JPH11317344A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH11317344A JPH11317344A JP10136046A JP13604698A JPH11317344A JP H11317344 A JPH11317344 A JP H11317344A JP 10136046 A JP10136046 A JP 10136046A JP 13604698 A JP13604698 A JP 13604698A JP H11317344 A JPH11317344 A JP H11317344A
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- JP
- Japan
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- light
- mask
- light source
- optical
- light beam
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
Abstract
(57)【要約】
【課題】 方向により異なる開口数を有する照明光を簡
便に得られ、マスク上の照度を大きくすることができ、
高効率なスループットの露光装置を提供すること。 【解決手段】 所定のパターンが形成されたマスク１０
を照明するための照明光学系を備え、マスクのパターン
像を感光基板１１上に形成する露光装置において、照明
光学系は、光束を供給する光源部１、２と、光源からの
光束を振幅分割する光分割部材４と、分割された光束を
波面分割し、波面分割された光束に基づいて複数の光源
像を形成するオプティカルインテグレータ６と、オプテ
ィカルインテグレータによる複数の光源像からの光をマ
スクへ導くコンデンサ光学系９とを備え、オプティカル
インテグレータの中心軸に対して垂直な平面内において
縦横比が異なる断面形状の光束でオプティカルインテグ
レータを照明する。
便に得られ、マスク上の照度を大きくすることができ、
高効率なスループットの露光装置を提供すること。 【解決手段】 所定のパターンが形成されたマスク１０
を照明するための照明光学系を備え、マスクのパターン
像を感光基板１１上に形成する露光装置において、照明
光学系は、光束を供給する光源部１、２と、光源からの
光束を振幅分割する光分割部材４と、分割された光束を
波面分割し、波面分割された光束に基づいて複数の光源
像を形成するオプティカルインテグレータ６と、オプテ
ィカルインテグレータによる複数の光源像からの光をマ
スクへ導くコンデンサ光学系９とを備え、オプティカル
インテグレータの中心軸に対して垂直な平面内において
縦横比が異なる断面形状の光束でオプティカルインテグ
レータを照明する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子や液晶
板等の製造に用いる露光装置、特にプロキシミディ方式
の露光装置に関する。
板等の製造に用いる露光装置、特にプロキシミディ方式
の露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のプロキシミティ露光装置では、光
源からの光束をフライアイレンズに入射させ、多数の光
源像を形成する。この光源像からの光束はコンデンサレ
ンズを介してパターンが形成されたマスクを均一照明す
る。そして、マスク近接して配置されている感光性基板
に前記パターンが投影、露光される。
源からの光束をフライアイレンズに入射させ、多数の光
源像を形成する。この光源像からの光束はコンデンサレ
ンズを介してパターンが形成されたマスクを均一照明す
る。そして、マスク近接して配置されている感光性基板
に前記パターンが投影、露光される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術のプロキ
シミティ露光装置では、マスクを照明する光束の開口数
は方向に関係なく一定である。そして、マスク上におけ
る照度Ｅは、次式（１）、 Ｅ＝π×Ｔ×Ｂ×ＮＡ2 （１） で表わされる。ここで、πは円周率、ＮＡは照明光の開
口数、Ｔは光学系の透過率、Ｂは光源の輝度をそれぞれ
表している。式（１）から明らかなように、透過率Ｔ及
び輝度Ｂが一定の場合にマスク上の照度Ｅを大きくする
ためには、照明光の開口数ＮＡを大きくすれば良いこと
がわかる。しかし、一般にプロキシミティ露光装置の場
合に、照明光の開口数を一様に、即ち照明方向に関係な
く大きくすると、像のボケにより感光基板に転写される
パターンの解像力の低下を生じるので好ましくない。
シミティ露光装置では、マスクを照明する光束の開口数
は方向に関係なく一定である。そして、マスク上におけ
る照度Ｅは、次式（１）、 Ｅ＝π×Ｔ×Ｂ×ＮＡ2 （１） で表わされる。ここで、πは円周率、ＮＡは照明光の開
口数、Ｔは光学系の透過率、Ｂは光源の輝度をそれぞれ
表している。式（１）から明らかなように、透過率Ｔ及
び輝度Ｂが一定の場合にマスク上の照度Ｅを大きくする
ためには、照明光の開口数ＮＡを大きくすれば良いこと
がわかる。しかし、一般にプロキシミティ露光装置の場
合に、照明光の開口数を一様に、即ち照明方向に関係な
く大きくすると、像のボケにより感光基板に転写される
パターンの解像力の低下を生じるので好ましくない。
【０００４】ここで、転写、露光するパターンがストラ
イプパターンのように帯状の１次元形状の場合は、パタ
ーンの長手方向に沿った照明開口数を大きくしても解像
力には影響しない。このため、パターンの短手方向に沿
った照明開口数を一定に保ったまま、長手方向に沿った
照明開口数を大きくすればマスク上の照度を向上させる
ことができる。そこで、照明光の直交する方向の開口数
を変える場合は、例えばシリンドリカルレンズを用いて
直交する方向の照明光の開口数が異なるようにしてい
る。
イプパターンのように帯状の１次元形状の場合は、パタ
ーンの長手方向に沿った照明開口数を大きくしても解像
力には影響しない。このため、パターンの短手方向に沿
った照明開口数を一定に保ったまま、長手方向に沿った
照明開口数を大きくすればマスク上の照度を向上させる
ことができる。そこで、照明光の直交する方向の開口数
を変える場合は、例えばシリンドリカルレンズを用いて
直交する方向の照明光の開口数が異なるようにしてい
る。
【０００５】しかし、シリンドリカルレンズを用いる場
合、縦横比によっては、両面に曲率を付けたり非球面を
必要とする場合も生じ、また２段階に分けるなどの工夫
が必要になる場合もある。これらの場合、製造コストの
上昇や透過率の低下など好ましくなく問題となる。
合、縦横比によっては、両面に曲率を付けたり非球面を
必要とする場合も生じ、また２段階に分けるなどの工夫
が必要になる場合もある。これらの場合、製造コストの
上昇や透過率の低下など好ましくなく問題となる。
【０００６】本発明は、上記問題に鑑みてなされたもの
であり、方向により異なる開口数を有する照明光を簡便
に得られ、マスク上の照度を大きくすることができ、高
効率なスループットの露光装置を提供することを目的と
する。
であり、方向により異なる開口数を有する照明光を簡便
に得られ、マスク上の照度を大きくすることができ、高
効率なスループットの露光装置を提供することを目的と
する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、請求項１記載の発明では、所定のパターンが形成さ
れたマスクを照明するための照明光学系を備え、前記マ
スクのパターン像を感光基板上に形成する露光装置にお
いて、前記照明光学系は、光束を供給する光源部と、前
記光源からの光束を振幅分割する光分割部材と、該分割
された光束を波面分割し、該波面分割された光束に基づ
いて複数の光源像を形成するオプティカルインテグレー
タと、前記オプティカルインテグレータによる複数の光
源像からの光を前記マスクへ導くコンデンサ光学系とを
備え、前記オプティカルインテグレータの中心軸に対し
て垂直な平面内において縦横比が異なる断面形状の光束
で前記オプティカルインテグレータを照明することを特
徴とする。
に、請求項１記載の発明では、所定のパターンが形成さ
れたマスクを照明するための照明光学系を備え、前記マ
スクのパターン像を感光基板上に形成する露光装置にお
いて、前記照明光学系は、光束を供給する光源部と、前
記光源からの光束を振幅分割する光分割部材と、該分割
された光束を波面分割し、該波面分割された光束に基づ
いて複数の光源像を形成するオプティカルインテグレー
タと、前記オプティカルインテグレータによる複数の光
源像からの光を前記マスクへ導くコンデンサ光学系とを
備え、前記オプティカルインテグレータの中心軸に対し
て垂直な平面内において縦横比が異なる断面形状の光束
で前記オプティカルインテグレータを照明することを特
徴とする。
【０００８】また、請求項２記載の発明では、所定のパ
ターンが形成されたマスクを照明するための照明光学系
を備え、前記マスクのパターン像を感光基板上に形成す
る露光装置において、前記照明光学系は、光束を供給す
る少なくとも２つの光源部と、前記光束を波面分割し複
数の光源像を形成するオプティカルインテグレータと、
前記オプティカルインテグレータによる複数の光源像か
らの光を前記マスクへ導くコンデンサ光学系とを備え、
前記オプティカルインテグレータの中心軸に対して垂直
な平面内において縦横比が異なる断面形状の光束で前記
オプティカルインテグレータを照明することを特徴とす
る。
ターンが形成されたマスクを照明するための照明光学系
を備え、前記マスクのパターン像を感光基板上に形成す
る露光装置において、前記照明光学系は、光束を供給す
る少なくとも２つの光源部と、前記光束を波面分割し複
数の光源像を形成するオプティカルインテグレータと、
前記オプティカルインテグレータによる複数の光源像か
らの光を前記マスクへ導くコンデンサ光学系とを備え、
前記オプティカルインテグレータの中心軸に対して垂直
な平面内において縦横比が異なる断面形状の光束で前記
オプティカルインテグレータを照明することを特徴とす
る。
【０００９】また、請求項３記載の発明では、前記照明
光学系は、前記少なくとも２つの光源からの光束を前記
オプティカルインテグレータの入射面において合成する
ための光合成部材を有することを特徴とする。
光学系は、前記少なくとも２つの光源からの光束を前記
オプティカルインテグレータの入射面において合成する
ための光合成部材を有することを特徴とする。
【００１０】また、請求項４記載の発明では、前記縦横
比が異なる断面形状の光束は略楕円形状の光束であるこ
とを特徴とする。
比が異なる断面形状の光束は略楕円形状の光束であるこ
とを特徴とする。
【００１１】（作用）本発明は上記構成により、フライ
アイインテグレータ等のオプティカルインテグレータ
を、その中心軸に対して垂直な平面内において縦横比が
異なる断面形状、略楕円形状の光束で照明することがで
きる。したがって、方向により開口数の異なる照明光を
得る事ができる。
アイインテグレータ等のオプティカルインテグレータ
を、その中心軸に対して垂直な平面内において縦横比が
異なる断面形状、略楕円形状の光束で照明することがで
きる。したがって、方向により開口数の異なる照明光を
得る事ができる。
【００１２】上述のように転写されるパターンがストラ
イプパターンのような帯状の１次元形状であれば、パタ
ーンの長手方向の照明光の開口数を大きくしても解像力
には影響しない。このため、ストライプパターンの長手
方向に相当する照明光の一方向のみの開口数を拡大する
ことにより、マスク上の照度を大きくすることができ
る。照明光の一方向の開口数を大きくした場合のマスク
上の照度Ｅは、次式（２）、 Ｅ＝π×Ｔ×Ｂ×ＮＡ×ＮＡ’ （２） で表すことができる。ここで、ＮＡはストライプパター
ンの短手方向に沿った照明光の開口数、ＮＡ’はストラ
イプパターンの長手方向に沿った照明光の開口数、πは
円周率、Ｔは光学系の透過率、Ｂは光源の輝度をそれぞ
れ表している。また、ストライプパターンの短手方向と
長手方向は直交しており、照明開口数はＮＡ＜ＮＡ’を
満足している。
イプパターンのような帯状の１次元形状であれば、パタ
ーンの長手方向の照明光の開口数を大きくしても解像力
には影響しない。このため、ストライプパターンの長手
方向に相当する照明光の一方向のみの開口数を拡大する
ことにより、マスク上の照度を大きくすることができ
る。照明光の一方向の開口数を大きくした場合のマスク
上の照度Ｅは、次式（２）、 Ｅ＝π×Ｔ×Ｂ×ＮＡ×ＮＡ’ （２） で表すことができる。ここで、ＮＡはストライプパター
ンの短手方向に沿った照明光の開口数、ＮＡ’はストラ
イプパターンの長手方向に沿った照明光の開口数、πは
円周率、Ｔは光学系の透過率、Ｂは光源の輝度をそれぞ
れ表している。また、ストライプパターンの短手方向と
長手方向は直交しており、照明開口数はＮＡ＜ＮＡ’を
満足している。
【００１３】式（１）と（２）を比較して明らかなよう
に、従来光学系による照明光の全方向の開口数ＮＡが同
一である場合のレチクル上の照度Ｅに比較して、照度
Ｅ’はＮＡ’／ＮＡだけ大きくすることができる。この
結果、露光されるパターンの解像力を維持したまま、照
度の向上によるスループットの効率化を図ることができ
る。
に、従来光学系による照明光の全方向の開口数ＮＡが同
一である場合のレチクル上の照度Ｅに比較して、照度
Ｅ’はＮＡ’／ＮＡだけ大きくすることができる。この
結果、露光されるパターンの解像力を維持したまま、照
度の向上によるスループットの効率化を図ることができ
る。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて、本発
明の実施の形態を説明する。 （第１実施形態）図１は、本発明の第１実施形態にかか
る露光装置の概略構成を示す図である。高圧水銀ランプ
１から射出された光束は、楕円鏡２により集光された
後、コリメータレンズ３を透過し、ほぼ平行光束とされ
る。そして、該平行光束はハーフミラー４により振幅
（強度）分割され、反射した光束５ａはフライアイレン
ズ６の有効径の中心位置から一定量シフトした位置Ａに
入射する。一方、ハーフミラー４を透過した光束５ｂ
は、反射ミラー７で反射された後、フライアイレンズ６
上の位置Ａ’に入射する。フライアイレンズ６は図２に
示すようにほぼ長方形の形状をしている。この結果、ほ
ぼ円形形状の２つの照明光が一部重ね合わされた状態で
フライアイレンズ６に入射する。ここで、好ましくは、
長方形のフライアイレンズ６の入射面をなるべく光量の
無駄なく照明するように２つの照明光が一部重なること
が望ましい。次に、高圧水銀ランプ１の像がフライアイ
レンズ６の各要素レンズ射出面に形成され、楕円形状の
開口を有する開口絞り８によりほぼ楕円形状の２次光源
に整形される。そして、コンデンサレンズ９を介してマ
スクであるレチクル（被投影原板）１０を照明する。レ
チクルに形成されたパターンは、該レチクルに近接して
配置されているレジストが塗付された感光基板１１上に
転写、露光される。
明の実施の形態を説明する。 （第１実施形態）図１は、本発明の第１実施形態にかか
る露光装置の概略構成を示す図である。高圧水銀ランプ
１から射出された光束は、楕円鏡２により集光された
後、コリメータレンズ３を透過し、ほぼ平行光束とされ
る。そして、該平行光束はハーフミラー４により振幅
（強度）分割され、反射した光束５ａはフライアイレン
ズ６の有効径の中心位置から一定量シフトした位置Ａに
入射する。一方、ハーフミラー４を透過した光束５ｂ
は、反射ミラー７で反射された後、フライアイレンズ６
上の位置Ａ’に入射する。フライアイレンズ６は図２に
示すようにほぼ長方形の形状をしている。この結果、ほ
ぼ円形形状の２つの照明光が一部重ね合わされた状態で
フライアイレンズ６に入射する。ここで、好ましくは、
長方形のフライアイレンズ６の入射面をなるべく光量の
無駄なく照明するように２つの照明光が一部重なること
が望ましい。次に、高圧水銀ランプ１の像がフライアイ
レンズ６の各要素レンズ射出面に形成され、楕円形状の
開口を有する開口絞り８によりほぼ楕円形状の２次光源
に整形される。そして、コンデンサレンズ９を介してマ
スクであるレチクル（被投影原板）１０を照明する。レ
チクルに形成されたパターンは、該レチクルに近接して
配置されているレジストが塗付された感光基板１１上に
転写、露光される。
【００１５】本実施形態では、上述したようにフライア
イレンズ６は図２に示すようにほぼ長方形の形状であ
り、絞り８はほぼ楕円形状である。したがって、レチク
ル１０を照明する照明光の開口数は直交する２方向、即
ち図１のＸ方向とＹ方向とで異なっている。このよう
に、ストライプパターンの長手方向に相当する一方向の
開口数を拡大することにより、レチクル１０の照度を高
くすることができる。
イレンズ６は図２に示すようにほぼ長方形の形状であ
り、絞り８はほぼ楕円形状である。したがって、レチク
ル１０を照明する照明光の開口数は直交する２方向、即
ち図１のＸ方向とＹ方向とで異なっている。このよう
に、ストライプパターンの長手方向に相当する一方向の
開口数を拡大することにより、レチクル１０の照度を高
くすることができる。
【００１６】なお、本実施形態では、１枚のハーフミラ
ー４を使用して水銀ランプ１からの光束を２つに分けて
いるが、さらに２枚以上のハーフミラーにより３つ以上
の光束に分割する事もできる。この場合は合成した照明
光束の形状に合わせて、フライアイレンズの形状の縦横
比を変更すればよい。
ー４を使用して水銀ランプ１からの光束を２つに分けて
いるが、さらに２枚以上のハーフミラーにより３つ以上
の光束に分割する事もできる。この場合は合成した照明
光束の形状に合わせて、フライアイレンズの形状の縦横
比を変更すればよい。
【００１７】（第２実施形態）図３は、本発明の第２実
施形態にかかる露光装置の概略構成を示す図である。上
記第１実施形態ではハーフミラー４を用いて高圧水銀ラ
ンプ１からの光束を振幅分割している。これに対して本
実施形態では、対向して配置された２つの高圧水銀ラン
プ１、１’からの各々の光束は、楕円鏡２、２’により
集光され、コンデンサレンズ３、３’によりほぼ平行光
束に変換される。次に、２つのランプからの光束の中心
軸が互いに平行となるように直角プリズム１２の斜面で
反射される。そして、上記第１実施形態と同様に、各光
束はほぼ長方形のフライアイレンズ６の異なる位置Ａ、
Ａ’に入射し、ほぼ楕円形状の開口絞り８を通過した
後、レチクル１０を照明する。レチクル１０に形成され
たパターンは、レチクル１０に近接して配置されている
感光性基板１１に転写、露光される。かかる構成によ
り、直交する２方向において異なるＮＡを有する照明光
を得ることができる。なお、直角プリズム１２の代わり
に、ミラーを組み合わせることにより２つの光束の光路
を折り曲げてもよい。また、各ランプ１、１’の配光特
性により、各コリメータレンズ３、３’を焦点距離を異
なるものに換えることで、放射光強度の強い範囲を選択
的に用いて光量を増加させることもできる。
施形態にかかる露光装置の概略構成を示す図である。上
記第１実施形態ではハーフミラー４を用いて高圧水銀ラ
ンプ１からの光束を振幅分割している。これに対して本
実施形態では、対向して配置された２つの高圧水銀ラン
プ１、１’からの各々の光束は、楕円鏡２、２’により
集光され、コンデンサレンズ３、３’によりほぼ平行光
束に変換される。次に、２つのランプからの光束の中心
軸が互いに平行となるように直角プリズム１２の斜面で
反射される。そして、上記第１実施形態と同様に、各光
束はほぼ長方形のフライアイレンズ６の異なる位置Ａ、
Ａ’に入射し、ほぼ楕円形状の開口絞り８を通過した
後、レチクル１０を照明する。レチクル１０に形成され
たパターンは、レチクル１０に近接して配置されている
感光性基板１１に転写、露光される。かかる構成によ
り、直交する２方向において異なるＮＡを有する照明光
を得ることができる。なお、直角プリズム１２の代わり
に、ミラーを組み合わせることにより２つの光束の光路
を折り曲げてもよい。また、各ランプ１、１’の配光特
性により、各コリメータレンズ３、３’を焦点距離を異
なるものに換えることで、放射光強度の強い範囲を選択
的に用いて光量を増加させることもできる。
【００１８】また、コリメータレンズ３には、光束を整
形する簡単な光学系を含めても良い。さらに、コリメー
タレンズ３にシリンドリカルレンズを用い光束の縦横比
をある程度変えておくことで、任意の縦横比のフライア
イレンズに容易に対応することができる。加えて、ハー
フミラー４を移動させることで、フライアイレンズ６の
入射面における光束の重なり度合いを容易に変更でき
る。
形する簡単な光学系を含めても良い。さらに、コリメー
タレンズ３にシリンドリカルレンズを用い光束の縦横比
をある程度変えておくことで、任意の縦横比のフライア
イレンズに容易に対応することができる。加えて、ハー
フミラー４を移動させることで、フライアイレンズ６の
入射面における光束の重なり度合いを容易に変更でき
る。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明では、簡便な構成で、方向により異なる開口数を有す
る照明光を簡便に得ることができる。したがって、全方
向について同一開口数である照明に比較して照度を向上
させることができ、解像力を維持したままスループット
の向上を図ることができる。
明では、簡便な構成で、方向により異なる開口数を有す
る照明光を簡便に得ることができる。したがって、全方
向について同一開口数である照明に比較して照度を向上
させることができ、解像力を維持したままスループット
の向上を図ることができる。
【００２０】また、請求項２記載の発明では、方向によ
り異なる開口数を有する照明光を容易に得ることができ
る。したがって、全方向について同一開口数である照明
に比較して照度を向上させることができ、解像力を維持
したままスループットの向上を図ることができる。さら
に、各光源の配光特性に応じたコリメータレンズを用い
ることで各光源からの光束を有効に使用する事ができ
る。
り異なる開口数を有する照明光を容易に得ることができ
る。したがって、全方向について同一開口数である照明
に比較して照度を向上させることができ、解像力を維持
したままスループットの向上を図ることができる。さら
に、各光源の配光特性に応じたコリメータレンズを用い
ることで各光源からの光束を有効に使用する事ができ
る。
【００２１】また、請求項３記載の発明では、直角プリ
ズムなどの光合成部材で各光源からの光束を合成してい
るので、各光源の位置の自由度が大きくなる。
ズムなどの光合成部材で各光源からの光束を合成してい
るので、各光源の位置の自由度が大きくなる。
【００２２】また、請求項４記載の発明では、照明光を
楕円形状とすることで、特に帯状のストライプパターン
を方向により異なる開口数で効率良く照明できる。
楕円形状とすることで、特に帯状のストライプパターン
を方向により異なる開口数で効率良く照明できる。
【図１】本発明の第１実施形態にかかる露光装置の概略
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図２】フライアイレンズの形状を示す図である。
【図３】本発明の第２実施形態にかかる露光装置の概略
構成を示す図である。
構成を示す図である。
１、１’ 高圧水銀ランプ ２、２’ 楕円鏡 ３、３’ コリメータレンズ ４ ハーフミラー ５ａ、５ｂ 光束 ６ フライアイレンズ ７ 反射ミラー ８ 開口絞り ９ コンデンサレンズ １０ レチクル １１ 感光性基板 １２ 直角プリズム
Claims (4)
- 【請求項１】 所定のパターンが形成されたマスクを照
明するための照明光学系を備え、前記マスクのパターン
像を感光基板上に形成する露光装置において、 前記照明光学系は、 光束を供給する光源部と、 前記光源からの光束を振幅分割する光分割部材と、 該分割された光束を波面分割し、該波面分割された光束
に基づいて複数の光源像を形成するオプティカルインテ
グレータと、 前記オプティカルインテグレータによる複数の光源像か
らの光を前記マスクへ導くコンデンサ光学系とを備え、 前記オプティカルインテグレータの中心軸に対して垂直
な平面内において縦横比が異なる断面形状の光束で前記
オプティカルインテグレータを照明することを特徴とす
る露光装置。 - 【請求項２】 所定のパターンが形成されたマスクを照
明するための照明光学系を備え、前記マスクのパターン
像を感光基板上に形成する露光装置において、 前記照明光学系は、 光束を供給する少なくとも２つの光源部と、 前記光束を波面分割し複数の光源像を形成するオプティ
カルインテグレータと、 前記オプティカルインテグレータによる複数の光源像か
らの光を前記マスクへ導くコンデンサ光学系とを備え、 前記オプティカルインテグレータの中心軸に対して垂直
な平面内において縦横比が異なる断面形状の光束で前記
オプティカルインテグレータを照明することを特徴とす
る露光装置。 - 【請求項３】 前記照明光学系は、前記少なくとも２つ
の光源からの光束を前記オプティカルインテグレータの
入射面において合成するための光合成部材を有すること
を特徴とする請求項２記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記縦横比が異なる断面形状の光束は略
楕円形状の光束であることを特徴とする請求項１又は２
記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10136046A JPH11317344A (ja) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10136046A JPH11317344A (ja) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11317344A true JPH11317344A (ja) | 1999-11-16 |
Family
ID=15165922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10136046A Withdrawn JPH11317344A (ja) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11317344A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004246144A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法、露光装置及び照明装置 |
| SG114513A1 (en) * | 2000-11-29 | 2005-09-28 | Nikon Corp | Illumination optical apparatus and exposure apparatus provided with illumination optical apparatus |
| EP4071535A1 (en) * | 2010-09-15 | 2022-10-12 | Carl Zeiss SMT GmbH | Imaging optical system |
-
1998
- 1998-04-30 JP JP10136046A patent/JPH11317344A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG114513A1 (en) * | 2000-11-29 | 2005-09-28 | Nikon Corp | Illumination optical apparatus and exposure apparatus provided with illumination optical apparatus |
| JP2004246144A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法、露光装置及び照明装置 |
| EP4071535A1 (en) * | 2010-09-15 | 2022-10-12 | Carl Zeiss SMT GmbH | Imaging optical system |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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