３：前記第３レンズ群の焦点距離、 ｆ４：前記第４レンズ群の焦点距離、 ｆ５：前記第５レンズ群の焦点距離、 ｆ６：前記第６レンズ群の焦点距離、である。
よれば、以下の条件を満足するように構成される。 （８） １．１＜｜β｜≦２．０ （９） ０．５＜｜ｆ１／ｆ２｜＜２．０ （１０） １．０＜｜ｆ６／ｆ５｜＜３．０ （１１） １．０＜ ｆ３／ｆ４ ＜４．０ 但し、 β ：前記投影光学系の横倍率、 ｆ１：前記第１レンズ群の焦点距離、 ｆ２：前記第２レンズ群の焦点距離、 ｆ３：前記第３レンズ群の焦点距離、 ｆ４：前記第４レンズ群の焦点距離、 ｆ５：前記第５レンズ群の焦点距離、 ｆ６：前記第６レンズ群の焦点距離、である。
【００１３】また、本発明の好ましい態様によれば、以
下の条件を満足するように構成される。 （１２） （ｒ2Rf＋ｒ2Fr）／（ｒ2Rf−ｒ2Fr） ＞０．０ （１３） −０．１＜（ｒ4Ff＋ｒ3Rr）／（ｒ4Ff−ｒ3Rr） ＜０．１ （１４） （ｒ5Rf＋ｒ5Fr）／（ｒ5Rf−ｒ5Fr） ＜０．０ 但し、 ｒ2Rf：第２レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
１物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ2Fr：第２レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
２物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ3Ff：第３レンズ群中の最も開口絞り側に配置された
負レンズ成分の第２物体側に向けられた凹面の曲率半
径、 ｒ4Rr：第４レンズ群中の最も開口絞り側に配置された
負レンズ成分の第１物体側に向けられた凹面の曲率半
径、 ｒ5Fr：第５レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
２物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ5Rf：第５レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
１物体側に向けられた凹面の曲率半径、である。
下の条件を満足するように構成される。 （１２） （ｒ2Rf＋ｒ2Fr）／（ｒ2Rf−ｒ2Fr） ＞０．０ （１３） −０．１＜（ｒ4Ff＋ｒ3Rr）／（ｒ4Ff−ｒ3Rr） ＜０．１ （１４） （ｒ5Rf＋ｒ5Fr）／（ｒ5Rf−ｒ5Fr） ＜０．０ 但し、 ｒ2Rf：第２レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
１物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ2Fr：第２レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
２物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ3Ff：第３レンズ群中の最も開口絞り側に配置された
負レンズ成分の第２物体側に向けられた凹面の曲率半
径、 ｒ4Rr：第４レンズ群中の最も開口絞り側に配置された
負レンズ成分の第１物体側に向けられた凹面の曲率半
径、 ｒ5Fr：第５レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
２物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ5Rf：第５レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
１物体側に向けられた凹面の曲率半径、である。
【００１４】また、上述の如き本発明の別の目的を達成
するためには、第３レンズ群中の正レンズ成分のうちの
少なくとも２枚の正レンズ成分は第１の硝材で構成さ
れ、第４レンズ群中の正レンズ成分のうちの少なくとも
２枚の正レンズ成分は第１の硝材で構成され、以下の条
件を満足することが好ましい。 （１５） νｔ＞１２０ 但し、 νｔ：第１の硝材の分散値、であり、この分散値は、波
長λに対する屈折率をｎ（λ）とするとき、 ν＝｛ｎ(436)−１｝／｛ｎ(400)−ｎ(440)｝ で定義される。
するためには、第３レンズ群中の正レンズ成分のうちの
少なくとも２枚の正レンズ成分は第１の硝材で構成さ
れ、第４レンズ群中の正レンズ成分のうちの少なくとも
２枚の正レンズ成分は第１の硝材で構成され、以下の条
件を満足することが好ましい。 （１５） νｔ＞１２０ 但し、 νｔ：第１の硝材の分散値、であり、この分散値は、波
長λに対する屈折率をｎ（λ）とするとき、 ν＝｛ｎ(436)−１｝／｛ｎ(400)−ｎ(440)｝ で定義される。
【００１５】
【発明の実施の形態】上述の構成の如き本発明の一つの
態様にかかる投影光学系では、正・負・正・開口絞り・
正・負・正の屈折力配置を採用しており、開口絞りに関
して極力対称性を持たせているため、非対称収差、特に
コマ収差、歪曲収差を極めて良好に補正することができ
る。
態様にかかる投影光学系では、正・負・正・開口絞り・
正・負・正の屈折力配置を採用しており、開口絞りに関
して極力対称性を持たせているため、非対称収差、特に
コマ収差、歪曲収差を極めて良好に補正することができ
る。
【００１６】次に、このような投影光学系における各レ
ンズ群の機能について説明する。まず、正の屈折力を持
つ第１レンズ群は、第１物体側のテレセントリック性を
維持させながら主に歪曲収差の補正に寄与している。ま
た、正の屈折力を持つ第６レンズ群も、第２物体側のテ
レセントリック性を維持しながら主に歪曲収差の補正に
寄与している。具体的には、これらの第１および第６レ
ンズ群は、正の歪曲収差を発生させて、第２〜第５レン
ズ群から発生する負の歪曲収差をバランス良く補正して
いる。
ンズ群の機能について説明する。まず、正の屈折力を持
つ第１レンズ群は、第１物体側のテレセントリック性を
維持させながら主に歪曲収差の補正に寄与している。ま
た、正の屈折力を持つ第６レンズ群も、第２物体側のテ
レセントリック性を維持しながら主に歪曲収差の補正に
寄与している。具体的には、これらの第１および第６レ
ンズ群は、正の歪曲収差を発生させて、第２〜第５レン
ズ群から発生する負の歪曲収差をバランス良く補正して
いる。
【００１７】負の屈折力を持つ第２レンズ群および第５
レンズ群は、主に全系のペッツバール和を補正する機能
を有し、広い露光領域にわたる像面の平坦化を図ってい
る。正の屈折力を持つ第３レンズ群は、主に球面収差の
補正に寄与するとともに、下側コマ収差の補正に寄与し
ている。ここで、第３レンズ群中の最も開口絞り側に配
置されて開口絞り側に凹面を向けたレンズ成分は、この
凹面によって正のペッツバール和を発生させて、第３レ
ンズ群中の正レンズ成分および第４レンズ群中の正レン
ズ成分から発生する負のペッツバール和を補正するとと
もに、正屈折力の第４レンズ群から発生する負の球面収
差を補正する機能を有している。
レンズ群は、主に全系のペッツバール和を補正する機能
を有し、広い露光領域にわたる像面の平坦化を図ってい
る。正の屈折力を持つ第３レンズ群は、主に球面収差の
補正に寄与するとともに、下側コマ収差の補正に寄与し
ている。ここで、第３レンズ群中の最も開口絞り側に配
置されて開口絞り側に凹面を向けたレンズ成分は、この
凹面によって正のペッツバール和を発生させて、第３レ
ンズ群中の正レンズ成分および第４レンズ群中の正レン
ズ成分から発生する負のペッツバール和を補正するとと
もに、正屈折力の第４レンズ群から発生する負の球面収
差を補正する機能を有している。
【００１８】また、正の屈折力を持つ第４レンズ群は、
主に球面収差の補正に寄与するとともに、上側コマ収差
の補正に寄与している。ここで、第４レンズ群中の最も
開口絞り側に配置されて開口絞り側に凹面を向けたレン
ズ成分は、この凹面によって正のペッツバール和を発生
させて、第３レンズ群中の正レンズ成分および第４レン
ズ群中の正レンズ成分から発生する負のペッツバール和
を補正するとともに、正屈折力の第４レンズ群から発生
する負の球面収差を補正する機能を有している。
主に球面収差の補正に寄与するとともに、上側コマ収差
の補正に寄与している。ここで、第４レンズ群中の最も
開口絞り側に配置されて開口絞り側に凹面を向けたレン
ズ成分は、この凹面によって正のペッツバール和を発生
させて、第３レンズ群中の正レンズ成分および第４レン
ズ群中の正レンズ成分から発生する負のペッツバール和
を補正するとともに、正屈折力の第４レンズ群から発生
する負の球面収差を補正する機能を有している。
【００１９】さて、上述の如き投影光学系においては、
以下の条件（１）〜（３）を満足することが好ましい。 （１） ０．５＜｜ｆ１／ｆ２｜＜３．０ （２） ０．５＜｜ｆ６／ｆ５｜＜３．０ （３） ０．２５＜ ｆ３／ｆ４ ＜４．０ 但し、 ｆ１：第１レンズ群の焦点距離、 ｆ２：第２レンズ群の焦点距離、 ｆ３：第３レンズ群の焦点距離、 ｆ４：第４レンズ群の焦点距離、 ｆ５：第５レンズ群の焦点距離、 ｆ６：第６レンズ群の焦点距離、である。
以下の条件（１）〜（３）を満足することが好ましい。 （１） ０．５＜｜ｆ１／ｆ２｜＜３．０ （２） ０．５＜｜ｆ６／ｆ５｜＜３．０ （３） ０．２５＜ ｆ３／ｆ４ ＜４．０ 但し、 ｆ１：第１レンズ群の焦点距離、 ｆ２：第２レンズ群の焦点距離、 ｆ３：第３レンズ群の焦点距離、 ｆ４：第４レンズ群の焦点距離、 ｆ５：第５レンズ群の焦点距離、 ｆ６：第６レンズ群の焦点距離、である。
【００２０】上記条件（１）は正屈折力の第１レンズ群
の焦点距離ｆ１と負屈折力の第２レンズ群の焦点距離と
の最適な比率を規定している。この条件（１）は、主に
歪曲収差をバランス良く補正し、かつペッツバール和を
良好に補正するためのものである。条件（１）の下限を
超える場合には、正の歪曲収差が大きく発生し、また、
正のペッツバール和が発生して像面湾曲補正が困難にな
るため好ましくない。ここで、正の歪曲収差並びに正の
ペッツバール和をさらに良好に補正するためには、条件
（１）の下限を０．８にすることが好ましい。
の焦点距離ｆ１と負屈折力の第２レンズ群の焦点距離と
の最適な比率を規定している。この条件（１）は、主に
歪曲収差をバランス良く補正し、かつペッツバール和を
良好に補正するためのものである。条件（１）の下限を
超える場合には、正の歪曲収差が大きく発生し、また、
正のペッツバール和が発生して像面湾曲補正が困難にな
るため好ましくない。ここで、正の歪曲収差並びに正の
ペッツバール和をさらに良好に補正するためには、条件
（１）の下限を０．８にすることが好ましい。
【００２１】一方、条件（１）の上限を超える場合に
は、負の歪曲収差が大きく発生し、また、負のペッツバ
ール和が発生するため像面湾曲補正が困難になり、さら
には、投影光学系の全長が長くなるため好ましくない。
ここで、さらに負の歪曲収差並びに負のペッツバール和
を良好に補正するためには、条件（１）の上限を１．４
にすることが好ましい。
は、負の歪曲収差が大きく発生し、また、負のペッツバ
ール和が発生するため像面湾曲補正が困難になり、さら
には、投影光学系の全長が長くなるため好ましくない。
ここで、さらに負の歪曲収差並びに負のペッツバール和
を良好に補正するためには、条件（１）の上限を１．４
にすることが好ましい。
【００２２】上記条件（２）では、主に歪曲収差をバラ
ンス良く補正し、かつペッツバール和を良好に補正する
ために、正屈折力の第６レンズ群の焦点距離ｆ６と負屈
折力の第５レンズ群の焦点距離との最適な比率を規定し
ている。この条件（２）の下限を超える場合には、正の
歪曲収差が大きく発生し、また、正のペッツバール和が
発生して像面湾曲補正が困難になるため好ましくない。
ここで、正の歪曲収差と正のペッツバール和とをさらに
良好に補正するためには、条件（２）の下限を１．８に
することが好ましい。
ンス良く補正し、かつペッツバール和を良好に補正する
ために、正屈折力の第６レンズ群の焦点距離ｆ６と負屈
折力の第５レンズ群の焦点距離との最適な比率を規定し
ている。この条件（２）の下限を超える場合には、正の
歪曲収差が大きく発生し、また、正のペッツバール和が
発生して像面湾曲補正が困難になるため好ましくない。
ここで、正の歪曲収差と正のペッツバール和とをさらに
良好に補正するためには、条件（２）の下限を１．８に
することが好ましい。
【００２３】逆に、条件（２）の上限を超える場合に
は、負の歪曲収差が大きく発生し、また、負のペッツバ
ール和が発生するため像面湾曲補正が困難になり、さら
には、投影光学系の全長が長くなるため好ましくない。
ここで、さらに負の歪曲収差と負のペッツバール和とを
良好に補正するためには、条件（２）の上限を２．４と
することが好ましい。
は、負の歪曲収差が大きく発生し、また、負のペッツバ
ール和が発生するため像面湾曲補正が困難になり、さら
には、投影光学系の全長が長くなるため好ましくない。
ここで、さらに負の歪曲収差と負のペッツバール和とを
良好に補正するためには、条件（２）の上限を２．４と
することが好ましい。
【００２４】条件（３）は、正の屈折力の第３レンズ群
の焦点距離ｆ３と正の屈折力の第４レンズ群の焦点距離
ｆ４との最適な比率を規定して、主に球面収差とコマ収
差とをバランス良く補正するためのものである。条件
（３）の下限を超える場合には、球面収差のバランスが
くずれ正の球面収差が発生し、さらにコマ収差も悪化す
るため好ましくない。ここで、正の球面収差とコマ収差
とをさらに良好に補正するためには、条件（３）の下限
を２．０とすることが好ましい。
の焦点距離ｆ３と正の屈折力の第４レンズ群の焦点距離
ｆ４との最適な比率を規定して、主に球面収差とコマ収
差とをバランス良く補正するためのものである。条件
（３）の下限を超える場合には、球面収差のバランスが
くずれ正の球面収差が発生し、さらにコマ収差も悪化す
るため好ましくない。ここで、正の球面収差とコマ収差
とをさらに良好に補正するためには、条件（３）の下限
を２．０とすることが好ましい。
【００２５】条件（３）の上限を超える場合には、球面
収差のバランスがくずれ負の球面収差が発生し、さらに
はコマ収差も悪化するため好ましくない。ここで、さら
に負の球面収差とコマ収差とを良好に補正するために
は、条件（３）の上限を３．５とすることが好ましい。
また、上述の如き投影光学系において、この投影光学系
の横倍率が以下の条件（４）を満足するときには、条件
（５）〜（７）を満足することが好ましい。 （４） ０．５≦｜β｜≦１．１ （５） １．０＜｜ｆ１／ｆ２｜＜３．０ （６） ０．５＜｜ｆ６／ｆ５｜＜２．０ （７） ０．２５＜ ｆ３／ｆ４ ＜２．０ 上記条件（５）は、投影光学系の横倍率が条件（４）の
範囲内にある場合において、主に歪曲収差をバランス良
く補正し、かつペッツバール和を良好に補正するため
に、正屈折力の第１レンズ群の焦点距離ｆ１と負屈折力
の第２レンズ群の焦点距離との最適な比率を規定するも
のである。
収差のバランスがくずれ負の球面収差が発生し、さらに
はコマ収差も悪化するため好ましくない。ここで、さら
に負の球面収差とコマ収差とを良好に補正するために
は、条件（３）の上限を３．５とすることが好ましい。
また、上述の如き投影光学系において、この投影光学系
の横倍率が以下の条件（４）を満足するときには、条件
（５）〜（７）を満足することが好ましい。 （４） ０．５≦｜β｜≦１．１ （５） １．０＜｜ｆ１／ｆ２｜＜３．０ （６） ０．５＜｜ｆ６／ｆ５｜＜２．０ （７） ０．２５＜ ｆ３／ｆ４ ＜２．０ 上記条件（５）は、投影光学系の横倍率が条件（４）の
範囲内にある場合において、主に歪曲収差をバランス良
く補正し、かつペッツバール和を良好に補正するため
に、正屈折力の第１レンズ群の焦点距離ｆ１と負屈折力
の第２レンズ群の焦点距離との最適な比率を規定するも
のである。
【００２６】条件（５）の下限を超える場合には、正の
歪曲収差が大きく発生し、また、正のペッツバール和が
発生して像面湾曲補正が困難になるため好ましくない。
一方、条件（５）の上限を超える場合には、負の歪曲収
差が大きく発生し、また、負のペッツバール和が発生す
るため像面湾曲補正が困難になり、さらには、投影光学
系の全長が長くなるため好ましくない。
歪曲収差が大きく発生し、また、正のペッツバール和が
発生して像面湾曲補正が困難になるため好ましくない。
一方、条件（５）の上限を超える場合には、負の歪曲収
差が大きく発生し、また、負のペッツバール和が発生す
るため像面湾曲補正が困難になり、さらには、投影光学
系の全長が長くなるため好ましくない。
【００２７】上記条件（６）では、投影光学系の横倍率
が条件（４）の範囲内にある場合において、主に歪曲収
差をバランス良く補正し、かつペッツバール和を良好に
補正するために、正屈折力の第６レンズ群の焦点距離ｆ
６と負屈折力の第５レンズ群の焦点距離との最適な比率
を規定している。この条件（６）の下限を超える場合に
は、正の歪曲収差が大きく発生し、また、正のペッツバ
ール和が発生して像面湾曲補正が困難になるため好まし
くない。逆に、条件（６）の上限を超える場合には、負
の歪曲収差が大きく発生し、また、負のペッツバール和
が発生するため像面湾曲補正が困難になり、さらには、
投影光学系の全長が長くなるため好ましくない。
が条件（４）の範囲内にある場合において、主に歪曲収
差をバランス良く補正し、かつペッツバール和を良好に
補正するために、正屈折力の第６レンズ群の焦点距離ｆ
６と負屈折力の第５レンズ群の焦点距離との最適な比率
を規定している。この条件（６）の下限を超える場合に
は、正の歪曲収差が大きく発生し、また、正のペッツバ
ール和が発生して像面湾曲補正が困難になるため好まし
くない。逆に、条件（６）の上限を超える場合には、負
の歪曲収差が大きく発生し、また、負のペッツバール和
が発生するため像面湾曲補正が困難になり、さらには、
投影光学系の全長が長くなるため好ましくない。
【００２８】条件（７）は、投影光学系の横倍率が条件
（４）の範囲内にある場合において、主に球面収差とコ
マ収差とをバランス良く補正するために、正の屈折力の
第３レンズ群の焦点距離ｆ３と正の屈折力の第４レンズ
群の焦点距離ｆ４との最適な比率を規定するものであ
る。条件（７）の下限を超える場合には、球面収差のバ
ランスがくずれ正の球面収差が発生し、さらにコマ収差
も悪化するため好ましくない。条件（７）の上限を超え
る場合には、球面収差のバランスがくずれ負の球面収差
が発生し、さらにはコマ収差も悪化するため好ましくな
い。
（４）の範囲内にある場合において、主に球面収差とコ
マ収差とをバランス良く補正するために、正の屈折力の
第３レンズ群の焦点距離ｆ３と正の屈折力の第４レンズ
群の焦点距離ｆ４との最適な比率を規定するものであ
る。条件（７）の下限を超える場合には、球面収差のバ
ランスがくずれ正の球面収差が発生し、さらにコマ収差
も悪化するため好ましくない。条件（７）の上限を超え
る場合には、球面収差のバランスがくずれ負の球面収差
が発生し、さらにはコマ収差も悪化するため好ましくな
い。
【００２９】また、上述の如き投影光学系において、こ
の投影光学系の横倍率が以下の条件（８）を満足すると
きには、条件（９）〜（１１）を満足することが好まし
い。 （８） １．１＜｜β｜≦２．０ （９） ０．５＜｜ｆ１／ｆ２｜＜２．０ （１０） １．０＜｜ｆ６／ｆ５｜＜３．０ （１１） １．０＜ ｆ３／ｆ４ ＜４．０ 上記条件（９）は、投影光学系の横倍率が条件（８）の
範囲内にある場合において、主に歪曲収差をバランス良
く補正し、かつペッツバール和を良好に補正するため
に、正屈折力の第１レンズ群の焦点距離ｆ１と負屈折力
の第２レンズ群の焦点距離との最適な比率を規定するも
のである。
の投影光学系の横倍率が以下の条件（８）を満足すると
きには、条件（９）〜（１１）を満足することが好まし
い。 （８） １．１＜｜β｜≦２．０ （９） ０．５＜｜ｆ１／ｆ２｜＜２．０ （１０） １．０＜｜ｆ６／ｆ５｜＜３．０ （１１） １．０＜ ｆ３／ｆ４ ＜４．０ 上記条件（９）は、投影光学系の横倍率が条件（８）の
範囲内にある場合において、主に歪曲収差をバランス良
く補正し、かつペッツバール和を良好に補正するため
に、正屈折力の第１レンズ群の焦点距離ｆ１と負屈折力
の第２レンズ群の焦点距離との最適な比率を規定するも
のである。
【００３０】条件（９）の下限を超える場合には、正の
歪曲収差が大きく発生し、また、正のペッツバール和が
発生して像面湾曲補正が困難になるため好ましくない。
一方、条件（９）の上限を超える場合には、負の歪曲収
差が大きく発生し、また、負のペッツバール和が発生す
るため像面湾曲補正が困難になり、さらには、投影光学
系の全長が長くなるため好ましくない。
歪曲収差が大きく発生し、また、正のペッツバール和が
発生して像面湾曲補正が困難になるため好ましくない。
一方、条件（９）の上限を超える場合には、負の歪曲収
差が大きく発生し、また、負のペッツバール和が発生す
るため像面湾曲補正が困難になり、さらには、投影光学
系の全長が長くなるため好ましくない。
【００３１】上記条件（１０）では、投影光学系の横倍
率が条件（８）の範囲内にある場合において、主に歪曲
収差をバランス良く補正し、かつペッツバール和を良好
に補正するために、正屈折力の第６レンズ群の焦点距離
ｆ６と負屈折力の第５レンズ群の焦点距離との最適な比
率を規定している。この条件（１０）の下限を超える場
合には、正の歪曲収差が大きく発生し、また、正のペッ
ツバール和が発生して像面湾曲補正が困難になるため好
ましくない。逆に、条件（１０）の上限を超える場合に
は、負の歪曲収差が大きく発生し、また、負のペッツバ
ール和が発生するため像面湾曲補正が困難になり、さら
には、投影光学系の全長が長くなるため好ましくない。
率が条件（８）の範囲内にある場合において、主に歪曲
収差をバランス良く補正し、かつペッツバール和を良好
に補正するために、正屈折力の第６レンズ群の焦点距離
ｆ６と負屈折力の第５レンズ群の焦点距離との最適な比
率を規定している。この条件（１０）の下限を超える場
合には、正の歪曲収差が大きく発生し、また、正のペッ
ツバール和が発生して像面湾曲補正が困難になるため好
ましくない。逆に、条件（１０）の上限を超える場合に
は、負の歪曲収差が大きく発生し、また、負のペッツバ
ール和が発生するため像面湾曲補正が困難になり、さら
には、投影光学系の全長が長くなるため好ましくない。
【００３２】条件（１１）は、投影光学系の横倍率が条
件（８）の範囲内にある場合において、主に球面収差と
コマ収差とをバランス良く補正するために、正の屈折力
の第３レンズ群の焦点距離ｆ３と正の屈折力の第４レン
ズ群の焦点距離ｆ４との最適な比率を規定するものであ
る。条件（１１）の下限を超える場合には、球面収差の
バランスがくずれ正の球面収差が発生し、さらにコマ収
差も悪化するため好ましくない。条件（１１）の上限を
超える場合には、球面収差のバランスがくずれ負の球面
収差が発生し、さらにはコマ収差も悪化するため好まし
くない。
件（８）の範囲内にある場合において、主に球面収差と
コマ収差とをバランス良く補正するために、正の屈折力
の第３レンズ群の焦点距離ｆ３と正の屈折力の第４レン
ズ群の焦点距離ｆ４との最適な比率を規定するものであ
る。条件（１１）の下限を超える場合には、球面収差の
バランスがくずれ正の球面収差が発生し、さらにコマ収
差も悪化するため好ましくない。条件（１１）の上限を
超える場合には、球面収差のバランスがくずれ負の球面
収差が発生し、さらにはコマ収差も悪化するため好まし
くない。
【００３３】また、本発明の一つの態様にかかる投影光
学系においては、以下の条件（１２）〜（１４）を満足
することが好ましい。 （１２） （ｒ2Rf＋ｒ2Fr）／（ｒ2Rf−ｒ2Fr） ＞０．０ （１３） −０．１＜（ｒ4Ff＋ｒ3Rr）／（ｒ4Ff−ｒ3Rr） ＜０．１ （１４） （ｒ5Rf＋ｒ5Fr）／（ｒ5Rf−ｒ5Fr） ＜０．０ 但し、 ｒ2Rf：第２レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
１物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ2Fr：第２レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
２物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ3Ff：第３レンズ群中の最も開口絞り側に配置された
負レンズ成分の第２物体側に向けられた凹面の曲率半
径、 ｒ4Rr：第４レンズ群中の最も開口絞り側に配置された
負レンズ成分の第１物体側に向けられた凹面の曲率半
径、 ｒ5Fr：第５レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
２物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ5Rf：第５レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
１物体側に向けられた凹面の曲率半径、である。上記条
件（１２）は、第２レンズ群における互いに向かい合っ
た凹面の最適な形状を規定するものである。ここで、軸
外主光線を考えると、この軸外主光線は正の第１レンズ
群で屈折されて負の第２レンズ群へ所定の角度で入射
し、第２レンズ群中の互いに向かい合った凹面のうち第
１物体側に位置する凹面（第２物体側へ向けられた凹
面）ではね上げられるように屈折する。条件（１２）の
範囲を満足しない場合には、第２レンズ群中の第２物体
側へ向けられた凹面の曲率が緩くなり過ぎ、第１レンズ
群で屈折された軸外主光線を十分にはね上げることが出
来なくなる。この場合には、第３レンズ群での軸外主光
線の屈折状態を一定に保とうとすると、第１レンズ群の
厚みを十分にする必要が生じ、投影光学系の全長が長く
なるため好ましくない。また、この条件（１２）の範囲
から外れる場合には、ペッツバール和を十分に補正でき
なくなるため好ましくない。
学系においては、以下の条件（１２）〜（１４）を満足
することが好ましい。 （１２） （ｒ2Rf＋ｒ2Fr）／（ｒ2Rf−ｒ2Fr） ＞０．０ （１３） −０．１＜（ｒ4Ff＋ｒ3Rr）／（ｒ4Ff−ｒ3Rr） ＜０．１ （１４） （ｒ5Rf＋ｒ5Fr）／（ｒ5Rf−ｒ5Fr） ＜０．０ 但し、 ｒ2Rf：第２レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
１物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ2Fr：第２レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
２物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ3Ff：第３レンズ群中の最も開口絞り側に配置された
負レンズ成分の第２物体側に向けられた凹面の曲率半
径、 ｒ4Rr：第４レンズ群中の最も開口絞り側に配置された
負レンズ成分の第１物体側に向けられた凹面の曲率半
径、 ｒ5Fr：第５レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
２物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ5Rf：第５レンズ群中の一対の負レンズ成分のうち第
１物体側に向けられた凹面の曲率半径、である。上記条
件（１２）は、第２レンズ群における互いに向かい合っ
た凹面の最適な形状を規定するものである。ここで、軸
外主光線を考えると、この軸外主光線は正の第１レンズ
群で屈折されて負の第２レンズ群へ所定の角度で入射
し、第２レンズ群中の互いに向かい合った凹面のうち第
１物体側に位置する凹面（第２物体側へ向けられた凹
面）ではね上げられるように屈折する。条件（１２）の
範囲を満足しない場合には、第２レンズ群中の第２物体
側へ向けられた凹面の曲率が緩くなり過ぎ、第１レンズ
群で屈折された軸外主光線を十分にはね上げることが出
来なくなる。この場合には、第３レンズ群での軸外主光
線の屈折状態を一定に保とうとすると、第１レンズ群の
厚みを十分にする必要が生じ、投影光学系の全長が長く
なるため好ましくない。また、この条件（１２）の範囲
から外れる場合には、ペッツバール和を十分に補正でき
なくなるため好ましくない。
【００３４】条件（１３）は、開口絞りに隣接する向か
い合った凹面が形成する気体レンズの好適な形状を規定
するものである。ここで、条件（１３）の範囲から外れ
る場合には、この気体レンズの形状の対称性がくずれコ
マ収差の発生を招き、それに加えて球面収差、ペッツバ
ール和の補正が困難となるため好ましくない。条件（１
４）は、第５レンズ群における互いに向かい合った凹面
の最適な形状を規定するものである。ここで、軸外主光
線を考えると、この軸外主光線は第４レンズ群から所定
の角度で第５レンズ群に入射し、第５レンズ群中の互い
に向かい合った凹面のうち第２物体側に位置する凹面
（第１物体側へ向けられた凹面）ではね上げられるよう
に屈折した後、第６レンズ群で屈折される。条件（１
４）の範囲を満足しない場合には、第５レンズ群中の第
１物体側へ向けられた凹面の曲率が緩くなり過ぎ、軸外
主光線を十分にはね上げることが出来なくなる。このと
きには、第６レンズ群の厚みを十分にする必要が生じ、
投影光学系の全長が長くなるため好ましくない。また、
この条件（１４）の範囲から外れる場合には、ペッツバ
ール和を十分に補正できなくなるため好ましくない。
い合った凹面が形成する気体レンズの好適な形状を規定
するものである。ここで、条件（１３）の範囲から外れ
る場合には、この気体レンズの形状の対称性がくずれコ
マ収差の発生を招き、それに加えて球面収差、ペッツバ
ール和の補正が困難となるため好ましくない。条件（１
４）は、第５レンズ群における互いに向かい合った凹面
の最適な形状を規定するものである。ここで、軸外主光
線を考えると、この軸外主光線は第４レンズ群から所定
の角度で第５レンズ群に入射し、第５レンズ群中の互い
に向かい合った凹面のうち第２物体側に位置する凹面
（第１物体側へ向けられた凹面）ではね上げられるよう
に屈折した後、第６レンズ群で屈折される。条件（１
４）の範囲を満足しない場合には、第５レンズ群中の第
１物体側へ向けられた凹面の曲率が緩くなり過ぎ、軸外
主光線を十分にはね上げることが出来なくなる。このと
きには、第６レンズ群の厚みを十分にする必要が生じ、
投影光学系の全長が長くなるため好ましくない。また、
この条件（１４）の範囲から外れる場合には、ペッツバ
ール和を十分に補正できなくなるため好ましくない。
【００３５】また、第３レンズ群中の最も開口絞り側に
配置されて第２物体側に凹面を向けたレンズ成分は負レ
ンズ成分であり、第４レンズ群中の最も開口絞り側に配
置されて第１物体側に凹面を向けたレンズ成分は負レン
ズ成分であることが好ましい。また、第１レンズ群は、
第１物体側から順に、負屈折力を持つ負サブレンズ群
と、正屈折力を持つ正サブレンズ群とを有し、第６レン
ズ群は、第１物体側から順に、正屈折力を持つ正サブレ
ンズ群と、負屈折力を持つ負サブレンズ群とを有し、第
１レンズ群中の負サブレンズ群は、第２物体側に凹面を
向けた負レンズ成分を有し、第６レンズ群中の負サブレ
ンズ群は、第１物体側に凹面を向けた負レンズ成分を有
することが好ましい。
配置されて第２物体側に凹面を向けたレンズ成分は負レ
ンズ成分であり、第４レンズ群中の最も開口絞り側に配
置されて第１物体側に凹面を向けたレンズ成分は負レン
ズ成分であることが好ましい。また、第１レンズ群は、
第１物体側から順に、負屈折力を持つ負サブレンズ群
と、正屈折力を持つ正サブレンズ群とを有し、第６レン
ズ群は、第１物体側から順に、正屈折力を持つ正サブレ
ンズ群と、負屈折力を持つ負サブレンズ群とを有し、第
１レンズ群中の負サブレンズ群は、第２物体側に凹面を
向けた負レンズ成分を有し、第６レンズ群中の負サブレ
ンズ群は、第１物体側に凹面を向けた負レンズ成分を有
することが好ましい。
【００３６】このように、最も第１物体側の第１レンズ
群と最も第２物体側の第６レンズ群とを構成すると、フ
レアーによるレジスト像の悪化を抑えることができる。
この点について以下に詳述する。投影光学系に要求され
る性能としては、ザイデルの五収差（球面収差、コマ収
差、非点収差、像面湾曲および歪曲収差）および色収差
（軸上色収差および倍率色収差）が良好に補正されてい
ることの他に、フレアーが発生しないことがある。この
フレアーの発生原因としては、投影光学系のレンズ面で
露光光が反射されることや、第２物体としての基板の表
面で反射された露光光が投影光学系のレンズ面で反射さ
れることなどがあげられる。このフレアーの量が増加す
ると、レジスト像（投影光学系によって基板上のレジス
トに形成される像に基づいて形成されるレジストパター
ン）の線幅などのばらつきが発生するため、良好なレジ
スト像を得るためには、結像収差が良好に補正されるの
みならず、フレアーを抑えることが望まれる。
群と最も第２物体側の第６レンズ群とを構成すると、フ
レアーによるレジスト像の悪化を抑えることができる。
この点について以下に詳述する。投影光学系に要求され
る性能としては、ザイデルの五収差（球面収差、コマ収
差、非点収差、像面湾曲および歪曲収差）および色収差
（軸上色収差および倍率色収差）が良好に補正されてい
ることの他に、フレアーが発生しないことがある。この
フレアーの発生原因としては、投影光学系のレンズ面で
露光光が反射されることや、第２物体としての基板の表
面で反射された露光光が投影光学系のレンズ面で反射さ
れることなどがあげられる。このフレアーの量が増加す
ると、レジスト像（投影光学系によって基板上のレジス
トに形成される像に基づいて形成されるレジストパター
ン）の線幅などのばらつきが発生するため、良好なレジ
スト像を得るためには、結像収差が良好に補正されるの
みならず、フレアーを抑えることが望まれる。
【００３７】特に本発明のように露光領域が大きな投影
光学系では、露光領域が小さなものと比べて、基板（第
２物体）の表面で反射される露光光が増すため、この反
射によるフレアーが増加しやすい傾向がある。また、投
影光学系の投影倍率が低倍になると、このフレアー量の
低減が困難になる。低倍になればなるほど、投影光学系
の開口数が小さくなり結像に寄与する露光量の照度は低
下する。このため、わずかなフレアーが存在してもレジ
スト像の悪化につながりやすい傾向がある。
光学系では、露光領域が小さなものと比べて、基板（第
２物体）の表面で反射される露光光が増すため、この反
射によるフレアーが増加しやすい傾向がある。また、投
影光学系の投影倍率が低倍になると、このフレアー量の
低減が困難になる。低倍になればなるほど、投影光学系
の開口数が小さくなり結像に寄与する露光量の照度は低
下する。このため、わずかなフレアーが存在してもレジ
スト像の悪化につながりやすい傾向がある。
【００３８】このようなフレアーは、フィールドレンズ
群としての第１および第６レンズ群において発生しやす
い。これら第１および第６レンズ群は、正レンズ成分を
有するように構成される。これら正レンズ成分のうち、
第１レンズ群においては第１物体側に凹を向けたレンズ
面、第６レンズ群においては第２物体側に凹を向けたレ
ンズ面から発生するフレアーは、第１物体または第２物
体上において投影光学系の光軸近傍に集まりやすく、露
光領域内でのレジスト像の線幅のばらつきを発生させる
恐れがある。
群としての第１および第６レンズ群において発生しやす
い。これら第１および第６レンズ群は、正レンズ成分を
有するように構成される。これら正レンズ成分のうち、
第１レンズ群においては第１物体側に凹を向けたレンズ
面、第６レンズ群においては第２物体側に凹を向けたレ
ンズ面から発生するフレアーは、第１物体または第２物
体上において投影光学系の光軸近傍に集まりやすく、露
光領域内でのレジスト像の線幅のばらつきを発生させる
恐れがある。
【００３９】そこで、第６レンズ群において、正レンズ
成分中の第２物体側に凹を向けたレンズ面の曲率をフレ
アーが光軸近傍に集光しないように最適化することが望
ましい。しかしながら、フレアー低減のための最適な曲
率が必ずしも結像性能において最適なものとは限らない
ため、この第６レンズ群を、第１物体側から順に、正屈
折力を持つ正サブレンズ群と、負屈折力を持つ負サブレ
ンズ群とを有するように構成して、この負サブレンズ群
によって正サブレンズ群の屈折力を結像性能において最
適となるように制御することが好ましい。
成分中の第２物体側に凹を向けたレンズ面の曲率をフレ
アーが光軸近傍に集光しないように最適化することが望
ましい。しかしながら、フレアー低減のための最適な曲
率が必ずしも結像性能において最適なものとは限らない
ため、この第６レンズ群を、第１物体側から順に、正屈
折力を持つ正サブレンズ群と、負屈折力を持つ負サブレ
ンズ群とを有するように構成して、この負サブレンズ群
によって正サブレンズ群の屈折力を結像性能において最
適となるように制御することが好ましい。
【００４０】このような構成をとれば、フレアーが光軸
近傍に集光することなく、結像性能、特に歪曲収差、像
面湾曲およびテレセントリック性を良好に補正すること
ができる。同様に、第１レンズ群において、第１物体側
から順に、負屈折力を持つ負サブレンズ群と、正屈折力
を持つ正サブレンズ群とを有するように構成すれば、結
像性能。特に歪曲収差、像面湾曲およびテレセントリッ
ク性を良好に維持しながらも、第１レンズ群中の正レン
ズ成分中の第１物体側に凹を向けたレンズ面の曲率をフ
レアーが光軸近傍に集光しないように最適化することが
可能となる。
近傍に集光することなく、結像性能、特に歪曲収差、像
面湾曲およびテレセントリック性を良好に補正すること
ができる。同様に、第１レンズ群において、第１物体側
から順に、負屈折力を持つ負サブレンズ群と、正屈折力
を持つ正サブレンズ群とを有するように構成すれば、結
像性能。特に歪曲収差、像面湾曲およびテレセントリッ
ク性を良好に維持しながらも、第１レンズ群中の正レン
ズ成分中の第１物体側に凹を向けたレンズ面の曲率をフ
レアーが光軸近傍に集光しないように最適化することが
可能となる。
【００４１】さて、本発明の好ましい態様においては、
第３レンズ群中の正レンズ成分のうちの少なくとも２枚
の正レンズ成分は第１の硝材で構成され、前記第４レン
ズ群中の正レンズ成分のうちの少なくとも２枚の正レン
ズ成分は第１の硝材で構成されることが良い。ここで、
第１の硝材は、第１の硝材の分散値をνｔとするとき、
以下の条件で表される。 （１５） νｔ＞１２０ 但し、分散値は、波長λに対する屈折率をｎ（λ）とす
るとき、 ν＝｛ｎ(436)−１｝／｛ｎ(400)−ｎ(440)｝ で定義される。
第３レンズ群中の正レンズ成分のうちの少なくとも２枚
の正レンズ成分は第１の硝材で構成され、前記第４レン
ズ群中の正レンズ成分のうちの少なくとも２枚の正レン
ズ成分は第１の硝材で構成されることが良い。ここで、
第１の硝材は、第１の硝材の分散値をνｔとするとき、
以下の条件で表される。 （１５） νｔ＞１２０ 但し、分散値は、波長λに対する屈折率をｎ（λ）とす
るとき、 ν＝｛ｎ(436)−１｝／｛ｎ(400)−ｎ(440)｝ で定義される。
【００４２】前述の通り、第３および第４レンズ群では
球面収差を補正する機能を有しているが、上述のように
第３および第４レンズ群中の複数の正レンズ成分のうち
の少なくとも２枚の正レンズ成分を条件（１５）で表さ
れる分散値の大きな第１の硝材を用いることで、投影光
学系全体の軸上の色消しを良好に行うことができる。上
述の構成において、第３レンズ群中の最も第２物体側に
配置されたレンズ成分を第２の硝材で構成し、第４レン
ズ群中の最も第１物体側に配置されたレンズ成分を第２
の硝材で構成することが好ましい。
球面収差を補正する機能を有しているが、上述のように
第３および第４レンズ群中の複数の正レンズ成分のうち
の少なくとも２枚の正レンズ成分を条件（１５）で表さ
れる分散値の大きな第１の硝材を用いることで、投影光
学系全体の軸上の色消しを良好に行うことができる。上
述の構成において、第３レンズ群中の最も第２物体側に
配置されたレンズ成分を第２の硝材で構成し、第４レン
ズ群中の最も第１物体側に配置されたレンズ成分を第２
の硝材で構成することが好ましい。
【００４３】ここで、第２の硝材は、この第２の硝材の
分散値をνｃとするとき、 （１６） νｃ＜１１０ で表される。このように、第３および第４レンズ群にお
いて、最も開口絞り側に配置されて開口絞り側に凹面を
向けたレンズ成分として条件（１６）で表される第２の
硝材を用いることで、さらに良好な軸上の色消しを達成
できる。
分散値をνｃとするとき、 （１６） νｃ＜１１０ で表される。このように、第３および第４レンズ群にお
いて、最も開口絞り側に配置されて開口絞り側に凹面を
向けたレンズ成分として条件（１６）で表される第２の
硝材を用いることで、さらに良好な軸上の色消しを達成
できる。
【００４４】また、本発明の実施の形態においては、第
２レンズ群中の一対の負レンズ成分のうちの少なくとも
一方の負レンズ成分に隣接して配置される正レンズ成分
と、第５レンズ群中の一対の負レンズ成分のうちの少な
くとも一方の負レンズ成分に隣接して配置される正レン
ズ成分とを有する構成であることが好ましい。この構成
において、第２レンズ群中の少なくとも一方の負レンズ
成分と、これに隣接する正レンズ成分とは全体としてメ
ニスカス形状であり、第５レンズ群中の少なくとも一方
の負レンズ成分とこれに隣接する正レンズ成分とは全体
としてメニスカス形状であることが好ましい。
２レンズ群中の一対の負レンズ成分のうちの少なくとも
一方の負レンズ成分に隣接して配置される正レンズ成分
と、第５レンズ群中の一対の負レンズ成分のうちの少な
くとも一方の負レンズ成分に隣接して配置される正レン
ズ成分とを有する構成であることが好ましい。この構成
において、第２レンズ群中の少なくとも一方の負レンズ
成分と、これに隣接する正レンズ成分とは全体としてメ
ニスカス形状であり、第５レンズ群中の少なくとも一方
の負レンズ成分とこれに隣接する正レンズ成分とは全体
としてメニスカス形状であることが好ましい。
【００４５】ここで、第２レンズ群中における全体とし
てメニスカス形状の負レンズ成分と正レンズ成分とのう
ち、負レンズ成分は第３の硝材で構成され、正レンズ成
分は前記第２の硝材で構成され、第５レンズ群中におけ
る全体としてメニスカス形状の負レンズ成分と正レンズ
成分とのうち、負レンズ成分は第３の硝材で構成され、
正レンズ成分は第２の硝材で構成されることが好まし
い。
てメニスカス形状の負レンズ成分と正レンズ成分とのう
ち、負レンズ成分は第３の硝材で構成され、正レンズ成
分は前記第２の硝材で構成され、第５レンズ群中におけ
る全体としてメニスカス形状の負レンズ成分と正レンズ
成分とのうち、負レンズ成分は第３の硝材で構成され、
正レンズ成分は第２の硝材で構成されることが好まし
い。
【００４６】但し、第３の硝材は、この第３の硝材の分
散値をνｆとするとき、以下の条件で表される。 （１７） νｆ＜７５ 上述のように、第２レンズ群中の全体としてメニスカス
形状のサブレンズ群を構成する負レンズ成分に条件（１
７）で表される第３の硝材を用い、正レンズ成分に条件
（１６）で表される第２の硝材を用い、第５レンズ群中
の全体としてメニスカス形状のサブレンズ群を構成する
負レンズ成分に条件（１７）で表される第３の硝材を用
い、正レンズ成分に条件（１６）で表される第２の硝材
を用いることで、これらのサブレンズ群から色の球面収
差をオーバーに発生させている。これにより、第３およ
び第４レンズ群のみではアンダーになりがちな色の球面
収差を打ち消すことができ、投影光学系全体として良好
な色の球面収差を達成できる。
散値をνｆとするとき、以下の条件で表される。 （１７） νｆ＜７５ 上述のように、第２レンズ群中の全体としてメニスカス
形状のサブレンズ群を構成する負レンズ成分に条件（１
７）で表される第３の硝材を用い、正レンズ成分に条件
（１６）で表される第２の硝材を用い、第５レンズ群中
の全体としてメニスカス形状のサブレンズ群を構成する
負レンズ成分に条件（１７）で表される第３の硝材を用
い、正レンズ成分に条件（１６）で表される第２の硝材
を用いることで、これらのサブレンズ群から色の球面収
差をオーバーに発生させている。これにより、第３およ
び第４レンズ群のみではアンダーになりがちな色の球面
収差を打ち消すことができ、投影光学系全体として良好
な色の球面収差を達成できる。
【００４７】また、第１レンズ群中の正サブレンズ群の
うちの少なくとも１枚の正レンズ成分を第３の硝材で構
成し、第１レンズ群中の負サブレンズ群のうちの少なく
とも１枚の負レンズ成分を第２の硝材で構成し、第６レ
ンズ群中の正サブレンズ群のうちの少なくとも１枚の正
レンズ成分を第３の硝材で構成し、第６レンズ群中の負
サブレンズ群のうちの少なくとも１枚の負レンズ成分を
第２の硝材で構成することが好ましい。
うちの少なくとも１枚の正レンズ成分を第３の硝材で構
成し、第１レンズ群中の負サブレンズ群のうちの少なく
とも１枚の負レンズ成分を第２の硝材で構成し、第６レ
ンズ群中の正サブレンズ群のうちの少なくとも１枚の正
レンズ成分を第３の硝材で構成し、第６レンズ群中の負
サブレンズ群のうちの少なくとも１枚の負レンズ成分を
第２の硝材で構成することが好ましい。
【００４８】この構成により、第１および第６レンズ群
において、色の像面湾曲をアンダーにすることができ、
これにより第２乃至第５レンズ群でオーバーになりがち
な色の像面湾曲を打ち消すことができる。これにより、
投影光学系全体の色の像面湾曲を良好に補正することが
できる。また、第２レンズ群中の負レンズ成分のうち第
３の硝材で構成される負レンズ成分とは異なる負レンズ
成分を前記第２の硝材で構成し、第５レンズ群中の負レ
ンズ成分のうち第３の硝材で構成される負レンズ成分と
は異なる負レンズ成分を第２の硝材で構成することが好
ましい。
において、色の像面湾曲をアンダーにすることができ、
これにより第２乃至第５レンズ群でオーバーになりがち
な色の像面湾曲を打ち消すことができる。これにより、
投影光学系全体の色の像面湾曲を良好に補正することが
できる。また、第２レンズ群中の負レンズ成分のうち第
３の硝材で構成される負レンズ成分とは異なる負レンズ
成分を前記第２の硝材で構成し、第５レンズ群中の負レ
ンズ成分のうち第３の硝材で構成される負レンズ成分と
は異なる負レンズ成分を第２の硝材で構成することが好
ましい。
【００４９】第２および第５レンズ群における負レンズ
成分のうち、上記条件（１６）で表される第２の硝材に
よって、軸上の色の２次分散を抑えることが可能とな
り、さらには色の像面湾曲をも良好に補正することが可
能となる。なお、上述の第２レンズ群中における全体と
してメニスカス形状の負レンズ成分と正レンズ成分と
は、前記第１物体側に凹面を向けて配置され、第５レン
ズ群中における全体としてメニスカス形状の負レンズ成
分と正レンズ成分とは、第２物体側に凹面を向けて配置
されることが好ましい。
成分のうち、上記条件（１６）で表される第２の硝材に
よって、軸上の色の２次分散を抑えることが可能とな
り、さらには色の像面湾曲をも良好に補正することが可
能となる。なお、上述の第２レンズ群中における全体と
してメニスカス形状の負レンズ成分と正レンズ成分と
は、前記第１物体側に凹面を向けて配置され、第５レン
ズ群中における全体としてメニスカス形状の負レンズ成
分と正レンズ成分とは、第２物体側に凹面を向けて配置
されることが好ましい。
【００５０】以上の構成では、硝材の配置がほぼ対称的
になるため、倍率の色収差および色コマ収差の発生を低
減できる効果がある。さて、第６レンズ群中の正サブレ
ンズ群は、下記の条件（１８）を満足するレンズ面を有
することが好ましい。 （１８） ＲG6／ＤG6＜２ 但し、 ＲG6：第６レンズ群中の正サブレンズ群を構成する正レ
ンズ成分のレンズ面のうち、第１物体側に凸面を向けた
レンズ面の曲率半径、 ＤG6：このレンズ面と第２物体との距離、である。
になるため、倍率の色収差および色コマ収差の発生を低
減できる効果がある。さて、第６レンズ群中の正サブレ
ンズ群は、下記の条件（１８）を満足するレンズ面を有
することが好ましい。 （１８） ＲG6／ＤG6＜２ 但し、 ＲG6：第６レンズ群中の正サブレンズ群を構成する正レ
ンズ成分のレンズ面のうち、第１物体側に凸面を向けた
レンズ面の曲率半径、 ＤG6：このレンズ面と第２物体との距離、である。
【００５１】上記条件（１８）は、第２物体上における
フレアー防止のためのものである。この条件（１８）の
範囲から外れると、第６レンズ群の正サブレンズ群にお
ける正レンズ成分中の第２物体側に凹を向けたレンズ面
で反射されて第２物体へ向かうフレアー光が、第２物体
上において光軸近傍に集光してしまうため好ましくな
い。
フレアー防止のためのものである。この条件（１８）の
範囲から外れると、第６レンズ群の正サブレンズ群にお
ける正レンズ成分中の第２物体側に凹を向けたレンズ面
で反射されて第２物体へ向かうフレアー光が、第２物体
上において光軸近傍に集光してしまうため好ましくな
い。
【００５２】また、本実施の形態における投影光学系
は、以下の条件（１９）を満足することが好ましい。 （１９） ０．５≦｜β｜≦２．０ 但し、 β：投影光学系の投影倍率、である。
は、以下の条件（１９）を満足することが好ましい。 （１９） ０．５≦｜β｜≦２．０ 但し、 β：投影光学系の投影倍率、である。
【００５３】この条件（１９）の前提となる構成は、正
・負・正・開口絞り・正・負・正の屈折力配置であり、
この条件（１９）の範囲から外れる場合には、上記の屈
折力配置では諸収差、特に軸外収差を補正することが困
難になるため好ましくない。次に図面を参照して本発明
の実施の形態にかかる投影光学系を投影露光装置に適用
した例を示す。図１は本発明の実施の形態にかかる投影
光学系を逐次露光型の投影露光装置に適用した例を示す
斜視図であり、図２は本発明の実施の形態にかかる投影
光学系を走査型露光装置に適用した例を示す斜視図であ
る。
・負・正・開口絞り・正・負・正の屈折力配置であり、
この条件（１９）の範囲から外れる場合には、上記の屈
折力配置では諸収差、特に軸外収差を補正することが困
難になるため好ましくない。次に図面を参照して本発明
の実施の形態にかかる投影光学系を投影露光装置に適用
した例を示す。図１は本発明の実施の形態にかかる投影
光学系を逐次露光型の投影露光装置に適用した例を示す
斜視図であり、図２は本発明の実施の形態にかかる投影
光学系を走査型露光装置に適用した例を示す斜視図であ
る。
【００５４】これら図１および図２の投影露光装置は、
ともに集積回路素子や液晶パネルなどのデバイスの回路
パターンを形成する際の露光工程に用いられる。まず、
図１の例では、投影光学系ＰＬの物体面には、所定の回
路パターンが描かれた投影原板としてのマスクＭ（第１
物体）が配置されており、投影光学系ＰＬの像面には基
板としてのプレートＰ（第２物体）が配置されている。
ここで、マスクＭはマスクステージに保持されており、
図中ＸＹ方向に可動なプレートＰはプレートステージＰ
Ｓに保持されている。また、マスクＭの上方（Ｚ方向
側）には、紫外域の露光光によってマスクＭの照明領域
ＩＡを均一に照明するための照明光学装置ＩＬが配置さ
れている。この実施の形態において、照明光学装置ＩＬ
は、ｇ線(435.8nm)からｈ線(404.7nm)までの紫外域の光
を供給するものである。
ともに集積回路素子や液晶パネルなどのデバイスの回路
パターンを形成する際の露光工程に用いられる。まず、
図１の例では、投影光学系ＰＬの物体面には、所定の回
路パターンが描かれた投影原板としてのマスクＭ（第１
物体）が配置されており、投影光学系ＰＬの像面には基
板としてのプレートＰ（第２物体）が配置されている。
ここで、マスクＭはマスクステージに保持されており、
図中ＸＹ方向に可動なプレートＰはプレートステージＰ
Ｓに保持されている。また、マスクＭの上方（Ｚ方向
側）には、紫外域の露光光によってマスクＭの照明領域
ＩＡを均一に照明するための照明光学装置ＩＬが配置さ
れている。この実施の形態において、照明光学装置ＩＬ
は、ｇ線(435.8nm)からｈ線(404.7nm)までの紫外域の光
を供給するものである。
【００５５】以上の構成により、照明光学装置ＩＬから
供給される紫外域の露光光は、マスクＭ上の照明領域Ｉ
Ａを均一に照明し、このマスクＭからの露光光は、投影
光学系ＰＬの開口絞りＡＳの位置に光源像を形成する。
すなわち、マスクＭは照明光学装置ＩＬによってケーラ
ー照明される。そして、プレートＰ上の露光領域ＥＡに
は、マスクＭの照明領域ＩＡ内の像が形成され、これに
より、プレートＰにはマスクＭの回路パターンが転写さ
れる。
供給される紫外域の露光光は、マスクＭ上の照明領域Ｉ
Ａを均一に照明し、このマスクＭからの露光光は、投影
光学系ＰＬの開口絞りＡＳの位置に光源像を形成する。
すなわち、マスクＭは照明光学装置ＩＬによってケーラ
ー照明される。そして、プレートＰ上の露光領域ＥＡに
は、マスクＭの照明領域ＩＡ内の像が形成され、これに
より、プレートＰにはマスクＭの回路パターンが転写さ
れる。
【００５６】次に、図２の例では、マスクＭを保持する
マスクステージＭＳと、プレートＰを保持するプレート
ステージＰＳとが、露光中において互いに逆方向へ走査
する点が図１の例とは異なっている。これにより、プレ
ートＰには、マスクＭの像が走査露光される。以上の図
１および図２の実施の形態では、投影光学系ＰＬは、第
１物体側（マスクＭ）側および第２物体側（プレートＰ
側）において、実質的にテレセントリックとなってお
り、拡大倍率を有するものである。
マスクステージＭＳと、プレートＰを保持するプレート
ステージＰＳとが、露光中において互いに逆方向へ走査
する点が図１の例とは異なっている。これにより、プレ
ートＰには、マスクＭの像が走査露光される。以上の図
１および図２の実施の形態では、投影光学系ＰＬは、第
１物体側（マスクＭ）側および第２物体側（プレートＰ
側）において、実質的にテレセントリックとなってお
り、拡大倍率を有するものである。
【００５７】
【実施例】次に、図３乃至図６を参照して、本発明にか
かる投影光学系の数値実施例について説明する。ここ
で、図３および図４は、第１および第２実施例の投影光
学系のレンズ構成図であり、図５および図６は、第１お
よび第２実施例の投影光学系の諸収差図である。
かる投影光学系の数値実施例について説明する。ここ
で、図３および図４は、第１および第２実施例の投影光
学系のレンズ構成図であり、図５および図６は、第１お
よび第２実施例の投影光学系の諸収差図である。
【００５８】［第１実施例］図３において、第１実施例
の投影光学系は、第１物体（マスクＭ）側から順に、正
屈折力の第１レンズ群Ｇ１と、負屈折力の第２レンズ群
Ｇ２と、正屈折力の第３レンズ群Ｇ３と、開口絞りＡＳ
と、正屈折力の第４レンズ群Ｇ４と、負屈折力の第５レ
ンズ群Ｇ５と、正屈折力の第６レンズ群Ｇ６とから構成
される。
の投影光学系は、第１物体（マスクＭ）側から順に、正
屈折力の第１レンズ群Ｇ１と、負屈折力の第２レンズ群
Ｇ２と、正屈折力の第３レンズ群Ｇ３と、開口絞りＡＳ
と、正屈折力の第４レンズ群Ｇ４と、負屈折力の第５レ
ンズ群Ｇ５と、正屈折力の第６レンズ群Ｇ６とから構成
される。
【００５９】ここで、第１レンズ群Ｇ１は、第１物体と
してのマスクＭ側から順に、負屈折力の負サブレンズ群
Ｇ１Ｎと、正屈折力の正サブレンズ群Ｇ１Ｐとから構成
されており、負サブレンズ群Ｇ１Ｎは、第１物体側から
順に、第２物体（プレートＰ）側に凹面を向けた平凹形
状の負レンズ成分（第２物体側に凹面を向けた負レンズ
成分）Ｌ１１と、第１物体側に凹面を向けた平凹形状の
負レンズ成分Ｌ１２とを有し、正サブレンズ群Ｇ１Ｐ
は、第１物体側から順に、第２物体側に曲率の強い面を
向けた両凸形状の２枚の正レンズ成分Ｌ１３，Ｌ１４
と、第１物体側に凸面を向けた平凸形状の正レンズ成分
Ｌ１５とを有する。
してのマスクＭ側から順に、負屈折力の負サブレンズ群
Ｇ１Ｎと、正屈折力の正サブレンズ群Ｇ１Ｐとから構成
されており、負サブレンズ群Ｇ１Ｎは、第１物体側から
順に、第２物体（プレートＰ）側に凹面を向けた平凹形
状の負レンズ成分（第２物体側に凹面を向けた負レンズ
成分）Ｌ１１と、第１物体側に凹面を向けた平凹形状の
負レンズ成分Ｌ１２とを有し、正サブレンズ群Ｇ１Ｐ
は、第１物体側から順に、第２物体側に曲率の強い面を
向けた両凸形状の２枚の正レンズ成分Ｌ１３，Ｌ１４
と、第１物体側に凸面を向けた平凸形状の正レンズ成分
Ｌ１５とを有する。
【００６０】ここで、負サブレンズ群Ｇ１Ｎを構成する
負レンズ成分Ｌ１１，Ｌ１２は、ともに条件（１６）を
満足する第２の硝材で構成されており、正サブレンズ群
Ｇ１Ｐを構成する正レンズ成分Ｌ１３〜Ｌ１５は、条件
（１７）を満足する第３の硝材から構成されている。第
２レンズ群Ｇ２は、第１物体側から順に、第２物体側に
凹面を向けた形状の正メニスカスレンズ成分Ｌ２１およ
び第２物体側に凹面を向けた形状の負メニスカスレンズ
成分Ｌ２２からなる接合レンズ成分と、両凹形状の負レ
ンズ成分Ｌ２３と、両凹形状の負レンズ成分Ｌ２４およ
び両凸形状の正レンズ成分Ｌ２５からなり全体として第
１物体側に凹面を向けたメニスカス形状の接合レンズ成
分とを有する。
負レンズ成分Ｌ１１，Ｌ１２は、ともに条件（１６）を
満足する第２の硝材で構成されており、正サブレンズ群
Ｇ１Ｐを構成する正レンズ成分Ｌ１３〜Ｌ１５は、条件
（１７）を満足する第３の硝材から構成されている。第
２レンズ群Ｇ２は、第１物体側から順に、第２物体側に
凹面を向けた形状の正メニスカスレンズ成分Ｌ２１およ
び第２物体側に凹面を向けた形状の負メニスカスレンズ
成分Ｌ２２からなる接合レンズ成分と、両凹形状の負レ
ンズ成分Ｌ２３と、両凹形状の負レンズ成分Ｌ２４およ
び両凸形状の正レンズ成分Ｌ２５からなり全体として第
１物体側に凹面を向けたメニスカス形状の接合レンズ成
分とを有する。
【００６１】ここで、負メニスカスレンズ成分Ｌ２２と
両凹形状の負レンズ成分Ｌ２４とが第２レンズ群中の互
いに向かい合った凹面の組を形成している。そして、全
体として第１物体側に凹面を向けたメニスカス形状のサ
ブレンズ群を構成している接合レンズ成分Ｌ２４，Ｌ２
５においては、負レンズ成分Ｌ２４が第３の硝材で構成
されており、正レンズ成分Ｌ２５が第２の硝材で構成さ
れている。また、第２レンズ群中の負レンズ成分Ｌ２４
以外の負レンズ成分Ｌ２２，Ｌ２３は、第２の硝材で構
成されている。
両凹形状の負レンズ成分Ｌ２４とが第２レンズ群中の互
いに向かい合った凹面の組を形成している。そして、全
体として第１物体側に凹面を向けたメニスカス形状のサ
ブレンズ群を構成している接合レンズ成分Ｌ２４，Ｌ２
５においては、負レンズ成分Ｌ２４が第３の硝材で構成
されており、正レンズ成分Ｌ２５が第２の硝材で構成さ
れている。また、第２レンズ群中の負レンズ成分Ｌ２４
以外の負レンズ成分Ｌ２２，Ｌ２３は、第２の硝材で構
成されている。
【００６２】第３レンズ群Ｇ３は、第１物体側から順
に、第２物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状の正レ
ンズ成分Ｌ３１と、第１物体側に曲率の強い面を向けた
両凸形状の２枚の正レンズ成分Ｌ３２，Ｌ３３と、第２
物体側に曲率の強い面を向けた両凹形状の負レンズ成分
（第２物体側に凹面を向けたレンズ成分）Ｌ３４とを有
する。第３レンズ群Ｇ３においては、正レンズ成分Ｌ３
１〜Ｌ３３が条件（１５）を満たす第１の硝材で構成さ
れており、最も第２物体側に配置されて第２物体側に凹
面を向けた負レンズ成分Ｌ３４が第２の硝材で構成され
ている。
に、第２物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状の正レ
ンズ成分Ｌ３１と、第１物体側に曲率の強い面を向けた
両凸形状の２枚の正レンズ成分Ｌ３２，Ｌ３３と、第２
物体側に曲率の強い面を向けた両凹形状の負レンズ成分
（第２物体側に凹面を向けたレンズ成分）Ｌ３４とを有
する。第３レンズ群Ｇ３においては、正レンズ成分Ｌ３
１〜Ｌ３３が条件（１５）を満たす第１の硝材で構成さ
れており、最も第２物体側に配置されて第２物体側に凹
面を向けた負レンズ成分Ｌ３４が第２の硝材で構成され
ている。
【００６３】第４レンズ群は、第１物体側から順に、第
１物体側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズ成分
（第１物体側に凹面を向けたレンズ成分）Ｌ４１と、第
１物体側に凹面を向けた形状の正メニスカスレンズ成分
Ｌ４２と、第２物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状
の正レンズ成分Ｌ４３と、両凸形状の正レンズ成分Ｌ４
４と、第１物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状の正
レンズ成分Ｌ４５とを有する。第４レンズ群Ｇ４におい
ては、最も第１物体側に配置されて第１物体側に凹面を
向けた負レンズ成分Ｌ４１が第２の硝材で構成されてお
り、正レンズ成分Ｌ４３〜Ｌ４５が第１の硝材で構成さ
れている。
１物体側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズ成分
（第１物体側に凹面を向けたレンズ成分）Ｌ４１と、第
１物体側に凹面を向けた形状の正メニスカスレンズ成分
Ｌ４２と、第２物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状
の正レンズ成分Ｌ４３と、両凸形状の正レンズ成分Ｌ４
４と、第１物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状の正
レンズ成分Ｌ４５とを有する。第４レンズ群Ｇ４におい
ては、最も第１物体側に配置されて第１物体側に凹面を
向けた負レンズ成分Ｌ４１が第２の硝材で構成されてお
り、正レンズ成分Ｌ４３〜Ｌ４５が第１の硝材で構成さ
れている。
【００６４】第５レンズ成分は、第１物体側から順に、
両凸形状の正レンズ成分Ｌ５１および両凹形状の負レン
ズ成分Ｌ５２からなり全体として第２物体側に凹面を向
けたメニスカス形状の接合レンズ成分と、両凹形状の負
レンズ成分Ｌ５３と、第１物体側に凹面を向けた平凹形
状の負レンズ成分Ｌ５４および第２物体側に凸面を向け
た平凸形状の正レンズ成分Ｌ５５からなる接合レンズ成
分と、第１物体側に凹面を向けた平凹形状の負レンズ成
分Ｌ５６と、第２物体側に凸面を向けた平凸形状の正レ
ンズ成分Ｌ５７とを有する。
両凸形状の正レンズ成分Ｌ５１および両凹形状の負レン
ズ成分Ｌ５２からなり全体として第２物体側に凹面を向
けたメニスカス形状の接合レンズ成分と、両凹形状の負
レンズ成分Ｌ５３と、第１物体側に凹面を向けた平凹形
状の負レンズ成分Ｌ５４および第２物体側に凸面を向け
た平凸形状の正レンズ成分Ｌ５５からなる接合レンズ成
分と、第１物体側に凹面を向けた平凹形状の負レンズ成
分Ｌ５６と、第２物体側に凸面を向けた平凸形状の正レ
ンズ成分Ｌ５７とを有する。
【００６５】ここで、両凹形状の負レンズ成分Ｌ５２と
平凹形状の負レンズ成分Ｌ５６とが第５レンズ群中の互
いに向かい合った凹面の組を形成している。そして、全
体として第２物体側に凹面を向けたメニスカス形状のサ
ブレンズ群を構成している接合レンズ成分Ｌ５１，Ｌ５
２においては、正レンズ成分Ｌ５１が第２の硝材で構成
されており、負レンズ成分Ｌ５２が第３の硝材で構成さ
れている。また、第５レンズ群中の負レンズ成分Ｌ５２
以外の負レンズ成分Ｌ５３，Ｌ５４，Ｌ５６は、第２の
硝材で構成されている。
平凹形状の負レンズ成分Ｌ５６とが第５レンズ群中の互
いに向かい合った凹面の組を形成している。そして、全
体として第２物体側に凹面を向けたメニスカス形状のサ
ブレンズ群を構成している接合レンズ成分Ｌ５１，Ｌ５
２においては、正レンズ成分Ｌ５１が第２の硝材で構成
されており、負レンズ成分Ｌ５２が第３の硝材で構成さ
れている。また、第５レンズ群中の負レンズ成分Ｌ５２
以外の負レンズ成分Ｌ５３，Ｌ５４，Ｌ５６は、第２の
硝材で構成されている。
【００６６】そして、第６レンズ群Ｇ６は、第１物体側
から順に、正屈折力の正サブレンズ群Ｇ６Ｐと、負屈折
力の負サブレンズ群Ｇ６Ｎとから構成されており、正サ
ブレンズ群Ｇ６Ｐは、第１物体側から順に、第２物体側
に曲率の強い面を向けた両凸形状の正レンズ成分Ｌ６１
と、第１物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状の正レ
ンズ成分Ｌ６２と、第１物体側に凸面を向けた平凸形状
の正レンズ成分Ｌ６３とを有し、負サブレンズ群Ｇ６Ｎ
は、第１物体側に凹面を向けた平凹形状の負レンズ成分
（第１物体側に凹面を向けた負レンズ成分）Ｌ６４を有
する。
から順に、正屈折力の正サブレンズ群Ｇ６Ｐと、負屈折
力の負サブレンズ群Ｇ６Ｎとから構成されており、正サ
ブレンズ群Ｇ６Ｐは、第１物体側から順に、第２物体側
に曲率の強い面を向けた両凸形状の正レンズ成分Ｌ６１
と、第１物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状の正レ
ンズ成分Ｌ６２と、第１物体側に凸面を向けた平凸形状
の正レンズ成分Ｌ６３とを有し、負サブレンズ群Ｇ６Ｎ
は、第１物体側に凹面を向けた平凹形状の負レンズ成分
（第１物体側に凹面を向けた負レンズ成分）Ｌ６４を有
する。
【００６７】ここで、正サブレンズ群を構成する正レン
ズ成分Ｌ６１〜Ｌ６３は、第３の硝材で構成されてお
り、負サブレンズ群を構成する負レンズ成分Ｌ６４は、
第２の硝材で構成されている。 ［第２実施例］図４において、第２実施例の投影光学系
は、第１物体（マスクＭ）側から順に、正屈折力の第１
レンズ群Ｇ１と、負屈折力の第２レンズ群Ｇ２と、正屈
折力の第３レンズ群Ｇ３と、開口絞りＡＳと、正屈折力
の第４レンズ群Ｇ４と、負屈折力の第５レンズ群Ｇ５
と、正屈折力の第６レンズ群Ｇ６とから構成される。
ズ成分Ｌ６１〜Ｌ６３は、第３の硝材で構成されてお
り、負サブレンズ群を構成する負レンズ成分Ｌ６４は、
第２の硝材で構成されている。 ［第２実施例］図４において、第２実施例の投影光学系
は、第１物体（マスクＭ）側から順に、正屈折力の第１
レンズ群Ｇ１と、負屈折力の第２レンズ群Ｇ２と、正屈
折力の第３レンズ群Ｇ３と、開口絞りＡＳと、正屈折力
の第４レンズ群Ｇ４と、負屈折力の第５レンズ群Ｇ５
と、正屈折力の第６レンズ群Ｇ６とから構成される。
【００６８】ここで、第１レンズ群Ｇ１は、第１物体と
してのマスクＭ側から順に、負屈折力の負サブレンズ群
Ｇ１Ｎと、正屈折力の正サブレンズ群Ｇ１Ｐとから構成
されており、負サブレンズ群Ｇ１Ｎは、第２物体として
のプレートＰ側に両凹形状の負レンズ成分（第２物体側
に凹面を向けた負レンズ成分）Ｌ１１を有し、正サブレ
ンズ群Ｇ１Ｐは、第１物体側から順に、第２物体側に曲
率の強い面を向けた２枚の正レンズ成分Ｌ１２，Ｌ１３
と、第１物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状の正レ
ンズ成分Ｌ１４とを有する。
してのマスクＭ側から順に、負屈折力の負サブレンズ群
Ｇ１Ｎと、正屈折力の正サブレンズ群Ｇ１Ｐとから構成
されており、負サブレンズ群Ｇ１Ｎは、第２物体として
のプレートＰ側に両凹形状の負レンズ成分（第２物体側
に凹面を向けた負レンズ成分）Ｌ１１を有し、正サブレ
ンズ群Ｇ１Ｐは、第１物体側から順に、第２物体側に曲
率の強い面を向けた２枚の正レンズ成分Ｌ１２，Ｌ１３
と、第１物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状の正レ
ンズ成分Ｌ１４とを有する。
【００６９】ここで、負サブレンズ群Ｇ１Ｎを構成する
負レンズ成分Ｌ１１は、条件（１６）を満足する第２の
硝材で構成されており、正サブレンズ群Ｇ１Ｐを構成す
る正レンズ成分Ｌ１２〜Ｌ１４は、条件（１７）を満足
する第３の硝材から構成されている。第２レンズ群Ｇ２
は、第１物体側から順に、第２物体側に凹面を向けた形
状の正メニスカスレンズ成分Ｌ２１および第２物体側に
凹面を向けた形状の負メニスカスレンズ成分Ｌ２２から
なる接合レンズ成分と、両凹形状の負レンズ成分Ｌ２３
と、両凹形状の負レンズ成分Ｌ２４および両凸形状の正
レンズ成分Ｌ２５からなり全体として第１物体側に凹面
を向けたメニスカス形状の接合レンズ成分とを有する。
負レンズ成分Ｌ１１は、条件（１６）を満足する第２の
硝材で構成されており、正サブレンズ群Ｇ１Ｐを構成す
る正レンズ成分Ｌ１２〜Ｌ１４は、条件（１７）を満足
する第３の硝材から構成されている。第２レンズ群Ｇ２
は、第１物体側から順に、第２物体側に凹面を向けた形
状の正メニスカスレンズ成分Ｌ２１および第２物体側に
凹面を向けた形状の負メニスカスレンズ成分Ｌ２２から
なる接合レンズ成分と、両凹形状の負レンズ成分Ｌ２３
と、両凹形状の負レンズ成分Ｌ２４および両凸形状の正
レンズ成分Ｌ２５からなり全体として第１物体側に凹面
を向けたメニスカス形状の接合レンズ成分とを有する。
【００７０】ここで、負メニスカスレンズ成分Ｌ２２と
両凹形状の負レンズ成分Ｌ２４とが第２レンズ群中の互
いに向かい合った凹面の組を形成している。そして、全
体として第１物体側に凹面を向けたメニスカス形状のサ
ブレンズ群を構成している接合レンズ成分Ｌ２４，Ｌ２
５においては、負レンズ成分Ｌ２４が第３の硝材で構成
されており、正レンズ成分Ｌ２５が第２の硝材で構成さ
れている。また、第２レンズ群中の負レンズ成分Ｌ２４
以外の負レンズ成分Ｌ２２，Ｌ２３は、第２の硝材で構
成されている。
両凹形状の負レンズ成分Ｌ２４とが第２レンズ群中の互
いに向かい合った凹面の組を形成している。そして、全
体として第１物体側に凹面を向けたメニスカス形状のサ
ブレンズ群を構成している接合レンズ成分Ｌ２４，Ｌ２
５においては、負レンズ成分Ｌ２４が第３の硝材で構成
されており、正レンズ成分Ｌ２５が第２の硝材で構成さ
れている。また、第２レンズ群中の負レンズ成分Ｌ２４
以外の負レンズ成分Ｌ２２，Ｌ２３は、第２の硝材で構
成されている。
【００７１】第３レンズ群Ｇ３は、第１物体側から順
に、両凸形状の３枚の正レンズ成分Ｌ３１〜Ｌ３３と、
第２物体側に曲率の強い面を向けた両凹形状の負レンズ
成分（第２物体側に凹面を向けたレンズ成分）Ｌ３４と
を有する。第３レンズ群Ｇ３においては、正レンズ成分
Ｌ３１〜Ｌ３３が条件（１５）を満たす第１の硝材で構
成されており、最も第２物体側に配置されて第２物体側
に凹面を向けた負レンズ成分Ｌ３４が第２の硝材で構成
されている。
に、両凸形状の３枚の正レンズ成分Ｌ３１〜Ｌ３３と、
第２物体側に曲率の強い面を向けた両凹形状の負レンズ
成分（第２物体側に凹面を向けたレンズ成分）Ｌ３４と
を有する。第３レンズ群Ｇ３においては、正レンズ成分
Ｌ３１〜Ｌ３３が条件（１５）を満たす第１の硝材で構
成されており、最も第２物体側に配置されて第２物体側
に凹面を向けた負レンズ成分Ｌ３４が第２の硝材で構成
されている。
【００７２】第４レンズ群は、第１物体側から順に、第
１物体側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズ成分
（第１物体側に凹面を向けたレンズ成分）Ｌ４１と、第
１物体側に凹面を向けた形状の正メニスカスレンズ成分
Ｌ４２と、第２物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状
の正レンズ成分Ｌ４３と、両凸形状の正レンズ成分Ｌ４
４と、第１物体側に凸面を向けたメニスカス形状の正レ
ンズ成分Ｌ４５とを有する。第４レンズ群Ｇ４において
は、最も第１物体側に配置されて第１物体側に凹面を向
けた負レンズ成分Ｌ４１が第２の硝材で構成されてお
り、正レンズ成分Ｌ４３〜Ｌ４５が第１の硝材で構成さ
れている。
１物体側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズ成分
（第１物体側に凹面を向けたレンズ成分）Ｌ４１と、第
１物体側に凹面を向けた形状の正メニスカスレンズ成分
Ｌ４２と、第２物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状
の正レンズ成分Ｌ４３と、両凸形状の正レンズ成分Ｌ４
４と、第１物体側に凸面を向けたメニスカス形状の正レ
ンズ成分Ｌ４５とを有する。第４レンズ群Ｇ４において
は、最も第１物体側に配置されて第１物体側に凹面を向
けた負レンズ成分Ｌ４１が第２の硝材で構成されてお
り、正レンズ成分Ｌ４３〜Ｌ４５が第１の硝材で構成さ
れている。
【００７３】第５レンズ成分は、第１物体側から順に、
両凸形状の正レンズ成分Ｌ５１および両凹形状の負レン
ズ成分Ｌ５２からなり全体として第２物体側に凹面を向
けたメニスカス形状の接合レンズ成分と、両凹形状の負
レンズ成分Ｌ５３と、第１物体側に曲率の強い面を向け
た両凹形状の負レンズ成分Ｌ５４および第２物体側に曲
率の強い面を向けた両凸形状の正レンズ成分Ｌ５５から
なる接合レンズ成分とを有する。
両凸形状の正レンズ成分Ｌ５１および両凹形状の負レン
ズ成分Ｌ５２からなり全体として第２物体側に凹面を向
けたメニスカス形状の接合レンズ成分と、両凹形状の負
レンズ成分Ｌ５３と、第１物体側に曲率の強い面を向け
た両凹形状の負レンズ成分Ｌ５４および第２物体側に曲
率の強い面を向けた両凸形状の正レンズ成分Ｌ５５から
なる接合レンズ成分とを有する。
【００７４】ここで、両凹形状の負レンズ成分Ｌ５２と
両凹形状の負レンズ成分Ｌ５４とが第５レンズ群中の互
いに向かい合った凹面の組を形成している。そして、全
体として第２物体側に凹面を向けたメニスカス形状のサ
ブレンズ群を構成している接合レンズ成分Ｌ５１，Ｌ５
２においては、正レンズ成分Ｌ５１が第２の硝材で構成
されており、負レンズ成分Ｌ５２が第３の硝材で構成さ
れている。また、第５レンズ群中の負レンズ成分Ｌ５２
以外の負レンズ成分Ｌ５３，Ｌ５４は、第２の硝材で構
成されている。
両凹形状の負レンズ成分Ｌ５４とが第５レンズ群中の互
いに向かい合った凹面の組を形成している。そして、全
体として第２物体側に凹面を向けたメニスカス形状のサ
ブレンズ群を構成している接合レンズ成分Ｌ５１，Ｌ５
２においては、正レンズ成分Ｌ５１が第２の硝材で構成
されており、負レンズ成分Ｌ５２が第３の硝材で構成さ
れている。また、第５レンズ群中の負レンズ成分Ｌ５２
以外の負レンズ成分Ｌ５３，Ｌ５４は、第２の硝材で構
成されている。
【００７５】そして、第６レンズ群Ｇ６は、第１物体側
から順に、正屈折力の正サブレンズ群Ｇ６Ｐと、負屈折
力の負サブレンズ群Ｇ６Ｎとから構成されており、正サ
ブレンズ群Ｇ６Ｐは、第１物体側から順に、第２物体側
に曲率の強い面を向けた両凸形状の正レンズ成分Ｌ６１
と、第１物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状の正レ
ンズ成分Ｌ６２とを有し、負サブレンズ群Ｇ６Ｎは、第
１物体側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズ成分
（第１物体側に凹面を向けた負レンズ成分）Ｌ６３を有
する。
から順に、正屈折力の正サブレンズ群Ｇ６Ｐと、負屈折
力の負サブレンズ群Ｇ６Ｎとから構成されており、正サ
ブレンズ群Ｇ６Ｐは、第１物体側から順に、第２物体側
に曲率の強い面を向けた両凸形状の正レンズ成分Ｌ６１
と、第１物体側に曲率の強い面を向けた両凸形状の正レ
ンズ成分Ｌ６２とを有し、負サブレンズ群Ｇ６Ｎは、第
１物体側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズ成分
（第１物体側に凹面を向けた負レンズ成分）Ｌ６３を有
する。
【００７６】ここで、正サブレンズ群を構成する正レン
ズ成分Ｌ６１，Ｌ６２は、第３の硝材で構成されてお
り、負サブレンズ群を構成する負レンズ成分Ｌ６３は、
第２の硝材で構成されている。さて、以下に示す表１お
よび表２に数値実施例の諸元の値並びに条件対応数値を
掲げる。
ズ成分Ｌ６１，Ｌ６２は、第３の硝材で構成されてお
り、負サブレンズ群を構成する負レンズ成分Ｌ６３は、
第２の硝材で構成されている。さて、以下に示す表１お
よび表２に数値実施例の諸元の値並びに条件対応数値を
掲げる。
【００７７】但し、左端の数字は第１物体側（マスクＭ
側）からの順序を表し、ｒはレンズ面の曲率半径、ｄは
レンズ面間隔、ｎ(G)は露光波長λが435.8nmにおける屈
折率、ｎ(H)は露光波長λが404.7nmにおける屈折率、ｎ
(400)は露光波長λが400nmにおける屈折率、ｎ(440)は
露光波長λが440nmにおける屈折率、ｄ0は第１物体（マ
スクＭ）から第１レンズ群Ｇ１の最も第１物体側（マス
クＭ側）のレンズ面（第１レンズ面）までの距離、ＷＤ
は第６レンズ群Ｇ６の最も第２物体側（プレートＰ側）
のレンズ面から第２物体面（プレートＰ面）までの距
離、βは投影光学系の投影倍率、ＮＡは投影光学系の第
２物体側での開口数、φEXは第２物体面（プレートＰ
面）における露光領域の半径、ｆ１は第１レンズ群Ｇ１
の焦点距離、ｆ２は第２レンズ群Ｇ２の焦点距離、ｆ３
は第３レンズ群Ｇ３の焦点距離、ｆ４は第４レンズ群Ｇ
４の焦点距離、ｆ５は第５レンズ群Ｇ５の焦点距離、ｆ
６は第６レンズ群Ｇ６の焦点距離、ｒ2Rfは第２レンズ
群Ｇ２中の一対の負レンズ成分のうち第１物体側に向け
られた凹面の曲率半径、ｒ2Frは第２レンズ群Ｇ２中の
一対の負レンズ成分のうち第２物体側に向けられた凹面
の曲率半径、ｒ3Ffは第３レンズ群Ｇ３中の最も開口絞
り側に配置された負レンズ成分の第２物体側に向けられ
た凹面の曲率半径、ｒ4Rrは第４レンズ群Ｇ４中の最も
開口絞り側に配置された負レンズ成分の第１物体側に向
けられた凹面の曲率半径、ｒ5Frは第５レンズ群Ｇ５中
の一対の負レンズ成分のうち第２物体側に向けられた凹
面の曲率半径、ｒ5Rfは第５レンズ群Ｇ５中の一対の負
レンズ成分のうち第１物体側に向けられた凹面の曲率半
径、ＲG6は第６レンズ群Ｇ６を構成する正レンズ成分の
レンズ面のうち第２物体側に凹面を向けたレンズ面の曲
率半径、ＤG6は第６レンズ群Ｇ６を構成する正レンズ成
分のレンズ面のうち第２物体側に凹面を向けたレンズ面
と第２物体との距離を表している。
側）からの順序を表し、ｒはレンズ面の曲率半径、ｄは
レンズ面間隔、ｎ(G)は露光波長λが435.8nmにおける屈
折率、ｎ(H)は露光波長λが404.7nmにおける屈折率、ｎ
(400)は露光波長λが400nmにおける屈折率、ｎ(440)は
露光波長λが440nmにおける屈折率、ｄ0は第１物体（マ
スクＭ）から第１レンズ群Ｇ１の最も第１物体側（マス
クＭ側）のレンズ面（第１レンズ面）までの距離、ＷＤ
は第６レンズ群Ｇ６の最も第２物体側（プレートＰ側）
のレンズ面から第２物体面（プレートＰ面）までの距
離、βは投影光学系の投影倍率、ＮＡは投影光学系の第
２物体側での開口数、φEXは第２物体面（プレートＰ
面）における露光領域の半径、ｆ１は第１レンズ群Ｇ１
の焦点距離、ｆ２は第２レンズ群Ｇ２の焦点距離、ｆ３
は第３レンズ群Ｇ３の焦点距離、ｆ４は第４レンズ群Ｇ
４の焦点距離、ｆ５は第５レンズ群Ｇ５の焦点距離、ｆ
６は第６レンズ群Ｇ６の焦点距離、ｒ2Rfは第２レンズ
群Ｇ２中の一対の負レンズ成分のうち第１物体側に向け
られた凹面の曲率半径、ｒ2Frは第２レンズ群Ｇ２中の
一対の負レンズ成分のうち第２物体側に向けられた凹面
の曲率半径、ｒ3Ffは第３レンズ群Ｇ３中の最も開口絞
り側に配置された負レンズ成分の第２物体側に向けられ
た凹面の曲率半径、ｒ4Rrは第４レンズ群Ｇ４中の最も
開口絞り側に配置された負レンズ成分の第１物体側に向
けられた凹面の曲率半径、ｒ5Frは第５レンズ群Ｇ５中
の一対の負レンズ成分のうち第２物体側に向けられた凹
面の曲率半径、ｒ5Rfは第５レンズ群Ｇ５中の一対の負
レンズ成分のうち第１物体側に向けられた凹面の曲率半
径、ＲG6は第６レンズ群Ｇ６を構成する正レンズ成分の
レンズ面のうち第２物体側に凹面を向けたレンズ面の曲
率半径、ＤG6は第６レンズ群Ｇ６を構成する正レンズ成
分のレンズ面のうち第２物体側に凹面を向けたレンズ面
と第２物体との距離を表している。
【００７８】
【表１】［第１実施例］ ｄ０＝80.00000 β ＝-1.25 ＮＡ＝0.10 ＷＤ＝111.44106 φEX＝84.875 ｒ ｄ n(G) n(H) n(440) n(400) 1) 0.00000 19.81691 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 2) 338.95682 24.87500 1.000000 3) -893.08361 22.44287 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 4) 0.00000 1.48395 1.000000 5) 1049.31469 29.71933 1.594224 1.600939 1.593458 1.602110 6) -351.43057 1.85913 1.000000 7) 727.61675 34.51696 1.594224 1.600939 1.593458 1.602110 8) -310.92210 1.55802 1.000000 9) 364.84716 25.83827 1.594224 1.600939 1.593458 1.602110 10) 0.00000 1.35080 1.000000 11) 185.71449 28.67838 1.594224 1.600939 1.593458 1.602110 12) 800.00000 22.09572 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 13) 107.67666 40.14700 1.000000 14) -500.00000 15.41703 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 15) 272.25300 23.33603 1.000000 16) -169.09740 18.26282 1.594224 1.600939 1.593458 1.602110 17) 143.47779 36.76231 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 18) -250.00000 1.68677 1.000000 19) 983.33488 23.00470 1.480884 1.483290 1.480605 1.483701 20) -312.98052 1.64933 1.000000 21) 312.98052 22.93516 1.480884 1.483290 1.480605 1.483701 22) -983.33488 3.52160 1.000000 23) 202.66348 24.03627 1.480884 1.483290 1.480605 1.483701 24) -722.79745 6.97513 1.000000 25) -653.07482 15.38953 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 26) 129.86355 62.90045 1.000000 27) 0.00000 15.02228 1.000000 28) -133.51933 14.18083 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 29) -401.91139 8.68610 1.000000 30) -294.58018 16.70832 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 31) -192.02766 1.72629 1.000000 32) 993.73123 23.12689 1.480884 1.483290 1.480605 1.483701 33) -247.40613 1.40680 1.000000 34) 407.75914 24.67504 1.480884 1.483290 1.480605 1.483701 35) -407.75914 1.40727 1.000000 36) 247.40613 23.13179 1.480884 1.483290 1.480605 1.483701 37) -993.73123 1.72306 1.000000 38) 222.88565 31.47297 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 39) -222.88565 17.90477 1.594224 1.600939 1.593458 1.602110 40) 140.97182 40.24244 1.000000 41) -399.97600 13.56265 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 42) 399.97600 61.31498 1.000000 43) -123.94475 16.21135 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 44) 0.00000 23.86349 1.594224 1.600939 1.593458 1.602110 45) -200.00000 16.03261 1.000000 46) -120.46228 30.91324 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 47) 0.00000 2.53170 1.000000 48) 0.00000 38.53972 1.594224 1.600939 1.593458 1.602110 49) -239.64548 1.62976 1.000000 50) 1500.00000 30.838351 1.594224 1.600939 1.593458 1.602110 51) -374.52736 1.835351 1.000000 52) 316.24749 34.751061 1.594224 1.600939 1.593458 1.602110 53) -1500.00000 1.425081 1.000000 54) 1500.00000 28.403021 1.594224 1.600939 1.593458 1.602110 55) 0.00000 14.93850 1.000000 56) -576.38311 24.19169 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 57) 0.00000 97.34315 1.000000 ［実施例１の条件対応数値］ （１）｜ｆ１／ｆ２｜＝1.17 （２）｜ｆ６／ｆ５｜＝2.15 （３）ｆ３／ｆ４＝2.37 （８）｜β｜＝1.25 （９）｜ｆ１／ｆ２｜＝1.17 （１０）｜ｆ６／ｆ５｜＝2.15 （１１）ｆ３／ｆ４＝2.37 （１２）（ｒ2Rf＋ｒ2Fr）／（ｒ2Rf−ｒ2Fr）＝0.22 （１３）（ｒ4Ff＋ｒ3Rr）／（ｒ4Ff−ｒ3Rr）＝0.01 （１４）（ｒ5Rf＋ｒ5Fr）／（ｒ5Rf−ｒ5Fr）＝-0.08 （１８）ＲG6／ＬG6＝1.57（第４４面） （１９）｜β｜＝1.25
【００７９】
【表２】［第２実施例］ ｄ０＝80.00470 β ＝-1.25 ＮＡ＝0.10 ＷＤ＝111.44106 φEX＝84.875 ｒ ｄ n(G) n(H) n(440) n(400) 1) -412.35352 19.26608 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 2) 430.98516 32.30568 1.000000 3) 2063.20000 29.98012 1.595782 1.602686 1.594990 1.603891 4) -312.99394 1.00000 1.000000 5) 942.97507 35.86780 1.595782 1.602686 1.594990 1.603891 6) -288.37844 1.00000 1.000000 7) 326.19268 28.90845 1.595782 1.602686 1.594990 1.603891 8) -2467.39000 1.00000 1.000000 9) 194.21009 26.42634 1.595782 1.602686 1.594990 1.603891 10) 525.46500 19.90635 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 11) 109.44448 32.81576 1.000000 12) -345.36693 16.10440 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 13) 384.45479 19.40948 1.000000 14) -218.85798 15.72642 1.595782 1.602686 1.594990 1.603891 15) 133.89658 39.65972 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 16) -300.37849 1.00000 1.000000 17) 626.96811 20.04867 1.480884 1.483290 1.480605 1.483701 18) -777.51216 1.00000 1.000000 19) 355.01973 25.86642 1.480884 1.483290 1.480605 1.483701 20) -381.38516 19.15024 1.000000 21) 214.44851 26.08293 1.480884 1.483290 1.480605 1.483701 22) -333.31970 5.58691 1.000000 23) -270.00842 15.00000 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 24) 127.33352 73.32331 1.000000 25) 0.00000 14.81846 1.000000 26) -126.70531 15.00000 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 27) -386.02171 6.58498 1.000000 28) -283.13415 16.69358 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 29) -191.77356 1.00000 1.000000 30) 1243.26000 25.59956 1.480884 1.483290 1.480605 1.483701 31) -187.34367 1.00000 1.000000 32) 485.36798 23.57629 1.480884 1.483290 1.480605 1.483701 33) -386.75322 1.00000 1.000000 34) 221.00682 23.73862 1.480884 1.483290 1.480605 1.483701 35) 44718.25000 1.00000 1.000000 36) 239.24400 30.90555 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 37) -236.09997 15.00000 1.595782 1.602686 1.594990 1.603891 38) 153.10746 68.78341 1.000000 39) -228.71098 15.00000 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 40) 400.00000 74.03416 1.000000 41) -111.26619 53.00319 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 42) 1996.47000 34.23470 1.595782 1.602686 1.594990 1.603891 43) -237.89553 1.00000 1.000000 44) 900.59956 34.227621 1.595782 1.602686 1.594990 1.603891 45) -354.01277 1.000001 1.000000 46) 300.00000 33.863591 1.595782 1.602686 1.594990 1.603891 47) -2879.01000 36.616001 1.000000 48) -506.96471 24.44737 1.603377 1.607780 1.602862 1.608531 49) -2357.58000 111.44106 1.000000 ［実施例２の条件対応数値］ （１）｜ｆ１／ｆ２｜＝1.06 （２）｜ｆ６／ｆ５｜＝2.03 （３）ｆ３／ｆ４＝3.00 （８）｜β｜＝1.25 （９）｜ｆ１／ｆ２｜＝1.06 （１０）｜ｆ６／ｆ５｜＝2.03 （１１）ｆ３／ｆ４＝3.00 （１２）（ｒ2Rf＋ｒ2Fr）／（ｒ2Rf−ｒ2Fr）＝0.33 （１３）（ｒ4Ff＋ｒ3Rr）／（ｒ4Ff−ｒ3Rr）＝-0.002 （１４）（ｒ5Rf＋ｒ5Fr）／（ｒ5Rf−ｒ5Fr）＝-0.16 （１８）ＲG6／ＬG6＝1.45（第４６面） （１９）｜β｜＝1.25 以上の各実施例の諸元の値より、第１および第２実施例
の投影光学系は、広い露光領域を確保しながら、第１物
体側（マスクＭ側）および第２物体側（プレートＰ側）
においてテレセントリックが達成されている事が理解で
きる。
の投影光学系は、広い露光領域を確保しながら、第１物
体側（マスクＭ側）および第２物体側（プレートＰ側）
においてテレセントリックが達成されている事が理解で
きる。
【００８０】また、図５および図６はそれぞれ本発明に
よる第１および第２実施例の投影光学系における諸収差
図を示している。ここで、各収差図において、ＮＡは投
影光学系の開口数、Ｙは像高、Ｇはｇ線（λ＝435.8n
m）、Ｈはｈ線（λ＝404.7nm）を示しており、また、各
非点収差図中において、点線は子午的像面（メリジオナ
ル像面）、実線は球欠的像面（サジタル像面）を示して
いる。
よる第１および第２実施例の投影光学系における諸収差
図を示している。ここで、各収差図において、ＮＡは投
影光学系の開口数、Ｙは像高、Ｇはｇ線（λ＝435.8n
m）、Ｈはｈ線（λ＝404.7nm）を示しており、また、各
非点収差図中において、点線は子午的像面（メリジオナ
ル像面）、実線は球欠的像面（サジタル像面）を示して
いる。
【００８１】各収差図の比較より、各実施例とも諸収差
がバランス良く補正され、特に極めて広い露光領域の全
てにおいて諸収差が良好に補正されており、かつｇ線お
よびｈ線についての色収差が良好になされていることが
理解される。これにより、各実施例の投影光学系を図１
または図２に示す投影露光装置に適用した場合には、ｇ
線からｈ線までの広い波長域ので露光光を用いて露光を
実現でき、露光時間の短縮化を達成することができる。
がバランス良く補正され、特に極めて広い露光領域の全
てにおいて諸収差が良好に補正されており、かつｇ線お
よびｈ線についての色収差が良好になされていることが
理解される。これにより、各実施例の投影光学系を図１
または図２に示す投影露光装置に適用した場合には、ｇ
線からｈ線までの広い波長域ので露光光を用いて露光を
実現でき、露光時間の短縮化を達成することができる。
【００８２】また、各実施例の投影光学系では、極めて
広い露光領域において良好な像を形成できるため、これ
ら各実施例の投影光学系を用いて露光を行えば、良好な
パターン像を広い範囲にわたって短時間で得ることがで
き、集積回路素子や液晶パネルなどのデバイス製造時の
スループットを向上させることができる。さて、上述の
第１および第２実施例では、投影光学系がβ＝１．２５
の拡大倍率を持つものとして説明したが、本発明は拡大
倍率を有するものには限定されない。これら第１および
第２実施例による投影光学系では、投影光学系における
第１物体側（マスクＭ側）と第２物体側（プレートＰ
側）とを逆転させた状態で使用して縮小倍率を得ること
もできる。
広い露光領域において良好な像を形成できるため、これ
ら各実施例の投影光学系を用いて露光を行えば、良好な
パターン像を広い範囲にわたって短時間で得ることがで
き、集積回路素子や液晶パネルなどのデバイス製造時の
スループットを向上させることができる。さて、上述の
第１および第２実施例では、投影光学系がβ＝１．２５
の拡大倍率を持つものとして説明したが、本発明は拡大
倍率を有するものには限定されない。これら第１および
第２実施例による投影光学系では、投影光学系における
第１物体側（マスクＭ側）と第２物体側（プレートＰ
側）とを逆転させた状態で使用して縮小倍率を得ること
もできる。
【００８３】このとき、各実施例の投影光学系を逆転し
たものの条件対応数値は以下の表３の通りである。な
お、この状態におけるレンズ構成図は、図３および図４
における左右が反転するだけであるので図示省略し、諸
収差図は、図５および図６の収差図のスケールを０．８
倍したものと実質的に同一であるため図示省略する。こ
のとき、図３および図４に示す第１レンズ群Ｇ１は第６
レンズ群、第２レンズ群Ｇ２は第５レンズ群、第３レン
ズ群Ｇ３は第４レンズ群、第４レンズ群Ｇ４は第３レン
ズ群、第５レンズ群Ｇ５は第２レンズ群、そして第６レ
ンズ群Ｇ６は第１レンズ群となる。
たものの条件対応数値は以下の表３の通りである。な
お、この状態におけるレンズ構成図は、図３および図４
における左右が反転するだけであるので図示省略し、諸
収差図は、図５および図６の収差図のスケールを０．８
倍したものと実質的に同一であるため図示省略する。こ
のとき、図３および図４に示す第１レンズ群Ｇ１は第６
レンズ群、第２レンズ群Ｇ２は第５レンズ群、第３レン
ズ群Ｇ３は第４レンズ群、第４レンズ群Ｇ４は第３レン
ズ群、第５レンズ群Ｇ５は第２レンズ群、そして第６レ
ンズ群Ｇ６は第１レンズ群となる。
【００８４】
【表３】 ［第１実施例の投影光学系を逆転させたものの条件対応数値］ （１）｜ｆ１／ｆ２｜＝2.15 （２）｜ｆ６／ｆ５｜＝1.17 （３）ｆ３／ｆ４＝0.42 （４）｜β｜＝0.8 （５）｜ｆ１／ｆ２｜＝2.15 （６）｜ｆ６／ｆ５｜＝1.17 （７）ｆ３／ｆ４＝0.42 （１２）（ｒ2Rf＋ｒ2Fr）／（ｒ2Rf−ｒ2Fr）＝0.08 （１３）（ｒ4Ff＋ｒ3Rr）／（ｒ4Ff−ｒ3Rr）＝-0.01 （１４）（ｒ5Rf＋ｒ5Fr）／（ｒ5Rf−ｒ5Fr）＝-0.22 （１９）｜β｜＝0.8 ［第２実施例の投影光学系を逆転させたものの条件対応数値］ （１）｜ｆ１／ｆ２｜＝2.03 （２）｜ｆ６／ｆ５｜＝1.06 （３）ｆ３／ｆ４＝0.33 （４）｜β｜＝0.8 （５）｜ｆ１／ｆ２｜＝2.03 （６）｜ｆ６／ｆ５｜＝1.06 （７）ｆ３／ｆ４＝0.33 （１２）（ｒ2Rf＋ｒ2Fr）／（ｒ2Rf−ｒ2Fr）＝0.16 （１３）（ｒ4Ff＋ｒ3Rr）／（ｒ4Ff−ｒ3Rr）＝0.002 （１４）（ｒ5Rf＋ｒ5Fr）／（ｒ5Rf−ｒ5Fr）＝-0.33 （１９）｜β｜＝0.8 なお、以上の各実施例では、光源としてｇ線からｈ線ま
での光を供給するものを用いた例を示したがこれに限る
ことなく、193nm,248.8nm の光を供給するエキシマレー
ザ等の極紫外光源や、ｉ線（365nm)の光を供給する水銀
アークランプ、さらにはそれ以外の紫外領域の光を供給
する光源を用いたものにも応用し得ることは言うまでも
ない。
での光を供給するものを用いた例を示したがこれに限る
ことなく、193nm,248.8nm の光を供給するエキシマレー
ザ等の極紫外光源や、ｉ線（365nm)の光を供給する水銀
アークランプ、さらにはそれ以外の紫外領域の光を供給
する光源を用いたものにも応用し得ることは言うまでも
ない。
【００８５】また、各実施例では、投影光学系に複数の
接合レンズ成分が含まれているが、レンズ成分を接合す
る代わりに、光学密着（オプチカル・コンタクト）で接
合レンズ成分を構成しても良い。また、接合レンズ成分
を構成する複数のレンズ成分を微少な間隔を開けて配置
して、接合レンズ成分と等価に構成しても良い。
接合レンズ成分が含まれているが、レンズ成分を接合す
る代わりに、光学密着（オプチカル・コンタクト）で接
合レンズ成分を構成しても良い。また、接合レンズ成分
を構成する複数のレンズ成分を微少な間隔を開けて配置
して、接合レンズ成分と等価に構成しても良い。
【００８６】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、両側テレ
セントリックでありながら、広い露光領域にわたって諸
収差を極めて良好に補正し得る高性能な投影光学系が実
現できる。また、本発明の好ましい態様によれば、極め
て広い露光領域において、広いスペクトル幅について良
好に色収差補正がなされた投影光学系実現できる。
セントリックでありながら、広い露光領域にわたって諸
収差を極めて良好に補正し得る高性能な投影光学系が実
現できる。また、本発明の好ましい態様によれば、極め
て広い露光領域において、広いスペクトル幅について良
好に色収差補正がなされた投影光学系実現できる。
【図１】本発明にかかる投影光学系を一括露光型の投影
露光装置に適用した例を概略的に示す斜視図である。
露光装置に適用した例を概略的に示す斜視図である。
【図２】本発明にかかる投影光学系を走査露光型の投影
露光装置に適用した例を概略的に示す斜視図である。
露光装置に適用した例を概略的に示す斜視図である。
【図３】第１実施例の投影光学系のレンズ構成図であ
る。
る。
【図４】第２実施例の投影光学系のレンズ構成図であ
る。
る。
【図５】第１実施例の投影光学系の諸収差図である。
【図６】第２実施例の投影光学系の諸収差図である。
Ｇ１：第１レンズ群、 Ｇ２：第２レンズ群、 Ｇ３：第３レンズ群、 Ｇ４：第４レンズ群、 Ｇ５：第５レンズ群、 Ｇ６：第６レンズ群、 ＡＳ：開口絞り、
Claims (21)
- 【請求項１】第１物体の像を第２物体上に投影するため
の投影光学系において、 前記第１物体側から順に、 正の屈折力を有する第１レンズ群と、 負の屈折力を有し、互いに向き合った凹面の組を形成す
る一対の負レンズ成分を持つ第２レンズ群と、 正の屈折力を有し、最も前記第２物体側に配置されて前
記第２物体側に凹面を向けたレンズ成分を持つ第３レン
ズ群と、 開口絞りと、 正の屈折力を有し、最も前記第１物体側に配置されて前
記第１物体側に凹面を向けたレンズ成分を持つ第４レン
ズ群と、 負の屈折力を有し、互いに向き合った凹面の組を形成す
る一対の負レンズ成分を持つ第５レンズ群と、 正の屈折力を持つ第６レンズ群とを有することを特徴と
する投影光学系。 - 【請求項２】以下の条件を満足することを特徴とする請
求項１記載の投影光学系。 （１） ０．５＜｜ｆ１／ｆ２｜＜３．０ （２） ０．５＜｜ｆ６／ｆ５｜＜３．０ （３） ０．２５＜ ｆ３／ｆ４ ＜４．０ 但し、 ｆ１：前記第１レンズ群の焦点距離、 ｆ２：前記第２レンズ群の焦点距離、 ｆ３：前記第３レンズ群の焦点距離、 ｆ４：前記第４レンズ群の焦点距離、 ｆ５：前記第５レンズ群の焦点距離、 ｆ６：前記第６レンズ群の焦点距離、である。 - 【請求項３】以下の条件を満足することを特徴とする請
求項１記載の投影光学系。 （４） ０．５≦｜β｜≦１．１ （５） １．０＜｜ｆ１／ｆ２｜＜３．０ （６） ０．５＜｜ｆ６／ｆ５｜＜２．０ （７） ０．２５＜ ｆ３／ｆ４ ＜２．０ 但し、 β ：前記投影光学系の横倍率、 ｆ１：前記第１レンズ群の焦点距離、 ｆ２：前記第２レンズ群の焦点距離、 ｆ３：前記第３レンズ群の焦点距離、 ｆ４：前記第４レンズ群の焦点距離、 ｆ５：前記第５レンズ群の焦点距離、 ｆ６：前記第６レンズ群の焦点距離、である。 - 【請求項４】以下の条件を満足することを特徴とする請
求項１記載の投影光学系。 （８） １．１＜｜β｜≦２．０ （９） ０．５＜｜ｆ１／ｆ２｜＜２．０ （１０） １．０＜｜ｆ６／ｆ５｜＜３．０ （１１） １．０＜ ｆ３／ｆ４ ＜４．０ 但し、 β ：前記投影光学系の横倍率、 ｆ１：前記第１レンズ群の焦点距離、 ｆ２：前記第２レンズ群の焦点距離、 ｆ３：前記第３レンズ群の焦点距離、 ｆ４：前記第４レンズ群の焦点距離、 ｆ５：前記第５レンズ群の焦点距離、 ｆ６：前記第６レンズ群の焦点距離、である。 - 【請求項５】前記第１レンズ群は、前記第２物体側に凹
面を向けた形状の負レンズ成分を含み、前記第６レンズ
群は、前記第１物体側に凹面を向けた形状の負レンズ成
分を含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一
項記載の投影光学系。 - 【請求項６】以下の条件を満足することを特徴とする請
求項１乃至５のいずれか一項記載の投影光学系。 （１２） （ｒ2Rf＋ｒ2Fr）／（ｒ2Rf−ｒ2Fr） ＞０．０ （１３） −０．１＜（ｒ4Ff＋ｒ3Rr）／（ｒ4Ff−ｒ3Rr） ＜０．１ （１４） （ｒ5Rf＋ｒ5Fr）／（ｒ5Rf−ｒ5Fr） ＜０．０ 但し、 ｒ2Rf：前記第２レンズ群中の一対の負レンズ成分のう
ち前記第１物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ2Fr：前記第２レンズ群中の一対の負レンズ成分のう
ち前記第２物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ3Ff：前記第３レンズ群中の最も開口絞り側に配置さ
れた負レンズ成分の第２物体側に向けられた凹面の曲率
半径、 ｒ4Rr：前記第４レンズ群中の最も開口絞り側に配置さ
れた負レンズ成分の第１物体側に向けられた凹面の曲率
半径、 ｒ5Fr：前記第５レンズ群中の一対の負レンズ成分のう
ち前記第２物体側に向けられた凹面の曲率半径、 ｒ 5Rf：前記第５レンズ群中の一対の負レンズ成分の
うち前記第１物体側に向けられた凹面の曲率半径、であ
る。 - 【請求項７】前記第３レンズ群中の最も前記第２物体側
に配置されて前記第２物体側に凹面を向けたレンズ成分
は負レンズ成分であり、 前記第４レンズ群中の最も前記第１物体側に配置されて
前記第１物体側に凹面を向けたレンズ成分は負レンズ成
分であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一
項記載の投影光学系。 - 【請求項８】前記第１レンズ群は、前記第１物体側から
順に、負屈折力を持つ負サブレンズ群と、正屈折力を持
つ正サブレンズ群とを有し、 前記第６レンズ群は、前記第１物体側から順に、正屈折
力を持つ正サブレンズ群と、負屈折力を持つ負サブレン
ズ群とを有し、 前記第１レンズ群中の負サブレンズ群は、前記第２物体
側に凹面を向けた負レンズ成分を有し、 前記第６レンズ群中の負サブレンズ群は、前記第１物体
側に凹面を向けた負レンズ成分を有することを特徴とす
る請求項１乃至７のいずれか一項記載の投影光学系。 - 【請求項９】前記第３レンズ群中の正レンズ成分のうち
の少なくとも２枚の正レンズ成分は第１の硝材で構成さ
れ、 前記第４レンズ群中の正レンズ成分のうちの少なくとも
２枚の正レンズ成分は第１の硝材で構成され、 以下の条件を満足することを特徴とする請求項１乃至８
のいずれか一項記載の投影光学系。 （１５） νｔ＞１２０ 但し、 νｔ：前記第１の硝材の分散値、であり、該分散値は、 波長λに対する屈折率をｎ（λ）とするとき、 ν＝｛ｎ(436)−１｝／｛ｎ(400)−ｎ(440)｝ で定義される。 - 【請求項１０】前記第３レンズ群中の最も第２物体側に
配置されたレンズ成分は第２の硝材で構成され、 前記第４レンズ群中の最も第１物体側に配置されたレン
ズ成分は第２の硝材で構成され、 以下の条件を満足することを特徴とする請求項９記載の
投影光学系。 （１６） νｃ＜１１０ 但し、 νｃ：前記第２の硝材の分散値、である。 - 【請求項１１】前記第２レンズ群中の前記一対の負レン
ズ成分のうちの少なくとも一方の負レンズ成分に隣接し
て配置される正レンズ成分と、 前記第５レンズ群中の前記一対の負レンズ成分のうちの
少なくとも一方の負レンズ成分に隣接して配置される正
レンズ成分とをさらに有し、 前記第２レンズ群中の前記少なくとも一方の負レンズ成
分と前記第２レンズ群中の前記正レンズ成分とは全体と
してメニスカス形状であり、 前記第５レンズ群中の少なくとも一方の負レンズ成分と
前記第５レンズ群中の正レンズ成分とは全体としてメニ
スカス形状であることを特徴とする請求項８乃至１０の
いずれか一項記載の投影光学系。 - 【請求項１２】前記第２レンズ群中における全体として
メニスカス形状を形成する負レンズ成分と正レンズ成分
とのうち、前記負レンズ成分は前記第３の硝材で構成さ
れ、前記正レンズ成分は前記第２の硝材で構成され、 前記第５レンズ群中における全体としてメニスカス形状
を形成する負レンズ成分と正レンズ成分とのうち、前記
負レンズ成分は前記第３の硝材で構成され、前記正レン
ズ成分は前記第２の硝材で構成され、 以下の条件を満足することを特徴とする請求項１１記載
の投影光学系。 （１６） νｃ＜１１０ （１７） νｆ＜７５ 但し、 νｃ：前記第２の硝材の分散値、 νｆ：前記第３の硝材の分散値、である - 【請求項１３】前記第１レンズ群中の前記正サブレンズ
群のうちの少なくとも１枚の正レンズ成分は第３の硝材
で構成され、 前記第１レンズ群中の前記負サブレンズ群のうちの少な
くとも１枚の負レンズ成分は第２の硝材で構成され、 前記第６レンズ群中の前記正サブレンズ群のうちの少な
くとも１枚の正レンズ成分は第３の硝材で構成され、 前記第６レンズ群中の前記負サブレンズ群のうちの少な
くとも１枚の負レンズ成分は第２の硝材で構成され、 以下の条件を満足することを特徴とする請求項８乃至１
２のいずれか一項記載の投影光学系。 （１６） νｃ＜１１０ （１７） νｆ＜７５ 但し、 νｃ：前記第２の硝材の分散値、 νｆ：前記第３の硝材の分散値、である - 【請求項１４】前記第２レンズ群中の前記一対の負レン
ズ成分の間には、負レンズ成分が配置され、 前記第５レンズ群中の前記一対の負レンズ成分の間に
は、負レンズ成分が配置されることを特徴とする請求項
１１乃至１３のいずれか一項記載の投影光学系。 - 【請求項１５】前記第２レンズ群中の負レンズ成分のう
ち前記第３の硝材で構成される前記負レンズとは異なる
負レンズ成分は前記第２の硝材で構成され、 前記第５レンズ群中の負レンズ成分のうち前記第３の硝
材で構成される前記負レンズとは異なる負レンズ成分は
前記第２の硝材で構成されることを特徴とする請求項１
２記載の投影光学系。 - 【請求項１６】前記第２レンズ群中における全体として
メニスカス形状の負レンズ成分と正レンズ成分とは、前
記第１物体側に凹面を向けて配置され、 前記第５レンズ群中における全体としてメニスカス形状
の負レンズ成分と正レンズ成分とは、前記第２物体側に
凹面を向けて配置されることを特徴とする請求項９乃至
１５のいずれか一項記載の投影光学系。 - 【請求項１７】前記第６レンズ群中の正サブレンズ群
は、以下の条件を満足するレンズ面を有することを特徴
とする請求項８乃至１６のいずれか一項記載の投影光学
系。 （１８） ＲG6／ＤG6＜２ 但し、 ＲG6：前記第６レンズ群を構成する正レンズ成分のレン
ズ面のうち前記第２物体側に凹面を向けたレンズ面の曲
率半径、 ＤG6：前記レンズ面と前記第２物体との距離、である。 - 【請求項１８】前記投影光学系の投影倍率βは以下の条
件を満足することを特徴とする請求項１、２および５乃
至１７のいずれか一項記載の投影光学系。 （１９） ０．５≦｜β｜≦２．０ - 【請求項１９】前記第１物体を照明する照明光学系と、 前記第１物体を支持する第１支持部材と、 請求項１乃至１８のいずれか一項記載の投影光学系と、 前記第２物体を支持する第２支持部材とを備えることを
特徴とする投影露光装置。 - 【請求項２０】前記投影光学系の投影倍率βが１．２５
であることを特徴とする請求項１９記載の投影露光装
置。 - 【請求項２１】所定の回路パターンが描かれたマスクを
紫外域の露光光で照明する工程と、 請求項１乃至１８のいずれか一項記載の投影光学系を用
いて前記照明されたマスクの像を基板上に形成する工程
とを含むデバイス製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20989296A JP3864399B2 (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法 |
| KR1019970034760A KR19980018207A (ko) | 1996-08-08 | 1997-07-24 | 투영 노광 장치 및 그 투영 노광 장치에 사용되는 투영 광하계 및 디바이스 제조 방법 |
| US08/908,662 US5903400A (en) | 1996-08-08 | 1997-08-07 | Projection-optical system for use in a projection-exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20989296A JP3864399B2 (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1054936A true JPH1054936A (ja) | 1998-02-24 |
| JP3864399B2 JP3864399B2 (ja) | 2006-12-27 |
Family
ID=16580383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20989296A Expired - Fee Related JP3864399B2 (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5903400A (ja) |
| JP (1) | JP3864399B2 (ja) |
| KR (1) | KR19980018207A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013054286A (ja) * | 2011-09-06 | 2013-03-21 | Lithotech Co Ltd | 投影光学系 |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3925576B2 (ja) | 1997-07-24 | 2007-06-06 | 株式会社ニコン | 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法 |
| JPH1195095A (ja) | 1997-09-22 | 1999-04-09 | Nikon Corp | 投影光学系 |
| JPH11214293A (ja) | 1998-01-22 | 1999-08-06 | Nikon Corp | 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法 |
| US6700645B1 (en) | 1998-01-22 | 2004-03-02 | Nikon Corporation | Projection optical system and exposure apparatus and method |
| US6600550B1 (en) * | 1999-06-03 | 2003-07-29 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, a photolithography method, and a device manufactured by the same |
| US6710930B2 (en) | 1999-12-01 | 2004-03-23 | Nikon Corporation | Illumination optical system and method of making exposure apparatus |
| US6815129B1 (en) * | 2000-09-26 | 2004-11-09 | Euv Llc | Compensation of flare-induced CD changes EUVL |
| JP2002244034A (ja) | 2001-02-21 | 2002-08-28 | Nikon Corp | 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置 |
| JP2002323652A (ja) | 2001-02-23 | 2002-11-08 | Nikon Corp | 投影光学系，該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法 |
| JP4228130B2 (ja) * | 2001-11-05 | 2009-02-25 | 株式会社ニコン | 投影光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
| US8208198B2 (en) | 2004-01-14 | 2012-06-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
| US20080151364A1 (en) | 2004-01-14 | 2008-06-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective |
| KR20170129271A (ko) | 2004-05-17 | 2017-11-24 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈 |
| DE102005024290A1 (de) * | 2005-05-27 | 2006-11-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildungssystem, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
| US8654307B2 (en) * | 2006-03-20 | 2014-02-18 | Nikon Corporation | Scanning type exposure apparatus, method of manufacturing micro-apparatus, mask, projection optical apparatus, and method of manufacturing mask |
| JP4952182B2 (ja) | 2006-03-20 | 2012-06-13 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置、マイクロデバイスの製造方法、走査露光方法、及びマスク |
| TWI330719B (en) * | 2006-05-05 | 2010-09-21 | Zeiss Carl Smt Ag | Optical lens system |
| CN100547448C (zh) * | 2007-11-21 | 2009-10-07 | 上海微电子装备有限公司 | 一种投影光学系统及投影曝光装置 |
| TW201113553A (en) * | 2009-10-13 | 2011-04-16 | Young Optics Inc | Fixed-focus lens |
| CN109856915B (zh) * | 2017-11-30 | 2020-07-14 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 光刻投影物镜、边缘曝光系统和边缘曝光装置 |
| CN110068910B (zh) * | 2018-01-24 | 2021-08-13 | 信泰光学(深圳)有限公司 | 镜头组 |
| CN109656092B (zh) * | 2019-01-07 | 2024-04-12 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 一种紫外中继分幅光学系统以及紫外分幅相机 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3504961A (en) * | 1968-04-01 | 1970-04-07 | Perkin Elmer Corp | Modified double gauss objective |
| US3897138A (en) * | 1971-11-24 | 1975-07-29 | Canon Kk | Projection lens for mask pattern printing |
| JPS5336326B2 (ja) * | 1972-12-26 | 1978-10-02 | ||
| JPS581763B2 (ja) * | 1978-06-19 | 1983-01-12 | 旭光学工業株式会社 | 回折限界の解像力を有する等倍複写用レンズ |
| JPS58147708A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-02 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 照明用光学装置 |
| US4666273A (en) * | 1983-10-05 | 1987-05-19 | Nippon Kogaku K. K. | Automatic magnification correcting system in a projection optical apparatus |
| GB2153543B (en) * | 1983-12-28 | 1988-09-01 | Canon Kk | A projection exposure apparatus |
| US4811055A (en) * | 1984-02-27 | 1989-03-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus |
| US4772107A (en) * | 1986-11-05 | 1988-09-20 | The Perkin-Elmer Corporation | Wide angle lens with improved flat field characteristics |
| JPH0812329B2 (ja) * | 1986-11-06 | 1996-02-07 | 株式会社シグマ | 投影レンズ |
| US4770477A (en) * | 1986-12-04 | 1988-09-13 | The Perkin-Elmer Corporation | Lens usable in the ultraviolet |
| US4918583A (en) * | 1988-04-25 | 1990-04-17 | Nikon Corporation | Illuminating optical device |
| US5105075A (en) * | 1988-09-19 | 1992-04-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus |
| JP3041939B2 (ja) * | 1990-10-22 | 2000-05-15 | 株式会社ニコン | 投影レンズ系 |
| JP3353902B2 (ja) * | 1990-12-12 | 2002-12-09 | オリンパス光学工業株式会社 | 投影レンズ系 |
| US5172275A (en) * | 1990-12-14 | 1992-12-15 | Eastman Kodak Company | Apochromatic relay lens systems suitable for use in a high definition telecine apparatus |
| JPH04369209A (ja) * | 1991-06-17 | 1992-12-22 | Nikon Corp | 露光用照明装置 |
| JP3298131B2 (ja) * | 1991-10-24 | 2002-07-02 | 株式会社ニコン | 縮小投影レンズ |
| JPH06313845A (ja) * | 1993-04-28 | 1994-11-08 | Olympus Optical Co Ltd | 投影レンズ系 |
| JP3360387B2 (ja) * | 1993-11-15 | 2002-12-24 | 株式会社ニコン | 投影光学系及び投影露光装置 |
| JP3396935B2 (ja) * | 1993-11-15 | 2003-04-14 | 株式会社ニコン | 投影光学系及び投影露光装置 |
| US5696631A (en) * | 1996-02-22 | 1997-12-09 | Anvik Corporation | Unit magnification projection lens system |
-
1996
- 1996-08-08 JP JP20989296A patent/JP3864399B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-07-24 KR KR1019970034760A patent/KR19980018207A/ko not_active Application Discontinuation
- 1997-08-07 US US08/908,662 patent/US5903400A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013054286A (ja) * | 2011-09-06 | 2013-03-21 | Lithotech Co Ltd | 投影光学系 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5903400A (en) | 1999-05-11 |
| JP3864399B2 (ja) | 2006-12-27 |
| KR19980018207A (ko) | 1998-06-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3864399B2 (ja) | 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法 | |
| JP3500745B2 (ja) | 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法 | |
| JP3819048B2 (ja) | 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びに露光方法 | |
| KR100387003B1 (ko) | 투영광학시스템,투영노광장치,노광방법,및노광장치제조방법 | |
| JP3454390B2 (ja) | 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法 | |
| JP3396935B2 (ja) | 投影光学系及び投影露光装置 | |
| JP3750123B2 (ja) | 投影光学系 | |
| JPH09105861A (ja) | 投影光学系 | |
| JP3757536B2 (ja) | 投影光学系及びそれを備えた露光装置並びにデバイス製造方法 | |
| KR100573913B1 (ko) | 투영광학계및노광장치 | |
| US5808814A (en) | Short wavelength projection optical system | |
| US6879383B2 (en) | Large-field unit-magnification projection system | |
| JPH11214293A (ja) | 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法 | |
| JP3925576B2 (ja) | 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法 | |
| JPH07140384A (ja) | 投影光学系及び投影露光装置 | |
| KR20000034929A (ko) | 투사 대물렌즈 | |
| JP4779394B2 (ja) | 投影光学系、露光装置、および露光方法 | |
| JP3359302B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| WO2002014924A1 (fr) | Systeme optique d'image a relais et dispositif optique d'eclairage, et systeme d'exposition dote de ce systeme optique | |
| JP2000199850A (ja) | 投影光学系及び投影露光装置並びにデバイスの製造方法 | |
| JP2000231058A (ja) | 投影光学系及び該投影光学系を備えた投影露光装置並びにデバイス製造方法 | |
| JP3423644B2 (ja) | 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JP2004219501A (ja) | 投影光学系、露光装置、および露光方法 | |
| JP3376318B2 (ja) | 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JP2002365538A (ja) | 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050221 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060306 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060426 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060606 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060720 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060911 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060924 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121013 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121013 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151013 Year of fee payment: 9 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151013 Year of fee payment: 9 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151013 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |