JP4630611B2 - 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 - Google Patents
干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4630611B2 JP4630611B2 JP2004253948A JP2004253948A JP4630611B2 JP 4630611 B2 JP4630611 B2 JP 4630611B2 JP 2004253948 A JP2004253948 A JP 2004253948A JP 2004253948 A JP2004253948 A JP 2004253948A JP 4630611 B2 JP4630611 B2 JP 4630611B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- projection optical
- exposure
- exposure apparatus
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70591—Testing optical components
- G03F7/706—Aberration measurement
Description
120 マスク(レチクル)
121a、121b マスク面
122、124 パターン
150 測定装置
Claims (10)
- 露光用パターンを被露光体に投影する投影光学系と、
干渉縞を検出して前記投影光学系の光学性能を測定する測定装置とを有し、
前記測定装置は、互いに対向する第1及び第2の面を有する光学部材を有し、
前記第1の面には回折格子が形成され、前記第2の面には前記回折格子からの回折光が透過する2つの開口を含むパターンが形成され、前記第2の面は第1の面よりも前記投影光学系側に配置され、
前記回折格子からの回折光であって前記2つの開口の各開口を透過した光を前記投影光学系に導光して干渉させることを特徴とする露光装置。 - 前記露光用パターンが形成された露光用マスクを保持するためのレチクルステージを更に有し、
前記光学部材は前記レチクルステージに固定されていることを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記回折格子は、行列状に配置された複数の回折格子であり、
第1の行に形成された複数の回折格子は第2の行に形成された複数の回折格子に対して列方向にずれていることを特徴とする請求項1又は2記載の露光装置。 - 前記測定装置は、
前記被露光体を支持するウェハステージに載置され、前記投影光学系を経た光が導光される計測用パターンが形成された基準板と、
前記計測用パターンを経た前記光を検出する検出部と、
前記計測用パターンと前記検出部との間に配置された正のパワーを有する光学系とを更に有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記正のパワーを有する光学系は、前記計測用パターンのパターン面と前記検出部とを実質的にフーリエ変換の関係に維持することを特徴とする請求項4記載の露光装置。
- 前記光学部材は、前記回折格子を含む第1の光学部と、前記2つの開口を含む第2の光学部とを有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 請求項1乃至6のいずれか一項記載の露光装置を利用して前記投影光学系の光学性能を算出するステップと、
前記算出された前記投影光学系の前記光学性能に基づいて前記投影光学系を調節するステップと、
前記調節された前記投影光学系を有する前記露光装置を使用して被露光体を露光するステップとを有することを特徴とする露光方法。 - 前記露光用パターンを前記被露光体に露光する際に露光条件を変更する毎に、前記算出ステップを行うことを特徴とする請求項7記載の露光方法。
- 請求項1乃至6のうちいずれか一項記載の露光装置を利用して被露光体を露光するステップと、
前記露光された前記被露光体を現像するステップとを有するデバイス製造方法。 - 露光用パターンを被露光体に投影する投影光学系と、干渉縞を検出して前記投影光学系の光学性能を測定する測定装置とを有する露光装置の前記測定装置に使用されるマスクであって、
前記マスクは、互いに対向する第1及び第2の面を有する光学部材を有し、
前記第1の面には回折格子が形成され、前記第2の面には前記回折格子からの回折光が透過する2つの開口を含むパターンが形成され、前記第2の面は第1の面よりも前記投影光学系側に配置され、
前記回折格子からの回折光であって前記2つの開口の各開口を透過した光を前記投影光学系に導光して干渉させることを特徴とするマスク。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004253948A JP4630611B2 (ja) | 2004-09-01 | 2004-09-01 | 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
US11/219,508 US7330237B2 (en) | 2004-09-01 | 2005-09-01 | Exposure apparatus equipped with interferometer and method of using same |
US11/956,747 US8013980B2 (en) | 2004-09-01 | 2007-12-14 | Exposure apparatus equipped with interferometer and exposure apparatus using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004253948A JP4630611B2 (ja) | 2004-09-01 | 2004-09-01 | 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006073697A JP2006073697A (ja) | 2006-03-16 |
JP4630611B2 true JP4630611B2 (ja) | 2011-02-09 |
Family
ID=35942569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004253948A Expired - Fee Related JP4630611B2 (ja) | 2004-09-01 | 2004-09-01 | 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7330237B2 (ja) |
JP (1) | JP4630611B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2003233318A1 (en) * | 2003-05-12 | 2004-11-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical measuring device and operating method for an optical imaging system |
JP4630611B2 (ja) * | 2004-09-01 | 2011-02-09 | キヤノン株式会社 | 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
JP4666982B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2011-04-06 | キヤノン株式会社 | 光学特性測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2007180152A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Canon Inc | 測定方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法 |
JP4850643B2 (ja) * | 2006-09-11 | 2012-01-11 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
JP5063229B2 (ja) * | 2007-07-12 | 2012-10-31 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP5219534B2 (ja) * | 2008-01-31 | 2013-06-26 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2009216454A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Canon Inc | 波面収差測定装置、波面収差測定方法、露光装置およびデバイス製造方法 |
WO2016169890A1 (en) * | 2015-04-20 | 2016-10-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic method and apparatus |
DE102017203376B3 (de) * | 2017-03-02 | 2018-05-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Messvorrichtung und Verfahren zur Vermessung eines Wellenfrontfehlers eines abbildenden optischen Systems sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11304653A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-05 | Nikon Corp | 投影光学系の結像特性計測方法及び投影露光装置 |
JP2000097666A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法 |
JP2002198303A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Nikon Corp | 露光装置、光学特性計測方法、及びデバイス製造方法 |
JP2003075990A (ja) * | 2001-09-07 | 2003-03-12 | Toshiba Corp | 検査用マスクおよび露光装置の検査方法 |
JP2003156832A (ja) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Mitsubishi Electric Corp | 収差計測用フォトマスク、収差計測方法、収差計測用装置および装置の製造方法 |
WO2003088329A1 (en) * | 2002-04-17 | 2003-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Reticle and optical characteristic measuring method |
JP2005156506A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-16 | Canon Inc | 干渉を利用した測定方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 |
JP2006511069A (ja) * | 2002-12-19 | 2006-03-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 光学結像系の結像品質を測定するための測定方法および測定システム |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3950103A (en) * | 1972-10-27 | 1976-04-13 | Canadian Patents And Development Limited | Method and apparatus to determine spatial distribution of magnitude and phase of electro-magnetic fields especially optical fields |
JPS5764139A (en) | 1980-10-08 | 1982-04-19 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Interferometer |
US5473435A (en) * | 1992-07-07 | 1995-12-05 | Nikon Corporation | Method of measuring the bent shape of a movable mirror of an exposure apparatus |
US5402224A (en) * | 1992-09-25 | 1995-03-28 | Nikon Corporation | Distortion inspecting method for projection optical system |
US6151122A (en) * | 1995-02-21 | 2000-11-21 | Nikon Corporation | Inspection method and apparatus for projection optical systems |
KR100525067B1 (ko) * | 1997-01-20 | 2005-12-21 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치의 광학 특성 측정 방법, 노광 장치의 동작 방법 및 투영 노광 장치 |
US6522386B1 (en) * | 1997-07-24 | 2003-02-18 | Nikon Corporation | Exposure apparatus having projection optical system with aberration correction element |
US5953124A (en) * | 1998-01-19 | 1999-09-14 | Zygo Corporation | Interferometric methods and systems using low coherence illumination |
US6344898B1 (en) * | 1998-09-14 | 2002-02-05 | Nikon Corporation | Interferometric apparatus and methods for measuring surface topography of a test surface |
US6312373B1 (en) | 1998-09-22 | 2001-11-06 | Nikon Corporation | Method of manufacturing an optical system |
JP2000146705A (ja) | 1998-11-04 | 2000-05-26 | Nikon Corp | グレーティングシアリング干渉計を用いた位相分布の計測方法 |
US6271923B1 (en) * | 1999-05-05 | 2001-08-07 | Zygo Corporation | Interferometry system having a dynamic beam steering assembly for measuring angle and distance |
US6861012B2 (en) * | 1999-12-10 | 2005-03-01 | Laser Lock Technologies, Inc. | Latent inkjet formulation and method |
US6927847B2 (en) * | 2001-09-13 | 2005-08-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method and apparatus for inspecting pattern defects |
US6796156B2 (en) * | 2001-11-23 | 2004-09-28 | Sitel, S.P.A. | Object-marking device |
US7242475B2 (en) * | 2004-03-25 | 2007-07-10 | Asml Netherlands B.V. | Method of determining aberration of a projection system of a lithographic apparatus |
JP4630611B2 (ja) * | 2004-09-01 | 2011-02-09 | キヤノン株式会社 | 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
-
2004
- 2004-09-01 JP JP2004253948A patent/JP4630611B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-09-01 US US11/219,508 patent/US7330237B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-12-14 US US11/956,747 patent/US8013980B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11304653A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-05 | Nikon Corp | 投影光学系の結像特性計測方法及び投影露光装置 |
JP2000097666A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法 |
JP2002198303A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Nikon Corp | 露光装置、光学特性計測方法、及びデバイス製造方法 |
JP2003075990A (ja) * | 2001-09-07 | 2003-03-12 | Toshiba Corp | 検査用マスクおよび露光装置の検査方法 |
JP2003156832A (ja) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Mitsubishi Electric Corp | 収差計測用フォトマスク、収差計測方法、収差計測用装置および装置の製造方法 |
WO2003088329A1 (en) * | 2002-04-17 | 2003-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Reticle and optical characteristic measuring method |
JP2006511069A (ja) * | 2002-12-19 | 2006-03-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 光学結像系の結像品質を測定するための測定方法および測定システム |
JP2005156506A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-16 | Canon Inc | 干渉を利用した測定方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080111980A1 (en) | 2008-05-15 |
JP2006073697A (ja) | 2006-03-16 |
US8013980B2 (en) | 2011-09-06 |
US20060044536A1 (en) | 2006-03-02 |
US7330237B2 (en) | 2008-02-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4817702B2 (ja) | 光学装置及びそれを備えた露光装置 | |
US6646729B2 (en) | Method of measuring aberration in an optical imaging system | |
JP4497968B2 (ja) | 照明装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
KR100752813B1 (ko) | 측정장치를 탑재한 노광장치 | |
US8013980B2 (en) | Exposure apparatus equipped with interferometer and exposure apparatus using the same | |
US7417712B2 (en) | Exposure apparatus having interferometer and device manufacturing method | |
JP2006228930A (ja) | 測定装置及びそれを搭載した露光装置 | |
JP2004347821A (ja) | 露光装置、収差低減方法及び光学部材調整機構 | |
JP2007180152A (ja) | 測定方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法 | |
US8692975B2 (en) | Measurement apparatus, exposure apparatus, and device fabrication method | |
JP4724558B2 (ja) | 測定方法及び装置、露光装置 | |
EP1128217B1 (en) | Method of measuring aberration in an optical imaging system | |
JP2005030963A (ja) | 位置検出方法 | |
JP4095598B2 (ja) | 二次元波面収差の算出方法 | |
US7586626B2 (en) | Measurement method, exposure method, exposure apparatus, and device fabrication method | |
US20230273011A1 (en) | Measurement apparatus, measurement method, lithography apparatus and article manufacturing method | |
JP2005175407A (ja) | 計測方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 | |
JP2005294404A (ja) | 測定装置、測定方法及びそれを有する露光装置及び露光方法、それを利用したデバイス製造方法 | |
JP2008270428A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2006080444A (ja) | 測定装置、テストレチクル、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2006162453A (ja) | 測定方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法 | |
JP2007188927A (ja) | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 | |
US20100195072A1 (en) | Optical characteristic measuring method, optical characteristic adjusting method, exposure apparatus, exposing method, and exposure apparatus manufacturing method | |
JP2005347593A (ja) | 計測方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070830 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100405 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101102 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101115 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131119 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |