KR19980018207A - 투영 노광 장치 및 그 투영 노광 장치에 사용되는 투영 광하계 및 디바이스 제조 방법 - Google Patents

투영 노광 장치 및 그 투영 노광 장치에 사용되는 투영 광하계 및 디바이스 제조 방법 Download PDF

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KR19980018207A
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Abstract

본 발명은 양측 텔레 센트릭이면서, 넓은 노광 영역에 걸쳐 모든 수차를 매우 양호하게 보정할 수 있는 고성능 투영 광하계를 제공하는 것이다.
제 1 물체 M의 상(像)을 제 2 물체 P상(上)에 투영하는 투영 광하계는, 제 1 물체측에서 차례로, 양의 굴절력을 가지는 제 1 렌즈군 G1과, 음의 굴절력을 가지고, 서로 마주 향한 오목면의 조합을 형성하는 한쌍의 음의 렌즈 성분을 가지는 제 2 렌즈군 G2와, 양의 굴절력을 가지고 가장 제 2 물체측에 배치되며 제 2 물체측으로 오목면을 향한 렌즈 성분을 가지는 제 3 렌즈군 G3과, 개구 조리개 AS와, 양의 굴절력을 가지고 가장 제 1 물체측에 배치되며 제 1 물체측으로 오목면을 가지고 서로 마주한 오목면의 조를 형성하는 한쌍의 음의 렌즈 성분을 가지는 제 5 렌즈군 G5와, 양의 굴절력을 가지는 제 6 렌즈군으로 이루어진다.

Description

투영 노광 장치 및 그 투영 노광 장치에 사용되는 투영 광학계 및 디바이스 제조 방법
본 발명은, 제 1 물체의 패턴을 제 2 물체인 기판 등에 투영하기 위한 투영 광학계에 관한 것이며, 특히, 제 1 물체로서의 레티클(마스크)상에 형성된 반도체용 또는 액정용의 패턴을 제 2 물체로서의 기판(웨이퍼, 플레이트등)상에 투영 노광하는데 가장 적합한 투영 광학계에 관한 것이다.
집적 회로 패턴의 미세화가 진전됨에 따라서, 웨이퍼의 베이킹(Baking)에 이용되는 투영 광학계에 대해 요구되는 성능도 점점 까다로워 지고 있다. 이같은 상황에서, 투영 광학계의 해상력을 향상하기 위해서는, 노광 파장 λ를 보다 짧게 하거나 투영 광학계의 개구수(NA)를 크게 하는 방법을 생각할 수 있다.
이와 같은 투영 노광 장치에서는, g선(436nm)부터 I선(365nm)까지의 노광광을 공급하는 광원을 이용하여 노광이 이루어진다.
투영 광학계에 있어서 해상력의 향상과 함께 요구되는 것을 상왜곡을 줄이는 것이다. 여기에서, 상왜곡이란, 투영 광학계에 기인하는 디스토션(왜곡 수차)에 의한 것외에, 투영 광하계의 상측에서 베이킹된 웨이퍼의 휨등에 의한 것과, 투영 광학계의 물체측에서 회로 패턴등이 그려진 레티클의 휨 등에 의한 것이 있다.
최근 점차 전사 패턴의 미세화가 추진되면서, 상왜곡의 감소가 한층 엄격하게 요구되고 있다.
그리고, 웨이퍼의 휨 등에 의한 상왜곡으로의 영향을 줄이기 위해서는, 투영광학계의 상측에서의 사출 동공위치(瞳位置)를 멀게 위치시키는 소위, 상측 텔레센트릭 광학계가 종래 보다 빈번하게 이용되어 지고 있다.
한편, 레티클의 휨에 의한 상왜곡의 경감에 대해서는, 투영 광학계의 입사 동공위치를 물체면으로 부터 멀게 위치시키는, 소위, 물체측 텔레 센트릭 광학계로 형성하는 것이 고안되었고, 또한, 그와 같이 투영 광학계의 입사 동공위치를 물체면에서 비교적 멀리 위치시킨 것이 제안되었다.
최근, 투영 광학계에 있어서는, 해상력의 향상은 물론, 넓은 노광 영역이 요구되고 있다.
따라서, 본 발명은, 양측 텔레센트릭이면서, 넓은 노광 영역에 걸쳐 모든 수차를 매우 양호하게 보정할 수 있는 고성능 투영 광하계를 제공하는 것을 하나의 목적으로 한다.
또한, 단파장의 노광광을 이용하는 투영 노광 장치에서는 자외선 흡수에 의한 형광 방사와 솔러리제이션(반전현상, solarization)을 일으키기 어렵고, 자외역에서의 투과율이 높은 초석재(石材)의 사용이 요구되나, 사용할 수 있는 초석재의 자유도가 적어지고, 이들 초석재의 굴절율이 낮으므로 인해 수차 보정을 실시하는 것이 곤란하다.
이 문제점을 해결하기 위한 종래의 노광 장치에서는, 광원으로 부터의 광을 파장 선택 필터를 통과시켜 색수차를 실질적으로 무시할 수 있는 정도의 좁은 스택트럼폭으로 한정하고, 색수차 보정을 위한 설계상의 제약을 경감시켜, 다른 각종 수차을 양호하게 보정할 수 있다.
그러나, 노광광의 스팩트럼 폭을 좁힐수록 에너지 손실이 커지고, 노광 시간의 단축화를 도모하는 것이 곤란했다.
그래서 비교적 넓은 노광 영역에 있어서, 넓은 스팩트럼 폭에 대해 색이 소거된 투영 광학계를 제공하는 것을 다른 목적으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 하나의 형태에 따른 투영 광학계는 제 1 물체의 상을 제 2 물체상에 투영하는 것으로서,
제 1 물체측으로부터 순서대로,
양의 굴절력을 가지는 제 1 렌즈군과,
음의 굴절력을 가지고, 서로 마주 향한 오목면의 조합을 형성하는 한쌍의 음렌즈 성분을 가지는 제 2 렌즈군과,
양이 굴절력을 가지고, 가장 제 2 물체측에 배치되며, 제 2 물체측으로 오목면을 향한 렌즈 성분을 가지는 제 3 렌즈군과,
개구 조리개와,
양의 굴절력을 가지고, 가장 제 1 물체측에 배치되며, 제 1 물체측으로 오목면을 향한 렌즈 성분을 가지는 제 4 렌즈군과,
음의 굴절력을 가지고, 서로 마주 향한 오목면의 조합을 형성하는 한쌍의 음의 성분을 가지는 제 5 렌즈군과,
양의 굴절력을 가지는 제 6 렌즈군을 구비하도록 구성된다.
본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 이하의 조건을 만족하도록 구성된다.
(1) 0.5 | f1 / f2 | 3.0
(2) 0.5 | f6 / f5 | 3.0
(3) 0.25 f3 / f4 4.0
단,
f1 : 제 1 렌즈군의 초점 거리
f2 : 제 2 렌즈군의 초점 거리
f3 : 제 3 렌즈군의 초점 거리
f4 : 제 4 렌즈군의 초점 거리
f5 : 제 5 렌즈군의 초점 거리
f6 : 제 6 렌즈군의 초점 거리
이다.
또한 본 발명의 또 다른 바람직한 실시 형태에 따르면, 이하의 조건을 만족하도록 구성되어 있다.
(4) 0.5 ≤ | β | ≤ 1.1
(5) 1.0. | f1 / f2 | 3.0
(6) 0.5 | f6 / f5 | 2.0
(7) 0.25 f3 / f4 2.0
단,
β : 상기 투영 광학계의 횡배율,
f1 : 상기 제 1 렌즈군의 초점 거리
f2 : 상기 제 2 렌즈군의 초점 거리
f3 : 상기 제 3 렌즈군의 초점 거리
f4 : 상기 제 4 렌즈군의 초점 거리
f5 : 상기 제 5 렌즈군의 초점 거리
f6 : 상기 제 6 렌즈군의 초점 거리
이다.
(8) 1.1 | β | ≤ 2.0
(9) 0.5 | f1 / f2 | 2.0
(10) 1.0 | f6 / f5 | 3.0
(11) 1.0 f3 / f4 4.0
단,
f1 : 상기 제 1 렌즈군의 초점 거리
f2 : 상기 제 2 렌즈군의 초점 거리
f3 : 상기 제 3 렌즈군의 초점 거리
f4 : 상기 제 4 렌즈군의 초점 거리
f5 : 상기 제 5 렌즈군의 초점 거리
f6 : 상기 제 6 렌즈군의 초점 거리
이다.
또한, 본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 이하의 조건을 만족하도록 구성된다.
(12) (r2Rf + r2Fr) / (r2Rf-r2Fr) 0.0
(13) -0.1 (r4Ff+r3Rr) / (r4Ff-r3Rr) 0.1
(14) (r5Rf + r5Fr) / (r5Rf-r5Fr) 0.0
단,
r2Rf : 제 2 렌즈군의 한쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 1 물체측으로 향한 오목면의 곡률 반경,
r2Fr : 제 2 레즈군의 한쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 2 물체측으로 향한 오목면의 곡률 반경,
r3Ff : 제 3 렌즈군 중에서 가장 개구 조리개측에 배치된 음 렌즈 성분의 제 2 물체측으로 향한 오목면의 곡률 변경,
r4Rr : 제 4 렌즈군 중에서 가장 개구 조리개측에 배치된 음의 렌즈 성분의 제 1 물체측을 향한 오목면의 곡률 반경,
r5Fr : 제 5 렌즈군의 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 2 물체측을 향한 오목면의 곡률 반경,
r5Rf : 제 5 렌즈군의 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 1 물체측에 향한 오목면의 곡률 반경이다.
또한, 상술한 바와 같이, 다른 목적을 달성하기 위해, 제 3 렌즈군 중의 양의 렌즈 성분 중 적어도 2매의 양의 렌즈 성분은 제 1 초석재로 구성되고, 제 4 렌즈군 중의 양 렌즈 성분 중 적어도 2 매의 정 렌즈 성분은 제 1 초석재로 구성되고, 이하의 조건을 만족하는 것이 바람직하다.
(15) ν t 120
단,
νt : 제 1의 초석재의 분산치,
이며 이 분산치는,
파장 λ에 대한 굴절율을 n(λ)으로 했을 경우,
ν = { n(436) - 1 } / { n(400) - n(440) }
으로 정의된다.
도 1은 본 발명에 의한 투영 광학계를 일괄 노광형의 투영 노광 장치에 적용한 예를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 투영 광하계를 주사 노광형의 투영 노광 장치에 적용한 예를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 3은 제 1 실시예에 의한 투영 광학계의 렌즈 구성도이다.
도 4는 제 2 실시예에 의한 투영 광학계의 렌즈 구성도이다.
도 5는 제 1 실시예에 의한 투영 광학계의 각종 수차도이다.
도 6은 제 2 실시예에 의한 투영 광하계의 각종 수차도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
G1: 제1렌즈군G2 : 제2렌즈군
G3: 제3렌즈군G4 : 제4렌즈군
G5: 제5렌즈군G6 : 제6렌즈군
AS: 개구 조리개
전술한 구성과 같은 본 발명의 하나의 형태의 투영 광학계에서는, 양·음·양·개구 조리개·양·음·양의 굴절력 배치를 적용하여, 개구 조리개에 관해서 최대한 대칭성을 가지도록 구성하므로서, 비대칭 수차, 특히 코마 수차, 왜곡 수차를 매우 양호하게 보정할 수 있다.
다음으로, 이와 같은 투영 광학계의 각 렌즈군의 기능에 대해 설명한다.
우선, 양의 굴절력을 가지는 제 1 렌즈군은, 제 1 물체측의 텔레센트릭성을 유지시키면서 주로 왜곡 수차의 보정에 기여한다. 또한, 양의 굴절력을 가지는 제 6 렌즈군도, 제 2 물체측의 텔레센트릭성을 유지하면서 주로 왜곡 수차의 보정에 기여한다. 구체적으로는, 이들 제 1 및 제 6 렌즈군은, 양의 왜곡 수차를 발생시켜, 제 2 ∼ 제 5 렌즈군에서 발생되는 음의 왜곡 수차를 균형있게 보정한다.
음의 굴절력을 가지는 제 2 렌즈군 및 제 5 렌즈군은, 주로 전계의 팻츠벌합을 보정하는 기능을 가지고, 넓은 노광 영역에 걸친 상면(像面)의 평탄화를 도모 한다.
양의 굴절력을 가지는 제 3 렌즈군은, 주로 구면 수차의 보정에 기여함과 동시에, 하측 코마 수차의 보정에 기여한다. 여기에서, 제 3 렌즈군 중의 가장 개구 조리개측에 가깝게 배치되어 개구 조리개측으로 오목면을 향한 렌즈성분은, 그 오목면에 의한 양의 팻츠벌 합을 발생하고, 제 3 렌즈군 중의 양의 렌즈 성분 및 제 4 렌즈군 중의 양의 렌즈 성분으로부터 발생되는 음의 팻츠벌 합을 보정함과 동시에, 양의 굴절력의 제 4 렌즈군에서 발생되는 음의 구면 수차를 보정하는 기능을 가진다.
또한, 양의 굴절력을 가지는 제 4 렌즈군은, 주로 구면 수차의 보정에 기여함과 동시에, 상측 코마 수차의 보정에 기여한다. 여기에서 제 4 렌즈군 중에서 가장 개구 졸개측에 가깝게 배치되어, 개구 조리개측으로 오목면을 향하는 렌즈 성분은, 이 오목면에 의한 양의 팻츠벌 합을 발생시켜, 제 3 렌즈군 중의 양의 렌즈 성분 및 제 4 렌즈군 중의 양의 렌즈 성분에서 발생되는 음의 팻츠벌 합을 보정함과 동시에, 양의 굴절력을 가지는 제 4 렌즈군에서 발생되는 음의 구면 수차를 보정하는 기능을 가진다.
또한, 상기와 같이 투영 광학계에 있어서, 이하의 조건(1)∼(3)을 만족하는 것이 바람직하다.
(1) 0.5 | f1 / f2 | 3.0
(2) 0.5 | f6 / f5 | 3.0
(3) 0.25 f3 / f4 4.0
단,
f1 : 상기 제 1 렌즈군의 초점 거리
f2 : 상기 제 2 렌즈군의 초점 거리
f3 : 상기 제 3 렌즈군의 초점 거리
f4 : 상기 제 4 렌즈군의 초점 거리
f5 : 상기 제 5 렌즈군의 초점 거리
f6 : 상기 제 6 렌즈군의 초점 거리
이다.
상기 조건 (1)은 양 굴절력의 제 1 렌즈군의 초점 거리 f과 음의 굴절력의 제 2 렌즈군의 초점 거리와의 최적 비율을 규정한다. 이 조건 (1)은, 주로 왜곡 수차를 균형있게 보정하고, 또한 팻츠벌 합을 양호하게 보정하기 위한 것이다.
조건 (1)의 하한을 넘은 경우에는, 양의 왜곡 수차가 크게 발생되고, 또한, 양의 팻츠벌 합이 발생되어 상면(像面) 완곡 보정이 곤란해지고, 투영광학계의 전체 길이가 길어지므로 바람직하지 않다. 여기에서, 양의 왜곡 수차 및 양의 팻츠벌 합을 더욱 양호하게 보정하기 위해서는, 조건 (1) 의 상한을 1.4로 하는 것이 바람직하다.
상기 조건 (2)에서는, 주로 왜곡 수차를 균형있게 보정하고, 또한 팻츠벌 합을 양호하게 보정하기 위해, 양의 굴절력의 제 6 렌즈군의 초점 거리 f6과 음의 굴절력의 제 5 렌즈군의 초점 거리와의 최적 비율을 규정한다.
이 조건 (2)의 하한을 넘는 경우에는, 양의 왜곡 수차가 크게 발생되고, 또한, 양의 팻츠벌 합이 발생되어 상면 완곡 보정이 곤란해지기 때문에 바람직하지 않다.
여기에서, 양의 왜곡 수차와 양의 팻츠벌 합을 더욱 양호하게 보정하기 위해서는, 조건 (2)의 하한을 1.8로 하는 것이 바람직하다.
반대로, 조건 (2)이 상한을 넘는 경우에는, 음의 왜곡 수차가 크게 발생되고, 또한, 음의 팻츠벌 합이 발생되므로 상면 완곡 보정이 곤란해지며, 또한 투영 광학계의 전체 갤이가 길어지므로 바람직하지 않다. 여기에서 음의 왜곡 수차와 음의 팻츠벌 합을 더욱 양호히 보정하기 위해서는, 조건 (2)의 상한을 2.4로 하는 것이 바람직하다.
조건 (3)은, 양의 굴절력의 제 3 렌즈군의 초점 거리 f3과 양의 굴절력의 제 4 렌즈군의 초점 거리 f4 와의 최적 비율을 규정하여, 주로 구면 수차와 코마 수차를 균형있게 보정하기 위한 것이다.
조건 (3)은 하한을 넘는 경우에는, 구면 수차의 균형이 무너져 양의 구면 수차가 발생되고, 더욱이, 코마 수차도 악화되므로 바람직하지 않다. 여기에서, 양의 구면 수차와 코마 수차를 더욱 양호하게 보정하기 위해서는, 조건 (3)의 하한을 2.0으로 하는 것이 바람직하다.
조건 (3)의 상한을 넘는 경우에는, 구면 수차의 균형이 무너져 음의 구면 수차가 발생되고, 더욱이, 코마 수차도 악화되므로 바람직하지 않다. 여기에서, 더욱 음의 구면 수차와 커머 수차를 양호하게 보정하기 위해서는 조건 (3)의 상한을 3.5로 하는 것이 바람직하다.
또한, 상기와 같이, 투영 광학계에 있어서, 이 투영 광학계의 횡배율이 이하의 조건 (4)를 만족할 때에는, 조건 (5)∼(7)을 만족하는 것이 바람직하다.
(4) 0.5 ≤ | β | ≤ 1.1
(5) 1.0. | f1 / f2 | 3.0
(6) 0.5 | f6 / f5 | 2.0
(7) 0.25 f3 / f4 2.0
상기 조건 (5)는, 투영 광학계의 횡배율이 조건 (4)의 범위내에 있는 경우에 있어, 주로 왜곡 수차를 균형있게 보정하고 팻츠벌 합을 양호히 보정하기 위해, 양굴절력의 제 1 렌즈군의 초점 거리 f1 과 음의 굴절력의 제 2 렌즈군의 초점 거리의 최적 비율을 규정하는 것이다.
조건 (5)의 하한을 넘는 경우에는, 양의 왜곡 수차가 크게 발생되고, 또한, 양의 팻츠벌 합이 발생되어 상면 완곡 보정이 곤란해지므로 바람직하지 않다. 한편, 조건 (5)의 상한을 넘는 경우에는 음의 왜곡 수차가 크게 발생되고, 또한, 음의 팻츠벌 합이 발생되므로 상면 완곡 보정이 곤란해지며, 나아가서는 투영 광학계의 전체 길이가 길어지므로 바람직하지 않다.
상기 조건 (6)에서는, 투영 광학계의 횡배율이 조건 (4)의 범위내에 있는 경우에, 주로 왜곡 수차를 균형있게 보정하고, 팻츠벌 합을 양호하게 하기 위해, 양의 굴절력의 제 6 렌즈군의 초점 거리 f6과 음의 굴절력의 제 5 렌즈군의 초점 거리의 최적 비율을 규정한다.
이 조건 (6)의 하한을 넘는 경우에는 양의 왜곡 수차가 크게 발생되고, 또한, 양의 팻츠벌 합이 발생되어 상면 완곡 보정이 곤란해지므로 바람직하지 않다.
반대로, 조건 (6)의 상한을 넘지 않는 경우에는, 음의 왜곡 수차가 크게 발생되고, 또한 음의 팻츠벌 합이 발생되므로 상면 완곡 보정이 곤란해지고 나아가서는, 투영 광학계의 전체 길이가 길어지므로 바람직하지 않다.
조건 (7)은, 투영 광학계의 횡배율이 조건 (4)의 범위내에 있는 경우에 있어서, 주로 구면 수차와 코마 수차를 균형있게 보정하기 위해, 양의 굴절력의 제 3 렌즈군의 초점 거리 f3과 양의 굴절력의 제 4 렌즈군의 초점 거리 f4와의 최적 비율을 규정하는 것이다.
조건 (7)의 하한을 넘는 경우에는, 구면 수차의 균형이 무너져 양의 구면 수차가 발생되고, 더욱이, 코마 수차도 악화되므로 바람직하지 않다. 조건 (7)의 상한을 넘는 경우에는, 구면 수차의 균형이 무너져 음의 구면 수차가 발생되고, 나아가서는 코마 수차도 악화되므로 바람직하지 않다.
또한, 상기와 같은 투영 광학계에 있어서, 이 투영 광학계의 횡배율이 이하의 조건 (8)을 만족할 때에는, 조건 (9)∼(11)을 만족하는 것이 바람직하다.
(8) 1.1 | β | ≤ 2.0
(9) 0.5 | f1 / f2 | 2.0
(10) 1.0 | f6 / f5 | 3.0
(11) 1.0 f3 / f4 4.0
상기 조건 (9)는, 투영 광학계의 횡배율이 조건 (8)의 범위내에 있는 경우, 주로 왜곡 수차를 균형있게 보정하고, 팻츠벌 합을 양호하게 보정하기 위해서, 양의 굴절력의 제 1 렌즈군의 초점 거리 f1와 음의 굴절력의 제 2 렌즈군의 초점 거리의 최적 비율을 규정하는 것이다.
조건 (9)의 하한을 넘는 경우에는, 양의 왜곡 수차가 크게 발생되고, 또한 양의 팻츠벌 합이 발생되어 상면 완곡 보정이 곤란해지므로 바람직하지 않다.
한편, 조건 (9)의 상한을 넘는 경우에는, 음의 왜곡 수차가 크게 발생되고, 또한, 음의 팻츠벌 합이 발생되므로 상면 완곡 보정이 곤란해지며, 나아가서는, 투영 광학계의 전체 길이가 길어지므로 바람직하지 않다.
상기 조건 (10)에서는, 투영 광학계의 횡 배율이 조건 (8)의 범위내에 있는 경우에 있어서, 주로 왜곡 수차를 균형있게 보정하고, 팻츠벌 합을 양호하게 보정하기 위해서, 양의 굴절력의 제 6 렌즈군의 초점 거리 f6과 음의 굴절력의 제 5 렌즈군의 초점 거리의 최적 비율을 규정한다.
이 조건 (10)의 하한을 넘는 경우에는, 양의 왜곡 수차가 크게 발생되고, 또한, 양의 팻츠벌 합이 발생되고 상면 완곡 보정이 곤란해지므로 바람직하지 않다. 반대로, 조건 (10)의 상한을 넘는 경우에는 음의 왜곡 수차가 크게 발생되고, 또한, 음의 팻츠벌 합이 발생되므로 상면 완곡 보정이 곤란해지며, 나아가서는 투영 광학계의 전체 길이가 길어지므로 바람직하지 않다.
조건 (11)는, 투영 광학계의 횡배율이 조건 (8)의 범위내에 있는 경우에 있어서, 주로 구면 수차와 코마 수차를 균형있게 보정하기 위해서, 양의 굴절력의 제 3 렌즈군의 초점 거리 f3 과 양의 굴절력의 제 4 렌즈군의 초점 거리 f4의 최적비율을 규정하는 것이다.
조건 (11)의 하한을 넘는 경우에는, 구면 수차의 균형이 무너져 양의 구면수차가 발생되고, 나아가, 코마 수차도 악화되므로 바람직하지 않다. 조건 (11)의 상한을 넘는 경우에는, 구면 수차의 균형이 무너져 음의 구면 수차가 발생되고, 나아가서는 커머 수차도 악화되므로 바람직하지 않다.
또한, 본 발명의 한 형태의 투영 광학계에 있어서는 이하의 조건 (12)∼(14)을 만족하는 것이 바람직하다.
(12) (r2Rf + r2Fr) / (r2Rf-r2Fr) 0.0
(13) -0.1 (r4Ff+r3Rr) / (r4Ff-r3Rr) 0.1
(14) (r5Rf + r5Fr) / (r5Rf-r5Fr) 0.0
단,
r2Rf : 제 2 렌즈군의 한쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 1 물체측으로 향한 오목면의 곡률 반경,
r2Fr : 제 2 렌즈군의 한쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 2 물체측으로 향한 오목면의 곡률 반경,
r3Ff : 제 3 렌즈군 중에서 가장 개구 조리개측에 배치된 음의 렌즈 성분의 제 2 물체측으로 향한 오목면의 곡률 변경,
r4Rr : 제 4 렌즈군 중에서 가장 개구 조리개측에 배치된 음의 렌즈 성분의 제 1 물체측을 향한 오목면의 곡률 반경,
r5Fr : 제 5 렌즈군의 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 2 물체측을 향한 오목면의 곡률 반경,
r5Rf : 제 5 렌즈군의 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 1 물체측에 향한 오목면의 곡률 반경이다.
상기 조건 (12)는, 제 2 렌즈군의 서로 마주 향한 오목면의 최적 형상을 규정하는 것이다. 여기에서 축밖의 주광선을 고려하면, 이 축밖의 주광선은 양의 제 1 렌즈군에서 굴절되어 음의 제 2 렌즈군으로 소정 각도로 입사되고, 제 2 렌즈군 중의 서로 마주하여 향하고 있는 오목면 중 제 1 물체측에 위치되는 오목면(제 2 물체측으로 향한 오목면)에서 튀어 오르도록 굴절한다. 조건 (12)의 범위를 만족하지 않는 경우에는, 제 2 렌즈군 중에서 제 2 물체측으로 향해진 오목면의 곡률이 너무 완만해지고, 제 1 렌즈군에서 굴곡된 축밖의 주광선을 충분히 반사시킬 수 없게 된다. 이 경우에는, 제 3 렌즈군에서의 축바깥 주광선의 굴절 상태를 일정하게 유지시키기 위해서는 제 1 렌즈군의 두께를 충분히 할 필요가 있게 되며, 투영 광학계의 전체 길이가 길어지므로 바람직하지 않다. 또한, 이 조건 (12)의 범위로부터 벗어나는 경우에는, 팻츠벌 합을 충분히 보정할 수 없어지므로 바람직하지 않다.
조건 (13)은, 개구 조리개에 인접하며 서로 마주 향한 오목면이 형성되는 기체 렌즈의 적합한 형상을 규정하는 것이다. 여기에서, 조건 (13)의 범위에서 벗어나는 경우에는, 이 기체 렌즈의 형상의 대칭성이 무너져 코마 수차의 발생을 초래하고, 그와 동시에, 구면 수차, 팻츠벌 합의 보정이 곤란해지므로 바람직하지 않다.
조건 (14)는, 제 5 렌즈군의 서로 마주 향하고 있는 오목면의 최적 형상을 규정하는 것이다. 여기에서 축바깥 주광선을 고려하면, 이 축바깥 주광선은 제 4 렌즈군으로 부터 소정 각도로 제 5 렌즈군에 입사되고, 제 5 렌즈군 중의 서로 마주 향한 오목면 중의 제 2 물체측에 위치하는 오목면(제 1 물체측으로 향한 오목면)에서 튀어오르도록 굴절된 후, 제 6 렌즈군에서 굴절된다. 조건 (14)의 범위를 만족하지 않는 경우에는, 제 5 렌즈군 중의 제 1 물체측으로 향한 오목면의 곡률이 너무 완만해지며, 축바깥 주광선을 충분히 반사시킬 수 없어진다. 이 때에는, 제 6 렌즈군의 두께를 충분히 할 필요가 있게 되고, 투영 광학계의 전체 길이가 길어지므로 바람직하지 않다. 또한, 이 조건 (14)의 범위에서 벗어나는 경우에는, 팻츠벌 합을 충분히 보정할 수 없게 되므로 바람직하지 않다.
또한, 제 3 렌즈중에서 가장 개구 조리개측에 가깝게 배치되며 제 2 물체측으로 오목면을 향한 렌즈 성분과, 제 4 렌즈군 중에서 가장 개구 조리개측에 배치되어 제 1 물체측으로 오목면을 향한 렌즈 성분은 음의 렌즈 성분인 것이 바람직하다.
또한 제 1 렌즈군은, 제 1 물체측에서 차례로, 음의 굴절력을 가지는 음의 서브 렌즈군과, 양의 굴절력을 가지는 양의 서브 렌즈군을 가지고, 제 6 렌즈군은, 제 1 물체측에서 차례로, 양 굴절력을 가지는 양의 서브 렌즈군과 음의 굴절력을 가지는 음의 서브 렌즈군을 가지고, 제 1 렌즈군 중의 음의 서브 렌즈군은, 제 2 물체측으로 오목면을 향한 음의 렌즈 성분을 가지고, 제 6 렌즈군 중의 음의 서브 렌즈군은, 제 1 물체측으로 오목면을 향한 음의 렌즈 성분을 가지는 것이 바람직하다.
이와 같이, 가장 제 1 물체측에 가까운 제 1 렌즈군과, 가장 제 2 물체측에 가까운 제 6 렌즈군을 구성하며, 프레어에 의한 레지스트상의 악화를 억제할 수 있다. 이 점에 대해 이하에 자세히 설명한다.
투영 광학계의 요구되는 성능으로는, 사이델 오수차(구면 수차, 코마 수차, 비점 수차, 상면 완곡 및 왜곡 수차) 및 색추차(축상 색수차 및 배율 색수차)가 양호하게 보정되어야 하는 것 이외에, 플레어가 발생되지 않아야 한다. 이 플레어의 발생 원인으로는, 투영 광학계의 렌즈면에서 노광광이 반사되는 것과, 제 2 물체로서의 기판 표면에서 반사된 노광광이 투영 광학계의 렌즈면에서 반사되는 것을 들 수 있다. 이 플레어의 양이 증가하면, 레지스트상(투영 광학계에 따라서 기판상의 레지스트에 형성된 상에 근거하여 형성된 레지스트 패턴)의 선폭 등의 편차가 발생되므로, 양호한 레지스트상을 얻기 위해서는 결상 수차가 양호하게 보정되어야 할 뿐더러 플레어를 억제하는 것이 바람직하다.
특히, 본 발명과 같이 노광 영역이 큰 투영 광학계에서는 노광 영역이 작은 것과 비교하여 기판(제 2 물체)의 표면에서 반사되는 노광광이 증가되므로, 이 반사에 따른 플레어가 증가하기 쉬운 경향이 있다.
또한 투영 광학계의 투영 배율이 저배율(低倍)이 되면, 이 플레어량의 감소가 곤란해진다. 저배율이 되면 될 수록 투영 광학계의 개구수가 적어지며, 결상에 기여하는 노광량의 조도는 저하된다. 이로 인하여, 근소한 플레어 존재하더라도 레지스트 상의 악호로 이어지기 쉬운 경향이 있다.
이와 같은 플레어는, 필드 렌즈군으로서의 제 1 및 제 6 렌즈군에서 발생되기 쉽다. 이들 제 1 및 제 6 렌즈군은, 양의 렌즈 성분을 가지도록 구성된다. 이들 양의 렌즈 성분 중, 제 1 렌즈군에 있어서는 제 1 물체측으로 오목면을 향한 렌즈면, 제 6 렌즈군에 있어서는, 제 2 물체측으로 오목면을 향한 렌즈면에서 발생되는 플레어는, 제 1 물체측 또는 제 2 물체상에 있어서 투영 광학계의 광축 근방에 모이기 쉽고 노광 영역 내에서의 레지스트상의 선폭의 편차를 발생시킬 우려가 있다.
따라서, 제 6 렌즈군에 있어서, 양의 렌즈 성분 중의 제 2 물체측으로 오목면을 향한 렌즈면의 곡률을 플레어가 광축 근방으로 집광하지 않도록 최적화하는 것이 바람직하다. 그러나, 플레어 저감을 위해 가장 적합한 고률이 반드시 결상 성능에 있어서도 최적이라고는 한정할 수 없으므로, 이 제 6 렌즈군을, 제 1 물체측에서 차례로, 양 굴절력을 가지는 양의 서브 렌즈군과, 음의 굴절력을 가지는 음의 서브 렌즈군을 가지도록 구성하여, 이 음의 서브 렌즈군에 따라서 양의 서브 렌즈군을 가지도록 구성하여, 이 음의 서브 렌즈군에 따라서 양의 서브 렌즈군의 굴절력을 결상 성능에 가장 적합하도록 억제하는 것이 바람직하다.
이와 같은 구성을 따르면, 플레어가 광축 근방에 집광할 필요가 없으며, 결상 성능, 특히 왜곡 수차, 상면 완곡 및 텔레센트릭성을 양호하게 보정할 수 있다.
마찬가지로, 제 1 렌즈군에 있어서, 제 1 물체측에서 차례로, 음의 굴절력을 가지는 음의 서브 렌즈군과, 양의 굴절력을 가지는 양의 서브 렌즈군을 가지도록 구성하면, 결상 성능, 특히 왜곡 수차, 상면 완곡 및 텔레센트릭성을 양호하게 유지하면서도, 제 1 렌즈군 중의 양의 렌즈 성분 중의 제 1 물체측으로 오목면을 향한 렌즈면의 곡률을 플레어가 광축 근방에 집광하지 않도록 최적화하는 것이 가능해진다.
다음으로, 본 발명의 바람직한 형태에 있어서는, 제 3 렌즈군 중의 양의 렌즈 성분 중 적어도 2매의 양의 렌즈 성분은 제 1 초석재로 구성되며, 상기 제 4 렌즈군 중의 양의 렌즈 성분 중의 적어도 2매의 양의 렌즈 성분은 제 1 초석재로 구성되는 것이 좋다.
여기에서, 제 1 초석재는, 제 1 초석재의 분산치를 ν t로할 때, 이하의 조건으로 나타난다.
(15) ν t 120
단, 분산치는 파장 λ에 대한 굴절율을 n(λ)로 할 때,
ν = { n(436) - 1 } / { n(400) - n(440) }
으로 정의된다.
상기와 같이, 제 3 및 제 4 렌즈군에서는 구면 수차를 보정하는 기능을 가지지만, 제 3 및 제 4 렌즈군 중의 복수의 양의 렌즈 성분 중의 적어도 2매의 양의 렌즈 성분을, 조건 (15)으로 나타나는 분산치가 큰 제 1 초석재를 이용하므로써, 투영 광학계 전체의 축상의 색소거를 양호히 수행할 수 있다.
상기와 같은 구성에 있어서, 제 3 렌즈군주에서 가장 제 2 물체측에 가깝게 배치된 렌즈 성분을 제 2 초석재로 구성하고, 제 4 렌즈군주에서 가장 제 1 물체측에 가깝게 배치된 렌즈 성분을 제 2 초석재로 구성하는 것이 바람직하다.
여기에서, 제 2 초석재는, 이 제 2 초석재의 분산치를 νc 로 할 때,
(16) νc 110
로 나타난다.
이와 같이 제 3 및 제 4 렌즈군에 있어서, 개구 조리개측에 가장 가깝게 배치되고 개구 조리개측으로 오목면을 향한 렌즈 성분에, 조건 (16)으로 나타나는 제 2 초석재를 이용하므로써, 더욱 양호한 축상의 색소거를 달성할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시 형태에 있어서는 제 2 렌즈군 중의 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중 적어도 한쪽의 음의 렌즈 성분에 인접하여 배치되는 양의 렌즈 성분과, 제 5 렌즈군 중의 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중 적어도 한쪽의 음의 렌즈 성분에 인접하여 배치된 양의 렌즈 성분을 가지는 구성인 것이 바람직하다.
이 구성에 있어서, 제 2 렌즈군 중의 적어도 한쪽의 음의 렌즈 성분과, 이것에 인접하는 양의 렌즈 성분은 전체적으로 매니스커스 형상이며, 제 5 렌즈군 중의 적어도 한쪽은 음의 렌즈 성분과, 이것에 인접하는 양의 렌즈 성분은 전체적으로 메니스커스 형상인 것이 바람직하다.
여기에서, 제 2 렌즈군 중에 있어서, 전체적으로 매니스커스 형상의 음의 렌즈 성분과 양의 렌즈 성분 중, 음의 렌즈 성분은, 제 3 초석재로 구성되고, 양의 렌즈 성분은 상기 제 2 초석재로 구성되며, 제 5 렌즈군 중의 전체적으로 매니스커스 형상의 음의 렌즈 성분과 양의 렌즈 성분 중, 음의 렌즈 성분은, 제 3의 초석재로 구성되고, 양의 렌즈 성분은 제 2 초석재로 구성되는 것이 바람직하다.
단, 제 3 초석재는, 이 제 3 초석재의 분산치를 νf 로 할 경우, 이하의 조건으로 나타난다.
(17) νf 75
상기와 같이, 제 2 렌즈군 중의 전체적으로 매니스커스 형상의 서브 렌즈군을 구성하는 음의 렌즈 성분에는 조건 (17)로 나타내는 제 3의 초석재를 이용하고, 양의 렌즈 성분에는 조건 (16)으로 나타나는 제 2 초석재를 이용하며, 제 5 렌즈군 중의 전체적으로 매니스커스 형상의 서브 렌즈군을 형성하는 음의 렌즈 성분에는 조건 (17)로 나타나는 제 3 초석재를 이용하고, 양의 렌즈 성분에 조건 (16)으로 나타나는 제 2 초석재를 이용하므로서, 이들의 서브 렌즈군으로부터의 색의 구면 수차를 오버(over)로 발생시키고 있다. 이에 따라서, 제 3 및 제 4 렌즈군만으로는 언더가 되기 쉬운 색의 구면 수차를 상쇄할 수 있어, 투영 광학계 전체로서는 양호한 색의 구면 수차를 달성할 수 있다.
또한, 제 1 렌즈군 중의 양의 서브 렌즈군 중의 적어도 1매의 양의 렌즈 성분을 제 3 초석재로 구성하고, 제 1 렌즈군 중의 음의 서브 렌즈군 중 적어도 1 매의 음의 렌즈 성분을 제 2 초석재로 구성하며, 제 6 렌즈군 중의 양의 서브 렌즈군 중 적어도 1매의 양의 렌즈 성분을 제 3 초석재로 구성하고, 제 6 렌즈군 중의 음의 서브 렌즈군 중 적어도 1 매의 음의 렌즈 성분을 제 2 초석재로 구성하는 것이 바람직하다.
이러한 구성에 의하면, 제 1 및 제 6 렌즈군에 있어서, 색의 상면 완곡을 언더로 할 수 있으며, 이것에 따라 제 2 내지 제 5 렌즈군에서 오버가 되기 쉬운 색의 상면 완곡을 상쇄할 수 있다. 이에 의하여, 투영 광학계 전체의 색의 상면 완곡을 양호하게 보정할 수 있다.
또한, 제 2 렌즈군 중 음의 랜즈 성분 중 제 3 초석재로 구성된 음의 렌즈 성분외의 음의 렌즈 성분을 상기 제 2 초석재로 구성하고, 제 5 렌즈군 중의 음의 렌즈 성분 중 제 3 초석재로 구성되는 음의 렌즈 성분외의 음의 렌즈 성분을 제 2 초석재로 구성하는 것이 바람직하다.
제 2 및 제 5 렌즈군의 음의 렌즈 성분 중에서, 상기 조건 (16)에서 나타나는 제 2 초석재에 의하여, 축상 색의 2 차 분산을 억제하는 것을 가능하도록 하고 나아가서는 색의 상면 완곡을 양호하게 보정하는 것이 가능하다.
또한, 상기 제 2 렌즈군 중의 전체적으로 매니스커스 형상인 음의 렌즈 성분과 양의 렌즈 성분은, 상기 제 1 물체측으로 오목면을 향하게 배치되고, 제 5 렌즈군 중의 전체로서의 매니스커스 형상인 음의 렌즈 성분과 양의 렌즈 성분은 제 2 물체측으로 오목면을 향하도록 배치되는 것이 바람직하다.
이상과 같은 구성에서는, 초석재의 배치가 거의 대칭적으로 되므로, 배율의 색 수차 및 색 코마 수차의 발생을 감쇄할 수 있는 효과가 있다.
한편, 제 6 렌즈군 중의 양의 서브 렌즈군은, 이하의 조건(18)을 만족하는 렌즈면을 가지도록 하는 것일 바람직하다.
(18) RG6 / DG6 2
단,
RG6 : 제 6 렌즈군 중의 양의 서브 렌즈군을 구성하는 양의 렌즈 성분의 렌즈면 중, 제 1 물체측으로 볼록면을 향한 렌즈면의 곡률 반경,
DG6 : 이 렌즈면과 제 2 물체와의 거리
이다.
상기 조건(18)은 제 2 물체 위의 플레어 방지를 위한 것이다.
이 조건 (18)의 범위에서 벗어나면, 제 6 렌즈군 중 양의 서브 렌즈군의 양렌즈 성분 중의 제 2 물체측에 오목면을 향한 렌즈면에서 반사되어, 제 2 물체측으로 향하는 플레어 광이 제 2 물체상에서 광축 근방에 집광되므로 바람직하지 않다.
또한, 본 실시형태의 투영 광학계는, 이하의 조건 (19)을 만족하는 것이 바람직하다.
(19) 0.5 ≤ | β | ≤2.0
단,
β : 투영 광학계의 투영 배율,
이 조건 (19)의 전체가 되는 구성은, 양·음·양·개구 조리개·양·음·양의 굴절력 배치이며, 이 조건 (19)의 범위에서 벗어나는 경우에는, 상기의 굴절력 배치에서는 각종 수차, 특히 축바깥 수차를 보정하는 것이 곤란하므로 바람직하지 않다.
다음으로 도면을 참조하여, 본 발명의 실시형태에 의한 투영 광학계를 투영 노광 장치에 적용한 예를 보여준다. 도 1 은, 본 발명의 실시형태의 투영 광학계를 순차 노광형의 투영 노광 장치에 적용한 예를 도시한 사시도이며, 도 2 는 본 발명의 실시 형태의 투영 광학계를 주사형 노광장치에 적용한 예를 도시한 사시도이다.
이들 도 1 및 도 2 의 투영 노광 장치는, 두 경우 모두, 집적 회로 소자와 액정 패널 등의 디아비스 회로 패턴을 형성할 경우의 노광 공정에 이용된다.
우선, 도 1 의 예에서는, 투영 광학계 PL의 물체면에는 소정 회로 패턴이 그려진 투영 원판으로서의 마스크 M(제 1 물체)가 배치되며, 투영 광학계 PL의 상면에는 기판으로서의 플레이트 P(제 2 물체)가 배치되어 있다. 여기에서, 마스크 M은 마스크 스테이지에 의해 지지되며, 도면 중의 XY 방향으로 동작 가능한 플레이트 P는 플레이트 스테이지 PS에 보존되어 있다. 또한, 마스크 M의 상방 (Z방향측)에는 자외역의 노광광에 따라서 마스크 M의 조명 영역 IA를 균일하게 조명하기 위한 조명 광학 장치 IL이 배치되어 있다. 이 실시형태에 있어서, 조명 광학 장치 IL은, g선 (435.8nm)에서 h선 (404.7nm)까지의 자외영역의 광을 공급하는 것이다.
이상의 구성에 따라, 조명 광학 장치 IL에서 공급되는 자외영역의 노광광은, 마스크 M상의 조명 영역 IA를 균일하게 조명하고, 이 마스크 M으로부터의 노광광은, 투영 광학계 PL의 개구 조리개 AS의 위치에 광원상을 형성한다. 즉, 마스크 M은 조명 광학 장치 IL에 의한 쾰러(Koehler) 조명되어 진다. 그리고 플레이트 P상의 노광 영역 EA에는, 마스크 M의 조명 영역 IA내의 상이 형성되고, 이것에 의해, 플레이트 P에 마스크 M의 회로 패턴이 전사된다.
다음으로, 도 2 의 예에서는, 마스크 M을 지지하는 마스크 스테이지 MS와, 플레이트 P를 지지하는 플레이트 스테이지 PS는, 노광되는 동안 서로 역방향으로 주사되는 점이 도 1 의 예와는 다르다. 이것에 의해, 플레이트 P에 마스크 M의 상이 주사 노광된다.
이상의 도 1 및 도 2 의 실시 형태에서는 투영 광학계 PL은, 제 1 물체측(마스크 M)측 및 제 2 물체측(플레이트 P측)에 있어서, 실질적으로 텔레센트릭이 되며 확대 배율을 가지는 것이다.
[실시예]
다음으로, 도 3∼도 6을 참조하여, 본 발명에 관한 투영 광학계의 수치 실시예에 대해 설명한다. 여기에서 도 3 및 도 4 는, 제 1 및 제 2 실시예의 투영 광학계의 렌즈 구성도이며, 도 5 및 도 6은, 제 1 및 제 2 실시예의 투영 광학계의 각종 수차도이다.
제 1 실시예
도 3 에 있어서, 제 1 실시예의 투영 광학계는, 제 1 물체(마스크 M)측으로부터 순서대로, 양의 굴절력을 가지는 제 1 렌즈군 G1과, 음의 굴절력의 제 2 렌즈군 G2와, 양의 굴절력의 제 3 렌즈군 G3과, 개구 조리개 AS와, 양의 굴절력의 제 4 렌즈군 G4와, 음의 굴절력의 제 5 렌주군 G5와, 양의 굴절력의 제 6 렌즈군 G6으로 구성된다.
여기에서 제 1 렌즈군 G1은, 제 1 물체로서의 마스크 M측으로부터 순서대로, 음의 굴절력의 음 서브 렌즈군 G1N과, 양의 굴절력의 양 서브 렌즈군 G1P로 구성되며, 음의 서브 렌즈군 G1N은, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 제 2 물체(플레이트 P)측에 오목면을 향한 평면오목 형상의 음의 렌즈 성부(제 2 물체측의 오목면을 향한 음의 렌즈 성분) L11과, 제 1 물체측에 오목면을 향한 평면오목 형상의 음의 렌즈 성분 L12를 가지고, 양의 서브 렌즈군 G1P는, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 제 2 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양볼록 형상의 2 매의 양의 렌즈 성분 L13, L14와 제 1 물체측에 볼록면을 향한 평면볼록 형상의 양의 렌즈 성분 L15를 가진다.
여기에서, 음의 서브 렌즈군 G1N을 구성하는 음의 렌즈 성분 L11, L12는, 모든 조건(16)을 만족하는 제 2 초석재로 구성되어 있으며, 양의 서브 렌즈군 G1P를 구성하는 양의 렌즈 성분 L13∼L15는, 조건(17)를 만족하는 제 3 의 초석재로 구성되어 있다.
제 2 렌즈군 G2는, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 제 2 물체측ㅇ로 오목면을 향한 형상의 양의 매니커스 렌즈 성분 L21 및 제 2 물체측으로 오목면을 향한 형상의 음의 매니스커스 렌즈 성분 L22로 이루어지는 접한 렌즈 성분과, 양오목 형상의 음의 렌즈 성분 L23과, 양오목 형상의 음의 렌즈 성분 L24 및 양복록 형상의 양의 렌즈 성분 L25로 이루어지며, 전체적으로 제 1 물체측으로 오목면을 향하고 있는 매니스커스 형상의 접한 렌즈 성분을 가진다.
여기에서, 음의 매니스커스 성분 L22와 양오목 형상의 음의 렌즈 성분 L24가 제 2 렌즈군 중의 서로 마주한 오목면의 조를 형성한다. 그리고, 전체적으로 제 1 물체측으로 오목면을 향한 매니스커스 형상의 서브 렌즈군을 구성하는 접합 렌즈 성분 L24, L25에 있어서는, 음의 렌즈 성분 L24가 제 3 의 초석재로 구성되며, 양의 렌즈 성분 L25가 제 2 초석재로 구성된다. 또한, 제 2 렌즈군 중의 음의 렌즈 성분 L24 이하의 음의 렌즈 성분 L22, L23는 제 2 초석재로 구성된다.
제 3 렌즈군 G3은, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 제 2 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양볼록 형상의 양의 렌즈 성분 L31과, 제 1 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양볼록 형상의 2매의 양의 렌즈 성분 L32, L33과, 제 2 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양오목 형상의 음의 렌즈 성분(제 2 물체측으로 오목면을 향한 렌즈 성분) L34를 가진다. 제 3 렌즈군 G3에 있어서는, 양의 렌즈 성분 L31∼L33가 조건 (15)를 충족하는 제 1 초석재로 구성되며, 제 2 물체측에 가장 가깝게 배치되고, 제 2 물체측으로 오목면을 향한 음의 렌즈 성분 L34가 제 2 초석재로 구성된다.
제 4 렌즈군은, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 제 1 물체측으로 오목면을 향한 매니스커스 형상의 음의 렌즈 성분(제 1 물체측으로 오목면을 향한 렌즈 성분) L41과, 제 1 물체측으로 오목면을 향한 형상의 양의 매니스커스 렌즈 성분 L42와, 제 2 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양볼록 형상의 양의 렌즈 성분 L43과, 양볼록 형상의 양의 렌즈 성분 L44와, 제 1 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양볼록 형상의 양의 렌즈 성분 L45를 가진다. 제 4 렌즈군 G4에 있어서는, 제 1 물체측에 가장 가깝게 배치하고 제 1 물체측으로 오목면을 향한 음의 렌즈 성분 L41이 제 2 초석재로 구성되며, 양의 렌즈 성분 L43∼L45가 제 1 초석재로 구성된다.
제 5 렌즈 성분은, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 양볼록 형상의 양의 렌즈 성분 L51 및 양오목 형상의 음의 렌즈 성분 L52로 이루어지며 전체적으로 제 2 물체측으로 오목면을 향한 매니스커스 형상의 접합 렌즈 성분과, 양오목 형상의 음의 렌즈 성분 L53과, 제 1 물체측으로 오목면을 향한 평면오목 형상의 음의 렌즈 성분 L54 및 제 2 물체측으로 볼록면을 향한 평면볼록 형상의 양의 렌즈 성분 L55로 이루어지는 접합 렌즈 성분과, 제 1 물체측으로 오목면을 향한 평면오목 형상의 음의 렌즈 성분 L56과, 제 2 물체측으로 볼록면을 향한 평면 볼록 형상의 양의 렌즈성분 L57을 가진다.
여기에서, 양오목 형상의 음의 렌즈 성분 L52와 평면오목 형상의 음의 렌즈 성분 L56이 제 5 렌즈군 중의 서로 마주보는 오목면의 조합을 형성한다. 그리고, 전체적으로 제 2 물체측으로 오목면을 향한 매니스커스 형상의 서브 렌즈군을 형성하는 접합 렌즈 성분 L51, L52에 있어서는, 양의 렌즈 성분 L51이 제 2 초석재로 구성되며, 음의 렌즈 성분 L52가 제 3 초석재로 구성된다. 또한, 제 5 렌즈군 중의 음의 렌즈 성분 L52 이외의 음의 렌즈 성분 L53, L54, L56음 제 2 초석재로 구성된다.
그리고, 제 6 렌즈군 G6은, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 양의 굴절력의 양의 서브 렌즈군 G6P와, 음의 굴절력의 음의 서브 렌즈군 G6N으로 구성되며, 양의 서브 렌즈군 G6P는, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 제 2 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양볼록 형상의 양의 렌즈 성분 L61과, 제 1 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양복록 형상의 양의 렌즈 성분 L62와, 제 1 물체측으로 볼록면을 향한 평면오목(平凸) 형상의 양의 렌즈 성분 L63을 가지고, 음의 서브 렌즈군 G6N은, 제 1 물체측으로 오목면을 향한 평면오목(平凸) 형상의 음의 렌즈 성분(제 1 물체측으로 오목면을 향한 음의 렌즈 성분) L64를 가진다.
여기에서, 양의 서브 렌즈군을 구성하는 양의 렌즈 성분 L61∼L63은, 제 3 초석재로 구성되며, 음의 서브 렌즈군을 구성하는 음의 렌즈 성분 L64와, 제 2 의 초석재로 구성되어 있다.
제 2 실시예
도 4 에 있어서, 제 2 실시예의 투영 광학계는, 제 1 물체(마스크 M)측으로 부터 순서대로, 양의 굴절력의 제 1 렌즈군 G1과, 음의 굴절력의 제 2 렌즈군 G2와, 양의 굴절력의 제 3 렌즈군 G3과, 개구 조리개 AS와, 양의 굴절력의 제 4 렌즈군 G4와, 음의 굴절력의 제 5 렌즈군 G5와, 양의 굴절력의 제 6 렌즈군 G6으로 구성된다.
여기에서, 제 1 렌즈군 G1은 제 1 물체로서의 마스크측으로부터 순서대로, 음의 굴절력의 음 서브 렌즈군 G1N과, 양의 굴절력을 가지는 양 서브 렌즈군 G1P로 구성되며, 음 서브 렌즈군 G1N은, 제 2 물체로서의 플레이트 P측에 양오목 형성인 음의 렌즈 성분(제 2 물체측으로 오목면을 향한 음의 렌즈 성분)L11을 가지고, 양의 서브 렌즈군 G1P는, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 제 2 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 2매의 양의 렌즈 성분 L12, L13과, 제 1 물체측으로 곡률이 강한면을 향한 양볼록 형상의 양의 렌즈 성분 L14를 가진다.
여기에서, 음 서브 렌즈군 G1N을 구성하는 음의 렌즈 성분 L11은, 조건(16)을 만족하는 제 2 초석재로 구성되며, 양의 서브 렌즈군 G1P를 구성하는 양의 렌즈 성분 L12∼L14는, 조건(17)을 만족하는 제 3 초석재로 구성된다.
제 2 렌즈군 G2는, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 제 2 물체측으로 오목면을 향한 형상의 양의 매니스커스 렌즈 성분 L21 및 제 2 물체측으로 오목면을 향한 형상의 음의 매니스커스 렌즈 성분 L22로 이루어진 접합 렌즈 성분과, 양오목 형상의 음의 렌즈 성분 L23과, 양오목 형상인 음의 렌즈 성분 L24 및 양복록 형상의 양의 렌즈 성분 L25로 이루어지며, 전체적으로 제 1 물체측으로 오목면을 향한 매니스커스 형상의 접합 렌즈 성분을 가진다.
여기에서 음의 매니스커스 렌즈 성분 L22와 양오목 형상인 음의 렌즈 성분 L24가 제 2 렌즈군 중의 서로 마주한 오목면의 쌍을 형성한다. 그리고, 전체적으로 제 1 물체측으로 오목면을 향한 매니스커스형상의 서브 렌즈군을 구성하는 접합 렌즈 성분 L24, L25에 있어서는, 음의 렌즈 성분 L24가 제 3 의 초석재로 구성되며, 양의 렌즈 성분 L25가 제 2 초석재로 구성된다. 또한, 제 2 렌즈군 중의 음의 렌즈 성분 L24 이외의 음의 렌즈 성분 L22, L23는, 제 2 의 초석재로 구성되어 있다.
제 3 렌즈군 G3은, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 양볼록 형상의 3매의 양의 렌즈 성분 L31∼L33과, 제 2 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양오목 형상의 음의 렌즈 성분(제 2 물체측으로 오목현을 향한 렌즈 성분) L34를 가진다. 제 3 렌즈군 G3에 있어서는, 양의 렌즈 성분 L31∼L33이 조건 (15)를 충족하는 제 1 의 초석재로 구성되며, 제 2 물체측에 가장 가깝게 배치되고, 제 2 물체측으로 오목면을 향한 음의 렌즈 성분 L34는 제 2 의 초석재로 구성되어 있다.
제 4 렌즈군은, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 제 1 물체측으로 오목면을 향한 매니스커스 형상의 음의 렌즈 성분(제 1 물체측으로 오목면을 향한 렌즈 성분)L41과, 제 1 물체측으로 오목면을 향한 형상의 양의 매니스커스 렌즈 성분 L42와, 제 2 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양볼록 형상인 양의 렌즈 성분 L43과, 양볼록 형상의 양의 렌즈 성분 L44와, 제 1 물체측으로 볼록면을 향한 매니스커스형상의 양의 렌즈 성분 L45를 가진다. 제 4 렌즈군 G4에 있어서는, 제 1 물체측에 가장 가깝게 배치되고 제 1 물체측으로 오목면을 향한 음의 렌즈 성분 L41가 제 2 초석재로 구성되며, 양의 렌즈 성분 L43∼L45는 제 1 초석재로 구성된다.
제 5 렌즈 성분은, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 양볼록 형상의 양의 렌즈 성분 L51 및 양오목 형상의 음의 렌즈 성분 L52로 이루어지며 전체적으로 제 2 물체측으로 오목면을 향한 매니스커스 형상의 접합 렌즈 성분과, 양오목 형상의 음의 렌즈 성분 L53과, 제 1 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양오목 형상이 음의 렌즈 성분 L54 및 제 2 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양볼록 형상인 양의 렌즈성분 L55가 이루어진 접합 렌즈 성분을 가진다.
여기에서 양오목 형상의 음의 렌즈 성분 L52와 양쪽이 오목 형상인 음의 렌즈 성분 L54가 제 5 렌즈군 중의 서로 마주한 오목면의 조를 이루고 있다. 그리고, 전체가 제 2 물체측으로 오목면을 향한 매니스커스 형상의 서브 렌즈군을 형성하고 있는 접합 렌즈 성분 L51, L52에 있어서는, 양의 렌즈 성분 L51이 제 2 초석재로 구성되며, 음의 렌즈 성분 L52가 제 3 의 초석재로 구성된다. 또한, 제 5 렌즈군 중의 음의 렌즈 성분 L52이외의 음의 렌즈 성분 L53, L54는 제 2 의 초석재로 구성된다.
그리고, 제 6 렌즈군 G6은, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 양의 굴절력의 양의 서브 렌즈군 G6P와, 음의 굴절력의 음의 서브 렌즈군 G6N로 구성되며, 양의 서브 렌즈군 G6P는, 제 1 물체측으로부터 순서대로, 제 2 물체측으로 곡률이 강한면을 향한 양볼록 형상의 양의 렌즈 성분 L61과, 제 1 물체측으로 곡률이 강한 면을 향한 양복록 형상의 양의 렌즈 성분 L62를 가지고, 음의 서브 렌즈군 G6N은, 제 1 물체측으로 오목면을 향한 매니스커스 형상의 음의 렌즈 성분(제 1 물체측으로 오목면을 향한 음의 렌즈 성분) L63을 가진다.
여기에서 양의 서브 렌즈군을 구성하는 양의 렌즈 성분 L61, L62는, 제 3 의 초석재로 구성되며, 음의 서브 렌즈군을 구성하는 음의 렌즈 성분 L63은, 제 2 의 초석재로 구성된다.
한편, 이하에 도시하는 표 1 및 표 2 에서는 수치 실시예의 모든 값 및 조건 대응 수치를 나타낸다.
단, 좌단의 숫자는 제 1 물체측 (마스크 M측)으로부터의 순서를 차례로 나타내며, r은 렌즈면의 곡률 반경, r은 렌즈면의 곡률 반경, d는 렌즈면 간격, n(G)는 노광 파장 λ가 435.8nm에서의 굴절율, n(H)는 노광 파장 λ가 404.7nm일때의 굴절율, n(400)은 노광 파장 λ가 400nm일 때의 굴절율, n(440)은 노광 파장 λ가 440nm일 때의 굴절율, d0는 제 1 물체(마스크 M)에서 1 렌즈군 G1의 가장 제 1 물체측(마스크 M측)의 렌즈면(제 1 렌즈면)까지의 거리, WD는 제 6 렌즈군 G6 중 가장 제 2 물체측(플레이트 P측)의 렌즈면으로부터 제 2 물체면(플레이트 P면)까지의 거리, β는 투영 광학계의 투영 배율, NA는 투영 광학계의 제 2 물체측에서의 개구수, øEX는 제 2 물체면(플레이트 P면)에 있어서의 노광 영역의 반경, f1은 제 1 렌즈군 G1의 초점거리, f2는 제 2 렌즈군 G2의 초점 거리, f3은 제 3 렌즈군 G3의 초점 거리, f4는 제 4 렌즈군 G4의 초점 거리, f5는 제 5 렌즈군 G5의 초점 거리, f6은 제 6 렌즈군 G6의 초점 거리, r2Rf는 제 2 렌즈군 G2 중의 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 1 물체측으로 향한 오목면의 곡률 반경, r2Fr은 제 2 렌즈군 G2 중의 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중의 제 2 물체측으로 향한 오목면의 곡률 반경, r3Ff는 제 3 렌즈군 G3 중의 개구 조리개측에 가장 가까이 배치된 음의 렌즈 성분의 제 2 물체측으로 향한 오목면의 곡률 반경, r4Rr은 제 4 렌즈군 G4 중의 개구 조리개측에 가장 가까이 배치된 음의 렌즈 성분의 제 1 물체측으로 향한 오목면의 곡률 반경, r5Fr은 제 5 렌즈군 G5 중 한 쌍의 음의 렌즈성분중에서 제 2 물체측으로 향한 오목면의 곡률반경, r5Rf는 제 5 렌즈군 G5 중의 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 1 물체측을 향한 오목면의 곡률 반경, RG6은 제 6 렌즈군 G6을 구성하는 양의 렌즈 성분의 렌즈면중 제 2 물체측으로 오목면을 향한 렌즈면의 곡률 반경, DG6은 제 6 렌즈군 G6을 구성하는 양의 렌즈 성분의 렌즈면중 제 2 물체측으로 오목면을 향한 렌즈면과 제 2 물체와의 거리를 나타낸다.
[표 1]
[제 1 실세예]
d0 = 80.00000
β = -1.25
NA = 0.10
WD = 111.44106
ΦEX = 84.875
[제 1 실시예의 조건 대응수치]
(1) | f1 / f2 | = 1.17
(2) | f6 / f5 | = 2.15
(3) f3 / f4 = 2.37
(8) | β | = 1.25
(9) | f1 / f2 | = 1.17
(10) | f6 / f5 | = 2.15
(11) f3 / f4 = 2.37
(12) (r2Rf + r2Fr) / (r2Rf-r2Fr) = 0.22
(13) (r4Fr + r3Rr) / (r4Ff-r3Rr) = 0.01
(14) (r5Rf + r5Fr) / (r5Rf-r5Fr) = -0.08
(18) R G6 / L G6 = 1.57 (제 44 면)
(19) | β | = 1.25
[표 2]
[제 2 실시예]
d0 = 80.00470
β = -1.25
NA = 0.10
WD = 111.44106
ΦEX = 84.875
실시예 2 의 조건 대응수치
(1) | f1 / f2 | = 1.06
(2) | f6 / f5 | = 2.03
(3) f3 / f4 = 3.00
(8) | β | = 1.25
(9) | f1 / f2 | = 1.06
(10) | f6 / f5 | = 2.03
(11) f3 / f4 = 3.00
(12) (r2Rf + r2Fr) / (r2Rf-r2Fr) = 0.33
(13) (r4Fr + r3Rr) / (r4Ff-r3Rr) = -0.002
(14) (r5Rf + r5Fr) / (r5Rf-r5Fr) = -0.16
(18) R G6 / L G6 = 1.45 (제 46 면)
(19) | β | = 1.25
이상의 각 실시예의 모든 수치로부터, 제 1 및 제 2 실시예의 투영 광학계는, 넓은 노광 영역을 확보하면서, 제 1 물체측 (마스크 M측) 및 제 2 물체측(플레이트 P측)에 있어서, 텔레센트릭이 달성되어 있음을 이해할 수 있다.
또한, 도 5 및 도 6은 각각 본 발명에 의한 제 1 및 제 2 실시예의 투영 광학계에 있어서의 각종 수차도를 도시한다.
여기에서, 각 수차도에 있어서, NA는 투영 광학계의 개구수, Y는 상높이, G는 g선(λ=435.8nm), H는 h선(λ=404.7nm)를 나타내며, 또한, 각 비점 수차도 중에 있어서, 점선은 자오(子午)적 상면(메리지오널 상면), 실선은 구차적 상면(서지털 상면)을 나타낸다.
각 수차도의 비교에서 알 수 있는 바와 같이, 각 실시예에서 각종 수차가 균형있게 보정되고, 특히, 매우 넓은 노광 영역의 전체에서 각종 수차가 양호하게 보정되며, 또한 g선 및 h선에 대한 색수차가 양호하게 되어 있음을 이해할 수 있다.
이에 따라, 각 실시예의 투영 광학계를 도 1 또는 도 2 에 도시한 투영 노광장치에 적용한 경우에는, g선에서 h선 까지의 넓은 파장역에서 노광광을 이용하여 노광을 실시할 수 있으며, 노광시간의 단축호를 달성할 수 있다.
또한, 각 실시예의 투영 광학계에서는, 매우 넓은 노광 영역에 있어서 양호한 상을 형성할 수 있으므로, 이들 각 실시예의 투영 광학계를 이용하여 노광을 실시하지 안고, 양호한 패턴상을 넓은 범위에 걸쳐서 단시간에 얻을 수 있으며, 직접회로 소자와 액정 패널 등의 디바이스 제조시의 스루폿을 향상시킬 수 있다.
한편, 상기와 같이 제 1 및 제 2 실시예에서는, 투영 광학계가 β=1.25의 확대 배율을 가지는 것으로 설명했으나, 본 발명은 확대 배율을 가지는 것만으로 한정되지 않는다. 이들 제 1 및 제 2 실시예에 따른 투영 광학계에서는, 투영 광학계에 있어서의 제 1 물체측(마스크 M측)과 제 2 물체측(플레이트 P측)을 역전시킨 상태로 사용하여 축소 배율을 얻을 수 있다.
이 때, 각 실시예의 투영 광학계를 역전한 것의 조건 댕응 수치는 이하의 표 3 과 같다. 또한, 이 상태에 있어서의 렌즈 구성도는, 도 3 및 도 4 에 있어서의 좌우가 반전될 뿐이므로 도시는 생략하고, 각종 수차도는, 도 5 및 도 6 의 수차도의 스케일을 0.8배로 한 것과 실질적으로 동일하므로 도시는 생략한다. 이 때, 도 3 및 도 4 에 도시한 제 1 렌즈군, G1은 제 6 렌즈군, 제 2 렌즈군 G2는 제 5 렌즈군, 제 3 렌즈군 G3은 제 4 렌즈군, 제 4 렌즈군 G4는 제 3 렌즈군, 제 5 렌즈군 G5는 제 2 렌즈군, 그리고 제 6 렌즈군 G6는 제 1 렌즈군이 된다.
[표 3]
제 1 실시예의 투영 광학계를 역전시킨 경우의 조건 대응수치
(1) | f1 / f2 | = 2.15
(2) | f6 / f5 | = 1.17
(3) f3 / f4 = 0.42
(4) | β | = 0.8
(5) | f1 / f2 | = 2.15
(6) | f6 / f5 | = 1.17
(7) f3 / f4 = 0.42
(12) (r2Rf + r2Fr) / (r2Rf-r2Fr) = 0.08
(13) (r4Fr + r3Rr) / (r4Ff-r3Rr) = -0.01
(14) (r5Rf + r5Fr) / (r5Rf-r5Fr) = -0.22
(19) | β | = 0.8
제 2 실시예의 투영 광학계를 역전시킨 경우의 조건 대응수치
(1) | f1 / f2 | = 2.03
(2) | f6 / f5 | = 1.06
(3) f3 / f4 = 0.33
(4) | β | = 0.8
(5) | f1 / f2 | = 2.03
(6) | f6 / f5 | = 1.06
(7) f3 / f4 = 0.33
(12) (r2Rf + r2Fr) / (r2Rf-r2Fr) = 0.16
(13) (r4Fr + r3Rr) / (r4Ff-r3Rr) = 0.002
(14) (r5Rf + r5Fr) / (r5Rf-r5Fr) = -0.33
(19) | β | = 0.8
또한, 이상의 각 실시예에서는 광원으로서 g선에서 h선 까지의 광을 공급하는 것을 이용한 예시이지만, 이것에 한정하지 않고, 193nm, 248.8nm의 광을 공급하는 엑시머 레이저 등의 극자외영역 광원과, i선(365nm)의 광을 공급하는 수은 아크램프, 나아가서는 그 이외의 자외 영역의 광을 공급하는 광원을 이용한 것에도 응용할 수 있음을 물론이다.
또한, 각 실시예에서는 투영 광학계에 복수의 접한 렌즈 성분이 포함되어 있으나, 렌즈 성분을 접합하는 대신에 광학 밀착(옵티컬 콘택트)으로 접합 렌즈 성분을 구성해도 좋다. 또한, 접합 렌즈 성분을 구성하는 복수의 렌즈 성분을 미소한 간격을 두고 배치하여, 접합 렌즈 성분과 등가로 구성해도 좋다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 양측 텔레센트릭이면서 넓은 노광 영역에 걸쳐 각종 수차를 매우 양호하게 보정할 수 있는 고성능 투영 광학계를 실현할 수 있다. 또한, 본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 매우 넓은 노광 영역에 있어서, 넓은 스팩트럼(spectrum)폭에 대해 양호하게 색수차 보정이 이루어지는 투영 광학계를 실현할 수 있다.

Claims (21)

  1. 제 1 물체의 상(像)을 제 2 물체상에 투영하기 위한 투영 광학계에 있어서,
    상기 제 1 물체측으로부터 순서대로,
    양의 굴절력을 가지는 제 1 렌즈군과,
    음의 굴절력을 가지고, 서로 마주 향한 오목면의 조합을 형성하는 한쌍의 음(-) 렌즈 성분을 가지는 제 2 렌즈군과,
    양의 굴절력을 가지고, 상기 제 2 물체측에 가장 가까이 배치되고 상기 제 2 물체측으로 오목면을 향하는 렌즈 성분을 가지는 제 3 렌즈군과,
    개구 조리개와,
    양의 굴절력을 가지고, 상기 제 1 물체측에 가장 가까이 배치되고 상기 제 1 물체측으로 오목면을 향한 렌즈 성분을 가지는 제 4 렌즈군과,
    음의 굴절력을 가지고, 서로 마주 향한 오목면의 조합을 형성하는 한 쌍의 음, 렌즈 성분을 가지는 제 5 렌즈군과,
    양의 굴절력을 가지는 제 6 렌즈군을 가지는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  2. 제 1 항에 있어서, 이하의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
    (1) 0.5 | f1 / f2 | 3.0
    (2) 0.5 | f6 / f5 | 3.0
    (3) 0.25 f3 / f4 4.0
    단,
    f1 : 제 1 렌즈군의 초점 거리,
    f2 : 제 2 렌즈군의 초점 거리,
    f3 : 제 3 렌즈군의 초점 거리,
    f4 : 제 4 렌즈군의 초점 거리,
    f5 : 제 5 렌즈군의 초점 거리,
    f6 : 제 6 렌즈군의 초점 거리,
    이다.
  3. 제 1 항에 있어서, 이하의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
    (4) 0.5 ≤ | β | ≤ 1.1
    (5) 1.0. | f1 / f2 | 3.0
    (6) 0.5 | f6 / f5 | 2.0
    (7) 0.25 f3 / f4 2.0
    단,
    β : 상기 투영 광학계의 횡배율,
    f1 : 상기 제 1 렌즈군의 초점 거리,
    f2 : 상기 제 2 렌즈군의 초점 거리,
    f3 : 상기 제 3 렌즈군의 초점 거리,
    f4 : 상기 제 4 렌즈군의 초점 거리,
    f5 : 상기 제 5 렌즈군의 초점 거리,
    f6 : 상기 제 6 렌즈군의 초점 거리,
    이다.
  4. 제 1 항에 있어서, 이하의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
    (8) 1.1 | β | ≤ 2.0
    (9) 0.5 | f1 / f2 | 2.0
    (10) 1.0 | f6 / f5 | 3.0
    (11) 1.0 f3 / f4 4.0
    단,
    β : 상기 투영 광학계의 횡배율,
    f1 : 상기 제 1 렌즈군의 초점 거리,
    f2 : 상기 제 2 렌즈군의 초점 거리,
    f3 : 상기 제 3 렌즈군의 초점 거리,
    f4 : 상기 제 4 렌즈군의 초점 거리,
    f5 : 상기 제 5 렌즈군의 초점 거리,
    f6 : 상기 제 6 렌즈군의 초점 거리,
    이다.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제 1 렌즈군은, 상기 제 2 물체측으로 오목면을 향한 형상의 음의 렌즈 성분을 포함하며, 상기 제 6 렌즈군은 상기 제 1 물체측으로 오목면을 향한 형상의 음의 렌즈 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 이하의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
    (12) (r2Rf + r2Fr) / (r2Rf-r2Fr) 0.0
    (13) -0.1 (r4Ff+r3Rr) / (r4Ff-r3Rr) 0.1
    (14) (r5Rf + r5Fr) / (r5Rf-r5Fr) 0.0
    단,
    r2Rf : 제 2 렌즈군 중의 한쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 1 물체측으로 향한 오목면의 곡률 반경,
    r2Fr : 제 2 렌즈군 중의 한쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 2 물체측으로 향한 오목면의 곡률 반경,
    r3Ff : 제 3 렌즈군 중의 가장 개구 조리개측에 가깝게 배치된 음 렌즈 성분의 제 2 물체측으로 향한 오목면의 곡률 변경,
    r4Rr : 제 4 렌즈군 중의 가장 개구 조리개측에 배치된 음의 렌즈 성분의 제 1 물체측을 향한 오목면의 곡률 반경,
    r5Fr : 제 5 렌즈군의 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 2 물체측을 향한 오목면의 곡률 반경,
    r5Rf : 제 5 렌즈군의 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중 제 1 물체측에 향한 오목면의 곡률 반경이다.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제 3 렌즈군 중 가장 상기 제 2 물체측에 가깝게 배치되고, 상기 제 2 물체측으로 오목면을 향하고 있는 렌즈 성분은 음의 렌즈 성분이며,
    상기 제 4 렌즈군 중의 상기 제 1 물체측에 가장 가까이 배치되고, 상기 제 1 물체측으로 오목면을 향하고 있는 렌즈 성분은 음의 렌즈 성분인 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 제 1 렌즈군은, 상기 제 1 물체측으로부터 순서대로, 음의 굴절력을 가지는 음의 서브 렌즈군과, 양의 굴절력을 가지는 양의 서브 렌즈군을 가지고,
    상기 제 6 렌즈군은, 상기 제 1 물체측으로부터 순서대로, 양의 굴절력을 가지는 양의 서브 렌즈군과, 음의 굴절력을 가지는 음의 서브 렌즈군을 가지고,
    상기 제 1 렌즈군 중의 음의 서브 렌즈군은, 상기 제 2 물체측으로 오목면을 향하고 있는 음의 렌즈 성분을 가지며,
    상기 제 6 렌즈군 중의 음의 서브 렌즈군은, 상기 제 1 물체측으로 오목면을 향하고 있는 음의 렌즈 성분을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중의 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 제 3 렌즈군 중의 양의 렌즈 성분 중 적어도 2 매의 양의 렌즈 성분은 제 1 초석재로 구성되고,
    상기 제 4 렌즈군 중의 양의 렌즈 성분 중 적어도 2 매의 양의 렌즈 성분은 제 1 초석재로 구성되며,
    이하 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
    15) ν t 120
    단, ν t 는 상기 제 1 초석재의 분산치이며, 분산치는 파장 λ에 대한 굴절율을 n(λ)로 할 때,
    ν = { n(436) - 1 } / { n(400) - n(440) }
    으로 정의된다.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 제 3 렌즈군 중 제 2 물체측에 가장 가깝게 배치된 렌지 성분은 제 2 초석재로 구성되고,
    상기 제 4 렌즈군 중 제 1 물체측에 가장 가깝게 배치된 렌즈 성분은 제 2 초석재로 구성되며,
    이하의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
    (16) νc 110
    단, νc는 상기 제 2 초석재의 분산치이다.
  11. 제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제 2 렌즈군의 상기 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중의 적어도 한쪽의 음의 렌즈 성분에 인접하여 배치된 양의 렌즈 성분과,
    상기 제 5 렌즈군의 상기 한 쌍의 음의 렌즈 성분 중 적어도 한쪽의 음의 렌즈 성분에 인접하여 배치되는 양의 렌즈 성분을 가지며,
    상기 제 2 렌즈군의 적어도 한쪽의 상기 음의 렌즈 성분과 상기 제 2 렌즈군 중의 상기 양의 렌즈 성분은 전체적으로 매니스커스 형상이고,
    상기 제 5 렌즈군 중의 적어도 한쪽의 음의 렌즈 성분과 상기 제 5 렌즈군 중의 양의 렌즈 성분은 전체적으로 매니스커스 형상인 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 제 2 렌즈군 중 전체적으로 매니스커스 형상을 형성하는 음의 렌즈 성분과 양의 렌즈 성분 중, 상기 음의 렌즈 성분은, 상기 제 3 초석재로 구성되고, 상기 양의 렌즈 성분은 상기 제 2 초석재로 구성되며,
    상기 제 5 렌즈군 중 전체적으로 매니스커스 형상을 형성하는 음의 렌즈 성분과 양의 렌즈 성분 중, 상기 음의 렌즈 성분은 상기 제 3 초석재로 구성되고, 상기 양의 렌즈 성분은 상기 제 2 초서재로 구성되며,
    이하의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
    (16) νc 110
    (17) νf 75
    단,
    νc : 상기 제 2 초석재의 분산치,
    νf : 상기 제 3 초석재의 분산치이다.
  13. 제 8 항 내지 제 12 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 제 1 렌즈군 중의 상기 양의 서브 렌즈군 중의 적어도 1 매의 양의 렌즈 성분은 제 3 초석재로 구성되고,
    상기 제 1 렌즈군 중의 상기 음의 서브 렌즈군 중의 적어도 1 매의 음의 렌즈 성분은 제 2 초석재로 구성되고,
    상기 제 6 렌즈군 중의 상기 양의 서브 렌즈군 중의 적어도 1 매의 양의 렌즈 성분은 제 3 초석재로 구성되고,
    상기 제 6 렌즈군 중의 상기 음의 서브 렌즈군 중의 적어도 1 매의 음의 렌즈 성분은 제 2 초석재로 구성되며,
    이하의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
    (16) νc 110
    (17) νf 75
    단,
    νc : 상기 제 2 초석재의 분산치,
    νf : 상기 제 3 초석재의 분산치이다.
  14. 제 11 항 내지 제 13 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제 2 렌즈군 중 상기 한 쌍의 음의 렌즈 성분 사이에는, 음의 렌즈 성분이 배치되며,
    상기 제 5 렌즈군 중의 상기 한 쌍의 음의 렌즈 성분 사이에는, 음의 렌즈 성분이 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  15. 제 12 항에 있어서, 상기 제 2 렌즈군의 음의 렌즈 성분 중 상기 제 3 초석재로 구성되는 상기 음의 렌즈 이외의 다른 음의 렌즈 성분은 상기 제 2 초석재로 구성되며,
    상기 제 5 렌즈군의 음의 렌즈 성분 중 상기 제 3 초석재로 구성되는 상기 음의 렌즈 이외의 다른 음의 렌즈 성분은, 상기 제 2 초석재로 구성되는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  16. 제 9 항 내지 제 15 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제 2 렌즈군 중 전체적으로 매니스커스 형상인 음의 렌즈 성분과 양의 렌즈 성분은, 상기 제 1 물체측으로 오목면을 향하여 배치되고,
    상기 제 5 렌즈군 중 전체적으로 매니스커스 형상인 음의 렌즈 성분과 양의 렌즈 성분은, 상기 제 2 물체측으로 오목면을 향하게 배치되는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  17. 제 8 항 내지 제 16 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제 6 렌즈군 중의 양의 서브 렌즈군은, 이하의 조건을 만족하는 렌즈면을 가지는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
    (18) RG6 / DG6 2
    단,
    RG6 : 제 6 렌즈군을 구성하는 양의 렌즈 성분의 렌즈면중, 상기 제 2 물체측으로 오목면을 향하고 있는 렌즈 면의 곡률 반경,
    DG6 : 상기 렌즈 면과 상기 제 2 물체와의 거리이다.
  18. 제 1 항, 제 2 항 및 제 5 항 내지 제 17 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 투영 광학계의 투영 배율 β는 이하의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
    (19) 0.5 ≤ |β| ≤2.0
  19. 상기 제 1 물체를 조명하는 조명광학계와,
    제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 하나의 항에 의한 투영광학계와,
    상기 제 2 물체를 지지하는 제 2 지지부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  20. 제 19 항에 있어서, 상기 투영 광학계의 투영 배율 β가 1.25인 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  21. 소정의 회로 패턴이 그려진 마스크를 자외영역 노광광으로 조명하는 공정과,
    제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 하나의 항에 의한 투영광학계를 이용하여 상기 조명된 마스크의 상(像)을 기판위에 형성하는 공정을 포함하는 디바이스 제조방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030038427A (ko) * 2001-11-05 2003-05-16 가부시키가이샤 니콘 투영 광학계, 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3925576B2 (ja) 1997-07-24 2007-06-06 株式会社ニコン 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法
JPH1195095A (ja) 1997-09-22 1999-04-09 Nikon Corp 投影光学系
JPH11214293A (ja) 1998-01-22 1999-08-06 Nikon Corp 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法
US6700645B1 (en) 1998-01-22 2004-03-02 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus and method
US6600550B1 (en) * 1999-06-03 2003-07-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, a photolithography method, and a device manufactured by the same
US6710930B2 (en) 1999-12-01 2004-03-23 Nikon Corporation Illumination optical system and method of making exposure apparatus
US6815129B1 (en) 2000-09-26 2004-11-09 Euv Llc Compensation of flare-induced CD changes EUVL
JP2002244034A (ja) 2001-02-21 2002-08-28 Nikon Corp 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
JP2002323652A (ja) 2001-02-23 2002-11-08 Nikon Corp 投影光学系，該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151365A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
DE602005003665T2 (de) 2004-05-17 2008-11-20 Carl Zeiss Smt Ag Katadioptrisches projektionsobjektiv mit zwischenbildern
DE102005024290A1 (de) * 2005-05-27 2006-11-30 Carl Zeiss Smt Ag Abbildungssystem, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
US8654307B2 (en) * 2006-03-20 2014-02-18 Nikon Corporation Scanning type exposure apparatus, method of manufacturing micro-apparatus, mask, projection optical apparatus, and method of manufacturing mask
JP4952182B2 (ja) 2006-03-20 2012-06-13 株式会社ニコン 走査型露光装置、マイクロデバイスの製造方法、走査露光方法、及びマスク
JP5522520B2 (ja) * 2006-05-05 2014-06-18 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学レンズ系
CN100547448C (zh) * 2007-11-21 2009-10-07 上海微电子装备有限公司 一种投影光学系统及投影曝光装置
TW201113553A (en) * 2009-10-13 2011-04-16 Young Optics Inc Fixed-focus lens
JP5903809B2 (ja) * 2011-09-06 2016-04-13 リソテック株式会社 投影光学系
CN109856915B (zh) * 2017-11-30 2020-07-14 上海微电子装备（集团）股份有限公司 光刻投影物镜、边缘曝光系统和边缘曝光装置
CN110068910B (zh) * 2018-01-24 2021-08-13 信泰光学(深圳)有限公司 镜头组
CN109656092B (zh) * 2019-01-07 2024-04-12 中国科学院福建物质结构研究所 一种紫外中继分幅光学系统以及紫外分幅相机

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3504961A (en) * 1968-04-01 1970-04-07 Perkin Elmer Corp Modified double gauss objective
US3897138A (en) * 1971-11-24 1975-07-29 Canon Kk Projection lens for mask pattern printing
JPS5336326B2 (ko) * 1972-12-26 1978-10-02
JPS581763B2 (ja) * 1978-06-19 1983-01-12 旭光学工業株式会社 回折限界の解像力を有する等倍複写用レンズ
JPS58147708A (ja) * 1982-02-26 1983-09-02 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 照明用光学装置
US4666273A (en) * 1983-10-05 1987-05-19 Nippon Kogaku K. K. Automatic magnification correcting system in a projection optical apparatus
GB2153543B (en) * 1983-12-28 1988-09-01 Canon Kk A projection exposure apparatus
US4811055A (en) * 1984-02-27 1989-03-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
US4772107A (en) * 1986-11-05 1988-09-20 The Perkin-Elmer Corporation Wide angle lens with improved flat field characteristics
JPH0812329B2 (ja) * 1986-11-06 1996-02-07 株式会社シグマ 投影レンズ
US4770477A (en) * 1986-12-04 1988-09-13 The Perkin-Elmer Corporation Lens usable in the ultraviolet
US4918583A (en) * 1988-04-25 1990-04-17 Nikon Corporation Illuminating optical device
US5105075A (en) * 1988-09-19 1992-04-14 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JP3041939B2 (ja) * 1990-10-22 2000-05-15 株式会社ニコン 投影レンズ系
JP3353902B2 (ja) * 1990-12-12 2002-12-09 オリンパス光学工業株式会社 投影レンズ系
US5172275A (en) * 1990-12-14 1992-12-15 Eastman Kodak Company Apochromatic relay lens systems suitable for use in a high definition telecine apparatus
JPH04369209A (ja) * 1991-06-17 1992-12-22 Nikon Corp 露光用照明装置
JP3298131B2 (ja) * 1991-10-24 2002-07-02 株式会社ニコン 縮小投影レンズ
JPH06313845A (ja) * 1993-04-28 1994-11-08 Olympus Optical Co Ltd 投影レンズ系
JP3360387B2 (ja) * 1993-11-15 2002-12-24 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
JP3396935B2 (ja) * 1993-11-15 2003-04-14 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
US5696631A (en) * 1996-02-22 1997-12-09 Anvik Corporation Unit magnification projection lens system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030038427A (ko) * 2001-11-05 2003-05-16 가부시키가이샤 니콘 투영 광학계, 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP3864399B2 (ja) 2006-12-27
US5903400A (en) 1999-05-11
JPH1054936A (ja) 1998-02-24

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