JP5861950B2 - マイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系 - Google Patents
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Description
110 照明デバイス
150 構造担持マスク
200、205 ミラー装置
210 偏向デバイス
Claims (16)
- マイクロリソグラフィ投影露光装置のための、光軸(OA)を有する光学系であって、 ミラー装置によって反射された光の角度分布を変更するために互いに独立して調節可能である複数のミラー要素(200a,200b,200c,...,300a,300b,300c,...)を有する少なくとも1つのミラー装置(200,300)と、
前記ミラー装置(200,300)の下流の光学ビーム経路に対して、前記光軸(OA)の偏向が生じる少なくとも1つの偏向面(212,312)を有する偏向デバイス(210,310)と、
を含み、
前記少なくとも1つの偏向面(212,312)は、屈折力を有し、
前記偏向デバイス(210,310)は、前記光学ビーム経路に対して前記ミラー装置(200,300)の上流に配置された第1の偏向面(211,311)と、該光学ビーム経路に対して該ミラー装置(200,300)の下流に配置された第2の偏向面(212,312)とを有し、前記光軸(OA)の偏向が、該第1の偏向面(211,311)及び該第2の偏向面(212,312)での両方の各々に生じ、
前記偏向デバイス(210,310)は、作動中に光学系を通過する光が、該光が前記第1の偏向面(211,311)上に入射する前に有した元の伝播方向に沿って、前記第2の偏向面(212,312)により再度偏向されるように構成されている、
ことを特徴とする光学系。 - 前記ミラー装置(200,300)と下流の瞳平面(PP)との間の前記光学ビーム経路に対して、前記光軸(OA)の偏向が生じるちょうど1つの偏向面(212,312)を有することを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記ミラー装置(200,300)の下流の前記光学ビーム経路に対して、前記光軸(OA)の偏向が各々生じる複数の偏向面を有することを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 屈折力を有する前記偏向面は、前記光学ビーム経路に対して前記複数の偏向面のうちの最初のものであることを特徴とする請求項3に記載の光学系。
- 前記偏向デバイス(210,310)は、プリズムとして構成されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記ミラー装置(200,300)の前記ミラー要素(200a,200b,200c,...,300a,300b,300c,...)は、5°よりも大きくなく、特に4°よりも大きくなく、より特定的に3°よりも大きくない最大傾斜角を有することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記少なくとも1つの偏向面(212,312)は、作動中に光学系を通過する光に対して全反射をもたらすことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記少なくとも1つの偏向面は、偏向ミラーとして具現化されることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学系。
- フーリエ光学ユニット(220,320)が、前記光学ビーム経路に対して前記ミラー装置(200,300)の下流に配置され、該フーリエ光学ユニット(220,320)は、光学系の作動中に該フーリエ光学ユニット(220,320)上に入射する光の角度分布を該光学ビーム経路の下流に配置された瞳平面(PP)内の空間分布に変換することを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記少なくとも1つの偏向面(212,312)は、前記フーリエ光学ユニット(220,320)の一部を形成することを特徴とする請求項9に記載の光学系。
- 前記フーリエ光学ユニット(220,320)は、1つよりも多いレンズ要素を有することを特徴とする請求項9又は請求項10に記載の光学系。
- 前記フーリエ光学ユニット(220,320)は、4つよりも多くなく、特に3つよりも多くないレンズ要素を有することを特徴とする請求項9から請求項11のいずれか1項に記載の光学系。
- 250nmよりも短く、特に200nmよりも短く、より特定的に160nmよりも短い動作波長に向けて設計されることを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の光学系。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置のための、光軸(OA)を有する光学系であって、 ミラー装置によって反射された光の角度分布を変更するために互いに独立して調節可能である複数のミラー要素(200a,200b,200c,...,300a,300b,300c,...)を有する少なくとも1つのミラー装置(200,300)と、
前記ミラー装置(200,300)の下流の光学ビーム経路に対して、前記光軸(OA)の偏向が生じる少なくとも1つの偏向面(212,312)を有する偏向デバイス(210,310)と、
を含み、
前記少なくとも1つの偏向面(212,312)は、屈折力を有し、
前記少なくとも1つの偏向面(212,312)は、作動中に光学系を通過する光に対して全反射をもたらす、
ことを特徴とする光学系。 - 照明デバイス(10)と投影レンズ(20)とを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
前記照明デバイス(10)は、請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の光学系を有する、
ことを特徴とする装置。 - 微細構造化構成要素をマイクロリソグラフィを用いて生成する方法であって、
感光材料からなる層が少なくとも部分的に塗布された基板(160)を与える段階と、 結像される構造を有するマスク(150)を与える段階と、
請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の光学系を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置を与える段階と、
前記投影露光装置を用いて前記マスク(150)の少なくとも一部を前記層の一領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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