JP6150560B2 - データ変換方法、描画システムおよびプログラム - Google Patents
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 60
- 238000010422 painting Methods 0.000 claims description 44
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 22
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 17
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70508—Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
- G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F12/00—Accessing, addressing or allocating within memory systems or architectures
- G06F12/02—Addressing or allocation; Relocation
- G06F12/08—Addressing or allocation; Relocation in hierarchically structured memory systems, e.g. virtual memory systems
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F12/00—Accessing, addressing or allocating within memory systems or architectures
- G06F12/02—Addressing or allocation; Relocation
- G06F12/08—Addressing or allocation; Relocation in hierarchically structured memory systems, e.g. virtual memory systems
- G06F12/0802—Addressing of a memory level in which the access to the desired data or data block requires associative addressing means, e.g. caches
- G06F12/0806—Multiuser, multiprocessor or multiprocessing cache systems
- G06F12/0811—Multiuser, multiprocessor or multiprocessing cache systems with multilevel cache hierarchies
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- Geometry (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Image Generation (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
3 基板保持部
7 データ変換装置
9 基板
25 主走査機構
61 光変調素子制御部
80 配置領域
81,81a 図形要素
82〜85 レイヤ図形
100 描画システム
461 光変調素子
707 プログラム
800 単位領域
801 走査線
802 分割区間
S11〜S14,S121〜S129,S221〜S232 ステップ
Claims (7)
- 図形要素のベクトルデータである要素入力データをランレングスデータである要素出力データに変換するデータ変換方法であって、
a)それぞれが塗りまたは抜きの塗り抜き属性を有する複数のレイヤ図形を積層することにより表現される図形要素のベクトルデータである要素入力データに基づいて、前記図形要素が配置される配置領域を第1の方向を向く複数の直線にて所定幅毎に分割することにより前記第1の方向に垂直な第2の方向に配列された前記所定幅の複数の単位領域を設定する工程と、
b)前記複数の単位領域の各単位領域について、前記複数のレイヤ図形のうち前記各単位領域と重なる単位領域図形群を抽出し、前記単位領域図形群の各レイヤ図形の前記各単位領域における始点座標または前記始点座標よりも大きい終点座標である端部座標を利用して、前記各単位領域を前記第1の方向に配列される複数の分割区間に分割し、前記複数の分割区間のそれぞれの塗り抜き属性を決定する工程と、
c)前記b)工程にて決定された前記各単位領域の前記複数の分割区間のそれぞれの塗り抜き属性に基づいて、前記各単位領域のランレングスを示す単位ランレングスデータを生成し、前記複数の単位領域のそれぞれの単位ランレングスデータの集合であるランレングスデータを要素出力データとして取得する工程と、
を備え、
前記b)工程が、前記各単位領域について、
b1)前記単位領域図形群の前記各レイヤ図形の前記始点座標、前記終点座標、塗り抜き属性、および、前記単位領域図形群における描画優先度を示す単位領域図形描画データの集合を、前記単位領域図形群の単位領域図形描画データ群として取得する工程と、
b2)前記各レイヤ図形の前記単位領域図形描画データを、前記始点座標の昇順にソートする工程と、
b3)前記各レイヤ図形の前記始点座標のうち最も小さい始点座標を一の分割区間の区間開始座標とする工程と、
b4)前記区間開始座標から連続するとともに最も描画優先度が高いレイヤ図形の塗り抜き属性が同じである範囲内に存在するいずれかの端部座標を区間終了座標とし、前記区間開始座標と前記区間終了座標との間の範囲を前記分割区間として設定し、前記分割区間に含まれる最も描画優先度が高い前記レイヤ図形の塗り抜き属性を前記分割区間の塗り抜き属性とする工程と、
b5)前記複数の分割区間が設定されるまで、設定済みの分割区間の区間終了座標を次の分割区間の区間開始座標とし、前記b4)工程を繰り返す工程と、
を備えることを特徴とするデータ変換方法。 - 請求項1に記載のデータ変換方法であって、
前記b4)工程において、前記区間開始座標に隣接する前記区間開始座標よりも大きい端部座標が前記区間終了座標として設定されることを特徴とするデータ変換方法。 - 請求項1に記載のデータ変換方法であって、
前記b4)工程が、
d1)前記区間開始座標に隣接する前記区間開始座標よりも大きい端部座標を仮区間終了座標とする工程と、
d2)前記仮区間終了座標を端部座標とするレイヤ図形の描画優先度である第1優先度が、第2優先度以上である場合、前記仮区間終了座標を前記区間終了座標とし、前記第1優先度が前記第2優先度よりも低い場合、前記第1優先度が前記第2優先度以上になるまで、前記仮区間終了座標を、前記仮区間終了座標に隣接する前記仮区間終了座標よりも大きい端部座標に変更する工程と、
を備え、
前記第2優先度が、
前記区間開始座標が一のレイヤ図形の始点座標である場合、前記一のレイヤ図形の描画優先度であり、
前記区間開始座標が一のレイヤ図形の終点座標である場合、前記単位領域図形群において前記区間開始座標から前記区間開始座標よりも大きい座標範囲まで広がるレイヤ図形群の描画優先度のうち最大の描画優先度であることを特徴とするデータ変換方法。 - 基板上にパターンを描画する描画システムであって、
請求項1ないし3のいずれかに記載のデータ変換方法により要素入力データを要素出力データに変換するデータ変換装置と、
前記データ変換装置により生成された前記要素出力データに基づいて基板上にパターンを描画する描画装置と、
を備え、
前記描画装置が、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板に光を照射する光変調素子と、
前記光変調素子から導かれた光の前記基板上における照射位置を、前記基板上における前記第1の方向に対応する方向に前記基板に対して相対的に移動する照射位置移動機構と、
前記要素出力データに基づいて前記光変調素子からの光の変調を制御する光変調素子制御部と、
を備えることを特徴とする描画システム。 - 図形要素のベクトルデータである要素入力データをランレングスデータである要素出力データに変換するプログラムであって、前記プログラムのコンピュータによる実行は、前記コンピュータに、
a)それぞれが塗りまたは抜きの塗り抜き属性を有する複数のレイヤ図形を積層することにより表現される図形要素のベクトルデータである要素入力データに基づいて、前記図形要素が配置される配置領域を第1の方向を向く複数の直線にて所定幅毎に分割することにより前記第1の方向に垂直な第2の方向に配列された前記所定幅の複数の単位領域を設定する工程と、
b)前記複数の単位領域の各単位領域について、前記複数のレイヤ図形のうち前記各単位領域と重なる単位領域図形群を抽出し、前記単位領域図形群の各レイヤ図形の前記各単位領域における始点座標または前記始点座標よりも大きい終点座標である端部座標を利用して、前記各単位領域を前記第1の方向に配列される複数の分割区間に分割し、前記複数の分割区間のそれぞれの塗り抜き属性を決定する工程と、
c)前記b)工程にて決定された前記各単位領域の前記複数の分割区間のそれぞれの塗り抜き属性に基づいて、前記各単位領域のランレングスを示す単位ランレングスデータを生成し、前記複数の単位領域のそれぞれの単位ランレングスデータの集合であるランレングスデータを要素出力データとして取得する工程と、
を実行させ、
前記b)工程が、前記各単位領域について、
b1)前記単位領域図形群の前記各レイヤ図形の前記始点座標、前記終点座標、塗り抜き属性、および、前記単位領域図形群における描画優先度を示す単位領域図形描画データの集合を、前記単位領域図形群の単位領域図形描画データ群として取得する工程と、
b2)前記各レイヤ図形の前記単位領域図形描画データを、前記始点座標の昇順にソートする工程と、
b3)前記各レイヤ図形の前記始点座標のうち最も小さい始点座標を一の分割区間の区間開始座標とする工程と、
b4)前記区間開始座標から連続するとともに最も描画優先度が高いレイヤ図形の塗り抜き属性が同じである範囲内に存在するいずれかの端部座標を区間終了座標とし、前記区間開始座標と前記区間終了座標との間の範囲を前記分割区間として設定し、前記分割区間に含まれる最も描画優先度が高い前記レイヤ図形の塗り抜き属性を前記分割区間の塗り抜き属性とする工程と、
b5)前記複数の分割区間が設定されるまで、設定済みの分割区間の区間終了座標を次の分割区間の区間開始座標とし、前記b4)工程を繰り返す工程と、
を備えることを特徴とするプログラム。 - 請求項5に記載のプログラムであって、
前記b4)工程において、前記区間開始座標に隣接する前記区間開始座標よりも大きい端部座標が前記区間終了座標として設定されることを特徴とするプログラム。 - 請求項5に記載のプログラムであって、
前記b4)工程が、
d1)前記区間開始座標に隣接する前記区間開始座標よりも大きい端部座標を仮区間終了座標とする工程と、
d2)前記仮区間終了座標を端部座標とするレイヤ図形の描画優先度である第1優先度が、第2優先度以上である場合、前記仮区間終了座標を前記区間終了座標とし、前記第1優先度が前記第2優先度よりも低い場合、前記第1優先度が前記第2優先度以上になるまで、前記仮区間終了座標を、前記仮区間終了座標に隣接する前記仮区間終了座標よりも大きい端部座標に変更する工程と、
を備え、
前記第2優先度が、
前記区間開始座標が一のレイヤ図形の始点座標である場合、前記一のレイヤ図形の描画優先度であり、
前記区間開始座標が一のレイヤ図形の終点座標である場合、前記単位領域図形群において前記区間開始座標から前記区間開始座標よりも大きい座標範囲まで広がるレイヤ図形群の描画優先度のうち最大の描画優先度であることを特徴とするプログラム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013040388A JP6150560B2 (ja) | 2013-03-01 | 2013-03-01 | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
TW102146563A TWI505043B (zh) | 2013-03-01 | 2013-12-17 | 資料轉換方法、繪圖系統及記錄媒體 |
KR20130165211A KR101493621B1 (ko) | 2013-03-01 | 2013-12-27 | 데이터 변환 방법, 묘화 시스템 및 기록 매체 |
CN201410037793.4A CN104021237B (zh) | 2013-03-01 | 2014-01-26 | 数据转换方法、描画系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013040388A JP6150560B2 (ja) | 2013-03-01 | 2013-03-01 | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014170030A JP2014170030A (ja) | 2014-09-18 |
JP6150560B2 true JP6150560B2 (ja) | 2017-06-21 |
Family
ID=51437991
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013040388A Active JP6150560B2 (ja) | 2013-03-01 | 2013-03-01 | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6150560B2 (ja) |
KR (1) | KR101493621B1 (ja) |
CN (1) | CN104021237B (ja) |
TW (1) | TWI505043B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111830797B (zh) * | 2020-07-27 | 2023-06-09 | 上海华力集成电路制造有限公司 | Opc监控图形生成方法及其生成模块 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01277055A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 多値描画のためのラスターデータ生成方法 |
KR19980018034U (ko) * | 1996-09-25 | 1998-07-06 | 양재신 | 탑승자 허리받침 수단을 갖는 자동차 시이트 |
JP3952358B2 (ja) * | 2001-09-25 | 2007-08-01 | 大日本スクリーン製造株式会社 | データ変換装置およびその方法、並びに当該方法を用いたプログラム |
JP2003099771A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | データ変換装置およびその方法、並びに当該方法を用いたプログラム |
JP4085204B2 (ja) * | 2003-09-05 | 2008-05-14 | 株式会社オーク製作所 | 描画用ベクタデータの処理方法及び描画装置 |
JP4660254B2 (ja) * | 2005-04-08 | 2011-03-30 | 株式会社東芝 | 描画方法及び描画装置 |
JP4693660B2 (ja) * | 2006-03-10 | 2011-06-01 | 株式会社東芝 | 描画装置、描画方法及び描画プログラム |
JP5009822B2 (ja) * | 2008-01-21 | 2012-08-22 | 大日本スクリーン製造株式会社 | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
JP5209544B2 (ja) * | 2009-03-04 | 2013-06-12 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 描画装置、描画装置用のデータ処理装置、および描画装置用の描画データ生成方法 |
-
2013
- 2013-03-01 JP JP2013040388A patent/JP6150560B2/ja active Active
- 2013-12-17 TW TW102146563A patent/TWI505043B/zh active
- 2013-12-27 KR KR20130165211A patent/KR101493621B1/ko active IP Right Grant
-
2014
- 2014-01-26 CN CN201410037793.4A patent/CN104021237B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104021237A (zh) | 2014-09-03 |
KR101493621B1 (ko) | 2015-02-13 |
KR20140109241A (ko) | 2014-09-15 |
JP2014170030A (ja) | 2014-09-18 |
CN104021237B (zh) | 2017-04-26 |
TWI505043B (zh) | 2015-10-21 |
TW201439687A (zh) | 2014-10-16 |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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