JPS6147917A - 反射光学系 - Google Patents
反射光学系Info
- Publication number
- JPS6147917A JPS6147917A JP59169642A JP16964284A JPS6147917A JP S6147917 A JPS6147917 A JP S6147917A JP 59169642 A JP59169642 A JP 59169642A JP 16964284 A JP16964284 A JP 16964284A JP S6147917 A JPS6147917 A JP S6147917A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- mirror system
- image
- reflecting
- concave
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は反射光学系に関し、特にＩＣ，ＬＳＩ等の集積
回路を製造するときの投影露光装置に用いられる物体像
の結像調整機構を有する反射光学系に関するものである
。
回路を製造するときの投影露光装置に用いられる物体像
の結像調整機構を有する反射光学系に関するものである
。
従来より投影露光装置を用いＩＯ，Ｌｆ３１等の集積回
路のパターンをシリコンウェハーに焼付ける為の反射光
学系が、例えば特開昭４８−１２０５９号公報、特開昭
５３−１００２３０号公報等で提案されている。
路のパターンをシリコンウェハーに焼付ける為の反射光
学系が、例えば特開昭４８−１２０５９号公報、特開昭
５３−１００２３０号公報等で提案されている。
これらの投影露光装置に用いられている反射光学系は非
常に高い解像力を有している。
常に高い解像力を有している。
一般に、投影像の解像力は使用する波長が短かくなれば
なる程良くなる。この為に、なるべく短波るよう略完全
に収差補正がなされた光学系が用いられている。
なる程良くなる。この為に、なるべく短波るよう略完全
に収差補正がなされた光学系が用いられている。
一般に、レンズを用いた結像光学系は色収差を補正する
為に複数のガレス材料を用いて構成されている。短波長
側の光は高解像力を得るには有利であるが短波長側では
色分散が大きい為設計上、色収差を良好に補正するのが
困難である。
為に複数のガレス材料を用いて構成されている。短波長
側の光は高解像力を得るには有利であるが短波長側では
色分散が大きい為設計上、色収差を良好に補正するのが
困難である。
この為に、高解像力が要求されるＩＣパターン等の焼付
用の結像光学系には反射鏡を用いた光学系が多く用いら
れている。
用の結像光学系には反射鏡を用いた光学系が多く用いら
れている。
又、高解像力の投影像を得るには装置全体を設計値と一
致させるように組立てなければならない。
致させるように組立てなければならない。
しかしながら、工０パターン等の微細パターンを焼付け
る結像光学系においては、設計値と一致させて組立てる
ことは例えば温度差等により投影倍率が異ってくる為に
非常に困難である。
る結像光学系においては、設計値と一致させて組立てる
ことは例えば温度差等により投影倍率が異ってくる為に
非常に困難である。
本発明は、投影露光装置に好適な高解像力の得られる物
体像の結像ｇｌｉ整機構を有した反射光学系の提供を目
的とする。
体像の結像ｇｌｉ整機構を有した反射光学系の提供を目
的とする。
本発明の目的を達成する為の反射光学系の主たる特徴は
、凹面鏡Ｍ１＋凸面鏡Ｍ２そして凹面鏡Ｍ３の順に反射
させた後物体像を所定位置に結像させるようにしたミラ
ー系Ｓを複数個と少なくとも１つの凹面鏡ｍを有するミ
ラー系Ｓ′を１個、実質的に同一光軸上に位置するよう
に配置し、順次物体像の結像を繰り返すように構成した
反射光学系において、前記ミラー系Ｓ′の凹面鏡ｍを光
軸上移動させることにより物体像の結像調整を行ったこ
とである。
、凹面鏡Ｍ１＋凸面鏡Ｍ２そして凹面鏡Ｍ３の順に反射
させた後物体像を所定位置に結像させるようにしたミラ
ー系Ｓを複数個と少なくとも１つの凹面鏡ｍを有するミ
ラー系Ｓ′を１個、実質的に同一光軸上に位置するよう
に配置し、順次物体像の結像を繰り返すように構成した
反射光学系において、前記ミラー系Ｓ′の凹面鏡ｍを光
軸上移動させることにより物体像の結像調整を行ったこ
とである。
このような構成を採ることにより収差変動を少なくしつ
つ、所定の倍率で物体像を形成させた反射光学系を達成
している。
つ、所定の倍率で物体像を形成させた反射光学系を達成
している。
次に、本発明の実施例を各図と共に説明する。
第１図は本発明の実施例１の反射光学系の概略図である
。同図の反射光学系は、第２図に示す６つの反射！！！
！λ（１＋ Ｍ２ｙ Ｍ５より成るミラー系Ｓを６個と
第３図に示す２つの反射鏡Ｍ５１ｔＪ２より成るミラー
系Ｓ５を実質的に同一光軸上に位置するようにし、反射
鏡Ｍ５１若しくは反射鏡ＭＳ２の一方又は両方を移動さ
せることにより物体像の結像調整を行い、かつ全体の結
像倍率が縮少となるように配置したものであり、これに
より高解像力の反射光学系を達成している。
。同図の反射光学系は、第２図に示す６つの反射！！！
！λ（１＋ Ｍ２ｙ Ｍ５より成るミラー系Ｓを６個と
第３図に示す２つの反射鏡Ｍ５１ｔＪ２より成るミラー
系Ｓ５を実質的に同一光軸上に位置するようにし、反射
鏡Ｍ５１若しくは反射鏡ＭＳ２の一方又は両方を移動さ
せることにより物体像の結像調整を行い、かつ全体の結
像倍率が縮少となるように配置したものであり、これに
より高解像力の反射光学系を達成している。
第１図の実施例では、反射鏡Ｍ １−Ｍ３で第１のミラ
ー系Ｓ１２反射鏡Ｍ４〜Ｍ６で第２のミラー系ｓ２．反
射鏡Ｍ７〜Ｍ８で第３のミラー系Ｓ５そして反射鏡に９
〜ＶＬ１１で第４のミラー系Ｓ４を各々構成している。
ー系Ｓ１２反射鏡Ｍ４〜Ｍ６で第２のミラー系ｓ２．反
射鏡Ｍ７〜Ｍ８で第３のミラー系Ｓ５そして反射鏡に９
〜ＶＬ１１で第４のミラー系Ｓ４を各々構成している。
そして、物点Ｐ１を順次ミラー系Ｓ１ｔ Ｓ２ｒ Ｓ５
ｔ Ｓ４で各々結像を繰り返し、最終的に像点Ｐ４’（
Ｐ５）に結像倍率１／４．５となるように結像させてい
る。
ｔ Ｓ４で各々結像を繰り返し、最終的に像点Ｐ４’（
Ｐ５）に結像倍率１／４．５となるように結像させてい
る。
次に、第１図に示す反射光学系を構成しているミラー系
の結像状態を説明する。
の結像状態を説明する。
第２図において、６つの反射鏡Ｍ１９Ｍ２＊ Ｍ５は物
点Ｐ１からの光束Ｌ１が凹面鏡Ｍ１．凸面ｆ１１．Ｍ２
そして凹面鏡Ｍ５の順に反射した後、像点ｐ １／に結
像するように配置されている。
点Ｐ１からの光束Ｌ１が凹面鏡Ｍ１．凸面ｆ１１．Ｍ２
そして凹面鏡Ｍ５の順に反射した後、像点ｐ １／に結
像するように配置されている。
第２図に示すミラー系Ｓの凹面鏡Ｍ５は、凸面鏡Ｍ２と
凹面鏡Ｍ１との間に位置するように配置されている。
凹面鏡Ｍ１との間に位置するように配置されている。
第６図に示すミラー系Ｓ３の２つの凹面鏡は、物点Ｐ１
かもの光束を２つの凹面鏡Ｍ３１ｙＭ５２により像点Ｐ
１′に結像するように配置されている。
かもの光束を２つの凹面鏡Ｍ３１ｙＭ５２により像点Ｐ
１′に結像するように配置されている。
本実施例において、ミラー、１６ｓ＝の２つの凹面鏡Ｍ
Ｓ１９Ｍ５２のいずれか一方若しくは双方を光軸上移動
させることにより倍率調整を行っている。収差変動を少
なくしつつこれにより所定の倍率を有した物体像を得て
いる。
Ｓ１９Ｍ５２のいずれか一方若しくは双方を光軸上移動
させることにより倍率調整を行っている。収差変動を少
なくしつつこれにより所定の倍率を有した物体像を得て
いる。
又、ミラー系Ｓ３を光学的に第２のミラー系Ｓ２と第４
のミラー系Ｓ４との間に配設しフィールド作用をさせる
ことにより、第４のミラー系Ｓ４への光束系を小さくし
て反射光学系の小型化を図っている。
のミラー系Ｓ４との間に配設しフィールド作用をさせる
ことにより、第４のミラー系Ｓ４への光束系を小さくし
て反射光学系の小型化を図っている。
本実施例において、物体は第４図に示すような円弧状の
一部分Ｑ１を有効面としている。この為に、ミラー系の
各反射鏡の外形を必ずしも円形とする必要はなく、不要
の所は削除して用いれば全体として反射光学系を小型に
することができる。
一部分Ｑ１を有効面としている。この為に、ミラー系の
各反射鏡の外形を必ずしも円形とする必要はなく、不要
の所は削除して用いれば全体として反射光学系を小型に
することができる。
本実施例において、ミラーＲ”１＋ ８２１ Ｓａを各
々凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡より成るすなわち正、負
そして正の屈折力より成る又射鏡により構成することに
より１つのミラー系から発生す、る賭収差、特にコマ収
差、像面湾曲を少なくして全体的に良好なる結像性能を
得ている。
々凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡より成るすなわち正、負
そして正の屈折力より成る又射鏡により構成することに
より１つのミラー系から発生す、る賭収差、特にコマ収
差、像面湾曲を少なくして全体的に良好なる結像性能を
得ている。
このように実施例１では、第１図に示すようにミラー系
Ｓ１により物点Ｐ１を像点Ｐ１′へ、すなわちミラー系
Ｓ２の物点Ｐ２へ、ミラー系Ｓ２により物点Ｐ２を像点
Ｐ２′へすなわちミラー系Ｓ３の物点Ｐ５へ以下同様に
ミラー系Ｓ３そしてミラー系Ｓ４により順次結像を繰り
返して最終的に物点Ｐ１を像点Ｐ４′へ縮少させて結像
させている。
Ｓ１により物点Ｐ１を像点Ｐ１′へ、すなわちミラー系
Ｓ２の物点Ｐ２へ、ミラー系Ｓ２により物点Ｐ２を像点
Ｐ２′へすなわちミラー系Ｓ３の物点Ｐ５へ以下同様に
ミラー系Ｓ３そしてミラー系Ｓ４により順次結像を繰り
返して最終的に物点Ｐ１を像点Ｐ４′へ縮少させて結像
させている。
実施例１ではミラー系Ｓ１＋ ８５＋ ”４を縮少系と
し、ミラー系Ｓ２を拡大系として構成している。
し、ミラー系Ｓ２を拡大系として構成している。
具体的に各ミラー系の結像倍率を示すと表−１の如くで
ある。
ある。
表−１各ミラー系の結像倍率
実施例１では、全体として結像倍率１／４．５を達成す
るのに４つのミラー系を表−１に示すような結像倍率を
有するように構成することにより全体的に収差補正をバ
ランス良く行っている。
るのに４つのミラー系を表−１に示すような結像倍率を
有するように構成することにより全体的に収差補正をバ
ランス良く行っている。
特に、ミラー系Ｓ２を拡大系とすることによりミラー系
Ｓ１．Ｓ３．Ｓ４で生じたコマ収差、像面湾曲及び歪曲
収差等を良好に補正している。
Ｓ１．Ｓ３．Ｓ４で生じたコマ収差、像面湾曲及び歪曲
収差等を良好に補正している。
第５図は、本発明の実施例２の反射光学系の概略図であ
る。同図の反射光学系は、第２図に示す３つの反射鏡Ｍ
１＋ Ｍ２＋ Ｍ５より成るミラー系Ｓを６個と第６図
に示す３つの反射鏡Ｍ１’、Ｍ２’、Ｍ３’より成るミ
ラー系Ｓ′を１個と凹面鏡Ｍ７′より成るミラー系８３
′を実質的に同一光軸上に位置するようにし、凹面鏡Ｍ
７′を光軸上移動させて物体像の結像調整を行い、かつ
全体の結像倍率が縮少となるように配置したものであり
、これにより高解像力の反射光学系を達成している。
る。同図の反射光学系は、第２図に示す３つの反射鏡Ｍ
１＋ Ｍ２＋ Ｍ５より成るミラー系Ｓを６個と第６図
に示す３つの反射鏡Ｍ１’、Ｍ２’、Ｍ３’より成るミ
ラー系Ｓ′を１個と凹面鏡Ｍ７′より成るミラー系８３
′を実質的に同一光軸上に位置するようにし、凹面鏡Ｍ
７′を光軸上移動させて物体像の結像調整を行い、かつ
全体の結像倍率が縮少となるように配置したものであり
、これにより高解像力の反射光学系を達成している。
第５図の実施例では、反射鏡Ｍ１〜Ｍ５で第１のミラー
系Ｓ１＋反射鏡Ｍ４〜Ｍ６で第２のミラー系Ｓ２＋反射
鏡Ｍ７で第３のミラー系Ｓ５そして反射鏡Ｍ８４１０で
第４のミラー系Ｓ４．反射鏡Ｍ１１−４１ｓで第５のミ
ラー系Ｓ５を各々構成している。
系Ｓ１＋反射鏡Ｍ４〜Ｍ６で第２のミラー系Ｓ２＋反射
鏡Ｍ７で第３のミラー系Ｓ５そして反射鏡Ｍ８４１０で
第４のミラー系Ｓ４．反射鏡Ｍ１１−４１ｓで第５のミ
ラー系Ｓ５を各々構成している。
ミラー系Ｓ１ｔ ”’２＋ ８５は第２図に示すミラー
系Ｓより又ミラー系Ｓ４は第６図に示すミラー系Ｓ′よ
り構成されている。
系Ｓより又ミラー系Ｓ４は第６図に示すミラー系Ｓ′よ
り構成されている。
そして、物点Ｐ１を順次ミラー系Ｓ１１８２＋ ＳＳｒ
”’４＋ ８５で各々結像を繰り返し、最終的に像点
Ｐ５’（Ｐ６）に結像倍率１／４．５となるように結像
させている。
”’４＋ ８５で各々結像を繰り返し、最終的に像点
Ｐ５’（Ｐ６）に結像倍率１／４．５となるように結像
させている。
実施例２では、ミラー系Ｓ１＋ ”’Ｓ、Ｓ５を縮少系
とし、ミラーＡ Ｓ２＋ ８４を拡大系として構成して
いる。具体的に各ミラー系の結像倍率を示すと表−２の
如くである。。
とし、ミラーＡ Ｓ２＋ ８４を拡大系として構成して
いる。具体的に各ミラー系の結像倍率を示すと表−２の
如くである。。
表−２各ミラー系の結像倍率
実施例２では、全体として結像倍率１μを達成するのに
５つのミラー系を表−筆に示すような結像倍率を有する
ように構成することにより全体的に収差補正をバランス
良く行っている。
５つのミラー系を表−筆に示すような結像倍率を有する
ように構成することにより全体的に収差補正をバランス
良く行っている。
特に、ミラー系Ｓ２＋ ８４を拡大系とすることにより
ミラー系Ｓ１．Ｓ５．Ｓ５で生じたコマ収差、像面湾曲
及び歪曲収差等を良好に補正している。
ミラー系Ｓ１．Ｓ５．Ｓ５で生じたコマ収差、像面湾曲
及び歪曲収差等を良好に補正している。
又実施例２において、ミラー系Ｓ３を光学的に第２のミ
ラー系Ｓ２と第４のミラー系Ｓ４との間に配置しフィー
ルド作用をさせることにより、第４のミラー系Ｓ４への
光束径を小さくしている。
ラー系Ｓ２と第４のミラー系Ｓ４との間に配置しフィー
ルド作用をさせることにより、第４のミラー系Ｓ４への
光束径を小さくしている。
実施例２では、複数のミラー系で反射光学系を構成する
場合に生じる光束のクラレを、各々のミラ・−系の間に
全反射鏡Ｈ１〜Ｈ４を配置して防止してし）る。
場合に生じる光束のクラレを、各々のミラ・−系の間に
全反射鏡Ｈ１〜Ｈ４を配置して防止してし）る。
次に、本発明の実施例１，２の諸数値を示す。Ｒｉは物
点Ｐ１から数えて第り番目の反射鏡の曲率半径、Ｄは各
反射鏡との間隔で光の進行方向に沿って左方から右方に
測ったときを正、その逆を負として示す。
点Ｐ１から数えて第り番目の反射鏡の曲率半径、Ｄは各
反射鏡との間隔で光の進行方向に沿って左方から右方に
測ったときを正、その逆を負として示す。
以上のように本発明によれば、物体像の結像調整を行う
ことにより高解像力の得られる反射光学系を達成するこ
とができる。
ことにより高解像力の得られる反射光学系を達成するこ
とができる。
第１図、第５図は各々本発明の実施例１，２の光学系の
概略図、第２．第３．第６図は本発明の詳細な説明図、
第４図は本発明に係る物体の有効画面の説明図、第６図
、第７図は各々本発明のりＳ 実施例１．２の諸収差図である。図中、Ｙは像高、Ｓ１
〜Ｓ５は各々ミラー系、Ｍｌｌｌｓは各々反射鏡、棧 Ｈ１〜Ｈ４は各々全反吋示す。
概略図、第２．第３．第６図は本発明の詳細な説明図、
第４図は本発明に係る物体の有効画面の説明図、第６図
、第７図は各々本発明のりＳ 実施例１．２の諸収差図である。図中、Ｙは像高、Ｓ１
〜Ｓ５は各々ミラー系、Ｍｌｌｌｓは各々反射鏡、棧 Ｈ１〜Ｈ４は各々全反吋示す。
Claims (2)
- （１）凹面鏡Ｍ＿１、凸面鏡Ｍ＿２そして凹面鏡Ｍ＿３
の順に反射させた後物体像を所定位置に結像させるよう
にしたミラー系Ｓを複数個と少なくとも１つの凹面鏡ｍ
を有するミラー系Ｓ′を１個、実質的に同一光軸上に位
置するように配置し、順次物体像の結像を繰り返すよう
に構成した反射光学系で、前記ミラー系Ｓ′の凹面鏡ｍ
を光軸上移動させることにより物体像の結像調整を行つ
たことを特徴とする反射光学系。 - （２）前記ミラー系Ｓ′を前記複数のミラー系Ｓとの間
に配置したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の反射光学系。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59169642A JPS6147917A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 反射光学系 |
| US06/764,001 US4701035A (en) | 1984-08-14 | 1985-08-09 | Reflection optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59169642A JPS6147917A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 反射光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6147917A true JPS6147917A (ja) | 1986-03-08 |
Family
ID=15890266
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59169642A Pending JPS6147917A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 反射光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6147917A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6318626A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-26 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| JPS6362231A (ja) * | 1986-09-02 | 1988-03-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Ｘ線縮小投影露光装置 |
| JPS6413111A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-18 | M J I Kk | Generating method for stereoscopic real image of object |
| JPH04234722A (ja) * | 1990-08-28 | 1992-08-24 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 補償型光学システム |
| US7405802B2 (en) | 2003-06-30 | 2008-07-29 | Asml Holding N.V. | Large field of view 2X magnification projection optical system for FPD manufacture |
| US10098446B2 (en) | 2008-08-12 | 2018-10-16 | Anisa International, Inc. | Dual sided cosmetics brush and methods for making same |
-
1984
- 1984-08-14 JP JP59169642A patent/JPS6147917A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6318626A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-26 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| JPS6362231A (ja) * | 1986-09-02 | 1988-03-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Ｘ線縮小投影露光装置 |
| JPS6413111A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-18 | M J I Kk | Generating method for stereoscopic real image of object |
| JPH04234722A (ja) * | 1990-08-28 | 1992-08-24 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 補償型光学システム |
| US7405802B2 (en) | 2003-06-30 | 2008-07-29 | Asml Holding N.V. | Large field of view 2X magnification projection optical system for FPD manufacture |
| JP2008233932A (ja) * | 2003-06-30 | 2008-10-02 | Asml Holding Nv | フラットパネルディスプレイ製造用露光システムおよびフラットパネルディスプレイ製造用ユニット拡大環状光学系 |
| US7643128B2 (en) | 2003-06-30 | 2010-01-05 | Asml Holding N.V. | Large field of view projection optical system with aberration correctability |
| US10098446B2 (en) | 2008-08-12 | 2018-10-16 | Anisa International, Inc. | Dual sided cosmetics brush and methods for making same |
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