JP2015191132A - 輝度分布測定装置、描画装置および輝度分布測定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】描画装置1は、対象物である基板9に光を照射してパターンの描画を行う。描画装置1は、基板9にビーム光を照射する描画ヘッド4と、基板9上におけるビーム光の照射位置を移動する保持部移動機構2と、描画ヘッド4および保持部移動機構を制御することにより基板9上にパターンを描画する制御部6と、基板9へのパターンの描画前にビーム光の輝度分布を測定する測定装置7とを備える。測定装置7は、ビーム光の照射位置を含む測定画像を記憶する画像記憶部と、円状または楕円状の2次元ガウス関数としてモデル化されたビーム光の輝度分布を、測定画像の画素値を用いて2次元ガウス関数に含まれる複数の係数をガウス・ニュートン法またはレーベンバーグ・マルカート法により決定することにより取得する演算部とを備える。これにより、ビーム光の輝度分布を高精度に求めることができる。
【選択図】図1
Description
2 保持部移動機構
4 描画ヘッド
6 制御部
7 測定装置
9 基板
46 空間光変調デバイス
48 光出射部
71 画像記憶部
72 演算部
94 明るい画素群
95,96 ビーム光
461 光変調素子
461a 可動リボン
461b 固定リボン
461c 基準面
S11〜S14,S131〜S134 ステップ
Claims (13)
- ビーム光の輝度分布を測定する輝度分布測定装置であって、
ビーム光の照射位置を含む画像を記憶する画像記憶部と、
円状または楕円状の2次元ガウス関数としてモデル化された前記ビーム光の輝度分布を、前記画像の画素値を用いて前記2次元ガウス関数に含まれる複数の係数を最適化法により決定することにより取得する演算部と、
を備えることを特徴とする輝度分布測定装置。 - 請求項1に記載の輝度分布測定装置であって、
前記最適化法が、ガウス・ニュートン法またはレーベンバーグ・マルカート法であることを特徴とする輝度分布測定装置。 - 請求項1または2に記載の輝度分布測定装置であって、
前記画像において出現頻度が最大の画素値である最大頻度画素値と前記画像において最も明るい画素の画素値である最明画素値との平均値にて前記画像を2値化して得られた明るい画素群の全体が、1辺が10画素以下の正方形領域に含まれることを特徴とする輝度分布測定装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の輝度分布測定装置であって、
前記演算部において、前記輝度分布が数1に示す円状の二次元ガウス関数にて表現され、
係数eの初期値が、前記画像において出現頻度が最大の画素値である最大頻度画素値に基づいて決定され、
係数aの初期値が、前記画像において最も明るい画素の画素値である最明画素値と前記最大頻度画素値との差に基づいて決定され、
係数bの初期値が、前記最大頻度画素値と前記最明画素値との平均値にて前記画像を2値化して得られた明るい画素群に外接し、各辺がx方向またはy方向を向く外接正方形の一辺の長さに基づいて決定され、
係数cの初期値が、前記外接正方形の中心のx座標に基づいて決定され、
係数dの初期値が、前記外接正方形の前記中心のy座標に基づいて決定されることを特徴とする輝度分布測定装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の輝度分布測定装置であって、
前記演算部において、前記輝度分布が数2に示す楕円状の2次元ガウス関数にて表現され、
係数gの初期値が、前記画像において出現頻度が最大の画素値である最大頻度画素値に基づいて決定され、
係数aの初期値が、前記画像において最も明るい画素の画素値である最明画素値と前記最大頻度画素値との差に基づいて決定され、
係数bの初期値が、前記最大頻度画素値と前記最明画素値との平均値にて前記画像を2値化して得られた明るい画素群に外接する最小外接矩形の一対の辺の長さに基づいて決定され、
係数cの初期値が、前記最小外接矩形の他の一対の辺の長さに基づいて決定され、
係数dの初期値が、前記最小外接矩形の傾きに基づいて決定され、
係数eの初期値が、前記最小外接矩形の中心のx座標に基づいて決定され、
係数fの初期値が、前記最小外接矩形の前記中心のy座標に基づいて決定されることを特徴とする輝度分布測定装置。 - 対象物に光を照射してパターンの描画を行う描画装置であって、
対象物にビーム光を照射する描画ヘッドと、
前記対象物上における前記ビーム光の照射位置を移動する照射位置移動機構と、
前記描画ヘッドおよび前記照射位置移動機構を制御することにより前記対象物上にパターンを描画する制御部と、
前記対象物へのパターンの描画前に前記ビーム光の輝度分布を測定する請求項1ないし5のいずれかに記載の輝度分布測定装置と、
を備えることを特徴とする描画装置。 - 請求項6に記載の描画装置であって、
前記描画ヘッドが、
ビーム光を出射する光出射部と、
前記光出射部からのビーム光を空間変調する空間光変調デバイスと、
を備えることを特徴とする描画装置。 - 請求項7に記載の描画装置であって、
前記空間光変調デバイスが、基準面上において所定の配列方向に配列される回折格子型の複数の光変調素子を備え、
前記複数の光変調素子がそれぞれ、
前記基準面に対する高さが可変である可動リボンと、
前記可動リボンに前記配列方向において隣接するとともに前記基準面からの高さが固定された固定リボンと、
を備えることを特徴とする描画装置。 - ビーム光の輝度分布を測定する輝度分布測定方法であって、
a)ビーム光の照射位置を含む画像を準備する工程と、
b)円状または楕円状の2次元ガウス関数としてモデル化された前記ビーム光の輝度分布を、前記画像の画素値を用いて前記2次元ガウス関数に含まれる複数の係数を最適化法により決定することにより取得する工程と、
を備えることを特徴とする輝度分布測定方法。 - 請求項9に記載の輝度分布測定方法であって、
前記最適化法が、ガウス・ニュートン法またはレーベンバーグ・マルカート法であることを特徴とする輝度分布測定方法。 - 請求項9または10に記載の輝度分布測定方法であって、
前記画像において出現頻度が最大の画素値である最大頻度画素値と前記画像において最も明るい画素の画素値である最明画素値との平均値にて前記画像を2値化して得られた明るい画素群の全体が、1辺が10画素以下の正方形領域に含まれることを特徴とする輝度分布測定方法。 - 請求項9ないし11のいずれかに記載の輝度分布測定方法であって、
前記b)工程において、前記輝度分布が数3に示す円状の二次元ガウス関数にて表現され、
係数eの初期値が、前記画像において出現頻度が最大の画素値である最大頻度画素値に基づいて決定され、
係数aの初期値が、前記画像において最も明るい画素の画素値である最明画素値と前記最大頻度画素値との差に基づいて決定され、
係数bの初期値が、前記最大頻度画素値と前記最明画素値との平均値にて前記画像を2値化して得られた明るい画素群に外接し、各辺がx方向またはy方向を向く外接正方形の一辺の長さに基づいて決定され、
係数cの初期値が、前記外接正方形の中心のx座標に基づいて決定され、
係数dの初期値が、前記外接正方形の前記中心のy座標に基づいて決定されることを特徴とする輝度分布測定方法。 - 請求項9ないし11のいずれかに記載の輝度分布測定方法であって、
前記b)工程において、前記輝度分布が数4に示す楕円状の2次元ガウス関数にて表現され、
係数gの初期値が、前記画像において出現頻度が最大の画素値である最大頻度画素値に基づいて決定され、
係数aの初期値が、前記画像において最も明るい画素の画素値である最明画素値と前記最大頻度画素値との差に基づいて決定され、
係数bの初期値が、前記最大頻度画素値と前記最明画素値との平均値にて前記画像を2値化して得られた明るい画素群に外接する最小外接矩形の一対の辺の長さに基づいて決定され、
係数cの初期値が、前記最小外接矩形の他の一対の辺の長さに基づいて決定され、
係数dの初期値が、前記最小外接矩形の傾きに基づいて決定され、
係数eの初期値が、前記最小外接矩形の中心のx座標に基づいて決定され、
係数fの初期値が、前記最小外接矩形の前記中心のy座標に基づいて決定されることを特徴とする輝度分布測定方法。
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