CN111830797B - Opc监控图形生成方法及其生成模块 - Google Patents
Opc监控图形生成方法及其生成模块 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111830797B CN111830797B CN202010729775.8A CN202010729775A CN111830797B CN 111830797 B CN111830797 B CN 111830797B CN 202010729775 A CN202010729775 A CN 202010729775A CN 111830797 B CN111830797 B CN 111830797B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- monitoring
- opc
- graph
- excel
- coordinate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/705—Modelling or simulating from physical phenomena up to complete wafer processes or whole workflow in wafer productions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/36—Masks having proximity correction features; Preparation thereof, e.g. optical proximity correction [OPC] design processes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
- G03F7/70433—Layout for increasing efficiency or for compensating imaging errors, e.g. layout of exposure fields for reducing focus errors; Use of mask features for increasing efficiency or for compensating imaging errors
- G03F7/70441—Optical proximity correction [OPC]
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T11/00—2D [Two Dimensional] image generation
- G06T11/60—Editing figures and text; Combining figures or text
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
本发明公开了一种OPC监控图形生成方法,包括:在excel中录入监控图形参数,excel中的一行表示同一个器件的监控图形参数;读入excel中监控图形参数,计算各监控图形参数每个构成部分左下角与右上角在定义平面直角坐标系中的坐标,形成多个坐标组;将各坐标组标识并存储;读取坐标组,将每个坐标组填充形成一个矩形单元,将器件各构成部分对应的矩形单元组合以形成OPC监控图形,并转换形成表示光刻版图的文件。本发明还公开了一种OPC监控图形生成模块。本发明能将所有OPC监控图形和注释文字通过图案表示,能弥补现有TPGEN技术缺陷,能够生成高整合度和极高复杂度的图案,简化OPC监控图形的绘制难度,提高OPC监控图形绘制效率。
Description
技术领域
本发明涉及半导体领域,特别是涉及OPC监控图形生成方法。本发明还涉及一种OPC监控图形生成方法模块。
背景技术
OPC(光学邻近修正)是一种光刻增强技术,OPC主要在半导体芯片的生产过程中使用,目的是为了保证曝光后硅片上得到的实际图形与设计图形一致。若不做光学邻近修正实际曝光后得到的图形将与设计图形有显著差异,如实际线宽度比设计的窄或宽,这些都可以通过改变掩模版来补偿成像;其他的失真,如圆角、光强度,受光学工具分辨率的制约,更加难以弥补。这些失真如果不纠正,可能大大改变生产出来的电路的电气性能。光学邻近修正通过移动掩模版上图形的边缘或添加额外的多边形来补偿这些失真。OPC模型(OPCmodel)主要由掩模模型(mask model,高技术节点OPC模型才使用),光学模型(opticalmodel)及光阻模型(resist model)三部分组成。其中,光学模型(optical model)最能反映OPC模型的物理意义,它决定着最终OPC模型的各项性能。
目前,OPC监控图形采用Calibre WORKbench自带测试图形生成插件TPGEN生成。但是TPGEN仅能生成数据库中已经定义的特定图形,这些图形一般是简单的重复图形,无法生成复杂图案,如图1所示。并且,TPGEN生成的OPC监控图形其注释文字只有线型,而通孔层需要点型的注释文字以方便临近光学效应修正。因此,通过Calibre WORKbench自带测试图形生成插件TPGEN生成的OPC监控图形满足不了OPC对图案复杂度和注释文字类型的需求。
发明内容
在发明内容部分中引入了一系列简化形式的概念,该简化形式的概念均为本领域现有技术简化,这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本发明的发明内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征,更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。
本发明要解决的技术问题是提供一种能将所有OPC监控图形和注释文字通过图案表示的OPC监控图形生成方法。
本发明要解决的另一技术问题是提供一种能将所有OPC监控图形和注释文字通过图案表示的OPC监控图形生成模块。
为解决上述技术问题,本发明提供的OPC监控图形生成方法,包括以下步骤:
S1,在excel中录入监控图形参数,excel一行表示同一个器件的监控图形参数;
所述监控图形参数包括但不限于,该监控图形所占据区域的长与宽,该监控图形与其他图形的距离,该监控图形每个构成部分的线宽和线长,该监控图形每个构成部分与其他构成部分之间的距离,该监控图形每个构成部分向四周的重复次数;
S2,读入excel中监控图形参数,计算各监控图形每个构成部分左下角与右上角在定义平面直角坐标系中的坐标,形成多个坐标组;
S3,将各坐标组标识并存储;
S4,读取坐标组,将每个坐标组填充形成一个矩形单元,器件各构成部分对应的矩形单元将组合形成OPC监控图形并转换形成表示光刻版图的文件。
可选择的,进一步改进所述的OPC监控图形生成方法,所述监控图形包括器件图形和标注图形。
可选择的,进一步改进所述的OPC监控图形生成方法,excel每一行首部是该器件监控图形的类型标识。
可选择的,进一步改进所述的OPC监控图形生成方法,对范围0-9的阿拉伯数字和A-Z的大写英文字母分别由多个坐标组表示后标识并存储。
本发明提供一种OPC监控图形生成模块,包括:
参数录入单元,其用于在excel中录入监控图形参数,excel一行表示同一个器件的监控图形参数;
所述监控图形参数包括但不限于,该监控图形所占据区域的长与宽,该监控图形与其他图形的距离,该监控图形每个构成部分的线宽和线长,该监控图形每个构成部分与其他构成部分之间的距离,该监控图形每个构成部分向四周的重复次数;
坐标解析单元,其用于在读入excel中监控图形参数,计算各监控图形参数每个构成部分左下角与右上角在定义平面直角坐标系中的坐标,形成多个坐标组;
存储单元,其用于将各坐标组标识并存储;
图形绘制单元,读取坐标组,将每个坐标组填充形成一个矩形单元,器件各构成部分对应的矩形单元将组合形成OPC监控图形并转换形成表示光刻版图的文件。
可选择的,进一步改进所述的OPC监控图形生成模块,所述监控图形包括器件图形和标注图形。
可选择的,进一步改进所述的OPC监控图形生成模块,参数录入单元将excel每一行首部作为该器件监控图形的类型标识。
可选择的,进一步改进所述的OPC监控图形生成模块,其通过perl程式实现。
可选择的,进一步改进所述的OPC监控图形生成模块,所述表示光刻版图的文件是oasis文件。
本发明的原理如下:
在excel中定义监控图形的一系列尺寸参数,其中同一行被认为是同一个器件图形的参数,这些参数包括但不限于:该监控图形所占据区域的长与宽,该监控图形与其他图形的距离,该监控图形每个构成部分的线宽和线长,该监控图形每个构成部分与其他构成部分之间的距离,该监控图形每个构成部分向四周(向上、下、左、右)的重复次数;excel换行则表示另一个图形,各图形之间的方位信息能在perl程式中定义,因为这是统一的,不需要在excel中读取(excel中的参数均为变量。)
Perl程式读入excel中的尺寸参数,通过Perl程式设定好的计算(此计算不同图形不同,不同产品不同,一般按类型分类,excel中每一行最前面是定义属于什么类型图形的“标识”)。计算结果为在定义平面直角坐标系下,一组组的左下角与右上角坐标,这些坐标被储存在一个生成的TXT文件中。
其中,注释文字的生成原理一致,但是由于数字和字母总数是固定的,所以能通过一个文件定义了阿拉伯数字0-9以及大写的26个英文字母,使用时只需调用组合即可。同时也可以在程式中通过改变变量的数值更改数字以及字母的大小。这些文字同样会以坐标组的形式被写入同一个TXT中。
之后,Perl程式调用calibre模块将TXT文件中的一组组坐标转化为一个个的矩形,每一组左下角与右上角坐标都可以定义一个矩形,一个个不同构成部分的矩形组合,就如同搭积木一样,构成一个复杂的图形,因此本发明能够得到高集成度图案。最后生成的图形其格式就是版图文件的常用格式oasis,同时这一步生成的图形已经是可视的。
本发明能利用计算机编程技术手段结合excel实现,将获取的OPC监控图形尺寸参数表示在定义的平面直角坐标系中,将OPC监控图形转化成一组组左上角与右下角坐标,再将这一系列坐标转换为表示光刻版图的文件。本发明利用计算机编程技术与excel表格相结合,能弥补现有TPGEN技术缺陷,能够生成高整合度和极高复杂度的图案,同时可简化OPC监控图形的绘制难度,提高OPC监控图形绘制效率。
附图说明
本发明附图旨在示出根据本发明的特定示例性实施例中所使用的方法、结构和/或材料的一般特性,对说明书中的描述进行补充。然而,本发明附图是未按比例绘制的示意图,因而可能未能够准确反映任何所给出的实施例的精确结构或性能特点,本发明附图不应当被解释为限定或限制由根据本发明的示例性实施例所涵盖的数值或属性的范围。下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细的说明:
图1是采用现有技术生成的OPC监控图形示意图。
图2是本发明生成的OPC监控图形示意图。
图3是本发明的流程示意图。
具体实施方式
以下通过特定的具体实施例说明本发明的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所公开的内容充分地了解本发明的其他优点与技术效果。本发明还可以通过不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点加以应用,在没有背离发明总的设计思路下进行各种修饰或改变。需说明的是,在不冲突的情况下,以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。本发明下述示例性实施例可以多种不同的形式来实施,并且不应当被解释为只限于这里所阐述的具体实施例。应当理解的是,提供这些实施例是为了使得本发明的公开彻底且完整,并且将这些示例性具体实施例的技术方案充分传达给本领域技术人员。
第一实施例,如图3所示,本发明提供一种OPC监控图形生成方法,包括以下步骤:
S1,在excel中录入监控图形参数,excel一行表示同一个器件的监控图形参数;
所述监控图形参数包括但不限于,该监控图形所占据区域的长与宽,该监控图形与其他图形的距离,该监控图形每个构成部分的线宽和线长,该监控图形每个构成部分与其他构成部分之间的距离,该监控图形每个构成部分向四周的重复次数;
S2,读入excel中监控图形参数,计算各监控图形参数每个构成部分左下角与右上角在定义平面直角坐标系中的坐标,形成多个坐标组;
S3,将各坐标组标识并存储;
S4,读取坐标组,将每个坐标组填充形成一个矩形单元,器件各构成部分对应的矩形单元将组合形成OPC监控图形并转换形成表示光刻版图的文件。
本发明能将获取的OPC监控图形尺寸参数转化为一组组坐标表示在定义的平面直角坐标系中,形成通过左下角与右上角坐标表示的OPC监控图形,再将OPC监控图形转换为表示光刻版图的文件,能将所有OPC监控图形和注释文字通过坐标组表示。
第二实施例,本发明提供一种OPC监控图形生成方法,包括以下步骤:
S1,在excel中录入监控图形参数,excel一行表示同一个器件的监控图形参数;
所述监控图形参数包括但不限于,该监控图形所占据区域的长与宽,该监控图形与其他图形的距离,该监控图形每个构成部分的线宽和线长,该监控图形每个构成部分与其他构成部分之间的距离,该监控图形每个构成部分向四周的重复次数;所述监控图形包括器件图形和标注图形;excel每一行首部是该器件监控图形的类型标识;
S2,Perl程式读入excel中监控图形参数,计算各监控图形参数每个构成部分左下角与右上角在定义平面直角坐标系中的坐标,形成多个坐标组;
S3,将各坐标组标识并存储在TXT文件;
S4,读取坐标组,Perl程式调用calibre模块将TXT文件中的一组组坐标转化为一个个矩形单元,器件各构成部分对应的矩形单元组合将形成OPC监控图形并转换形成表示光刻版图的oasis文件。
可选择的,进一步改进上述第二实施例,对范围0-9的阿拉伯数字和A-Z的大写英文字母分别由多个坐标组表示后标识并存储。
本发明能利用计算机编程技术手段结合excel实现,将获取的OPC监控图形尺寸参数表示在定义的平面直角坐标系中,将OPC监控图形转化成一组组左上角与右下角坐标,再将这一系列坐标转换为表示光刻版图的文件。本发明利用计算机编程技术与excel表格相结合,能弥补现有TPGEN技术缺陷,能够生成高整合度和极高复杂度的图案,同时可简化OPC监控图形的绘制难度,提高OPC监控图形绘制效率。
第三实施例,本发明提供一种OPC监控图形生成模块,包括:
参数录入单元,其用于在excel中录入监控图形参数,excel一行表示同一个器件的监控图形参数;
所述监控图形参数包括但不限于,该监控图形所占据区域的长与宽,该监控图形与其他图形的距离,该监控图形每个构成部分的线宽和线长,该监控图形每个构成部分与其他构成部分之间的距离,该监控图形每个构成部分向四周的重复次数;
坐标解析单元,其用于在读入excel中监控图形参数,计算各监控图形参数每个构成部分左下角与右上角在定义平面直角坐标系中的坐标,形成多个坐标组;
存储单元,其用于将各坐标组标识并存储;
图形绘制单元,读取坐标组,将每个坐标组填充形成一个矩形单元,器件各构成部分对应的矩形单元组合将形成OPC监控图形并转换形成表示光刻版图的文件。
第四实施例,本发明一种OPC监控图形生成模块,其利用perl程式实现,包括:
参数录入单元,在excel中录入监控图形参数,excel一行表示同一个器件的监控图形参数;
所述监控图形参数包括但不限于,该监控图形所占据区域的长与宽,该监控图形与其他图形的距离,该监控图形每个构成部分的线宽和线长,该监控图形每个构成部分与其他构成部分之间的距离,该监控图形每个构成部分向四周的重复次数;所述监控图形包括器件图形和标注图形;参数录入单元将excel每一行首部作为该器件监控图形的类型标识;
坐标解析单元,其用于在读入excel中监控图形参数,计算各监控图形参数每个构成部分左下角与右上角在定义平面直角坐标系中的坐标,形成多个坐标组;
存储单元,其用于将各坐标组标识并存储,例如存入TXT文件;
图形绘制单元,读取坐标组,Perl程式调用calibre模块将TXT文件中的一组组坐标转化为一个个矩形单元,将器件各构成部分对应的矩形单元组合形成OPC监控图形并转换形成表示光刻版图的oasis文件。
除非另有定义,否则这里所使用的全部术语(包括技术术语和科学术语)都具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的意思相同的意思。还将理解的是,除非这里明确定义,否则诸如在通用字典中定义的术语这类术语应当被解释为具有与它们在相关领域语境中的意思相一致的意思,而不以理想的或过于正式的含义加以解释。
以上通过具体实施方式和实施例对本发明进行了详细的说明,但这些并非构成对本发明的限制。在不脱离本发明原理的情况下,本领域的技术人员还可做出许多变形和改进,这些也应视为本发明的保护范围。
Claims (9)
1.一种OPC监控图形生成方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1,在excel中录入监控图形参数,excel中的一行表示同一个器件的监控图形参数;
所述监控图形参数包括:该监控图形所占据区域的长与宽,该监控图形与其他图形的距离,该监控图形每个构成部分的线宽和线长,该监控图形每个构成部分与其他构成部分之间的距离,该监控图形每个构成部分向四周的重复次数;
S2,读入excel中监控图形参数,计算各监控图形每个构成部分左下角与右上角在定义平面直角坐标系中的坐标,形成多个坐标组;
S3,将各坐标组标识并存储;
S4,读取坐标组,将每个坐标组填充形成一个矩形单元,器件各构成部分对应的矩形单元组合将形成OPC监控图形,并转换形成表示光刻版图的文件。
2.如权利要求1所述的OPC监控图形生成方法,其特征在于:所述监控图形包括器件图形和标注图形。
3.如权利要求1所述的OPC监控图形生成方法,其特征在于:excel每一行首部是该器件监控图形的类型标识。
4.如权利要求1所述的OPC监控图形生成方法,其特征在于:对范围0-9的阿拉伯数字和A-Z的大写英文字母分别由多个坐标组表示后标识并存储。
5.一种OPC监控图形生成模块,其特征在于,包括:
参数录入单元,其用于在excel中录入监控图形参数,excel一行表示同一个器件的监控图形参数;
所述监控图形参数包括:该监控图形所占据区域的长与宽,该监控图形与其他图形的距离,该监控图形每个构成部分的线宽和线长,该监控图形每个构成部分与其他构成部分之间的距离,该监控图形每个构成部分向四周的重复次数;
坐标解析单元,其用于在读入excel中监控图形参数,计算各监控图形每个构成部分左下角与右上角在定义平面直角坐标系中的坐标,形成多个坐标组;
存储单元,其用于将各坐标组标识并存储;
图形绘制单元,读取坐标组,将每个坐标组填充形成一个矩形单元,器件各构成部分对应的矩形单元将组合形成OPC监控图形并转换形成表示光刻版图的文件。
6.如权利要求5所述的OPC监控图形生成模块,其特征在于:所述监控图形包括器件图形和标注图形。
7.如权利要求5所述的OPC监控图形生成模块,其特征在于:参数录入单元将excel每一行首部作为该器件监控图形的类型标识。
8.如权利要求5所述的OPC监控图形生成模块,其特征在于:OPC监控图形生成模块通过perl程式实现。
9.如权利要求5所述的OPC监控图形生成模块,其特征在于:所述表示光刻版图的文件是oasis文件。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010729775.8A CN111830797B (zh) | 2020-07-27 | 2020-07-27 | Opc监控图形生成方法及其生成模块 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010729775.8A CN111830797B (zh) | 2020-07-27 | 2020-07-27 | Opc监控图形生成方法及其生成模块 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111830797A CN111830797A (zh) | 2020-10-27 |
CN111830797B true CN111830797B (zh) | 2023-06-09 |
Family
ID=72925594
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010729775.8A Active CN111830797B (zh) | 2020-07-27 | 2020-07-27 | Opc监控图形生成方法及其生成模块 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111830797B (zh) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04199094A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-20 | Toshiba Corp | 高品位文字生成用lsi並びにこのlsiを用いたデータ出力システム |
CN104021237A (zh) * | 2013-03-01 | 2014-09-03 | 大日本网屏制造株式会社 | 数据转换方法、描画系统及记录介质 |
CN105204298A (zh) * | 2015-09-30 | 2015-12-30 | 合肥芯碁微电子装备有限公司 | 一种用于直写式光刻机图形发生器的凹四边形fpga硬件填充方法 |
CN109741420A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-05-10 | 北京金山安全软件有限公司 | 一种区域填充方法、装置、电子设备及存储介质 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009152249A2 (en) * | 2008-06-10 | 2009-12-17 | Oasis Tooling, Inc. | Methods and devices for independent evaluation of cell integrity, changes and origin in chip design for production workflow |
CN103970938B (zh) * | 2014-04-22 | 2017-07-28 | 上海华力微电子有限公司 | 晶圆测试结果图标记修改方法 |
CN109643106B (zh) * | 2016-08-15 | 2021-09-24 | Asml荷兰有限公司 | 用于提高半导体制造产率的方法 |
CN107122294A (zh) * | 2017-03-17 | 2017-09-01 | 惠州Tcl移动通信有限公司 | 一种测试参数文件兼容性的方法、终端及装置 |
-
2020
- 2020-07-27 CN CN202010729775.8A patent/CN111830797B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04199094A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-20 | Toshiba Corp | 高品位文字生成用lsi並びにこのlsiを用いたデータ出力システム |
CN104021237A (zh) * | 2013-03-01 | 2014-09-03 | 大日本网屏制造株式会社 | 数据转换方法、描画系统及记录介质 |
CN105204298A (zh) * | 2015-09-30 | 2015-12-30 | 合肥芯碁微电子装备有限公司 | 一种用于直写式光刻机图形发生器的凹四边形fpga硬件填充方法 |
CN109741420A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-05-10 | 北京金山安全软件有限公司 | 一种区域填充方法、装置、电子设备及存储介质 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111830797A (zh) | 2020-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Du et al. | Block copolymer directed self-assembly (DSA) aware contact layer optimization for 10 nm 1D standard cell library | |
US7926003B2 (en) | Method for manufacturing a photomask | |
US20090241086A1 (en) | Method of making pattern data, and medium for storing the program for making the pattern data | |
JP2008176303A (ja) | マスク生成方法、マスク形成方法、パターン形成方法および半導体装置 | |
CN113326601A (zh) | 预处理方法及系统、掩膜版的制造方法、设备、存储介质 | |
KR100608117B1 (ko) | 반도체 집적 회로의 노광 방법 및 노광 장치 | |
US20150058816A1 (en) | Method for integrated circuit design layout support by computer and apparatus of integrated circuit design layout support by computer | |
US10410356B2 (en) | Method for processing the LEF diagram of a layout | |
CN111830797B (zh) | Opc监控图形生成方法及其生成模块 | |
CN112818632B (zh) | 芯片的图形密度的分析方法、装置及电子设备 | |
JP2007128933A (ja) | 荷電粒子線描画データの作成方法及び荷電粒子線描画データの変換方法 | |
CN105740540A (zh) | 掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法 | |
US10852648B2 (en) | Mask pattern correction system, and semiconductor device manufacturing method utilizing said correction system | |
JP4778776B2 (ja) | 荷電粒子線描画データの作成方法 | |
JPH07262252A (ja) | レイアウトデータ生成装置及び生成方法 | |
JP4996972B2 (ja) | マスクデータ生成方法およびマスクデータ生成システム | |
US6964030B2 (en) | Method for automatic mask tool translation | |
US6608691B1 (en) | Generation of exposure data having hierarchical structure | |
CN114647144A (zh) | 生成opc测试图形的方法 | |
JP2005159198A (ja) | 電子ビーム露光用データ作成システム、電子ビーム露光用データ作成方法、電子ビーム露光用データ作成プログラム | |
JP3209986B2 (ja) | ステンシルマスクのパターン配置方法およびそれを用いた半導体集積回路製造方法 | |
CN112987489A (zh) | 具有器件辅助图形的版图的opc修正方法 | |
JP2007127839A (ja) | パターンデータ変換方法 | |
JP2015175917A (ja) | パターンデータの生成方法、パターンデータの生成装置、およびパターンデータの生成プログラム | |
CN114970434A (zh) | 一种基于分代求解的导向自组装芯片通孔设计分组与拆分方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |