JP2013530534A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013530534A5 JP2013530534A5 JP2013514638A JP2013514638A JP2013530534A5 JP 2013530534 A5 JP2013530534 A5 JP 2013530534A5 JP 2013514638 A JP2013514638 A JP 2013514638A JP 2013514638 A JP2013514638 A JP 2013514638A JP 2013530534 A5 JP2013530534 A5 JP 2013530534A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raster
- illumination
- optical system
- angle
- illumination light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 47
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims 21
- 210000001747 Pupil Anatomy 0.000 claims 2
- 230000003213 activating Effects 0.000 claims 2
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 2
- 230000001419 dependent Effects 0.000 claims 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 claims 1
Claims (13)
- 1次光源(6)から物体視野(3)に照明光(8)を誘導するためのマイクロリソグラフィのための照明光学系(7)であって、
アクチュエータによって互いに独立して傾斜させることができ、かつ関連付けられた傾斜アクチュエータ(12)に接続した複数の個々のミラー(11)を有するミラーアレイ(10)と、
前記アクチュエータ(12)を起動するためのコントローラ(14)と、
2次光源の空間分布配列を生成するための複数のラスター要素(28,30)を有するラスターモジュール(19)と、
を備え、
前記ラスターモジュール(19)は、照明光部分光束(15)が該ラスター要素(28,30)のうちの1つを射出する際の射出角(ARx,ARy)が、該照明光部分光束(15)が該物体視野(3)上に入射する物体視野(3)内の場所の領域に厳密に割り当てられる照明光学系(7)の平面(20)の領域に配置され、
前記コントローラ(14)は、各個々のミラー(11)に対する傾斜角の指定が、前記物体視野(3)にわたって配分された物体視野点が入射を受ける照明角度強度分布(I1(x),I2(x),I3(x),I4(x))の所定の視野依存の望ましい推移に割り当てられるような方法で構成され、
前記ラスターモジュール(19)は、前記照明光(8)のビーム経路に互いに前後に配置されて各々が複数のラスター要素(28,30)を有する2つのラスター配列(18,21)を有し、
第2のラスター配列(21)の前記ラスター要素(30)のうちの1つの上に入射する前記照明光部分光束(15)の直径(29)が、該第2のラスター配列(21)の該ラスター要素(30)の全体の進入面又は入射面(33)の半域(35)よりも小さいような該2つのラスター配列(18,21)の配列及び構成を特徴とする、
照明光学系。 - 前記ラスターモジュール(19)は、照明光学系(7)の瞳平面(31)に隣接する平面(20)、又は該瞳平面(31)と共役であり、かつそこから離間した平面(20)に配置されることを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 前記2つのラスター配列(18,21)は、前記照明光部分光束(15)の少なくとも特定の射出角(ARxr1,ARxr2)に対して、前記第2のラスター配列(21)の前記ラスター要素(30)上の入射場所(AO)に基づいて、少なくとも、各場合に該第2のラスター配列(21)の該ラスター要素(30)上の該照明光部分光束(15)のそれぞれの入射場所(AO)に割り当てられた入射角(ERx)に対して該ラスター要素(30)からの該照明光部分光束(15)の同じ射出角(ARxr1,ARxr2)がもたらされるように構成されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の照明光学系。
- 前記2つのラスター配列(18,21)は、前記照明光部分光束(15)の少なくとも特定の射出角(ARxm)に対して、前記第2のラスター配列(21)の前記ラスター要素(30)上の前記照明光部分光束(15)の前記入射角(ERx)の小さい変化が、該ラスター要素(30)からの該照明光部分光束(15)の前記射出角(ARx)の大きい変化をもたらすように構成されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記ラスター要素(30)上の前記照明光部分光束(15)の前記入射角(ERx)の前記変化の該ラスター要素(30)からの該照明光部分光束(15)の前記射出角(ARx)の前記変化への依存性が、前記入射場所(AO)によって変化することを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の照明光学系。
- 前記ラスターモジュール(19)及び前記コントローラ(40)は、前記個々のミラー(11)の実際の傾斜角の事前判断される分布及びその結果としての前記ラスター要素(28,30)上の前記照明光部分光束(15)の実際の入射角(ERx,ERy)の事前判断される分布が、前記物体視野(3)にわたって配分された物体視野点が入射を受ける照明光角度強度分布I1(x,y)、I2(x,y)、I3(x,y)、I4(x,y)の事前判断される望ましい推移に割り当てられ、この割り当てが、該物体視野(3)の互いに垂直な2つの座標軸(x,y)に沿って存在するように構成されることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の照明光学系(7)を調節する方法であって、
物体視野(3)にわたって配分された物体視野点が入射を受ける照明角度強度分布I1(x),I2(x),I3(x),I4(x)の視野依存の望ましい推移を事前判断する段階と、
前記照明角度強度分布の前記所定の視野依存の望ましい推移に割り当てられたラスター要素(28,30)上の照明光部分光束(15)の望ましい入射角(ERx,ERy)の分布を判断する段階と、
前記望ましい入射角(ERx,ERy)の前記判断された分布に従って望ましい傾斜角の分布を個々のミラー(11)に割り当てる段階と、
前記個々のミラー(11)の実際の傾斜角が前記望ましい傾斜角と一致するように傾斜アクチュエータ(12)を起動する段階と、
を含み、
前記個々のミラー(11)の群は、同じ望ましい傾斜角を有するものとして定義される、
ことを特徴とする方法。 - 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の照明光学系(7)のための第2のラスター要素(30)を有する第2のラスター配列(21)を有するラスターモジュール(19)を生成する方法であって、
第2のラスター配列(21)のラスター要素(30)上の照明光部分光束(15)の入射場所(AO)と、該第2のラスター配列(21)の該ラスター要素(30)上の該照明光部分光束(15)の入射角(ER)とに依存する該ラスター要素(30)からの該照明光部分光束(15)の得られる一定の射出角(AR)の推移の望ましい依存性(AR(ER,AO))を指定する段階と、
ラスターモジュール(19)の所定の照明において前記所定の望ましい依存性に対応する実際の依存性がもたらされるように、前記第2のラスター配列(21)の前記ラスター要素(30)の進入面(33)及び/又は射出面(34)を構造化する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の照明光学系(7)のための第2のラスター要素(30)を有する第2のラスター配列(21)を有するラスターモジュール(19)を生成する方法であって、
第2のラスター配列(21)のラスター要素(30)の進入面(33)及び/又は射出面(34)の一般的な面設計によって達成することができる該第2のラスター配列(21)の該ラスター要素(30)上の照明光部分光束(15)の入射場所(AO)と、該第2のラスター配列(21)の該ラスター要素(30)上の該照明光部分光束(15)の入射角(ER)とに依存する該第2のラスター配列(21)の該ラスター要素(30)からの該照明光部分光束(15)の得られる一定の射出角(AR)の推移の望ましい依存性(AR(ER,AO))の部類を判断する段階と、
前記判断された部類のうちの1つの中に含まれる前記第2のラスター配列(21)の前記ラスター要素(30)上の前記照明光部分光束(15)の前記入射場所(AO)と、該第2のラスター配列(21)の該ラスター要素(30)上の該照明光部分光束(15)の前記入射角(ER)とに依存する該第2のラスター配列(21)の該ラスター要素(30)からの該照明光部分光束(15)の得られる一定の射出角(AR)の推移の望ましい依存性(AR(ER,AO))を指定する段階と、
ラスターモジュール(19)の所定の照明において前記所定の望ましい依存性に対応する実際の依存性がもたらされるように、前記第2のラスター配列(21)の前記ラスター要素(30)の進入面(33)及び/又は射出面(34)を構造化する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の照明光学系(7)と、
物体視野(3)を像平面(27)内の像視野に結像するための投影光学系(26)と、
を備えることを特徴とする光学系。 - 請求項10に記載の光学系と、
1次光源(6)と、
を備えることを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光系(1)。 - 微細構造化又はナノ構造化構成要素をマイクロリソグラフィ生成する方法であって、
感光材料の層が少なくとも部分的に付加された基板を準備する段階と、
結像される構造を有するレチクルを準備する段階と、
請求項11に記載の投影露光系(1)を準備する段階と、
前記投影露光系(1)を用いて前記レチクルの少なくとも一部を前記層の一領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項12に記載の方法によって生成された構成要素。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US35477210P | 2010-06-15 | 2010-06-15 | |
US61/354,772 | 2010-06-15 | ||
DE102010030089.6 | 2010-06-15 | ||
DE102010030089A DE102010030089A1 (de) | 2010-06-15 | 2010-06-15 | Beleuchtungsoptik für die Mikro-Lithografie sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Beleuchtungsoptik |
PCT/EP2011/059427 WO2011157601A2 (en) | 2010-06-15 | 2011-06-08 | Illumination optical system for microlithography and projection exposure system with an illumination optical system of this type |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013530534A JP2013530534A (ja) | 2013-07-25 |
JP2013530534A5 true JP2013530534A5 (ja) | 2014-04-03 |
JP5753260B2 JP5753260B2 (ja) | 2015-07-22 |
Family
ID=45020111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013514638A Active JP5753260B2 (ja) | 2010-06-15 | 2011-06-08 | マイクロリソグラフィ用の照明光学系及びこの種の照明光学系を有する投影露光系 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9933704B2 (ja) |
EP (1) | EP2583141B1 (ja) |
JP (1) | JP5753260B2 (ja) |
DE (1) | DE102010030089A1 (ja) |
TW (1) | TWI539240B (ja) |
WO (1) | WO2011157601A2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014010552A1 (ja) * | 2012-07-10 | 2014-01-16 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
KR101591155B1 (ko) * | 2012-10-08 | 2016-02-02 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 조명 시스템 |
DE102013213545A1 (de) | 2013-07-10 | 2015-01-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie |
KR102102020B1 (ko) | 2013-08-09 | 2020-04-17 | 케이엘에이 코포레이션 | 향상된 검출 감도를 위한 멀티 스팟 조명 |
DE102014203348A1 (de) | 2014-02-25 | 2015-08-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Bündelverteilungsoptik, Beleuchtungsoptik mit einer derartigen Bündelverteilungsoptik, optisches System mit einer derartigen Beleuchtungsoptik sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen optischen System |
DE102014203347B4 (de) * | 2014-02-25 | 2017-09-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die Mikro-Lithografie sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Beleuchtungsoptik |
US9575412B2 (en) * | 2014-03-31 | 2017-02-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and system for reducing pole imbalance by adjusting exposure intensity |
DE102014219112A1 (de) * | 2014-09-23 | 2016-03-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie sowie Hohlwellenleiter-Komponente hierfür |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6259513B1 (en) * | 1996-11-25 | 2001-07-10 | Svg Lithography Systems, Inc. | Illumination system with spatially controllable partial coherence |
JP3005203B2 (ja) | 1997-03-24 | 2000-01-31 | キヤノン株式会社 | 照明装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
KR100576746B1 (ko) | 2001-06-01 | 2006-05-03 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피장치, 디바이스제조방법, 그 디바이스,제어시스템, 컴퓨터프로그램, 및 컴퓨터프로그램물 |
JP2004245912A (ja) * | 2003-02-12 | 2004-09-02 | Ushio Inc | 光照射装置 |
DE102004063848A1 (de) * | 2004-02-26 | 2005-09-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage |
JP2006253529A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Nikon Corp | 照明光学装置、露光装置、および露光方法 |
JP5068271B2 (ja) | 2006-02-17 | 2012-11-07 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ照明システム、及びこの種の照明システムを含む投影露光装置 |
US8587764B2 (en) | 2007-03-13 | 2013-11-19 | Nikon Corporation | Optical integrator system, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US8937706B2 (en) | 2007-03-30 | 2015-01-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
US8379187B2 (en) | 2007-10-24 | 2013-02-19 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
KR101644660B1 (ko) * | 2007-11-06 | 2016-08-01 | 가부시키가이샤 니콘 | 조명 광학 장치 및 노광 장치 |
US9636187B2 (en) | 2007-11-21 | 2017-05-02 | Misonix Incorporated | Atomized-fluid shield for surgery and method of use |
ATE532105T1 (de) * | 2007-12-21 | 2011-11-15 | Zeiss Carl Smt Gmbh | Beleuchtungsmethode |
DE102008009600A1 (de) * | 2008-02-15 | 2009-08-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie |
DE102009017941A1 (de) * | 2008-06-19 | 2009-12-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem |
EP2146248B1 (en) * | 2008-07-16 | 2012-08-29 | Carl Zeiss SMT GmbH | Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus |
DE102008042462B4 (de) | 2008-09-30 | 2010-11-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem für die EUV-Mikrolithographie |
DE102009009568A1 (de) * | 2008-10-20 | 2010-04-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Baugruppe zur Führung eines EUV-Strahlungsbündels |
-
2010
- 2010-06-15 DE DE102010030089A patent/DE102010030089A1/de not_active Withdrawn
-
2011
- 2011-06-08 EP EP11723967.3A patent/EP2583141B1/en active Active
- 2011-06-08 JP JP2013514638A patent/JP5753260B2/ja active Active
- 2011-06-08 WO PCT/EP2011/059427 patent/WO2011157601A2/en active Application Filing
- 2011-06-15 TW TW100120852A patent/TWI539240B/zh active
-
2012
- 2012-11-20 US US13/681,938 patent/US9933704B2/en active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2013530534A5 (ja) | ||
TWI639850B (zh) | 光瞳組合反射鏡、照明光學單元、照明系統、投射曝光設備、用於產生一微結構或奈米結構元件之方法以及微結構或奈米結構元件 | |
JP2009527113A5 (ja) | ||
TWI283435B (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP2013541729A5 (ja) | ||
JP2017507356A5 (ja) | ||
JP6221160B2 (ja) | ミラーの配置 | |
JP2011507241A5 (ja) | ||
JP5753260B2 (ja) | マイクロリソグラフィ用の照明光学系及びこの種の照明光学系を有する投影露光系 | |
JP2011507293A5 (ja) | ||
JP2014534643A5 (ja) | ||
JP2008160109A (ja) | リソグラフィ装置および方法 | |
JP2011501448A5 (ja) | ||
US9274434B2 (en) | Light modulator and illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus | |
TW201133154A (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP2016001308A5 (ja) | 露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP6347895B2 (ja) | 投影リソグラフィのための照明光学ユニット及びそのための中空導波管構成要素 | |
JP2011502275A5 (ja) | ||
JP2011517786A5 (ja) | ||
TW201235797A (en) | Illumination system, lithographic apparatus and method | |
US20150185622A1 (en) | Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus | |
JP2011501446A5 (ja) | ||
JP2018531412A6 (ja) | マイクロリソグラフィ投影装置を動作させる方法およびそのような装置の照明システム | |
JP2018531412A (ja) | マイクロリソグラフィ投影装置を動作させる方法およびそのような装置の照明システム | |
TWI592766B (zh) | 微影投影曝光設備的光學系統 |