JP2013541729A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 投影露光系（１）のための結像光学系（９）であって、
   アナモフィック結像投影レンズ系（２６，２７）を有し、
   前記少なくとも１つの投影レンズ系（２６，２７）は、２つの主要平面の方向に同符号結像スケールを有し、
   前記少なくとも１つの投影レンズ系（２６，２７）は、少なくとも４つのミラーを含む、
   ことを特徴とする結像光学系（９）。
2. 前記少なくとも１つのアナモフィック結像投影レンズ系は、少なくとも１つがアナモフィック結像を行う少なくとも２つの部分レンズ系（２６，２７）を有することを特徴とする請求項１に記載の結像光学系（９）。
3. 円形射出瞳を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の結像光学系（９）。
4. 前記少なくとも１つのアナモフィック結像投影レンズ系（２６，２７）は、少なくとも１つのミラー（Ｍ１からＭ８）を含み、特に、該ミラー（Ｍ１からＭ８）のうちの少なくとも１つが、自由曲面を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の結像光学系（９）。
5. 第１の方向の第１の結像スケールと、該第１の結像スケールの少なくとも１．５倍大きい第２の方向の第２の結像スケールとを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の結像光学系（９）。
6. 方向依存の物体側開口数（ＮＡＯ）を特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の結像光学系（９）。
7. 少なくとも０．４の像側開口数と、
   視野中心点に対する７°よりも小さい物体側主ビーム角度と、
   走査方向に対して垂直な方向に１３ｍｍよりも大きい幅を有する像視野（１０）と、
   を特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の結像光学系（９）。
8. 請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の結像光学系（９）を有し、
   放射線（１４）を放射線源（３）から物体視野（５）に伝達するための照明光学系（４）を有する、
   ことを特徴とする光学系。
9. 請求項８に記載の光学系を有し、
   放射線源（３）を有する、
   ことを特徴とする投影露光系（１）。
10. 走査方向に変位させることができる、レチクル（７）を保持するレチクルホルダ（８）を有し、
    結像光学系（９）の走査方向の結像スケールが、それに垂直な方向のものよりも小さい、
    ことを特徴とする請求項９に記載の投影露光系（１）。
11. 請求項９又は請求項１０に記載の投影露光系のためのレチクル（７）であって、
    少なくとも１０４ｍｍの幅と、
    １３２ｍｍよりも大きい長さと、
    を有することを特徴とするレチクル（７）。
12. 微細構造化構成要素を生成する方法であって、
    レチクル（７）と感放射線層を有するウェーハ（１２）とを準備する段階と、
    請求項９又は請求項１０に記載の投影露光系（１）を用いて前記レチクル（７）上の構造を前記ウェーハ（１２）上の前記感放射線層上に投影する段階と、
    前記ウェーハ（１２）上の前記露光された層を現像する段階と、
    を有することを特徴とする方法。
13. 請求項１２に記載の方法によって生成された構成要素。