JP2018092997A5 - - Google Patents
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- 230000000051 modifying Effects 0.000 claims description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 41
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims description 35
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 230000001678 irradiating Effects 0.000 claims 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Description
本発明のインプリント装置は、型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、前記基板のショット領域に光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱機構を備え、前記加熱機構は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、間隔を有するように配置された前記複数の光変調器からの光によって、前記ショット領域の互いに異なる領域を照明することを特徴とする。
インプリント装置1は、充填モニタ27を備えていてもよい。充填モニタ27は、不図示ではあるが、光源、撮像素子および光学系を備え、型8と基板11上のインプリント材14とが接触する際に、パターン部8aにインプリント材14が接触する様子を撮像する。充填モニタ27で型8と基板11上のインプリント材14の接触状態を撮像素子により撮像することで、型8と基板11の間に挟まれた異物を検出することができる。さらに、充填モニタ27によって接触状態を撮像することで、インプリント装置1は、インプリント材14の未充填箇所を特定したり、型8と基板11の相対的な傾きを検出したりすることができる。
照射光学系65によって強度が均一化された光は、DMD63を照明する。光変調器としてのDMD63に含まれる各マイクロミラーは、図6(A)に示すようにミラー配列面66に対して+12度(ON状態)、あるいは−12度(OFF状態)の角度で傾く。ここで、ミラー配列面66を基準として、DMD63への入射角をα、DMD63からの射出角をβ、マイクロミラーの傾きをγとすると、射出角βはβ=2γ−αで表される。ここでは、配列面に対して時計回りを負、反時計回りを正とする。通常、ON状態のマイクロミラーで反射された光は、ミラー配列面66に対して垂直な方向(β=0度)に射出されるため、DMD63を照明する光の入射角αは、24度に設定される。DMD63に光が照射されると、反射光は、ON状態かOFF状態かによって反射する方向が異なり、DMD63より下流に配置した投影光学系64のNA内に入射するか否かで、照度分布を形成することができる。DMD63のON状態のマイクロミラーで反射された光は、投影光学系64により基板11に結像される。ここでは、DMD63と基板11は光学的に共役関係である。照射量制御装置61は、所望の照度分布が基板側パターン領域に形成されるようにDMD63を制御する。
また、上記何れの実施形態の加熱機構6における複数の光変調器(DMD63A、63B)は、基板11上のパターン領域を隣接して分割照明している。しかし、複数の光変調器のそれぞれが、基板11上のパターン領域を分割せずに照明し、複数の光変調器からの光を重ね合わせて照明してもよい。一つの光変調器のみを用いて照明する場合と比較して、複数の光変調器を用いる場合は、一つの光変調器に照射される光の照射量が減るので、光変調器の劣化を低減することができる。
図10(d)に示すように、インプリント材3zを硬化させた後、型4zと基板1zを引き離すと、基板1z上にインプリント材3zの硬化物のパターンが形成される。この硬化物のパターンは、型の凹部が硬化物の凸部に、型の凸部が硬化物の凹部に対応した形状になっており、即ち、インプリント材3zに型4zの凹凸パターンが転写されたことになる。
Claims (20)
- 型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板のショット領域に光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱機構を備え、
前記加熱機構は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、間隔を有するように配置された前記複数の光変調器からの光によって、前記ショット領域の互いに異なる領域を照明することを特徴とするインプリント装置。 - 前記加熱機構からの光を前記基板に導く投影光学系を備え、
前記複数の光変調器からの光のそれぞれは、前記投影光学系を介して前記基板のショット領域を照射することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 前記加熱機構は、前記投影光学系の光軸に対して、前記光変調器からの光が前記投影光学系に入射する光軸を偏心させて入射させることを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。
- 前記加熱機構は、前記投影光学系の光軸に対して、前記光変調器からの光が前記投影光学系に入射する光軸を、傾けることを特徴とする請求項2または3に記載のインプリント装置。
- 前記加熱機構は前記基板のショット領域を複数の領域に分割して光を照射することを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載のインプリント装置。
- 前記光変調器に配列された複数のミラーはそれぞれが稼働し、
前記光変調器からの光が前記投影光学系に入射する光軸は、前記光変調器に含まれる複数のミラーの稼働領域を変えることにより、前記投影光学系の光軸から偏心させることを特徴とする請求項4記載のインプリント装置。 - 前記複数の光変調器からの光を合成する合成手段を備え、
該合成手段によって合成された前記複数の光変調器からの光が前記基板のショット領域を照明すること特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のインプリント装置。 - 前記加熱機構は、前記複数の光変調器に異なる波長の光を照射する光源を含み、
前記合成手段は、前記複数の光変調器からの波長が異なる光を合成するビームスプリッタであることを特徴とする請求項7に記載のインプリント装置。 - 前記加熱機構は、前記複数の光変調器に異なる偏光方向の光を照射する光源を含み、
前記合成手段は、前記複数の光変調器からの偏光方向が異なる光を合成するビームスプリッタであることを特徴とする請求項7に記載のインプリント装置。 - 前記投影光学系は、前記複数の光変調器のそれぞれと前記基板とは光学的に共役関係であることを特徴とする請求項1乃至9の何れか一項に記載のインプリント装置。
- 前記加熱機構は、
前記複数の光変調器を照射する加熱用光源と、
前記加熱用光源からの光を、前記複数の光変調器に照射されるように分岐させる光学素子と、
前記分岐された光を前記複数の光変調器に照射する照射光学系と、を備えることを特徴とする請求項1乃至10の何れか一項に記載のインプリント装置。 - 前記加熱機構は、前記基板のショット領域を照射する複数の加熱用光源と、
該複数の加熱用光源からの光のそれぞれを前記複数の光変調器に照射する複数の照射光学系と、を備えることを特徴とする請求項1乃至10の何れか一項に記載のインプリント装置。 - 型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板のショット領域に光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱機構を備え、
前記加熱機構は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、間隔を有するように配置された前記複数の光変調器からの光によって、前記ショット領域を照明することを特徴とするインプリント装置。 - 前記加熱機構は、前記ショット領域を前記複数の光変調器からの光を重ね合わせて照明することを特徴とする請求項13に記載のインプリント装置。
- 型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板のショット領域に光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱機構を備え、
前記加熱機構は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、互いに異なる照射光学系によって光が照射される複数の光変調器からの光によって、前記ショット領域を照明することを特徴とするインプリント装置。 - 型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
前記基板のショット領域を複数の領域に分割して光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱工程を有し、
前記加熱工程は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、間隔を有するように配置された前記複数の光変調器からの光によって、前記複数の基板のショット領域を分割して照射することを特徴とするインプリント方法。 - 型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
前記基板のショット領域に光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱工程を有し、
前記加熱工程は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、間隔を有するように配置された前記複数の光変調器からの光によって、前記ショット領域を照射することを特徴とするインプリント方法。 - 型を用いて基板のショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
前記基板のショット領域に光を照射することによって、前記基板の形状を変える加熱工程を有し、
前記加熱工程は、それぞれに前記光を反射するミラーが複数配列された光変調器を複数有し、互いに異なる照射光学系によって光が照射される深利変調器からの光によって、前記ショット領域を照明することを特徴とするインプリント方法。 - 請求項1乃至15の何れか一項に記載のインプリント装置を用いて、前記基板にインプリント材のパターンを形成する工程と、
前記パターンを形成する工程で前記パターンが形成された基板を加工する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。 - 原版に形成されたパターンを照明し、原版からの光で基板を露光する露光装置で用いられる光パターン形成装置であって、
前記原版に形成されたパターンを、複数配列された前記光を反射するミラーによって光源からの光に分布を持たせて照明する光変調器を複数備え、
該複数の光変調器からの光は、前記原版に形成されたパターンにおいて互いに異なる領域を照明することを特徴とする光パターン形成装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016233247A JP6827785B2 (ja) | 2016-11-30 | 2016-11-30 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
SG10201709477TA SG10201709477TA (en) | 2016-11-30 | 2017-11-17 | Imprint apparatus, imprinting method, and method for manufacturing article |
TW106140698A TWI668734B (zh) | 2016-11-30 | 2017-11-23 | 壓印設備,壓印方法及製造物件的方法 |
US15/823,338 US11204548B2 (en) | 2016-11-30 | 2017-11-27 | Imprint apparatus, imprinting method, and method for manufacturing article |
KR1020170161314A KR102282089B1 (ko) | 2016-11-30 | 2017-11-29 | 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 물품의 제조 방법 |
CN201711231748.2A CN108121155B (zh) | 2016-11-30 | 2017-11-30 | 压印装置、压印方法以及用于制造物品的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016233247A JP6827785B2 (ja) | 2016-11-30 | 2016-11-30 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018092997A JP2018092997A (ja) | 2018-06-14 |
JP2018092997A5 true JP2018092997A5 (ja) | 2020-01-09 |
JP6827785B2 JP6827785B2 (ja) | 2021-02-10 |
Family
ID=62190802
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016233247A Active JP6827785B2 (ja) | 2016-11-30 | 2016-11-30 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11204548B2 (ja) |
JP (1) | JP6827785B2 (ja) |
KR (1) | KR102282089B1 (ja) |
CN (1) | CN108121155B (ja) |
SG (1) | SG10201709477TA (ja) |
TW (1) | TWI668734B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3620856A1 (en) * | 2018-09-10 | 2020-03-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint method and article manufacturing method |
TWI771623B (zh) | 2018-11-08 | 2022-07-21 | 日商佳能股份有限公司 | 壓印裝置和產品製造方法 |
JP7289633B2 (ja) * | 2018-11-08 | 2023-06-12 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品製造方法 |
JP7267801B2 (ja) * | 2019-03-26 | 2023-05-02 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
JP7379091B2 (ja) * | 2019-10-30 | 2023-11-14 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、及び物品の製造方法 |
US11747731B2 (en) * | 2020-11-20 | 2023-09-05 | Canon Kabishiki Kaisha | Curing a shaped film using multiple images of a spatial light modulator |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3528364B2 (ja) | 1995-10-18 | 2004-05-17 | ソニー株式会社 | レーザビーム合成装置及び合成方法並びにレーザ製版装置及びレーザ製版方法 |
JP2002122945A (ja) | 2000-10-18 | 2002-04-26 | Noritsu Koki Co Ltd | デジタル露光装置及びこれを備える写真処理装置 |
TW529172B (en) * | 2001-07-24 | 2003-04-21 | Asml Netherlands Bv | Imaging apparatus |
US7153616B2 (en) | 2004-03-31 | 2006-12-26 | Asml Holding N.V. | System and method for verifying and controlling the performance of a maskless lithography tool |
JP4958614B2 (ja) * | 2006-04-18 | 2012-06-20 | キヤノン株式会社 | パターン転写装置、インプリント装置、パターン転写方法および位置合わせ装置 |
WO2007142350A1 (ja) * | 2006-06-09 | 2007-12-13 | Nikon Corporation | パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
KR101360160B1 (ko) | 2006-11-22 | 2014-02-12 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 미세패턴 형성장치 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법 |
WO2008116886A1 (de) | 2007-03-27 | 2008-10-02 | Carl Zeiss Smt Ag | Korrektur optischer elemente mittels flach eingestrahltem korrekturlicht |
JPWO2009153925A1 (ja) * | 2008-06-17 | 2011-11-24 | 株式会社ニコン | ナノインプリント方法及び装置 |
US8345242B2 (en) * | 2008-10-28 | 2013-01-01 | Molecular Imprints, Inc. | Optical system for use in stage control |
JP2011248327A (ja) * | 2010-04-27 | 2011-12-08 | Panasonic Corp | 照明装置及びそれを備えた投写型表示装置 |
EP2600473B1 (en) | 2010-07-30 | 2019-01-09 | Sony Corporation | Light source unit, illumination device, and display device |
US8842294B2 (en) * | 2011-06-21 | 2014-09-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Position detection apparatus, imprint apparatus, and position detection method |
JP5686779B2 (ja) * | 2011-10-14 | 2015-03-18 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
JP5932286B2 (ja) * | 2011-10-14 | 2016-06-08 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
JP2013175604A (ja) | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Toshiba Corp | パターン形成装置、パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 |
JP6076618B2 (ja) | 2012-05-14 | 2017-02-08 | アストロデザイン株式会社 | 光学的分解能向上装置 |
CN103962079B (zh) * | 2013-01-28 | 2017-11-17 | 西门子公司 | 加热装置和用于发生化学反应的设备 |
JP6236095B2 (ja) * | 2013-03-13 | 2017-11-22 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ装置 |
JP6418773B2 (ja) | 2013-05-14 | 2018-11-07 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 |
JP2015005676A (ja) * | 2013-06-22 | 2015-01-08 | 株式会社ニコン | 照明光学系、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP6329353B2 (ja) | 2013-10-01 | 2018-05-23 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品の製造方法 |
JP6336275B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2018-06-06 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品の製造方法 |
JP6294680B2 (ja) * | 2014-01-24 | 2018-03-14 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品の製造方法 |
KR101901729B1 (ko) | 2014-05-02 | 2018-09-28 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 조밀 피처들의 핫스폿들의 감소 |
JP2016042498A (ja) | 2014-08-13 | 2016-03-31 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品製造方法 |
US20170210036A1 (en) * | 2016-01-22 | 2017-07-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Mold replicating method, imprint apparatus, and article manufacturing method |
US11175598B2 (en) * | 2017-06-30 | 2021-11-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus and method of manufacturing article |
-
2016
- 2016-11-30 JP JP2016233247A patent/JP6827785B2/ja active Active
-
2017
- 2017-11-17 SG SG10201709477TA patent/SG10201709477TA/en unknown
- 2017-11-23 TW TW106140698A patent/TWI668734B/zh active
- 2017-11-27 US US15/823,338 patent/US11204548B2/en active Active
- 2017-11-29 KR KR1020170161314A patent/KR102282089B1/ko active IP Right Grant
- 2017-11-30 CN CN201711231748.2A patent/CN108121155B/zh active Active
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