JP2016502136A5 - - Google Patents

Description

本発明により、一方で法線入射のための少なくとも１つのミラーを含むサブユニットと、他方でかすめ入射のための少なくとも１つのミラーを含むサブユニットとへのコレクターの再分割により、コレクターによって生成される照明遠視野をその全体強度分布に関して予め定められた値への適応化に対して目標を定めた方式で適応させる可能性を提供することが認識されてきた。一例として、特に均一な全体強度分布を有する照明遠視野を達成することができる。それによってコレクターの下流に配置された照明光学ユニットの要件、特に、下流に配置されたミラーアレイの個々のミラーに対する傾斜角要件は、この場合に、照明視野を照明するための照明要件に準拠することに関して譲歩を行う必要なく軽減される。特に、部分的に一定の遠視野強度密度を有する照明遠視野を与えることができる。一定の遠視野強度密度は、特に照明遠視野の外側強度領域に至るまで生成することができる。それによって使用可能ＥＵＶ放射線を遠視野全域に存在させることができる。ここで、照明遠視野にわたる強度分布は、遠視野の区域にわたって測定される放射線源強度の面密度として決定することができる。特に、目標を定めた遠視野分布を設定することができる。この設定は、例えば、コレクターの下流に配置された光学ユニットのテレセントリック性誤差を補償するために使用することができる。法線入射ミラーコレクターサブユニットは、放射線源の最も近くに配置されたミラー区画を有することができる。このミラー区画は、放射線源から比較的遠くに離して配置することができる。コレクターサブユニットの反射層の設計を用いて、関連する強度密度の損失を補償することができる。ＥＵＶ放射線源によって放出される全ＥＵＶ放射線のうちで少なくとも捕捉される立体角セグメントに対する照明ビーム経路を２つの中間フォーカスを通して案内することができる。異なるコレクタービーム経路を通して含まれる少なくとも１つの法線入射ミラー強度分布と少なくとも１つのかすめ入射ミラー強度分布とへの遠視野強度分布の再分割により、照明放射線経路を遠視野に向けて相応に案内することにより、放射線源から得られる立体角内のギャップを閉じることができる。コレクターによって均一な照明遠視野が生成される限り、特に、視野ファセットミラーと瞳ファセットミラーとを有する下流の照明光学ユニットの使用により、個々のファセットは、平均入射角からのそれぞれの入射角の偏差を殆ど伴わずに入射を受けることができる。遠視野が、照明される照明視野内で互いの上に重ね合わされるように結像される場合に、照明光学ユニット内のビーム案内は、関連する視野ファセット結像の結像スケールの変化を殆ど伴わずに行うことができる。この変化は、±１０％よりも有意に小さく、例えば、±５％よりも小さくすることができる。同じことは、瞳ファセット上への中間フォーカスの結像に相応に適用される。ＥＵＶコレクターは、放射線源からのＥＵＶ放射線放出光の大きい立体角度範囲を捕捉し、異なる半空間の立体角度範囲を捕捉することができるように具現化することができる。コレクターは、そのミラー区画を保護するために、特に少なくとも１つのかすめ入射ミラーコレクターサブユニットのミラーを保護するための保護絞りとして少なくとも１つの絞りを有することができる。コレクターサブユニットのミラーは、ミラー区画上へのＥＵＶ放射線のそれぞれの入射角に合わせて異なって具現化された高反射コーティングを有することができる。高反射層は、ルテニウム層とすることができる。高反射層は、多層コーティングとすることができる。多層コーティングは、モリブデン／シリコン（Ｍｏ／Ｓｉ）層とすることができる。
全体的に、コレクターは、小型形式で具現化することができる。コレクターの対称面に位置するか又はコレクターの対称軸、特に回転対称軸に一致することができる光軸方向のコレクターの構造長を小さくすることができる。コレクターは、中間焦点面内に比較的小さい開口数を与えることができる。それによって第１に照明光学ユニットの小型構成が可能になり、第２にコレクターの下流に配置された光学構成要素の要件が軽減される。特に、下流に配置された傾斜ミラーの傾斜角度要件、特に下流に配置された個々のミラー又は個々のファセットの傾斜角度要件が低下する。それによってこれらのミラーの効率的な冷却が可能になる。法線入射に対するミラーは、ミラーへの法線に対する反射性放射線の入射角が最大で３５°である場合に存在する。かすめ入射に対するミラーは、ミラーへの法線に対する入射角が少なくとも５５°、好ましくは６０°よりも大きく、より好ましくは６５°よりも大きい場合に存在する。組み合わされて全体強度分布を形成するそれぞれの強度分布を発生させるための異なるコレクタービーム経路に沿ったＥＵＶ放射線の反射回数は異なるとすることができる。法線入射ミラー強度分布のコレクタービーム経路は、法線入射ミラーコレクターサブユニットにおいて正確に１つの反射を有することができる。これに代えて、このコレクタービーム経路は、法線入射ミラーコレクターサブユニットでの反射と、かすめ入射ミラーコレクターサブユニットでの反射との両方を有することができる。かすめ入射ミラー強度分布に関するコレクタービーム経路は、正確に１つの反射、すなわち、かすめ入射ミラーコレクターサブユニットにおけるものを有することができる。かすめ入射ミラー強度分布に関するコレクタービーム経路は、かすめ入射ミラーにおいて複数の反射を有するか又は例えば法線入射ミラーでの反射とかすめ入射ミラーにおける少なくとも１つの反射とを有することができる。複数の反射を有するコレクタービーム経路は、異なる反射面でのそれぞれの個々の光線に対する反射の積が、予め定められた公差範囲にあるコレクタービーム経路の全ての個々の光線、又はかかわる個々の光線のうちの大部分に対して同じ値を有するように、個々の光線のかかわる入射角に関して調整することができる。かすめ入射ミラー強度分布は、反射かすめ入射ミラーが少なくとも一度かかわることによって生成される。法線入射ミラー強度分布は、反射法線入射ミラーが少なくとも一度かかわることによって生成される。原理的には、全体強度分布が、法線入射ミラーによって反射されるコレクタービーム経路だけ又はかすめ入射ミラーによって反射されるコレクタービーム経路だけによって生成されるＥＵＶコレクター構成も可能である。この場合にも、遠視野のうちで全遠視野の４０％よりも大きい区画にわたってこの遠視野区画内の平均強度から２０％よりも小さくしかずれない遠視野の均一な全体強度分布を実現する可能性が提供される。この遠視野区画は、コレクターの光軸上に位置することができる遠視野の中心から進んで測定される遠視野の異なる半径の間で延びる遠視野の面積区画である。本説明では、法線入射ミラーを法線ミラーとも呼び、かすめ入射ミラーをかすめミラーとも呼ぶ。

Claims (11)

1. ＥＵＶ放射線源（３）からのＥＵＶ放射線（１４）を照明遠視野（１７ａ）内に伝達するためのＥＵＶコレクター（１５）であって、
   前記放射線源（３）からの前記ＥＵＶ放射線（１４）を前記照明遠視野（１７ａ）に伝達する法線入射のための少なくとも１つのミラー（２３；２３，４５）を含む少なくとも１つの法線入射ミラーコレクターサブユニット（２３；４４；４９）を含み、
   前記放射線源（３）からの前記ＥＵＶ放射線（１４）を前記照明遠視野（１７ａ）に伝達するかすめ入射のための少なくとも１つのミラー（３０；３０，３６，３７；３０，３６，３７，４２，４３；３０，４８；３０，５１）を含む少なくとも１つのかすめ入射ミラーコレクターサブユニット（３０；３５；４１；４７；５０）を含み、
   前記コレクターサブユニット（２３，３０；２３，３５；２３，４１；４４，４７；４９，３０；４９，５０）の配置が、異なるコレクタービーム経路を通して少なくとも同じく前記法線入射ミラーコレクターサブユニット（２３；４４；４９）での反射によって生成される法線入射ミラー強度分布（Ｉ_N）と、少なくとも同じく前記かすめ入射ミラーコレクターサブユニット（３０；３５；４１；４７；５０）での反射によって生成されるかすめ入射ミラー強度分布（Ｉ_G）とで構成される前記遠視野（１７ａ）にわたる前記ＥＵＶ放射線（１４）の全体強度分布（Ｉ（ｒ））がもたらされるようなものであり、全体遠視野（１７ａ）の４０％よりも大きい少なくとも該遠視野（１７ａ）の区画（ｒ₁＜ｒ＜ｒ₃）にわたる該全体強度分布（Ｉ（ｒ））は、該遠視野（１７ａ）の該区画（ｒ₁＜ｒ＜ｒ₃）内の平均強度（Ｃ・Ｉ_max）から２０％未満だけずれる、
   ことを特徴とするコレクター（１５）。
2. 前記遠視野（１７ａ）内で前記法線入射ミラー強度分布（Ｉ_N）が前記かすめ入射ミラー強度分布（Ｉ_G）内に連続的に融合するような前記コレクターサブユニット（２３，３０；２３，３５；２３，４１；４４，４７；４９，３０；４９，５０）の配置を特徴とする請求項１に記載のコレクター。
3. 前記法線入射ミラー強度分布（Ｉ_N）を生成する前記コレクタービーム経路の前記ＥＵＶ放射線（１４）の反射の回数が、前記放射線源（３）と下流に配置することができる該ＥＵＶ放射線（１４）のためのビーム案内構成要素（１７）との間で前記かすめ入射ミラー強度分布（Ｉ_G）を生成する該コレクタービーム経路の該ＥＵＶ放射線（１４）の反射の回数からずれるような前記コレクターサブユニット（２３，３５；２３，４１；４４，４７）の配置を特徴とする請求項１又は請求項２に記載のコレクター。
4. 前記ＥＵＶ放射線（１４）は、コレクター（１５）の中心軸（２４）に関して内側と外側の両方から前記コレクターサブユニット（４７）のうちの１つのミラー（３０，４８）上に入射することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のコレクター。
5. 前記サブユニットのうちの少なくとも１つ（５０）が、外乱光の異なる成分を抑制するための異なる格子周期を有する回折格子（５９，６０）を有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のコレクター。
6. 少なくとも１つのサブユニット（３５）に連続して入射される異なるミラー（３６，３７）が、外乱光の異なる成分を抑制するための異なる格子周期を有する回折格子（５９，６０）を有することを特徴とする請求項５に記載のコレクター。
7. コレクター（１５）によって集光されるＥＵＶ放射線（１４）を照明光として案内するための少なくとも１つのファセットミラー（１７，１８）を有する結像光学ユニット（９）によって結像することができる物体視野（５）を照明するための請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のコレクター（１５）、
   を含むことを特徴とする照明光学ユニット（４）。
8. 前記ファセットミラー（１７）の全体反射面（５３）の外側輪郭（５５）が、該ファセットミラー（１７）の場所での前記コレクター（１５）の照明遠視野（１７ａ）の外側強度領域（５６）と少なくとも同じサイズのものであることを特徴とする請求項７に記載の照明光学ユニット。
9. 請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の照明光学ユニットを含み、かつ
   少なくとも１つのＥＵＶ放射線源（３）を含む、
   ことを特徴とする照明系。
10. 請求項９に記載の照明系を含み、
    物体視野（５）を像視野（１０）内に結像するための結像光学ユニット（９）を含む、 ことを特徴とする投影露光装置（１）。
11. 微細構造化構成要素を生成する方法であって、
    レチクル（７）を与える段階と、
    照明光ビーム（１４）に対して感光性であるコーティングを有するウェーハ（１２）を与える段階と、
    請求項１０に記載の投影露光装置を用いて前記レチクルの少なくとも１つの区画を前記ウェーハ（１２）上に投影する段階と、
    前記ウェーハ（１２）上に前記照明光ビーム（１４）によって露光された前記感光層を現像する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。