JP2005302777A5 - - Google Patents
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- 投影光学系の収差を測定する方法であって、
光源からの光を用いて照明光学系でレチクルを照明するステップと、
前記レチクルに形成されたテストパターンの像を前記投影光学系で基板上に投影する投影ステップと、
前記テストパターンの像の位置ずれ量を測定する測定ステップと、
前記測定ステップで測定した前記位置ずれ量に基づいて、前記投影光学系の収差を決定する決定ステップと、
を有し、
前記投影ステップは、前記投影光学系の瞳の所定の領域のみを前記光が通過するように前記光を前記照明光学系又は投影光学系の中に配置された整形手段と前記レチクルの前記テストパターンが形成された面と反対の面に形成された遮光パターンとを用いて整形する整形ステップを含む
ことを特徴とする収差測定方法。 - 前記決定ステップは、前記測定ステップで測定した前記位置ずれ量に基づいて、Ｚｅｒｎｉｋｅ多項式の所定の項の係数を決定する
ことを特徴とする請求項１記載の収差測定方法。 - 前記照明光学系の中に配置された整形手段は、前記照明光学系の瞳面に配置された開口絞りを含む
ことを特徴とする請求項１記載の収差測定方法。 - 前記投影光学系の中に配置された整形手段は、瞳フィルターを含む
ことを特徴とする請求項１記載の収差測定方法。 - 前記照明光学系の中に配置された整形手段は、輪帯状の有効光源の内径及び／又は外径を変更する
ことを特徴とする請求項１記載の収差測定方法。 - 前記テストパターンと前記遮光パターンが対になって、前記レチクルの両面に複数形成されている
ことを特徴とする請求項１記載の収差測定方法。 - 前記開口絞りは複数の開口を持ち、前記遮光パターンは該複数の開口のうち少なくとも１つの開口を通過した前記光を遮光する
ことを特徴とする請求項３記載の収差測定方法。 - 前記テストパターンと前記遮光パターンが対になって、前記レチクルの両面に複数形成されている
ことを特徴とする請求項７記載の収差測定方法。 - 前記遮光パターンと対になっていない、前記テストパターンが前記レチクルに複数形成されている
ことを特徴とする請求項８記載の収差測定方法。 - 前記投影ステップは、前記遮光パターンと対になっている前記テストパターンと、前記遮光パターンと対になっていない前記テストパターンとが重なるように、前記基板を二重露光するステップを含む
ことを特徴とする請求項９記載の収差測定方法。
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