JP6359378B2 - 光学特性取得装置、位置測定装置、光学特性取得方法および位置測定方法 - Google Patents
光学特性取得装置、位置測定装置、光学特性取得方法および位置測定方法 Download PDFInfo
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Description
5 撮像装置
7 位置取得部
8 光学特性取得装置
9 基板
81 画像記憶部
82 演算部
83 光学特性取得部
93,93a キャリブレーションプレート
911 目印
941,941a 図形要素
S11〜S15,S21〜S24,S131〜S134 ステップ
Claims (14)
- 撮像装置の光学特性を取得する光学特性取得装置であって、
撮像装置により取得された、同一形状の複数の図形要素が規則的に分布する参照物の画像を記憶する画像記憶部と、
前記画像における前記複数の図形要素のそれぞれの画素値分布を、偏微分可能なモデル関数にてモデル化し、前記モデル関数に含まれる複数の係数を最適化法にて決定し、前記複数の係数を前記モデル関数に代入することにより、前記複数の図形要素のそれぞれの画素値分布を取得する演算部と、
前記演算部により取得された前記複数の図形要素のそれぞれの画素値分布に基づいて前記撮像装置の光学特性を取得する光学特性取得部と、
を備えることを特徴とする光学特性取得装置。 - 請求項1に記載の光学特性取得装置であって、
前記光学特性が、前記撮像装置の歪み特性であることを特徴とする光学特性取得装置。 - 請求項1または2に記載の光学特性取得装置であって、
前記最適化法が、ガウス・ニュートン法またはレーベンバーグ・マルカート法であることを特徴とする光学特性取得装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の光学特性取得装置であって、
前記画像における前記複数の図形要素を除く背景の画素値である背景画素値と前記複数の図形要素の中心部の画素値である中心部画素値との平均値にて前記画像を2値化することにより、前記複数の図形要素のそれぞれに対応する複数の画素群を得た場合、各画素群の全体が、1辺が10画素以下の正方形領域に含まれることを特徴とする光学特性取得装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の光学特性取得装置であって、
前記演算部において、各図形要素が数1に示す円状の2次元ガウス関数にて表現され、
係数eの初期値が、前記画像における前記複数の図形要素を除く背景の画素値である背景画素値に基づいて決定され、
係数aの初期値が、前記各図形要素内の画素値と前記背景画素値との差に基づいて決定され、
係数bの初期値が、前記各図形要素の大きさに基づいて決定され、
係数cの初期値が、前記各図形要素の中心のx座標に基づいて決定され、
係数dの初期値が、前記各図形要素の前記中心のy座標に基づいて決定されることを特徴とする光学特性取得装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の光学特性取得装置であって、
前記演算部において、各図形要素が数2に示す矩形状のモデル関数(ただし、nは2以上の自然数)にて表現され、
係数eの初期値が、前記画像における前記複数の図形要素を除く背景の画素値である背景画素値に基づいて決定され、
係数aの初期値が、前記各図形要素内の画素値と前記背景画素値との差に基づいて決定され、
係数bの初期値が、前記各図形要素の大きさに基づいて決定され、
係数cの初期値が、前記各図形要素の中心のx座標に基づいて決定され、
係数dの初期値が、前記各図形要素の前記中心のy座標に基づいて決定されることを特徴とする光学特性取得装置。 - 複数の目印が設けられた対象物の位置を測定する位置測定装置であって、
複数の目印が設けられた対象物の画像である測定画像を取得する撮像装置と、
前記撮像装置の光学特性を取得する請求項1ないし6のいずれかに記載の光学特性取得装置と、
前記光学特性取得装置にて取得された前記撮像装置の光学特性を考慮しつつ前記測定画像から前記複数の目印の位置を取得する位置取得部と、
を備えることを特徴とする位置測定装置。 - 撮像装置の光学特性を取得する光学特性取得方法であって、
a)撮像装置により取得された、同一形状の複数の図形要素が規則的に分布する参照物の画像を準備する工程と、
b)前記画像における前記複数の図形要素のそれぞれの画素値分布を、偏微分可能なモデル関数にてモデル化し、前記モデル関数に含まれる複数の係数を最適化法にて決定し、前記複数の係数を前記モデル関数に代入することにより、前記複数の図形要素のそれぞれの画素値分布を取得する工程と、
c)前記b)工程にて取得された前記複数の図形要素のそれぞれの画素値分布に基づいて前記撮像装置の光学特性を取得する工程と、
を備えることを特徴とする光学特性取得方法。 - 請求項8に記載の光学特性取得方法であって、
前記光学特性が、前記撮像装置の歪み特性であることを特徴とする光学特性取得方法。 - 請求項8または9に記載の光学特性取得方法であって、
前記最適化法が、ガウス・ニュートン法またはレーベンバーグ・マルカート法であることを特徴とする光学特性取得方法。 - 請求項8ないし10のいずれかに記載の光学特性取得方法であって、
前記画像における前記複数の図形要素を除く背景の画素値である背景画素値と前記複数の図形要素の中心部の画素値である中心部画素値との平均値にて前記画像を2値化することにより、前記複数の図形要素のそれぞれに対応する複数の画素群を得た場合、各画素群の全体が、1辺が10画素以下の正方形領域に含まれることを特徴とする光学特性取得方法。 - 請求項8ないし11のいずれかに記載の光学特性取得方法であって、
前記b)工程において、各図形要素が数3に示す円状の2次元ガウス関数にて表現され、
係数eの初期値が、前記画像における前記複数の図形要素を除く背景の画素値である背景画素値に基づいて決定され、
係数aの初期値が、前記各図形要素内の画素値と前記背景画素値との差に基づいて決定され、
係数bの初期値が、前記各図形要素の大きさに基づいて決定され、
係数cの初期値が、前記各図形要素の中心のx座標に基づいて決定され、
係数dの初期値が、前記各図形要素の前記中心のy座標に基づいて決定されることを特徴とする光学特性取得方法。 - 請求項8ないし11のいずれかに記載の光学特性取得方法であって、
前記b)工程において、各図形要素が数4に示す矩形状のモデル関数(ただし、nは2以上の自然数)にて表現され、
係数eの初期値が、前記画像における前記複数の図形要素を除く背景の画素値である背景画素値に基づいて決定され、
係数aの初期値が、前記各図形要素内の画素値と前記背景画素値との差に基づいて決定され、
係数bの初期値が、前記各図形要素の大きさに基づいて決定され、
係数cの初期値が、前記各図形要素の中心のx座標に基づいて決定され、
係数dの初期値が、前記各図形要素の前記中心のy座標に基づいて決定されることを特徴とする光学特性取得方法。 - 複数の目印が設けられた対象物の位置を測定する位置測定方法であって、
d)請求項8ないし13のいずれかに記載の光学特性取得方法により前記撮像装置の光学特性を取得する工程と、
e)複数の目印が設けられた対象物の画像である測定画像を準備する工程と、
f)前記d)工程にて取得された前記撮像装置の光学特性を考慮しつつ前記測定画像から前記複数の目印の位置を取得する工程と、
を備えることを特徴とする位置測定方法。
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