JP2007299993A5 - - Google Patents
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Claims (11)
- 光源からの光で照明されたレチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を備える露光装置であって、
前記光を複数の光に分割すると共に、前記複数の光を前記レチクル上の異なる位置に集光する分割集光手段と、
前記分割集光手段から射出して前記レチクルを照明する前記複数の光の各々の中心部を周辺部よりも暗くする減光手段とを備えることを特徴とする露光装置。 - 前記投影光学系の瞳面において、前記複数の光の各々の中心部を周辺部よりも暗くする瞳フィルタを更に備えることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 光源からの光で照明されたレチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系と、
前記光を複数の光に分割すると共に、前記複数の光を前記レチクル上の異なる位置に集光する分割集光手段と、
前記複数の光の各々の中心部を周辺部よりも暗くする減光手段とを備え、
前記減光手段は、前記投影光学系の瞳に配置された瞳フィルタを有することを特徴とする露光装置。 - 前記瞳フィルタは、前記複数の光の各々の0次回折光を遮光することを特徴とする請求項3記載の露光装置。
- 前記分割集光手段は、複数のレンズ要素を有するレンズアレイを有し、
前記減光手段は、前記複数のレンズ要素の各々の中心部に配置される遮光部材を有することを特徴とする請求項3記載の露光装置。 - 前記分割集光手段は、アキシコンレンズを有する光学系であることを特徴とする請求項1又は3記載の露光装置。
- 前記分割集光手段は、CGHを有する光学系であることを特徴とする請求項1又は3記載の露光装置。
- 前記レチクルのパターンは、前記レチクルの前記光源側に配置されていることを特徴とする請求項1又は3記載の露光装置。
- 前記分割集光手段は、前記レチクルのパターンに基づいて、前記レチクルを照明する前記複数の光の入射角度分布又は照明光量分布を調整する調整手段を有することを特徴とする請求項1又は3記載の露光装置。
- 前記光源は、複数の光源で構成されることを特徴とする請求項1又は3記載の露光装置。
- 請求項1乃至10の何れか1項に記載の露光装置を用いて、基板を露光するステップと、
該露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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