DE102008042463B3

DE102008042463B3 - Optische Messvorrichtung für eine Projektionsbelichtungsanlage

Info

Publication number: DE102008042463B3
Application number: DE102008042463A
Authority: DE
Inventors: Johannes Eisenmenger; Thomas Stammler; Richard Ell
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2008-09-30
Filing date: 2008-09-30
Publication date: 2010-04-22
Anticipated expiration: 2028-10-01
Also published as: US20100079738A1

Abstract

Eine optische Messvorrichtung (50) für eine Projektionsbelichtungsanlage (10) für die Mikrolithographie umfasst einen optischen Sensor (52) zum Messen einer Eigenschaft einer Belichtungsstrahlung (16) innerhalb der Projektionsbelichtungsanlage (10) sowie eine Datenschnittstelle (66; 166), welche dazu konfiguriert ist, die gemessene Eigenschaft in Gestalt von Messdaten (60) an einen zumindest im Messbetrieb von der Messvorrichtung (50) getrennten und außerhalb der Messvorrichtung (50) angeordneten Datenempfänger (72) zu übertragen.

Description

Hintergrund der Erfindung
Die Erfindung betrifft eine optische Messvorrichtung für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithograhpie, eine Messanordnung sowie eine Projektionsbelichtungsanlage jeweils mit einer derartigen Messvorrichtung sowie ein Verfahren zum Durchführen einer optischen Messung in einer Projektionsbelichtungsanlage.
Eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie umfasst in der Regel mehrere optische Subsysteme. Diese umfassen eine Lichtquelle, beispielsweise einen Laser im UV-Wellenlängenbereich, ein Beleuchtungssystem zur Beleuchtung eines eine strukturierte Lithographie-Maske tragenden Retikels sowie ein Projektionsobjektiv zum Abbilden der Lithographie-Maske auf einen belackten Halbleiter-Wafer. Der Strahlengang der von der Lichtquelle erzeugten elektromagnetischen Strahlung verläuft damit typischerweise durch das Beleuchtungssystem, das Retikel sowie das Projektionsobjektiv.
Wenn mittels der Projektionsbelichtungsanlage Auflösungen im Nanometerbereich erreicht werden sollen, werden insbesondere an die Beleuchtung des Retikels hohe Anforderungen gestellt. In diesem Fall ist die Intensitätsverteilung in der Pupillenebene des Beleuchtungssystems nicht homogen. Vielmehr erfolgt die Beleuchtung des Retikels nicht bei senkrechtem Lichteinfall, sondern z. B. in Form einer dipolförmigen, annularen oder noch komplexeren Winkelverteilung der Einfallsrichtung der Lichtstrahlen. Hierfür sind im Beleuchtungsstrahlengang verschiedene optische Elemente vorgesehen, mit denen sich die Beleuchtung des Retikels optimieren lässt. Allerdings ergibt sich die Problematik, dass mit wachsender Komplexität der Einstellmöglichkeiten die Langzeitstabilität der Beleuchtungseinstellung abnimmt. Um dem vorzubeugen wird gegenwärtig während des Betriebs der Projektionsbelichtungsanlage mittels einer sich in der Waferebene befindlichen Sensorik die dort ankommende Strahlung vermessen und aus dieser Messung auf die Beleuchtungsverteilung zurückgeschlossen.
Hierzu müssen jedoch gewisse Annahmen über die Abbildungseigenschaften des Projektionsobjektivs gemacht, was die Aussagekraft solcher Messungen schmälert. Eine Messung direkt in der Retikelebene scheitert jedoch an dem geringen Platzangebot für den Einbau einer derartigen Sensorik einschließlich der dafür benötigten elektrischen Kabel und Datenkabel.
Aus der EP 1 369 743 A2 ist eine Sensoreinheit für ein Lithographiesystem bekannt, die ein Substrat in Form eines Wafers aufweist.
Aus der US 2004/0090606 A1 ist eine Belichtungsanlage für einen Lithographieprozess mit einer Wellenfrontmesseinrichtung bekannt, die Ihre Messdaten über Datenleitungen oder kabellose Übertragung an ein Hauptsteuergerät übermittelt.
Die DE 10 2008 003 916 A1 offenbart eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer in einem Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage angeordneten Messvorrichtung zum orts- und winkelaufgelöstem Messen einer Bestrahlungsstärkeverteilung.
Zugrunde liegende Aufgabe
Es ist eine Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zum Durchführen einer optischen Messung anzugeben, mit dem der Verlauf der Belichtungsstrahlung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage genauer bzw. umfassender bestimmt werden kann.
Erfindungsgemäße Lösung
Gemäß der Erfindung wird ein Verfahren zum Durchführen einer optischen Messung in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie bereitgestellt. Das Verfahren umfasst die Schritte: Bereitstellen einer optischen Messvorrichtung mit einem optischen Sensor sowie einer Datenschnittstelle im Austausch mit einem entnehmbaren Element des Beleuchtungssystems der Projektionsbelichtungsanlage, Messen einer Eigenschaft einer Belichtungsstrahlung innerhalb der Projektionsbelichtungsanlage mittels des optischen Sensors, sowie Übertragen der gemessenen Eigenschaft in Gestalt von Messdaten mittels der Datenschnittstelle an einen zumindest im Messbetrieb von der Messvorrichtung getrennten Datenempfänger außerhalb der Messvorrichtung.
Die erfindungsgemäße Datenschnittstelle kann in einer Variante als Datensender, z. B. als Funksender, zum kontaktlosen Übertragen der Messdaten an den externen Datenempfänger konfiguriert sein. In einer anderen Variante kann die Datenschnittstelle als Kontaktschnittstelle konfiguriert sein, wobei die im Datenspeicher gespeicherten Messdaten mittels mechanischer Kontaktierung der Kontaktschnittstelle mit dem Datenempfänger auslesbar sind. Die Kontaktschnittstelle kann z. B. als Steckschnittstelle zum Aufnehmen eines Steckers eines Datenkabels ausgebildet sein. Hierfür kommt z. B. eine USB-Schnittstelle in Betracht.
Durch das erfindungsgemäße Vorsehen einer Datenschnittstelle, welche dazu konfiguriert ist, die Messdaten an einen zumindest im Messbetrieb von der Messvorrichtung getrennten und damit externen Datenempfänger zu übertragen, kann die Messvorrichtung in einer kurzen Belichtungspause in den Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage eingebracht werden und die Messung kann durchgeführt werden. Kabelverbindungen zum Übertragen der Messdaten, die ggf. eine strukturelle Anpassung der Projektionsbelichtungsanlage notwendig machen würden, sind nicht notwendig. Vielmehr werden die Messdaten entweder kontaktlos während der Messung an den Datenempfänger übertragen oder nach der Messung aus der wieder aus der Projektionsbelichtungsanlage entfernten Messvorrichtung ausgelesen.
Insbesondere ist es mit der erfindungsgemäßen Datenschnittstelle möglich, die Messvorrichtung für die Messung im Austausch mit einem entnehmbaren Element der Projektionsbelichtungsanlage einzusetzen. Ein derartiges entnehmbares Element kann etwa eine Retikel-Maskierblende, eine Beleuchtungsaperturblende, ein Retikel, ein Wafer, ein austauschbares polarisations-definierendes Element, z. B. ein Polarisationsfilter, oder ein diffraktives Element im Beleuchtungssystem sein, wie nachstehend näher erläutert. Andere entnehmbare Elemente können Planplatten und Wellenfront-Korrekturelemente umfassen. Damit ermöglicht die erfindungsgemäße Messvorrichtung die Vermessung der Belichtungsstrahlung an unterschiedlichen Positionen des Strahlenganges, die für eine fest installierte Messvorrichtung bzw. eine mit Datenübertragungskabeln ausgestattete Messvorrichtung aufgrund des dafür benötigen Platzbedarfs nicht zugänglich sind. Damit ist es beispielsweise möglich, die Intensitätsverteilung in der Retikelebene winkelaufgelöst zu bestimmen und somit die Stabilität der Beleuchtungseinstellung ohne den Einfluss der Projektionsoptik und damit mit hoher Genauigkeit zu überprüfen.
Die erfindungsgemäße Messvorrichtung kann damit so konfiguriert werden, dass sie ohne bauliche Veränderungen der Projektionsbelichtungsanlage zum Einsatz kommen kann. Die Messvorrichtung kann damit insbesondere in Projektionsbelichtungsanlagen unterschiedlicher Hersteller zum Einsatz kommen. Die erfindungsgemäße Messanordnung mit der optischen Messvorrichtung sowie dem externen Datenempfänger kann damit zur Vermessung bereits installierter Projektionbelichtungsanlagen verwendet werden.
In einer erfindungsgemäßen Ausführungsform weist die erfindungsgemäße Messvorrichtung weiterhin einen Datenspeicher zum Speichern der Messdaten auf. Der Datenspeicher kann im Fall der Datenübertragung der Messdaten mittels eines Datensenders an den Datenempfänger während des Messvorgangs als Puffer dienen, um eine begrenzte Datenübertragungsrate des Datensenders durch zeitweilige Zwischenspeicherung der Messdaten abzupuffern. Im Fall der Datenübertragung im Anschluss an den Messvorgang, etwa mittels der Kontaktschnittstelle, können die Messdaten bis zum Auslesen vollständig in dem Datenspeicher gespeichert werden.
In einer weiteren Ausführungsform nach der Erfindung umfasst die optische Messvorrichtung weiterhin den vorstehend aufgeführten Datenspeicher sowie eine Steuereinrichtung, die dazu konfiguriert ist, die vom optischen Sensor ermittelten Messdaten zunächst zur Zwischenspeicherung an den Datenspeicher zu übertragen, daraufhin die Messdaten wieder aus dem Datenspeicher auszulesen und an die Datenschnittstelle zur Übertragung an den Datenempfänger weiterzuleiten.
In einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform umfasst der Datensender einen Funksender, wie bereits vorstehend erwähnt. In diesem Fall erfolgt die Datenübertragung an den Datenempfänger mittels Radiowellen.
In einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform weist der Datensender eine Strahlungsquelle zum Erzeugen von elektromagnetischer Strahlung im Infrarot- und/oder höherfrequenten Wellenlängenbereich auf. So kann der Datensender etwa als Laserdiode konfiguriert sein.
In einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform ist der Datensender dazu konfiguriert, die Messdaten mittels einer Abfolge unterschiedlicher Magnetfeldstärken an den im Nahfeld des Magnetfeldes angeordneten Datenempfänger zu übertragen. Die Datenübertragung erfolgt damit nicht durch die Ausbreitung einer elektromagnetischen Trägerwelle ins Fernfeld, sondern durch direkte Messung einer Abfolge unterschiedlicher Magnetfeldstärken und/oder -Richtungen im Nahbereich des Datensenders. Die zeitliche Variation der Magnetfeldstärke und -Richtung ist beliebig. Die Messdaten können z. B. durch ein Ein- und Ausschalten des Magnetfeldes in einer bestimmten zeitlichen Abfolge übertragen werden. So wird insbesondere eine Änderung der magnetischen Feldstärke am Ort des Datenempfängers etwa durch eine Änderung der induzierten Spannung gemessen. Der Zeitrahmen, in dem das Magnetfeld in diesem Fall auf einem konstanten Wert verbleibt, kann beispielsweise einige Millisekunden betragen. Alternativ kann die Übertragung der Messdaten auch durch eine kontinuierliche Variation des Magnetfeldes erfolgen. Der Datensender kann zum Erzeugen des Magnetfeldes mit einem stromdurchflossenen Element, z. B. einer Magnetspule, oder auch mittels eines Permanentmagneten in Verbindung mit einer Bewegungseinrichtung zum mechanischen Bewegen des Permanentmagneten versehen sein. Durch ein Verkippen des Permanentmagneten kann dann am Ort des Datenempfängers das Magnetfeld variiert werden.
In einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform ist der Datensender dazu konfiguriert, die Messdaten mittels einer Abfolge unterschiedlicher elektrischer Feldstärken an den im Nahfeld des elektrischen Feldes angeordneten Datenempfänger zu übertragen. Damit können die Messdaten mittels einer Abfolge unterschiedlicher elektrischer Feldstärken übertragen werden. Die Datenübertragung erfolgt damit nicht durch die Ausbreitung einer elektromagnetischen Trägerwelle ins Fernfeld, sondern durch direkte Messung einer Abfolge unterschiedlicher elektrischer Feldstärken und/oder -Richtungen im Nahbereich des Datensenders. Die zeitliche Variation der elektrischen Feldstärke und -Richtung ist beliebig. Die Messdaten können z. B. durch ein Ein- und Ausschalten des elektrischen Feldes in einer bestimmten zeitlichen Abfolge übertragen werden. Der Zeitrahmen, in dem das elektrische Feld in diesem Fall auf einem konstanten Wert verbleibt, kann beispielsweise einige Millisekunden betragen. Alternativ kann die Übertragung der Messdaten auch durch eine kontinuierliche Variation des elektrischen Feldes erfolgen. Der Datensender kann zum Erzeugen des elektrischen Feldes mit einem elektrisch aufladbaren leitfähigen Element (z. B. einer metallischen Kondensatorplatte) oder auch mittels eines elektrostatisch aufgeladenen, isolierenden Elements (z. B. Glasoberfläche mit Oberflächenladungen) in Verbindung mit einer Bewegungseinrichtung zum mechanischen Bewegen des Elements versehen sein. Durch ein Verkippen des Elements kann dann am Ort des Datenempfängers das elektrische Feld variiert werden.
In einer weiteren Ausführungsform nach der Erfindung umfasst der Datensender eine Schallquelle. Die Schallquelle kann einen elektrostatischen Lautsprecher oder einen Piezo-Lautsprecher umfassen und insbesondere als Ultraschallerzeuger ausgebildet sein.
In einer weiteren Ausführungsform nach der Erfindung umfasst die optische Messvorrichtung weiterhin eine Stromquelle zur Versorgung des Datensenders mit elektrischem Strom. In einer Variante ist die Stromquelle als Energiespeicher zum Speichern elektrischer Energie konfiguriert. Der Energiespeicher kann etwa als Batterie, Akku und/oder Kondensator ausgebildet sein. In einer weiteren Variante umfasst die Stromquelle einen Energiewandler zum Umwandeln chemischer Reaktionsenergie in elektrischen Strom. Für einen derartigen Energiewandler kommt z. B. eine Brennstoffzelle in Frage.
In einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform umfasst die Stromquelle einen Energieaufnehmer zum Aufnehmen kontaktlos übertragener Energie. In einer Variante kann der Energieaufnehmer einen Radiowellenempfänger umfassen. In einer weiteren Variante umfasst der Energieaufnehmer eine Photodiode für den Infrarot- und/oder höhenfrequenten Wellenlängenbereich. Darüber hinaus kann der Energieaufnehmer eine Magnetspule zur Energieaufnahme aus einem magnetischen Wechselfeld umfassen. In einer weiteren Variante umfasst der Energieaufnehmer einen Schallwellenempfänger. Dieser dient dazu, die mechanische Energie der Schallwellen in elektrische Energie umzuwandeln.
In einer weiteren Ausführungsform weist die optische Messvorrichtung die äußere Gestalt eines Retikels auf. Zumindest sollte die äußere Gestalt der Messvorrichtung derart konfiguriert sein, dass diese wie ein Retikel von der Retikelstage der Projektionsbelichtungsanlage aufgenommen werden kann. Damit kann die Messvorrichtung anstelle eines Produktretikels mittels des Retikelwechslers in die Retikelstage der Projektionsbelichtungsanlage eingesetzt werden.
In einer weiteren Ausführungsform weist die optische Messvorrichtung die äußere Gestalt eines Wafers auf. Insbesondere ist die Messvorrichtung derart konfiguriert, dass diese anstelle eines Wafers von der Waferstage aufgenommen werden kann.
In einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform weist die optische Messvorrichtung die äußere Gestalt eines diffraktiven optischen Elements oder eines polarisationsändernden Elements, wie etwa eines Polarisators, auf. Insbesondere entspricht die äußere Gestalt der Messvorrichtung der äußeren Gestalt eines herausnehmbaren diffraktiven optischen Elements bzw. eines herausnehmbaren polarisationsändernden Elements der Optik, insbesondere des Beleuchtungssystems der Projektionsbelichtungsanlage. Damit kann die Messvorrichtung anstelle eines derartigen diffraktiven optischen Elements bzw. polarisationsändernden Elements in den Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage eingesetzt werden. Wie bereits vorstehend erwähnt, können weitere aus dem Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage entnehmbare Elemente Planplatten oder Wellenfront-Korrekturelemente umfassen. Vorteilhafterweise weist die optische Messvorrichtung die äußere Gestalt einer derartigen Planplatte oder eines derartigen Korrekturelements auf.
In einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform ist der optische Sensor als ortsauflösender elektrooptischer Detektor, wie z. B. als CCD-Array, konfiguriert. Damit kann eine zweidimensionale Intensitätsverteilung der eingestrahlten Belichtungsstrahlung als die von der Messvorrichtung gemessene Eigenschaft bestimmt werden.
In einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform ist der optische Sensor als Wellenfrontmesseinrichtung konfiguriert. Die von der Messvorrichtung gemessene Eigenschaft der Belichtungsstrahlung ist damit deren Wellenfront. Dazu kann der optische Sensor z. B. als Shack-Hartmann-Sensor oder als eine andere dem Fachmann bekannte, insbesondere interferometrische, Wellenfrontmesseinrichtung ausgebildet sein.
In einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform ist der optische Sensor dazu konfiguriert, die Intensität der eingestrahlten Belichtungsstrahlung richtungsaufgelöst zu bestimmen. Dazu kann der optische Sensor ebenfalls in der Art eines Shack-Hartmann-Sensors konfiguriert sein, deren Signale wie nachstehend näher beschrieben, speziell ausgewertet werden. Die gemessene Eigenschaft ist dann eine richtungsaufgelöste Intensitätsverteilung der eingestrahlten Belichtungsstrahlung.
In einer weiteren Ausführungsform nach der Erfindung ist der optische Sensor als Polarisationssensor konfiguriert. Damit kann die Intensität der Belichtungsstrahlung mit einer bestimmten Polarisation, insbesondere die jeweilige Intensität der einzelnen auf unterschiedliche Polarisationskomponenten entfallenden Anteile gemessen werden.
In einer weiteren Ausführungsform nach der Erfindung ist der optische Sensor zur Detektion von Belichtungsstrahlung im extrem ultravioletten (EUV) Wellenlängenbereich, insbesondere im Wellenlängenbereich kleiner 100 nm konfiguriert ist. Damit lassen sich EUV-Projektionsbelichtungsanlagen erfindungsgemäß vermessen.
In einer weiteren Ausführungsform nach der Erfindung weist die optische Messvorrichtung weiterhin einen Signalempfänger zum Empfangen von von außerhalb der optischen Messvorrichtung kontaktlos übertragenen Steuersignalen auf, welche zum Steuern der Messvorrichtung dienen. Damit kann die Messung durch die in den Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage eingeführte Messvorrichtung von außen gesteuert werden. Zur kontaktlosen Übertragung der Steuersignale kommen alle vorstehend hinsichtlich der Übertragung der Messdaten von dem Datensender zum Datenempfänger aufgeführten Übertragungsarten in Frage. Vorteilhafterweise weist die erfindungsgemäße Messanordnung einen außerhalb der Messvorrichtung angeordneten Signalsender zum Aussenden von Steuersignalen auf.
Die bezüglich der vorstehend aufgeführten Ausführungsformen der erfindungsgemäßen optischen Messvorrichtung angegebenen Merkmale können entsprechend auf das erfindungsgemäße Verfahren übertragen werden, und umgekehrt. Die sich daraus ergebenden Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens sollen von der Offenbarung der Erfindung ausdrücklich umfasst sein.
Kurzbeschreibung der Zeichnungen
Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele einer erfindungsgemäßen optischen Messvorrichtung für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie anhand der beigefügten schematischen Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt:
1 eine Darstellung eines prinzipiellen Aufbaus einer Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage mit einer erfindungsgemäßen optischen Messvorrichtung, wobei in der Figur die Messvorrichtung an unterschiedlichen möglichen Einsatzorten im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage eingezeichnet ist,
2 eine schematisierte Draufsicht auf die optische Messvorrichtung gemäß 1 in einer ersten erfindungsgemäßen Ausführungsform,
3 eine stark schematische Seitenansicht der optischen Messvorrichtung in einer alternativen erfindungsgemäßen Ausführungsform,
4 eine schematische Schnittansicht eines optischen Sensors der Messvorrichtung gemäß 2 oder 3,
5 eine schematische Schnittansicht der optischen Messvorrichtung gemäß 2 oder 3, welche zusätzlich mit einem optischen Modul versehen ist, das z. B. zur Änderung des Abbildungsmaßstabes oder als Fourier-Optik zur Transformation von Winkel in Ort ausgelegt ist,
6 eine schematische Schnittansicht des optischen Sensors in einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform, sowie
Detaillierte Beschreibung erfindungsgemäßer Ausführungsbeispiele
In den nachstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen sind funktionell oder strukturell einander ähnliche Elemente soweit wie möglich mit den gleichen oder ähnlichen Bezugszeichen versehen. Daher sollte zum Verständnis der Merkmale der einzelnen Elemente eines bestimmten Ausführungsbeispiels auf die Beschreibung anderer Ausführungsbeispiele oder die allgemeine Beschreibung der Erfindung Bezug genommen werden.
1 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage 10 für die Mikrolithographie, hier in Gestalt eines Scanners. Die Projektionsbelichtungsanlage 10 umfasst ein Beleuchtungssystem 12 zum Beleuchten eines in einer Retikelebene 14 der Projektionsbelichtungsanlage 10 angeordneten Retikels. Das Retikel ist in 1 nicht dargestellt. Die Beleuchtung des Retikels geschieht mit elektromagnetischer Belichtungsstrahlung 16 mit einer bestimmten Wellenlänge, die je nach Typ der Projektionsbelichtungsanlage 10 im UV-Wellenlängenbereich oder im EUV-Wellenlängenbereich (extrem ultraviolette Strahlung mit einer Wellenlänge von kleiner als 100 nm, beispielsweise 13,4 nm) liegen kann. Im UV-Wellenlängenbereich kann die Wellenlänge beispielsweise 365 nm, 248 nm, 193 nm oder 157 nm betragen.
Die Projektionsbelichtungsanlage 10 umfasst weiterhin ein Projektionsobjektiv 18 sowie eine Waferebene 20. Maskenstrukturen in der Retikelebene 14 werden mittels des Projektionsobjektivs 18 in die Waferebene 20 abgebildet. Das Beleuchtungssystem 12 sowie das Projektionsobjektiv 18 weisen eine gemeinsame optische Achse 22 auf. Dem Beleuchtungssystem 12 ist eine zeichnerisch nicht dargestellte Strahlungsquelle, beispielsweise ein Laser oder eine Plasmaquelle zum Erzeugen der Belichtungsstrahlung 16 vorangestellt. Das Beleuchtungssystem 12 umfasst eine in einer Blendenebene 23 angeordnete Retikel-Maskiereinrichtung 24 (REMA) zur Begrenzung eines beleuchteten Bereichs in der Retikelebene 14. Dazu weist die Retikel-Maskiereinrichtung 24 beispielsweise verstellbare Blenden, sogenannte REMA-Blades auf. Weiterhin umfasst das Beleuchtungssystem 12 ein REMA-Objektiv 26 zum Abbilden der Retikel-Maskiereinrichtung 24 in die Retikelebene 14.
Der Strahlengang der von der Strahlungsquelle erzeugten Belichtungsstrahlung 16 verläuft damit durch die Blendenebene 23, das REMA-Objektiv 26, die Retikelebene 14 sowie das Projektionsobjektiv 18 und endet in der Waferebene 20. Das REMA-Objektiv 26 weist eine Pupillenebene 30 auf. In der Pupillenebene 30 des REMA-Objektivs 26 kann je nach Design der Optik eine Beleuchtungsaperturblende 32 vorgesehen sein. Eine derartige Beleuchtungsaperturblende 32 ist am Beispiel einer eine dipolförmige Winkelverteilung der Beleuchtungsstrahlung in der Retikelebene 14 erzeugenden Blende im unteren Bereich der 1 schematisch dargestellt.
Die gezeigte Beleuchtungsaperturblende 32 weist zwei kreisflächenförmige Ausnehmungen 34 zum Durchtritt der elektromagnetischen Strahlung 16 auf. Die Beleuchtungsaperturblende 32 ist austauschbar gelagert. Die Projektionsbelichtungsanlage 10 weist ein Blendenarchiv auf, aus dem je nach Beleuchtungsanforderung im Produktionsbetrieb die passende Beleuchtungsaperturblende 32 entnommen und in der Pupillenebene 30 des REMA-Objektivs 30 angeordnet wird. Im Blendenarchiv gelagerte Beleuchtungsaperturblenden können beispielsweise der Erzeugung von annularer Beleuchtung, von Quadrupolbeleuchtung oder komplexeren Formen der Beleuchtung in der Retikelebene 14 dienen. Je nach Design der Beleuchtungsoptik 12 können zusätzlich zu den Beleuchtungsaperturblenden andere strahlformende optische Elemente der Ausbildung der gewünschten Beleuchtungsverteilung in der Retikelebene 14 dienen.
Unter der Pupille eines optischen Systems, wie beispielsweise des vorgenannten REMA-Objektivs, wird in diesem Zusammenhang insbesondere die Austrittspupille des optischen Systems verstanden. Jedes optische System weist eine die Helligkeit des Bildes regulierende Aperturblende auf. Diese kann im Fall einer Linse von dem Rand der Linse gebildet werden oder auch eine hinter den optischen Elementen eines mehrlinsigen Systems angeordnete Lamellenblende etc. sein. Die Austrittspupille eines optischen Systems ist das Bild der in der vorstehend erwähnten Pupillenebene angeordneten Aperturblende, wie es von einem axialen Punkt der Bildebene durch zwischen der Aperturblende und dem Punkt in der Bildebene liegende Linsen des optischen Systems gesehen wird.
Im Strahlengang 28 der Projektionsbelichtungsanlage 10 ist eine optische Messvorrichtung 50 in einer der nachstehend aufgeführten Ausführungsformen angeordnet. 1 zeigt beispielhaft mehrere mögliche Anordnungspositionen für die Messvorrichtung 50 nicht alle beansprucht. So kann die Messvorrichtung 50 etwa in der Blendenebene 23, in der Pupillenebene 30 des REMA-Objektivs 26, in der Retikelebene 14, in einer Pupillenebene 36 des Projektionsobjektivs 18 oder aber in der Waferebene 20 angeordnet werden. Insbesondere kann die optische Messvorrichtung 50 in allen Ebenen des Strahlengangs 28, in denen sich mechanisch austauschbare Elemente befinden, angeordnet werden. Dazu sind die o. g. Ebenen besonders geeignet.
So kann die Messvorrichtung 50 etwa in einer Belichtungspause anstatt einer Blende in der Blendenebene 23 angeordnet werden. Dazu wird die Blende mechanisch aus dem Strahlengang 28 entfernt und die Messvorrichtung 50 stattdessen eingeführt. Dabei weist die Messvorrichtung 50 in einer erfindungsgemäßen Variante die äußere Gestalt einer derartigen Blende auf. Die Messvorrichtung 50 kann dann mittels eines bereits in der Projektionsbelichtungsanlage 10 vorgesehenen Mechanismusses zum Blendenaustausch in der Blendenebene 23 angeordnet werden.
Alternativ kann die Messvorrichtung 50 mittels einer bereits in der Projektionsbelichtungsanlage 10 vorgesehenen Mechanik zum Austausch der Beleuchtungsaperturblenden 32 anstatt einer derartigen Beleuchtungsaperturblende in der Pupillenebene 30 des REMA-Objektivs 26 angeordnet werden. Dazu ist es besonders zweckmäßig, die Messvorrichtung 50 derart auszuführen, dass sie die äußere Gestalt einer Beleuchtungsaperturblende aufweist.
Weitere Bauelemente der Messvorrichtung 50 werden nachstehend, insbesondere mit Bezug auf 2 näher erläutert.
In einer weiteren Variante kann die Messvorrichtung 50 in der Pupillenebene 36 des Projektionsobjektivs 18 oder der Waferebene 20 angeordnet werden. Im Fall der Anordnung in der Waferebene 20 weist die Messvorrichtung 50 in einer erfindungsgemäßen Ausführungsform beispielsweise die äußere Gestalt eines Wafers auf, d. h. sie ist als Scheibe mit beispielsweise 300 mm Durchmesser und einigen 100 μm bis einigen mm Dicke ausgeführt. Die Dimensionierung der Scheibe sollte auf das Wafer-Fördersystem in der Projektionsbelichtungsanlage 10 abgestimmt sein, so dass die Messvorrichtung 50 anstatt eines Wafers in die Waferebene 20 geladen werden kann, um die optische Messung durchzuführen. Alternativ kann es jedoch auch ein anderes Element sein, das von der Waferstage, z. B. an ihren Ecken, aufgenommen werden kann.
Die Messvorrichtung 50 kann in ihrer äußeren Gestaltung einem austauschbaren Element des Strahlengangs 28 der Projektionsbelichtungsanlage 10 entsprechen. Ein derartiges austauschbares Element kann z. B. abhängig vom Design der Optik des Projektionsbelichtungsanlage 10 ein austauschbares polarisationsdefinierendes Element, z. B. ein Polarisationsfilter, oder ein austauschbares diffraktives optisches Element des Beleuchtungssystems 12 sein.
2 veranschaulicht die einzelnen Bauteile einer erfindungsgemäßen Ausführungsform der Messvorrichtung 50. Die in 2 gezeigte Messvorrichtung 50 ist in ihrer äußeren Gestaltung als Scheibe ausgeführt, beispielsweise zur Verwendung in der Waferebene 20. Im Zentrum der Messvorrichtung 50 befindet sich ein optischer Sensor 52, beispielsweise in Gestalt eines ortsauflösenden elektrooptischen Detektors, wie etwa eines CCD-Arrays. Der optische Sensor kann, wie in 2 gezeigt, kreisförmig ausgeführt sein oder eine andere Form, wie etwa eine rechteckige Form aufweisen.
Der optische Sensor 52 misst eine Eigenschaft der Belichtungsstrahlung 16 im Strahlengang 28 der Projektionsbelichtungsanlage 10. Die gemessene Eigenschaft kann etwa in dem Fall, in dem der optische Sensor 52 als ortsauflösender Detektor konfiguriert ist, eine zweidimensionale Intensitätsverteilung der Belichtungsstrahlung 16 in der entsprechenden Messebene sein. Alternativ kann die gemessene Eigenschaft eine orts- und/oder winkelaufgelöste Intensitätsverteilung, eine Wellenfront und/oder eine Polarisationsverteilung der Belichtungsstrahlung 16 sein, wie nachstehend näher veranschaulicht wird.
Die Messvorrichtung 50 umfasst weiterhin eine Signalverarbeitungseinrichtung 56, einen optionalen Datenspeicher 62, ein Sende/Empfangsmodul 64 und eine Stromquelle 58. Die vom optischen Sensor 52 gemessene Eigenschaft wird in Form eines Meßsignals 54 an die Signalverarbeitungseinrichtung 56 übertragen. Die Signalverarbeitungseinrichtung 56 wandelt das Messsignal 54 in Messdaten 60 um, welche entweder direkt an eine im Sende/Empfangsmodul 64 integrierte Datenschnittstelle in Gestalt eines Datensenders 66 übertragen werden, oder zunächst in dem als Puffer dienenden Datenspeicher 62 zwischengespeichert werden. Im letztgenannten Fall werden die Messdaten 60 von dem Datensender 66 entsprechend der Senderate desselben aus den Datenspeicher 62 ausgelesen. Der Datensender 66 ist zum kontaktlosen Übertragen der Messdaten 60 an einen externen Datenempfänger 72 konfiguriert. Der Datenempfänger 72 kann Teil eines außerhalb der Projektionsbelichtungsanlage 10 angeordneten Sende/Empfangsmoduls 70 sein.
Der Datensender 66 ist in einer erfindungsgemäßen Variante als Funksender konfiguriert und dient der Datenübertragung an den Datenempfänger 72 mittels Radiowellen. Der Datensender 66 kann auch als Infrarotsender und der Datenempfänger 72 als entsprechender Infrarotempfänger konfiguriert sein. Weiterhin können Sender 66 und Empfänger 72 auch zur Datenübertragung mit höherfrequenter optischer Strahlung ausgelegt sein.
In einer weiteren erfindungsgemäßen Variante weist der Datensender 66 ein stromdurchflossenes Elemente, z. B. eine Magnetspule oder einen Permanentmagneten zum Erzeugen eines Magnetfeld mit einer derartigen Feldstärke auf, dass das Magnetfeld bei zeitlich konstanter Feldstärke am Ort des Datenempfängers detektierbar ist. Die Messdaten werden dann mittels einer Abfolge unterschiedlicher Magnetfeldstärken übertragen. Der Datenempfänger 72 ist in diesem Fall als Magnetfelddetektor zum Messen der magnetischen Feldstärke am Ort des Datenempfängers 72 konfiguriert. Die Übertragung der Messdaten 60 erfolgt durch eine Variation der Stärke und/oder der Richtung des vom Datensender 66 erzeugten Magnetfeldes. Insbesondere kann beispielsweise die Datenübertragung durch Ein- und Ausschalten des Magnetfeldes in bestimmter zeitlicher Abfolge erfolgen. In dem Fall, in dem der Datensender 66 einen Permanentmagneten umfasst, kann eine Variation der magnetischen Feldstärke durch ein mechanisches Verkippen des Permanentmagneten erfolgen. Weiterhin kann, wie vorstehend näher erläutert, der Datensender ein elektrisch aufladbares leitfähiges Element, z. B. eine metallische Kondensatorplatte, umfassen und dazu konfiguriert sein, ein elektrisches Feld mit einer derartigen Feldstärke zu erzeugen, dass das elektrische Feld bei zeitlich konstanter Feldstärke am Ort des Datenempfängers detektierbar ist. Der Datenempfänger kann dann als entsprechender Feldstärkesensor, z. B. als Faraday-Sensor, konfiguriert werden.
Alternativ kann der Datensender 66 als Schallquelle, insbesondere als Ultraschallerzeuger, und der Datenempfänger 72 als entsprechender Schallempfänger konfiguriert sein. Die Übertragung der Messdaten 60 erfolgt in diesem Fall mittels Schallwellen.
Das Sende/Empfangsmodul 64 der optischen Messvorrichtung 50 kann weiterhin aufweisen einen Signalempfänger 68 zum Empfangen von Steuersignalen 76, welche von einem Signalsender 74 des externen Sende/Empfangsmoduls 70 ausgesendet werden. Die Steuersignale dienen der Steuerung des Betriebs des optischen Sensors 52, insbesondere der Steuerung des Erfassungszeitraums zum Erfassen der zu messenden Eigenschaft der Belichtungsstrahlung 16. Die Übertragung der Steuersignale 16 kann in allen vorstehend bezüglich der Übertragung der Messdaten beschriebenen Übertragungsarten erfolgen.
Die Messvorrichtung 50 kann aber auch ohne einen derartigen Signalempfänger 68 konfiguriert sein. In diesem Fall weist das Modul 64 lediglich den Datensender 68 auf. Entsprechend ist auch das Modul 70 ohne den Signalsender konfiguriert. Enthält die Messvorrichtung 50 keinen Signalempfänger 68, so kann die Steuerung des Sensors 52 z. B. nach einem vorgegebenen Algorithmus ablaufen bzw. derart konfiguriert sein, dass die Messvorrichtung 50 kontinuierlich aktuelle Messdaten 60 erfasst und an den Datenempfänger 72 überträgt.
Wie bereits vorstehend erwähnt, umfasst die Messvorrichtung 50 weiterhin eine Stromquelle 58 zur Versorgung des Datensenders 66 mit elektrischem Strom. Bei Bedarf versorgt die Stromquelle 58 auch die Signalverarbeitungseinrichtung 56, den Datenspeicher 62 und den Signalempfänger 68 mit elektrischem Strom. Die Stromquelle 58 kann erfindungsgemäß in unterschiedlichen Varianten ausgebildet sein. In einer ersten Variante umfasst die Stromquelle 58 einen Energiespeicher 59 zum Speichern elektrischer Energie, z. B. in Gestalt einer Batterie, eines Akkus oder eines Kondensators. In einer weiteren Variante umfasst die Stromquelle 58 einen Energiewandler, z. B. in Gestalt einer Brennstoffzelle, zum Umwandeln chemischer Reaktionsenergie in elektrischen Strom.
In einer weiteren Variante umfasst die Stromquelle 58 einen Energieaufnehmer 82 zum Aufnehmen von von einem externen Energiesender 78 kontaktlos übertragener Energie 80. Die kontaktlose Energieübertragung kann z. B. mittels Radiowellen, mittels Infrarotstrahlung oder höherfrequenter optischer Strahlung, durch induktiv bzw. kapazitiv gekoppelte Energieübertragung mittels eines magnetischen bzw. elektrischen Wechselfeldes analog zu einer magnetischen Steckdose oder mittels Schallwellen erfolgen. Der Energieaufnehmer 82 weist dann abhängig von der Form der Energieübertragung einen Radiowellenempfänger, eine Photodiode, eine Induktivität, eine Kapazität oder einen Schallwellenempfänger zum Umwandeln der Schallwellen in elektrische Energie auf.
3 zeigt eine weitere Ausführungsform der Messvorrichtung 50 in Seitenansicht. Diese ist analog zur Messvorrichtung 50 gemäß 2 ausgebildet, jedoch mit der Ausnahme, dass die Datenschnittstelle nicht als Datensender 66 sondern als Kontaktschnittstelle 166 konfiguriert ist. Die Kontaktschnittstelle 166 ist z. B. als Steckerbuchse zum Einstecken eines Datenkabels ausgebildet, insbesondere als Buchse zum Einstecken eines USB-Steckers.
Im Betrieb der Messvorrichtung 50 gemäß 3 werden die Messdaten 60 während der Messung in der Projektionsbelichtungsanlage 10 zunächst vollständig im Datenspeicher 62 abgespeichert. Nach Abschluss der Messung wird die Messvorrichtung 50 wieder aus der Projektionsbelichtungsanlage 10 entfernt und die gespeicherten Messdaten 50 werden dann durch mechanische Kontaktierung mittels des Datenempfängers 74 aus der Kontaktschnittstelle 166 ausgelesen.
4 zeigt eine erste Variante des optischen Sensors 52. Dieser weist einen zweidimensional ortsaufösenden elektrooptischen Detektor 90 in Gestalt eines CCD-Arrays auf. Der Detektor 90 weist ein Raster einzelner Detektorelemente 92 auf. Damit lässt sich eine zweidimensionale Intensitätsverteilung der Belichtungsstrahlung 16 in der entsprechenden Ebene der Projektionsbelichtungsanlage 10 als gemessene Eigenschaft erfassen. Zusätzlich kann der optische Sensor 52 ein optionales polarisations-definierendes Element 96, z. B. einen Polarisationsfilter, eine λ/2-Platte, eine λ/4-Platte oder eine Kombination davon, und/oder einen optionalen Spektralfilter 98, jeweils im Strahlengang vor dem Detektor 90 angeordnet, umfassen. Damit kann die Intensität der Belichtungsstrahlung 16 in Abhängigkeit Ihrer Polarisation bzw. ihrer Wellenlänge gemessen werden.
Werden die Filter 96 bzw. 98 während der Messung durch Filter anderer Polarisation bzw. anderer spektraler Durchlässigkeit ersetzt, so kann die Belichtungsstrahlung 16 hinsichtlich ihrer Polarisation bzw. ihrer spektralen Zusammensetzung vollständig charakterisiert werden. Die Filter 96 bzw. 98 können Teil eines Drehfilterrades sein, mit welchem durch Drehung um eine vertikale Drehachse Filter unterschiedlicher Eigenschaften über dem Detektor 90 platziert werden können. Alternativ kann auch der Strahlungsdetektor 90 polarisationsselektiv bzw. wellenlängenselektiv ausgelegt sein. 5 zeigt eine Ausführungsform der Messvorrichtung 50, bei der über dem optischen Sensor 52 ein optisches Modul 53 angeordnet ist, das z. B. zur Änderung des Abbildungsmaßstabes oder als Fourier-Optik zur Transformation von Winkel in Ort ausgelegt ist. Das optische Modul 53 kann ein oder mehrere refraktive, diffraktive und/oder reflektive Elemente umfassen. In einer weiteren Ausführungsform enthält die Messvorrichtung 50 zusätzlich Blenden.
6 veranschaulicht eine Variante des optischen Sensors 52, mit der die Intensitätsverteilung der Belichtungsstrahlung 16 orts- und winkelaufgelöst erfassbar ist. Weiterhin ist es mit diesem optischen Sensor 52 bzw. allgemein mit einem Shack-Hartmann-Sensor möglich, die Wellenfront der eingestrahlten Belichtungsstrahlung 16 zu messen.
Die beispielhaft in 6 eingezeichneten Einzelstrahlen 88 der Belichtungsstrahlung 16 veranschaulichen die Situation bei einer beispielhaften Anordnung der Messvorrichtung 50 in der Pupillenebene 30 des REMA-Objektivs 26. Dabei treffen die Einzelstrahlen 88 unter unterschiedlichen Winkeln auf jeweilige Punkte eines Messfeldes 44 der Messvorrichtung 50 auf. Die Messvorrichtung 50 ist dazu eingerichtet, die auftreffende Strahlung winkelaufgelöst an verschiedenen Punkten des Messfeldes 44 zu erfassen, wie nachstehend näher erläutert. Das heißt, für jeden einzelnen der Punkte im Messfeld 44 wird eine winkelaufgelöste Bestrahlungsstärkeverteilung ermittelt. Damit wird eine Bestimmung der mit unterschiedlichen Eintreffwinkeln auf die jeweiligen Punkte in der Pupillenebene 30 eingestrahlten Strahlungsintensitäten möglich.
Die Messvorrichtung 50 gemäß 6 weist in einer Messebene 86 das Messfeld 44 mit einer Anordnung an fokussierenden optischen Elementen 84 auf. Die fokussierenden optischen Elemente 84 liegen im dargestellten Fall in Gestalt eines Mikrolinsenrasters vor. Dabei sind die fokussierenden optischen Elemente 84 als refraktive Mikrolinsen ausgeführt. Die fokussierenden optischen Elemente 84 können aber auch als diffraktive Mikrolinsen, beispielsweise in Gestalt von CGH's (Computer Generated Holograms) oder als Pinholes ausgeführt sein. Die fokussierenden optischen Elemente 84 weisen eine einheitliche Brennweite f und damit eine gemeinsame Bildebene bzw. eine gemeinsame Fokusebene auf.
Die Messvorrichtung 50 weist weiterhin einen ortsauflösenden Strahlungsdetektor 90 in Gestalt einer CCD-Kamera bzw. eines zweidimensionalen Photodiodenrasters auf. Der ortsauflösende Strahlungsdetektor 90 weist eine den fokussierenden optischen Elementen 84 zugewandte Erfassungsfläche 94 auf. Die Erfassungsfläche 94 ist dabei in der gemeinsamen Bildebene der fokussierenden optischen Elemente 84 angeordnet. Der ortsauflösende Strahlungsdetektor 92 umfasst eine Vielzahl von Detektorelementen 92 mit einer jeweiligen Ausdehnung p in einer Richtung parallel zur Erfassungsfläche 94. Die Ausdehnung p definiert damit die Ortsauflösung des Strahlungsdetektors 90.
Auf das Messfeld 44 der Messvorrichtung 36 einfallende Belichtungstrahlung 16, die hier als einfallende Strahlung bezeichnet ist, wird mittels der fokussierenden optischen Elemente 84 auf die Erfassungsfläche 94 des Strahlungsdetektors 90 fokussiert. Dabei werden alle Einzelstrahlen 88 der einfallenden Strahlung 16, die den gleichen Winkel α gegenüber der optischen Achse 85 des betreffenden beleuchteten optischen Elements 84 aufweisen, auf ein bestimmtes Detektorelement 92 fokussiert. Die an einem derart beleuchteten Detektorelement 92a ankommende Strahlungsintensität wird von dem Strahlungsdetektor 90 registriert.
Mittels der Signalverarbeitungseinrichtung 56 wird aus der Ortsverteilung der registrierten Intensität auf der Erfassungsfläche 92 des Strahlungsdetektors 90 die orts- und winkelaufgelöste Bestrahlungsstärkeverteilung in der Messebene 86 der Messvorrichtung 50 rekonstruiert. Dazu werden die jeweils direkt unterhalb entsprechender fokussierender optischer Elemente 84 liegenden Detektorelemente 92 den jeweiligen optischen Elementen 84 zugeordnet. Damit kein „Übersprechen” auftritt, d. h. nicht der Fall auftritt, dass durch ein bestimmtes fokussierendes optisches Element 84 tretende einfallende Strahlung auf ein, einem benachbarten fokussierenden Element 84 zugeordnetes, Detektorelement 92 fällt, wird der maximale Einfallwinkel α_max der einfallenden Strahlung 16 derart begrenzt, dass die folgende Relation erfüllt ist: P/(2f) > tan (αmax),wobei P der Durchmesser sowie f die Brennweite der fokussierenden optischen Elemente 84 ist.
Damit kann aus der vom Strahlungsdetektor 90 erfassten Intensitätsverteilung die Bestrahlungsstärkeverteilung im Messfeld 44 der Messvorrichtung 50 jeweils zweidimensional orts- und winkelaufgelöst bestimmt werden. Die Ortsauflösung ist durch die Durchmesser P der fokussierenden optischen Elemente 84 begrenzt. Die Ortszuordnung von durch ein bestimmtes fokussierendes optisches Element 84 getretener Strahlung geschieht über den Mittelpunkt des entsprechenden fokussierenden optischen Elements 84.
Wahlweise umfasst die Messvorrichtung 50 in der Ausführungsform gemäß 6 entsprechend der Messvorrichtung gemäß 4 ein polarisations-definierendes Element 96, z. B. einen Polarisationsfilter und/oder einen Spektralfilter 98. Damit lässt sich die Bestrahlungsstärkeverteilung polarisationsaufgelöst bzw. wellenlängenaufgelöst ermitteln. Alternativ kann auch der Strahlungsdetektor 90 polarisationsselektiv bzw. wellenlängenselektiv ausgelegt sein.

10: Projektionsbelichtungsanlage
12: Beleuchtungssystem
14: Retikelebene
16: Belichtungsstrahlung
18: Projektionsobjektiv
20: Waferebene
22: optische Achse
23: Blendenebene
24: Retikel-Maskiereinrichtung
26: REMA-Objektiv
28: Strahlengang
30: Pupillenebene des REMA-Objektivs
32: Beleuchtungsaperturblende
34: Ausnehmung
36: Pupillenebene des Projektionsobjektivs
38: Einzelstrahl
44: Messfeld
50: optische Messvorrichtung
52: optischer Sensor
53: optisches Modul
54: Meßsignal
56: Signalverarbeitungseinrichtung
58: Stromquelle
59: Energiespeicher
60: Messdaten
62: Datenspeicher
64: Sende/Empfangsmodul
66: Datensender
68: Signalempfänger
70: Sende/Empfangsmodul
72: Datenempfänger
74: Signalsender
76: Steuersignal
78: Energiesender
80: kontaktlos übertragene Energie
82: Energieaufnehmer
84: fokussierendes optisches Element
85: optische Achse
86: Messebene
88: Einzelstrahl
90: ortsauflösender Detektor
92: Detektorelement
92a: beleuchtetes Detektorelement
94: Erfassungsfläche
96: polarisations-definierendes Element
98: Spektralfilter
166: Kontaktschnittstelle

Claims

Verfahren zum Durchführen einer optischen Messung in einer Projektionsbelichtungsanlage (10) für die Mikrolithographie, mit den Schritten: – Bereitstellen einer optischen Messvorrichtung (50) mit einem optischen Sensor (52) sowie einer Datenschnittstelle (66; 166) im Austausch mit einem entnehmbaren Element (24, 32) des Beleuchtungssystems (12) der Projektionsbelichtungsanlage (10) – Messen einer Eigenschaft einer Belichtungsstrahlung (16) innerhalb der Projektionsbelichtungsanlage (10) mittels des optischen Sensors (52), sowie – Übertragen der gemessenen Eigenschaft in Gestalt von Messdaten (60) mittels der Datenschnittstelle (66; 166) an einen zumindest im Messbetrieb von der Messvorrichtung (50) getrennten Datenempfänger (72) außerhalb der Messvorrichtung (50).
Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Messdaten (60) mittels der Datenschnittstelle (66) kontaktlos an den Datenempfänger (72) übertragen werden.
Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Messdaten (60) zunächst in einem Datenspeicher (62) gespeichert werden und die Messdaten (60) nach Beendigung des Messbetriebs aus dem Datenspeicher (62) ausgelesen werden und mittels mechanischer Kontaktierung der Datenschnittstelle (166) an den Datenempfänger (72) übertragen werden.