JP2005175407A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. レチクルが載置された第１ステージと基板が載置された第２ステージとを相対的に駆動させながらレチクルに形成されたパターンを投影光学系を介して基板上に露光する投影露光装置の前記投影光学系の光学特性の計測方法であって、
   前記第１と第２ステージを相対的に駆動させながら前記レチクルあるいは基準プレート上のテストパターンを投影光学系を介し基板面上に結像させ、結像させた該パターン像の位置ずれ量に基づき、前記投影光学系の光学特性を測定すると共に、前記テストパターンからの光が通過する前記投影光学系の瞳領域は、特定のゼルニケ項の係数が前記位置ずれ量から１：１の関係で求められる形状であることを特徴とする光学特性の計測方法。
2. 前記テストパターンを露光装置のスキャン方向に複数セット配置させることにより、該露光装置のスキャン方向のフォーカス変化を計測することを特徴とする請求項１記載の方法。
3. 前記テストパターンを露光装置のスキャン方向および前記投影光学系の像面方向に複数セット配置させることにより、該露光装置のスキャン方向のチルト変化を計測することを特徴とする請求項１記載の方法。
4. 前記投影光学系の瞳領域は、前記投影光学系の瞳位置と共役な照明系位置に配置した絞りにより形成することを特徴とする請求項１記載の方法。
5. 前記投影光学系の瞳領域は、前記テストパターンに対向する面に配置した開口により形成することを特徴とする請求項１記載の方法。
6. 被検光学系の光学性能を測定するための計測装置であって、
   所定方向に並んだ複数のテストパターンと、各テストパターンに対応して設けられた複数の開口を有するテストレチクルを照明する照明光学系と、
   照明光に対して前記テストレチクルを前記所定方向にスキャンする駆動部と、
   各テストパターン及びそれに対応する開口を経た光を前記被検光学系に導光して前記被検光学系が結像したテストパターンの空中像又は感光基板上における転写像の位置を、前記スキャンの範囲に亘って測定する測定部とを有することを特徴とする計測装置。
7. 被検光学系の光学性能を測定するための計測方法であって、
   所定方向に並んだ複数のテストパターンと、各テストパターンに対応して設けられた複数の開口を有するテストレチクルを照明するステップと、
   照明光に対して該テストレチクルを前記所定方向にスキャンするステップと、
   各テストパターン及びそれに対応する開口を経た光を前記被検光学系に導光して前記被検光学系が結像したテストパターンの空中像又は感光基板上における転写像の位置の情報を、前記スキャンの範囲に亘って取得するステップと、
   前記情報から前記被検光学系の光学性能を算出するステップとを有することを特徴とする計測方法。
8. 請求項７記載の測定方法を利用して算出された前記被検光学系としての投影光学系の光学性能に基づいて前記投影光学系を調節するステップと、
   前記調節された前記投影光学系を使用して被露光体を露光するステップとを有することを特徴とする露光方法。
9. 光束を用いてレチクルに形成されたパターンを被露光体にステップアンドスキャン方式で露光する露光装置であって、
   前記パターンを前記被露光体に投影する投影光学系と、
   前記投影光学系の光学性能を計測する請求項６記載の計測装置とを有することを特徴とする露光装置。
10. 請求項９記載の露光装置を利用して被露光体を露光するステップと、
    前記露光された前記被露光体を現像するステップとを有するデバイス製造方法。