JP2007188927A - 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マスクに露光光を照明するための照明光学系と、当該マスクを経た前記露光光を被露光体に照明する投影光学系とを有する露光装置は、以下の特徴を有する。退避可能に配置され、前記マスクに入射する前記露光光を平行光に変換する光変換手段を有する。退避可能に配置され、前記投影光学系に入射する前記平行光の光束を分割する光束分割手段を有する。退避可能に配置され、当該光束分割手段によって分割された前記光束の偏光状態の分布を計測する計測手段とを有する。
【選択図】図1
Description
10 照明装置
11 光源部
12 照明光学系
30 投影光学系
100 偏光状態計測手段
110 偏光状態制御手段
120 センサ
130 光束分割手段
140 駆動部
150 制御部
RC マスク
W ウェハ
Claims (9)
- マスクに露光光を照明するための照明光学系と、当該マスクを経た前記露光光を被露光体に照明する投影光学系とを有する露光装置であって、
退避可能に配置され、前記マスクに入射する前記露光光を平行光に変換する光変換手段と、
退避可能に配置され、前記投影光学系に入射する前記平行光の光束を分割する光束分割手段と、
退避可能に配置され、当該光束分割手段によって分割された前記光束の偏光状態の分布を計測する計測手段とを有することを特徴とする露光装置。 - 前記光変換手段は、前記投影光学系のNAに対する前記照明光学系のNAの比をσとすると、
σ<0.1
を満足する光を前記マスクが配置される面に形成することを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記計測手段は、透過光に位相差を与える位相子と、偏光状態に応じて透過率が異なる偏光素子と、前記透過光の光強度を検出する撮像素子とを有し、
前記位相子または前記偏光素子のうち少なくとも一方は光軸を中心として回転可能に構成され、
前記撮像素子は、前記投影光学系の瞳面と共役な位置に配置されることを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記露光装置は、前記露光光を生成する光源と、
当該光源と前記光変換手段との間に配置されると共に前記光変換手段に入射する光の偏光状態を制御する偏光状態制御手段と、
前記光変換手段と前記被露光体との間の光学系で発生する偏光状態をミューラー行列またはジューンズ行列として算出する算出部とを有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記偏光状態制御手段は、透過光に位相差を与える位相子と、偏光状態に応じて透過率が異なる偏光素子とを有し、
前記位相子または前記偏光素子のうち少なくとも一方は光軸を中心として回転可能に構成されていることを特徴とする請求項4記載の露光装置。 - マスクに露光光を照明するための照明光学系と、当該マスクを経た前記露光光を被露光体に照明する投影光学系とを有する露光装置の偏光状態を計測する偏光状態計測方法であって、
退避可能に配置され、前記マスクに入射する前記露光光を平行光に変換する光変換手段と、退避可能に配置され、前記投影光学系に入射する前記平行光の光束を分割する光束分割手段とが光路上に配置された状態で、前記投影光学系のみの偏光状態を計測する第1の計測ステップと、
前記光変換手段と前記光束分割手段とが光路上から退避した状態で、前記投影光学系及び前記照明光学系の偏光状態を計測する第2の計測ステップとを有する偏光状態計測方法。 - 前記第1の計測ステップで計測される前記投影光学系の前記偏光状態の逆行列を演算する演算ステップと、
前記第1及び第2の計測ステップの計測結果及び前記演算ステップの算出結果に基づいて前記前記光変換手段と前記マスクとの間で発生する偏光状態の分布を算出する算出ステップとを更に有することを特徴とする請求項7記載の偏光状態計測方法。 - 前記照明光学系と前記投影光学系のそれぞれの偏光状態は、ミューラー行列またはジョーンズ行列であることを特徴とする請求項8記載の偏光状態計測方法。
- 請求項1乃至5のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて前記被露光体を露光する露光ステップと、
前記露光された前記被露光体を現像する現像ステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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2006
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