JP2011501448A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011501448A5 JP2011501448A5 JP2010530321A JP2010530321A JP2011501448A5 JP 2011501448 A5 JP2011501448 A5 JP 2011501448A5 JP 2010530321 A JP2010530321 A JP 2010530321A JP 2010530321 A JP2010530321 A JP 2010530321A JP 2011501448 A5 JP2011501448 A5 JP 2011501448A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- mirrors
- imaging optical
- plane
- imaging
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims 34
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims 30
- 210000001747 Pupil Anatomy 0.000 claims 12
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
Claims (20)
- 結像光学系(7)の非掩蔽ミラー(M1,M2;M1からM4;M1からM6)間の光路における結像光線(15)が、物体平面(5)と平行に及び/又は像平面(9)と平行に配置された離間した平面の間の少なくとも1つの多重通過領域(61;62,63;67,68,69)を数回通過し、結像光学系(7)が、少なくとも1つの瞳平面(17,23;66,17,23;76,77,78,17)を含む、物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)内に結像する複数のミラー(M1からM6;M1からM8;M1からM10)を有する結像光学系(7)であって、
全ての瞳平面(17,23;66,17,23;76,77,78,17)が、非掩蔽ミラー(M1,M2;M1からM4;M1からM6)間の多重通過領域(61;62,63;67,68,69)の外側に配置され、
前記多重通過領域(61;62,63;67,68,69)の外側の前記少なくとも1つの瞳平面(17,23;66,17,23;76,77,78,17)の配置は、前記多重通過領域(61;62,63;67,68,69)の外側の前記少なくとも1つの瞳平面(17,23;66,17,23;76,77,78,17)が、前記多重通過領域(61;62,63;67,68,69)の境界を定める前記複数のミラー(M1からM6;M1からM8;M1からM10)の反射面と一致しないようなものである、
ことを特徴とする結像光学系(7)。 - 前記物体視野(4)は、
互いに平行に距離(YS)だけ変位した同じ半径(R)を有する2つの漸変円(27,28)と、
両方の漸変円(27,28)の2つの端部をそれぞれ接続する2つの境界線(29,30)と、
によって境界が定められた円弧視野の形状を有し、
前記円弧視野(4)は、75°よりも大きい方位角(α)を有する、
ことを特徴とする請求項1に記載の結像光学系。 - 物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)内に結像する複数のミラー(M1からM6;M1からM8;M1からM10)を有し、該物体視野(4)が、互いに平行に距離(YS)だけ変位した同じ半径(R)を有する2つの漸変円(27,28)と、両方の漸変円(27,28)の2つの端部をそれぞれ接続する2つの境界線(29,30)とによって境界が定められた円弧視野の形状を有する反射結像光学系(7)であって、
円弧視野(4)の方位角(α)が、75°よりも大きい、
ことを特徴とする反射結像光学系(7)。 - 物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)内に結像する複数のミラー(M1からM6;M1からM8;M1からM10)を有する結像光学系(7)であって、
光軸(18)を含み、
視野平面(5)とその直ぐ下流に配置された瞳平面(17;66)との間、
第1の瞳平面(66)とその直ぐ下流に配置された第2の瞳平面(17)との間、
という種類のうちの一方の結像光学系の境界平面の間に空間的に配置された少なくとも1つの非掩蔽ミラー群(19;64,65;72から75)を含む、
ことを特徴とする結像光学系(7)。 - 中心物体視野点から進行し、かつ結像光学系(7)の前記瞳平面(17;66)における瞳の中心を通過する主光線(16)が、それが、
前記光軸(18)が位置し、かつ
中心物体視野点から前記光軸(18)への法線(26)が垂直である、
主分離平面(25)を貫通しないように、結像光学系(7)の前記少なくとも1つの非掩蔽ミラー群(19;64,65;72から75)のミラー(M1,M2;M1からM4;M1,M2,M3からM6)間の子午断面を進行する、
ことを特徴とする請求項4に記載の結像光学系。 - 中心瞳掩蔽、言い換えれば、結像光線(15)が結像光線(15)の通過が可能な別の領域によって囲まれた瞳平面(17)の領域を通過することを許さない配列を特徴とする請求項5に記載の結像光学系。
- 前記物体視野(4)及び前記像視野(8)は、前記光軸(18)から距離を置いて配置されることを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の結像光学系。
- 非掩蔽ミラー(M1,M2)間の前記光路では、結像光線(15)が、前記物体平面(5)と平行に及び/又は前記像平面(9)と平行に配置された離間した平面の間の少なくとも1つの多重通過領域(61)を数回通過し、
前記子午断面では、前記結像光線は、前記多重通過領域(61)の境界を定めるこれらの平面の間で前記主分離平面(25)を通過しない、
ことを特徴とする請求項5から請求項7のいずれか1項に記載の結像光学系。 - 75°よりも大きい前記円弧視野(4)の方位角(α)を特徴とする請求項5から請求項8のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)内に結像する複数のミラー(M1からM6)を有し、少なくとも2つ(M1,M2)が非掩蔽のものである少なくとも4つのミラー(M1からM6)を含む結像光学系であって、
非掩蔽ミラーの1つ(M2)が、球面ミラーである、
ことを特徴とする結像光学系。 - 75°よりも大きい前記円弧視野(4)の方位角(α)を特徴とする請求項10に記載の結像光学系。
- 各場合に結像光路に1つの瞳平面(66;76から78)がその間に配置されるいくつかの非掩蔽ミラー群(64,65;72から75)を特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 結像光(3)を通過させる貫通開口部(20)を有する少なくとも1つの掩蔽ミラー(M3からM6;M5からM8;M7からM10)を特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 少なくとも3つのミラー、好ましくは、正確に4つのミラー(M3からM6)が掩蔽された正確に6つのミラー(M1からM6)を含むことを特徴とする請求項13に記載の結像光学系。
- 少なくとも3つのミラー、好ましくは、正確に4つのミラー(M5からM8)が掩蔽された正確に8つのミラー(M1からM8)を含むことを特徴とする請求項14に記載の結像光学系。
- 少なくとも3つのミラー、好ましくは、正確に4つのミラー(M7からM10)が掩蔽された正確に10個のミラー(M1からM10)を含むことを特徴とする請求項14に記載の結像光学系。
- 請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の結像光学系(17)と、
照明及び結像光(3)のための光源(2)と、
前記照明光(3)を前記結像光学系(7)の物体視野(4)まで誘導するための照明光学系(6)と、
を含むことを特徴とするイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 照明光(3)を生成するための前記光源(2)は、5と30nmの間の波長を用いて構成されることを特徴とする請求項17に記載の投影露光装置。
- 微細構造構成要素を生成する方法であって、
レチクル(10)及びウェーハ(11)を準備する方法段階と、
請求項17又は請求項18のいずれか1項に記載の投影露光装置を用いて、前記レチクル(10)上の構造を前記ウェーハ(11)の感光層上に投影する方法段階と、
前記ウェーハ(11)上に微細構造を生成する方法段階と、
を有することを特徴とする方法。 - 請求項19に記載の方法によって生成された微細構造構成要素。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007051668 | 2007-10-26 | ||
DE102007051668.3 | 2007-10-26 | ||
PCT/EP2008/008886 WO2009053023A2 (en) | 2007-10-26 | 2008-10-21 | Imaging optical system and projection exposure apparatus for microlithography comprising an imaging optical system of this type |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014114893A Division JP6146918B2 (ja) | 2007-10-26 | 2014-06-03 | 結像光学系及びこの種の結像光学系を含むマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011501448A JP2011501448A (ja) | 2011-01-06 |
JP2011501448A5 true JP2011501448A5 (ja) | 2011-12-08 |
JP5902884B2 JP5902884B2 (ja) | 2016-04-13 |
Family
ID=40254400
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010530321A Active JP5902884B2 (ja) | 2007-10-26 | 2008-10-21 | 結像光学系及びこの種の結像光学系を含むマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 |
JP2014114893A Active JP6146918B2 (ja) | 2007-10-26 | 2014-06-03 | 結像光学系及びこの種の結像光学系を含むマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014114893A Active JP6146918B2 (ja) | 2007-10-26 | 2014-06-03 | 結像光学系及びこの種の結像光学系を含むマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8717538B2 (ja) |
JP (2) | JP5902884B2 (ja) |
KR (2) | KR101542272B1 (ja) |
DE (1) | DE102008043162A1 (ja) |
WO (1) | WO2009053023A2 (ja) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009052932A1 (en) | 2007-10-26 | 2009-04-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Imaging optical system and projection exposure installation for micro-lithography with an imaging optical system of this type |
DE102007051671A1 (de) | 2007-10-26 | 2009-05-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102009046685A1 (de) | 2009-11-13 | 2011-05-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik |
DE102011083888A1 (de) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende katoptrische EUV-Projektionsoptik |
DE102012208793A1 (de) * | 2012-05-25 | 2013-11-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie mit einer derartigen abbildenden Optik |
US10261296B1 (en) | 2014-08-29 | 2019-04-16 | Wavefront Research, Inc. | Telecentric reflective imager |
CN106169178B (zh) * | 2016-06-30 | 2019-01-11 | 北京大学 | 一种改善镜头渐晕的方法 |
DE102017205130A1 (de) | 2017-03-27 | 2017-07-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102017207542A1 (de) | 2017-05-04 | 2017-06-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102017210269A1 (de) | 2017-06-20 | 2017-08-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102018200152A1 (de) | 2018-01-08 | 2019-07-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie |
TWI812626B (zh) | 2017-07-26 | 2023-08-21 | 德商卡爾蔡司Smt有限公司 | 投射微影中用於成像光之光束導引的光學元件 |
DE102017212869A1 (de) | 2017-07-26 | 2019-01-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie |
DE102017216458A1 (de) | 2017-09-18 | 2019-03-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Spiegels als optischer Komponente für ein optisches System einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie |
DE102018200954A1 (de) | 2018-01-22 | 2019-07-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie |
DE102018200956A1 (de) | 2018-01-22 | 2018-12-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie |
DE102018200955A1 (de) | 2018-01-22 | 2019-01-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel-Baugruppe zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie |
DE102018203283A1 (de) | 2018-03-06 | 2018-05-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbestimmungsanlage für die Projektionslithographie |
DE102018207277A1 (de) | 2018-05-09 | 2019-11-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Lithografiemaske, optisches System zur Übertragung von Original Strukturabschnitten der Lithografiemaske sowie Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes, in dem mindestens ein Original-Strukturabschnitt einer Lithografiemaske anordenbar ist |
DE102018208373A1 (de) | 2018-05-28 | 2019-06-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie |
DE102018216832A1 (de) | 2018-10-01 | 2018-11-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Bereitstellung einer Optik-Baugruppe |
DE102021202847A1 (de) | 2021-03-24 | 2022-09-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Lithografie |
Family Cites Families (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4804258A (en) * | 1986-05-05 | 1989-02-14 | Hughes Aircraft Company | Four mirror afocal wide field of view optical system |
GB2197962A (en) | 1986-11-10 | 1988-06-02 | Compact Spindle Bearing Corp | Catoptric reduction imaging apparatus |
IL113789A (en) * | 1994-05-23 | 1999-01-26 | Hughes Aircraft Co | A non-focusing device with three hinged mirrors and a corrective mirror |
US5473263A (en) | 1994-12-19 | 1995-12-05 | Advanced Micro Devices, Inc. | Negative feedback to reduce voltage oscillation in CMOS output buffers |
US5815310A (en) * | 1995-12-12 | 1998-09-29 | Svg Lithography Systems, Inc. | High numerical aperture ring field optical reduction system |
JPH09213618A (ja) | 1996-01-31 | 1997-08-15 | Canon Inc | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
JP2001244168A (ja) * | 2000-02-25 | 2001-09-07 | Nikon Corp | 露光装置および該露光装置を用いてマイクロデバイスを製造する方法 |
DE19908526A1 (de) * | 1999-02-26 | 2000-08-31 | Zeiss Carl Fa | Beleuchtungssystem mit Feldspiegeln zur Erzielung einer gleichförmigen Scanenergie |
JP2000100694A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 反射縮小投影光学系、該光学系を備えた投影露光装置および該装置を用いた露光方法 |
US6600552B2 (en) * | 1999-02-15 | 2003-07-29 | Carl-Zeiss Smt Ag | Microlithography reduction objective and projection exposure apparatus |
EP1772775B1 (de) * | 1999-02-15 | 2008-11-05 | Carl Zeiss SMT AG | Mikrolithographie-Reduktionsobjektiveinrichtung sowie Projektionsbelichtungsanlage |
JP4143236B2 (ja) | 1999-10-15 | 2008-09-03 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
EP1093021A3 (en) * | 1999-10-15 | 2004-06-30 | Nikon Corporation | Projection optical system as well as equipment and methods making use of said system |
JP2001185480A (ja) * | 1999-10-15 | 2001-07-06 | Nikon Corp | 投影光学系及び該光学系を備える投影露光装置 |
US6867913B2 (en) * | 2000-02-14 | 2005-03-15 | Carl Zeiss Smt Ag | 6-mirror microlithography projection objective |
DE10052289A1 (de) * | 2000-10-20 | 2002-04-25 | Zeiss Carl | 8-Spiegel-Mikrolithographie-Projektionsobjektiv |
US6785051B2 (en) * | 2001-07-18 | 2004-08-31 | Corning Incorporated | Intrinsic birefringence compensation for below 200 nanometer wavelength optical lithography components with cubic crystalline structures |
DE10139177A1 (de) | 2001-08-16 | 2003-02-27 | Zeiss Carl | Objektiv mit Pupillenobskuration |
JP2004022945A (ja) * | 2002-06-19 | 2004-01-22 | Canon Inc | 露光装置及び方法 |
JP3938040B2 (ja) | 2002-12-27 | 2007-06-27 | キヤノン株式会社 | 反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2004252363A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Canon Inc | 反射型投影光学系 |
JP2005057154A (ja) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Canon Inc | 露光装置 |
TWI311691B (en) | 2003-10-30 | 2009-07-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
WO2005059617A2 (en) | 2003-12-15 | 2005-06-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection objective having a high aperture and a planar end surface |
US7712905B2 (en) | 2004-04-08 | 2010-05-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Imaging system with mirror group |
US7119883B2 (en) * | 2004-10-13 | 2006-10-10 | Asml Holding N.V. | Correcting variations in the intensity of light within an illumination field without distorting the telecentricity of the light |
TW200622304A (en) * | 2004-11-05 | 2006-07-01 | Nikon Corp | Projection optical system and exposure device with it |
EP1825315B1 (en) * | 2004-12-15 | 2008-10-15 | European Space Agency | Wide field four mirror telescope using off-axis aspherical mirrors |
EP1828829B1 (de) * | 2004-12-23 | 2012-08-22 | Carl Zeiss SMT GmbH | Hochaperturiges objektiv mit obskurierter pupille |
DE102005042005A1 (de) * | 2004-12-23 | 2006-07-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Hochaperturiges Objektiv mit obskurierter Pupille |
EP1889110A1 (en) * | 2005-05-13 | 2008-02-20 | Carl Zeiss SMT AG | A six-mirror euv projection system with low incidence angles |
DE102006017336B4 (de) | 2006-04-11 | 2011-07-28 | Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 | Beleuchtungssystem mit Zoomobjektiv |
EP1930771A1 (en) | 2006-12-04 | 2008-06-11 | Carl Zeiss SMT AG | Projection objectives having mirror elements with reflective coatings |
DE102007051671A1 (de) * | 2007-10-26 | 2009-05-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik |
WO2009052932A1 (en) * | 2007-10-26 | 2009-04-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Imaging optical system and projection exposure installation for micro-lithography with an imaging optical system of this type |
-
2008
- 2008-10-21 JP JP2010530321A patent/JP5902884B2/ja active Active
- 2008-10-21 WO PCT/EP2008/008886 patent/WO2009053023A2/en active Application Filing
- 2008-10-21 KR KR1020107010270A patent/KR101542272B1/ko active IP Right Grant
- 2008-10-21 KR KR1020157001537A patent/KR101645142B1/ko active IP Right Grant
- 2008-10-24 DE DE102008043162A patent/DE102008043162A1/de not_active Withdrawn
-
2010
- 2010-04-26 US US12/767,574 patent/US8717538B2/en active Active
-
2014
- 2014-06-03 JP JP2014114893A patent/JP6146918B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2011501448A5 (ja) | ||
KR102707885B1 (ko) | 투영 리소그래피 시스템을 위한 동공 패싯 미러, 광학 시스템 및 조명 광학 소자 | |
JP7565324B2 (ja) | 物体視野を像視野内に結像するための投影光学ユニット及びそのような投影光学ユニットを含む投影露光装置 | |
JP6963642B2 (ja) | 投影リソグラフィのための照明光学ユニット | |
JP5390640B2 (ja) | 結像光学系及びこの種の結像光学系を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | |
JP5525550B2 (ja) | マイクロリソグラフィ用の照明光学系及び光学系 | |
TWI397786B (zh) | 用於投影微影之照明光學單元 | |
JP6221160B2 (ja) | ミラーの配置 | |
JP5896313B2 (ja) | 結像光学系及びこの種の結像光学系を備えたマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | |
US9810992B2 (en) | Illumination system | |
TWI539231B (zh) | 成像光學系統、具有此類型成像光學系統之用於微影的投射曝光設備以及用於製造結構化組件的方法 | |
CN116249919A (zh) | 用于投射曝光系统的照明光学部件的数字微镜装置 | |
US9810890B2 (en) | Collector | |
JP2015052797A (ja) | 結像光学系及びこの種の結像光学系を備えたマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | |
TW202414108A (zh) | 用於將物場成像到像場的成像euv光學單元 | |
US9459539B2 (en) | Imaging optical unit for a projection exposure apparatus | |
TW202343152A (zh) | 用於測量物場上的照明角度分佈的方法和具有用於其照明通道分配的照明光學單元 | |
JP5854295B2 (ja) | マイクロリソグラフィ用の照明光学系及び光学系 | |
TW201626111A (zh) | 用以照明一照明場的照明光學單元以及包含此類照明光學單元的投射曝光裝置 |