JP2005268489A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 光源からの光を用いてパターンが形成されたマスクを照明する照明装置であって、
   入射面における複数の領域を透過する光の偏光状態を設定する位相変換部と、
   前記マスクに照射される光束が斜めに入射するように前記位相変換部の前記入射面に光強度分布を形成する回折光学素子と、
   前記照明装置の光路において、前記光源と前記位相変換部との間に配置されている複屈折部材と、
   前記複屈折部材を駆動する駆動機構とを有し、
   当該駆動機構が前記複屈折部材を駆動し、前記位相変換部に入射する光の偏光状態を調整することによって、前記複数の領域を透過する光の偏光状態が一括して制御されることを特徴とする照明装置。
2. 前記複屈折部材は、前記照明装置の光路において、前記光源と前記回折光学素子との間に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の照明装置。
3. 前記位相変換部は複数の位相板を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の照明装置。
4. 前記位相変換部は中心角が４５°の位相板を８つ有することを特徴とする請求項３に記載の照明装置。
5. 前記複屈折部材は複屈折性結晶板であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか1項に記載の照明装置。
6. 前記位相変換部は、共軸の少なくとも４枚以上の放射状に配置されたλ／４位相板を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の照明装置。
7. 前記位相変換部を透過した光の偏光状態を検出するセンサーユニットと、
   当該センサーユニットの検出結果に応じて前記駆動機構を動作させるドライバとを有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の照明装置。
8. マスクを照明する、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の照明装置と、
   マスクのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有することを特徴とする露光装置。
9. 請求項８記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
   前記露光された前記被処理体を現像するステップとを有するデバイス製造方法。