JP2005197447A5 - - Google Patents

Claims (6)

1. レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系の最終レンズと前記基板の一部分との間のみに充填された液体を介して前記基板を露光する露光装置において、
   前記最終レンズを支持する支持部材と、
   前記支持部材の温度を調整する温度調整装置と、を有し、
   前記温度調整装置は、前記支持部材の温度の調整を行うことによって、前記最終レンズの温度の調整を行い、前記液体の温度を調整することを特徴とする露光装置。
2. 前記温度調整装置は、前記支持部材が持つ流路に温度を調整した流体を供給することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
3. 前記基板を保持する保持部材と、
   前記保持部材が持つ流路に温度を調整した流体を供給する第２の温度調整装置と、を有することを特徴とする請求項１または２記載の露光装置。
4. 前記保持部材が持つ流路は、複数の分割した流路を有し、
   前記第２の温度調整装置は、前記複数の分割した流路の夫々を流れる前記流体の温度を独立に調整することを特徴とする請求項３記載の露光装置。
5. 前記第２の温度調整装置は、露光位置情報に基づいて、前記複数の分割した流路毎にその流路を流れる前記流体の温度を調整することを特徴とする請求項４記載の露光装置。
6. 請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、該露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。