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  1. 結像光学系(7)の非掩蔽ミラー(M1,M2;M1からM4;M1からM6)間の光路における結像光線(15)が、物体平面(5)と平行に及び/又は像平面(9)と平行に配置された離間した平面の間の少なくとも1つの多重通過領域(61;62,63;67,68,69)を数回通過し、結像光学系(7)が、少なくとも1つの瞳平面(17,23;66,17,23;76,77,78,17)を含む、物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)内に結像する複数のミラー(M1からM6;M1からM8;M1からM10)を有する結像光学系(7)であって、
    全ての瞳平面(17,23;66,17,23;76,77,78,17)が、非掩蔽ミラー(M1,M2;M1からM4;M1からM6)間の多重通過領域(61;62,63;67,68,69)の外側に配置され、
    前記多重通過領域(61;62,63;67,68,69)の外側の前記少なくとも1つの瞳平面(17,23;66,17,23;76,77,78,17)の配置は、前記多重通過領域(61;62,63;67,68,69)の外側の前記少なくとも1つの瞳平面(17,23;66,17,23;76,77,78,17)が、前記多重通過領域(61;62,63;67,68,69)の境界を定める前記複数のミラー(M1からM6;M1からM8;M1からM10)の反射面と一致しないようなものである、
    ことを特徴とする結像光学系(7)。
  2. 前記物体視野(4)は、
    互いに平行に距離(YS)だけ変位した同じ半径(R)を有する2つの漸変円(27,28)と、
    両方の漸変円(27,28)の2つの端部をそれぞれ接続する2つの境界線(29,30)と、
    によって境界が定められた円弧視野の形状を有し、
    前記円弧視野(4)は、75°よりも大きい方位角(α)を有する、
    ことを特徴とする請求項1に記載の結像光学系。
  3. 物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)内に結像する複数のミラー(M1からM6;M1からM8;M1からM10)を有し、該物体視野(4)が、互いに平行に距離(YS)だけ変位した同じ半径(R)を有する2つの漸変円(27,28)と、両方の漸変円(27,28)の2つの端部をそれぞれ接続する2つの境界線(29,30)とによって境界が定められた円弧視野の形状を有する反射結像光学系(7)であって、
    円弧視野(4)の方位角(α)が、75°よりも大きい、
    ことを特徴とする反射結像光学系(7)。
  4. 物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)内に結像する複数のミラー(M1からM6;M1からM8;M1からM10)を有する結像光学系(7)であって、
    光軸(18)を含み、
    視野平面(5)とその直ぐ下流に配置された瞳平面(17;66)との間、
    第1の瞳平面(66)とその直ぐ下流に配置された第2の瞳平面(17)との間、
    という種類のうちの一方の結像光学系の境界平面の間に空間的に配置された少なくとも1つの非掩蔽ミラー群(19;64,65;72から75)を含む、
    ことを特徴とする結像光学系(7)。
  5. 中心物体視野点から進行し、かつ結像光学系(7)の前記瞳平面(17;66)における瞳の中心を通過する主光線(16)が、それが、
    前記光軸(18)が位置し、かつ
    中心物体視野点から前記光軸(18)への法線(26)が垂直である、
    主分離平面(25)を貫通しないように、結像光学系(7)の前記少なくとも1つの非掩蔽ミラー群(19;64,65;72から75)のミラー(M1,M2;M1からM4;M1,M2,M3からM6)間の子午断面を進行する、
    ことを特徴とする請求項4に記載の結像光学系。
  6. 中心瞳掩蔽、言い換えれば、結像光線(15)が結像光線(15)の通過が可能な別の領域によって囲まれた瞳平面(17)の領域を通過することを許さない配列を特徴とする請求項5に記載の結像光学系。
  7. 前記物体視野(4)及び前記像視野(8)は、前記光軸(18)から距離を置いて配置されることを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の結像光学系。
  8. 非掩蔽ミラー(M1,M2)間の前記光路では、結像光線(15)が、前記物体平面(5)と平行に及び/又は前記像平面(9)と平行に配置された離間した平面の間の少なくとも1つの多重通過領域(61)を数回通過し、
    前記子午断面では、前記結像光線は、前記多重通過領域(61)の境界を定めるこれらの平面の間で前記主分離平面(25)を通過しない、
    ことを特徴とする請求項5から請求項7のいずれか1項に記載の結像光学系。
  9. 75°よりも大きい前記円弧視野(4)の方位角(α)を特徴とする請求項5から請求項8のいずれか1項に記載の結像光学系。
  10. 物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)内に結像する複数のミラー(M1からM6)を有し、少なくとも2つ(M1,M2)が非掩蔽のものである少なくとも4つのミラー(M1からM6)を含む結像光学系であって、
    非掩蔽ミラーの1つ(M2)が、球面ミラーである、
    ことを特徴とする結像光学系。
  11. 75°よりも大きい前記円弧視野(4)の方位角(α)を特徴とする請求項10に記載の結像光学系。
  12. 各場合に結像光路に1つの瞳平面(66;76から78)がその間に配置されるいくつかの非掩蔽ミラー群(64,65;72から75)を特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の結像光学系。
  13. 結像光(3)を通過させる貫通開口部(20)を有する少なくとも1つの掩蔽ミラー(M3からM6;M5からM8;M7からM10)を特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の結像光学系。
  14. 少なくとも3つのミラー、好ましくは、正確に4つのミラー(M3からM6)が掩蔽された正確に6つのミラー(M1からM6)を含むことを特徴とする請求項13に記載の結像光学系。
  15. 少なくとも3つのミラー、好ましくは、正確に4つのミラー(M5からM8)が掩蔽された正確に8つのミラー(M1からM8)を含むことを特徴とする請求項14に記載の結像光学系。
  16. 少なくとも3つのミラー、好ましくは、正確に4つのミラー(M7からM10)が掩蔽された正確に10個のミラー(M1からM10)を含むことを特徴とする請求項14に記載の結像光学系。
  17. 請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の結像光学系(17)と、
    照明及び結像光(3)のための光源(2)と、
    前記照明光(3)を前記結像光学系(7)の物体視野(4)まで誘導するための照明光学系(6)と、
    を含むことを特徴とするイクロリソグラフィ投影露光装置。
  18. 照明光(3)を生成するための前記光源(2)は、5と30nmの間の波長を用いて構成されることを特徴とする請求項17に記載の投影露光装置。
  19. 微細構造構成要素を生成する方法であって、
    レチクル(10)及びウェーハ(11)を準備する方法段階と、
    請求項17又は請求項18のいずれか1項に記載の投影露光装置を用いて、前記レチクル(10)上の構造を前記ウェーハ(11)の感光層上に投影する方法段階と、
    前記ウェーハ(11)上に微細構造を生成する方法段階と、
    を有することを特徴とする方法。
  20. 請求項19に記載の方法によって生成された微細構造構成要素。
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