JP5538851B2 - 測定装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
測定装置、露光装置及びデバイスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5538851B2 JP5538851B2 JP2009279812A JP2009279812A JP5538851B2 JP 5538851 B2 JP5538851 B2 JP 5538851B2 JP 2009279812 A JP2009279812 A JP 2009279812A JP 2009279812 A JP2009279812 A JP 2009279812A JP 5538851 B2 JP5538851 B2 JP 5538851B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- periodic pattern
- pattern
- wavefront
- diffracted lights
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/7085—Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
- G01M11/0257—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by analyzing the image formed by the object to be tested
- G01M11/0264—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by analyzing the image formed by the object to be tested by using targets or reference patterns
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70591—Testing optical components
- G03F7/706—Aberration measurement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
Description
<第1の実施形態>
図1は、本発明の第1の実施形態における測定装置1の構成を示す概略図である。測定装置1は、被検光学系OSの複数の結像性能(例えば、ディストーションや像面湾曲)を測定することが可能である。なお、被検光学系OSは、本実施形態では、露光装置に用いられる投影光学系を想定しているが、これに限定されるものではなく、照明光学系など様々な光学系を含む。
<第2の実施形態>
図11は、本発明の第2の実施形態における測定装置1Aの構成を示す図である。測定装置1Aは、基本的には、測定装置1と同様な構成を有するが、被検光学系OSの波面を検出する波面検出部90を更に有する。波面検出部90は、第1の波面測定用パターン92と、回折格子94と、第2の波面測定用パターン96と、撮像素子98とを含む。
<第3の実施形態>
図13は、本発明の第3の実施形態としての露光装置800の構成を示す概略図である。露光装置800は、例えば、ステップ・アンド・スキャン方式でレチクル820のパターンをウエハ840に転写する走査型露光装置(スキャナー)である。露光装置800は、照明装置810と、レチクル820及び第1の基準基板30を支持するレチクルステージ825と、投影光学系830と、ウエハ840、第2の基準基板60及び検出部70を支持するウエハステージ845と、制御部850とを有する。なお、露光装置800には、後述するように、測定装置1が適用されているが、測定装置1Aも同様に適用可能であることは言うまでもない。
Claims (7)
- 被検光学系の結像性能を測定する測定装置であって、
前記被検光学系の物体面に配置され、複数の物体高のそれぞれに応じて配置された周期パターンを有する第1の基準基板と、
前記被検光学系の像面に配置され、前記周期パターンからの光を透過する開口を有する第2の基準基板と、
前記開口を透過した前記周期パターンからの光の強度を検出する検出部と、
前記第1の基準基板及び前記第2の基準基板の少なくとも一方を駆動する駆動部と、
前記被検光学系の結像性能を求めるための処理を行う処理部と、
を有し、
前記処理部は、
前記周期パターンから前記被検光学系の瞳面上の2つの位置を通過する2つの回折光が生じる第1の回折条件において、前記駆動部によって前記第1の基準基板及び前記第2の基準基板の少なくとも一方を前記被検光学系の光軸に垂直な方向に駆動したときに前記検出部で検出される前記周期パターンからの光の強度の変化から前記2つの回折光間の位相差を前記複数の物体高に対応する複数の像高のそれぞれについて求め、
前記周期パターンから前記瞳面上の2つの位置を通過する2つの回折光が生じ、且つ、当該2つの回折光のうち少なくとも1つの回折光の前記瞳面に入射する位置が前記第1の回折条件において前記周期パターンから生じる2つの回折光のそれぞれの前記瞳面に入射する位置と異なる第2の回折条件において、前記駆動部によって前記第1の基準基板及び前記第2の基準基板の少なくとも一方を前記光軸に垂直な方向に駆動したときに前記検出部で検出される前記周期パターンからの光の強度の変化から前記2つの回折光間の位相差を前記複数の物体高に対応する複数の像高のそれぞれについて求め、
前記第1の回折条件における前記複数の像高での前記2つの回折光間の位相差と前記2つの回折光のそれぞれが前記瞳面に入射する位置、及び、前記第2の回折条件における前記複数の像高での前記2つの回折光間の位相差と前記2つの回折光のそれぞれが前記瞳面に入射する位置に基づいて、前記被検光学系の像面湾曲を含む結像性能を求めることを特徴とする測定装置。 - 前記処理部は、前記被検光学系の結像性能として、前記第1の回折条件における前記複数の像高での前記2つの回折光間の位相差と前記2つの回折光のそれぞれが前記瞳面に入射する位置、及び、前記第2の回折条件における前記複数の像高での前記2つの回折光間の位相差と前記2つの回折光のそれぞれが前記瞳面に入射する位置に基づいて、前記被検光学系のディストーションを更に求めることを特徴とする請求項1に記載の測定装置。
- 前記被検光学系の波面を検出する波面検出部を更に有し、
前記処理部は、
前記波面検出部で検出された波面からその波面のRMSを最小化するティルト成分及びデフォーカス成分を除去して第1の波面を求める第1の処理と、
前記第1の回折条件及び前記第2の回折条件のそれぞれについて、前記2つの回折光のそれぞれが前記瞳面に入射する位置間における前記第1の波面の位相差を求める第2の処理と、
前記第1の回折条件及び前記第2の回折条件のそれぞれについて、前記第2の処理で求めた前記第1の波面の位相差と前記2つの回折光間の位相差とを用いてティルト成分及びデフォーカス成分を求める第3の処理と、
前記第1の処理で求めた前記第1の波面に前記第3の処理で求めたティルト成分及びデフォーカス成分を加えて前記被検光学系のディストーション及び像面湾曲を含む波面収差を求める第4の処理と、
を行うことを特徴とする請求項1に記載の測定装置。 - 前記開口は、前記周期パターンを前記被検光学系の像面に投影した像の寸法よりも小さい寸法を有することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の測定装置。
- 前記周期パターンは、前記第1の回折条件において使用される第1の周期パターンと、前記第2の回折条件において使用される第2の周期パターンとを含み、
前記第1の周期パターンは、振幅透過率が一定であり、且つ、位相が0又はπとなる位相型の周期パターンであり、
前記第2の周期パターンは、振幅透過率が2値をとり、且つ、振幅透過率の変化の半周期ごとに位相が0からπの間で変化する位相振幅変調型の周期パターンであることを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の測定装置。 - レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系と、
前記投影光学系を被検光学系として結像性能を測定する測定装置と、
を有し、
前記測定装置は、請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の測定装置であることを特徴とする露光装置。 - 請求項6に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009279812A JP5538851B2 (ja) | 2009-12-09 | 2009-12-09 | 測定装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
US12/941,368 US8692975B2 (en) | 2009-12-09 | 2010-11-08 | Measurement apparatus, exposure apparatus, and device fabrication method |
KR1020100121413A KR101370224B1 (ko) | 2009-12-09 | 2010-12-01 | 측정 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009279812A JP5538851B2 (ja) | 2009-12-09 | 2009-12-09 | 測定装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011124345A JP2011124345A (ja) | 2011-06-23 |
JP2011124345A5 JP2011124345A5 (ja) | 2013-01-31 |
JP5538851B2 true JP5538851B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=44081720
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009279812A Expired - Fee Related JP5538851B2 (ja) | 2009-12-09 | 2009-12-09 | 測定装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8692975B2 (ja) |
JP (1) | JP5538851B2 (ja) |
KR (1) | KR101370224B1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102010062763A1 (de) | 2010-12-09 | 2012-06-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Vermessen eines optischen Systems |
DE102011078224A1 (de) * | 2011-06-28 | 2013-01-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Vermessen eines optischen Systems |
US10288489B2 (en) * | 2012-05-30 | 2019-05-14 | Nikon Corporation | Method and device for measuring wavefront using light-exit section causing light amount distribution in at least one direction |
CN103278179B (zh) * | 2013-05-16 | 2015-08-19 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 空间相机场曲检测装置及检测方法 |
JP6359378B2 (ja) * | 2014-08-08 | 2018-07-18 | 株式会社Screenホールディングス | 光学特性取得装置、位置測定装置、光学特性取得方法および位置測定方法 |
US10401145B2 (en) * | 2016-06-13 | 2019-09-03 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Method for calibrating an optical arrangement |
US11506478B2 (en) * | 2019-11-27 | 2022-11-22 | California Institute Of Technology | Three dimensional (3D) imaging using optical coherence factor (OCF) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3297423B2 (ja) * | 2000-08-09 | 2002-07-02 | 株式会社東芝 | フォーカステストマスク、並びにそれを用いたフォーカス及び収差の測定方法 |
US6816247B1 (en) * | 2001-08-14 | 2004-11-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Moiré method and a system for measuring the distortion of an optical imaging system |
JP2003197510A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-11 | Nikon Corp | 収差測定装置、収差測定方法、光学系、および、露光装置 |
JP2006324311A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Canon Inc | 波面収差測定装置及びそれを有する露光装置 |
JP2009068922A (ja) * | 2007-09-11 | 2009-04-02 | Canon Inc | 測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2009210359A (ja) | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Canon Inc | 評価方法、評価装置および露光装置 |
-
2009
- 2009-12-09 JP JP2009279812A patent/JP5538851B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-11-08 US US12/941,368 patent/US8692975B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-12-01 KR KR1020100121413A patent/KR101370224B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011124345A (ja) | 2011-06-23 |
KR101370224B1 (ko) | 2014-03-05 |
US20110134408A1 (en) | 2011-06-09 |
KR20110065351A (ko) | 2011-06-15 |
US8692975B2 (en) | 2014-04-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7623247B2 (en) | Wavefront-aberration measuring device and exposure apparatus including the device | |
US20120123581A1 (en) | Metrology Method and Inspection Apparatus, Lithographic System and Device Manufacturing Method | |
JP5538851B2 (ja) | 測定装置、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
US8223315B2 (en) | Measuring apparatus and exposure apparatus having the same | |
JP2009068922A (ja) | 測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
US7576870B2 (en) | Measurement apparatus, exposure apparatus, and device fabrication method | |
JP2007180152A (ja) | 測定方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法 | |
US7826044B2 (en) | Measurement method and apparatus, and exposure apparatus | |
JP2005244126A (ja) | 測定装置を搭載した露光装置 | |
JP3774590B2 (ja) | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
JP2014135368A (ja) | 露光装置、計測方法及びデバイスの製造方法 | |
JP5084239B2 (ja) | 計測装置、露光装置並びにデバイス製造方法 | |
JP2005030963A (ja) | 位置検出方法 | |
US20100112733A1 (en) | Measuring device, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
JP3870153B2 (ja) | 光学特性の測定方法 | |
JP2007180209A (ja) | 測定方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法 | |
JP2000315642A (ja) | 収差による位置ずれ及びディストーションの計測方法と装置並びにレチクル | |
JP2009216454A (ja) | 波面収差測定装置、波面収差測定方法、露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP4630611B2 (ja) | 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 | |
JP2006332561A (ja) | ベストフォーカス位置測定方法及び非点隔差測定方法 | |
JP2004273748A (ja) | 収差測定装置 | |
JP2010034319A (ja) | 波面収差の測定方法 | |
JP4798353B2 (ja) | 光学特性計測方法及びパターン誤差計測方法 | |
JPH11297614A (ja) | コマ収差測定装置および該装置を備えた投影露光装置 | |
WO2021249711A1 (en) | Metrology method, metrology apparatus and lithographic apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121207 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121207 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130927 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131028 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131224 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140404 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140430 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |